JPH06129844A - 検査装置 - Google Patents
検査装置Info
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- JPH06129844A JPH06129844A JP30760392A JP30760392A JPH06129844A JP H06129844 A JPH06129844 A JP H06129844A JP 30760392 A JP30760392 A JP 30760392A JP 30760392 A JP30760392 A JP 30760392A JP H06129844 A JPH06129844 A JP H06129844A
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Landscapes
- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 コントラストの高い、鮮明な明暗パターンを
得ることができる検査装置を提供する。 【構成】 試料に平行光を照射し、その反射光または透
過光を収束し、後側焦点の後方で前記試料面の観測を行
うように構成されるとともに、前記後側焦点またはその
近傍に遮蔽体を設けて観測面に向かう反射光の一部を遮
断するようにした光学系を備え、前記平行光よりは大き
い入射角で前記試料に対して光を照射する光照射手段を
設けた。
得ることができる検査装置を提供する。 【構成】 試料に平行光を照射し、その反射光または透
過光を収束し、後側焦点の後方で前記試料面の観測を行
うように構成されるとともに、前記後側焦点またはその
近傍に遮蔽体を設けて観測面に向かう反射光の一部を遮
断するようにした光学系を備え、前記平行光よりは大き
い入射角で前記試料に対して光を照射する光照射手段を
設けた。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、検査装置に関するも
ので、さらに詳しくは、シュリーレン光学系を改良して
なる検査装置に関するものである。
ので、さらに詳しくは、シュリーレン光学系を改良して
なる検査装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】半導体集積回路の製造に用いられるアズ
グローンウェーハあるいは鏡面ウェーハやガラス基板等
の表面状態(うねり、ディンプル、突起、洗浄不良また
はバフダメージなど)を検出する検査装置として、従
来、シュリーレン光学系を用いた検査装置が知られてい
る。
グローンウェーハあるいは鏡面ウェーハやガラス基板等
の表面状態(うねり、ディンプル、突起、洗浄不良また
はバフダメージなど)を検出する検査装置として、従
来、シュリーレン光学系を用いた検査装置が知られてい
る。
【0003】この検査装置で用いられるシュリーレン光
学系は、試料面の凹凸による屈折率変化や反射率変化を
明暗の差として表す代表的な光学系の1つである。この
光学系は、点光源からの光を光学素子(レンズ)によっ
て平行光にし、試料面にその法線方向から照射し、その
反射光または透過光を光学素子(レンズ)によって収束
し、その後側焦点に設置されたナイフエッジ(遮蔽体)
によって拡散光の一部を遮断するように構成されている
ともに、その後方において肉眼やカメラ等によって試料
面の像を観測するようになっている。
学系は、試料面の凹凸による屈折率変化や反射率変化を
明暗の差として表す代表的な光学系の1つである。この
光学系は、点光源からの光を光学素子(レンズ)によっ
て平行光にし、試料面にその法線方向から照射し、その
反射光または透過光を光学素子(レンズ)によって収束
し、その後側焦点に設置されたナイフエッジ(遮蔽体)
によって拡散光の一部を遮断するように構成されている
ともに、その後方において肉眼やカメラ等によって試料
面の像を観測するようになっている。
【0004】この光学系によれば、試料面に凹凸がある
と光が拡散されるが、この拡散光のうちナイフエッジに
当たった光は遮断される。その結果、ナイフエッジの後
方で像を観測した場合、ナイフエッジで遮られた拡散光
に対応する部分の像は他の部分の像に比べて暗くなる。
これにより、試料面の状態に対応した明暗パターンが得
られる。その結果、この明暗パターンから試料面の状態
が検出できることになる。
と光が拡散されるが、この拡散光のうちナイフエッジに
当たった光は遮断される。その結果、ナイフエッジの後
方で像を観測した場合、ナイフエッジで遮られた拡散光
に対応する部分の像は他の部分の像に比べて暗くなる。
これにより、試料面の状態に対応した明暗パターンが得
られる。その結果、この明暗パターンから試料面の状態
が検出できることになる。
【0005】一方、前記シュリーレン光学系からナイフ
エッジを取り去って、観測面のピントを光軸方向に僅か
にずらすことにより、比較的コントラストの高い場所を
選んで試料面の状態を観測するようにした検査装置も知
られている。
エッジを取り去って、観測面のピントを光軸方向に僅か
にずらすことにより、比較的コントラストの高い場所を
選んで試料面の状態を観測するようにした検査装置も知
られている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかし、これら従来の
検査装置にあっては下記のような問題があった。
検査装置にあっては下記のような問題があった。
【0007】すなわち、前者のシュリーレン光学系を用
いた検査装置では、ナイフエッジ後方で試料面の状態に
応じた明暗パターンは得られるものの、この明暗パター
ンにはナイフエッジによって遮断されなかった拡散光も
多く含まれているため、明暗差が軟調で(コントラスト
が低く)、試料面の状態を精密には検出できないという
不都合があった。
いた検査装置では、ナイフエッジ後方で試料面の状態に
応じた明暗パターンは得られるものの、この明暗パター
ンにはナイフエッジによって遮断されなかった拡散光も
多く含まれているため、明暗差が軟調で(コントラスト
が低く)、試料面の状態を精密には検出できないという
不都合があった。
【0008】一方、後者の検査装置のように観測面を光
軸方向に沿って動かすものでは、拡散光がほとんど遮断
されないことから、シュリーレン光学系を用いた検査装
置に比べてさらにコントラストが低くなり、検査の精密
度がさらに低くなるという不都合があった。
軸方向に沿って動かすものでは、拡散光がほとんど遮断
されないことから、シュリーレン光学系を用いた検査装
置に比べてさらにコントラストが低くなり、検査の精密
度がさらに低くなるという不都合があった。
【0009】また、両者の検査装置とも、光照射手段は
1つしか設けられていないため、試料が粗面である場合
には、拡散反射によって結像レンズに入る光量が著しく
少なくなり、明暗パターンにおける明部(ハイライト)
の明度が極端に低下する結果、コントラストが極めて低
くなり、反射像(透過像)が不鮮明となってしまう。明
暗パターンにおける明部の明度の低下を防ぐためには、
光源のパワーを上げれば良いが、その場合、拡散光の遮
断が不十分なために暗部(シャドウ)の明度も高くなっ
てしまい、結果として、コントラストの改善を図ること
ができない。
1つしか設けられていないため、試料が粗面である場合
には、拡散反射によって結像レンズに入る光量が著しく
少なくなり、明暗パターンにおける明部(ハイライト)
の明度が極端に低下する結果、コントラストが極めて低
くなり、反射像(透過像)が不鮮明となってしまう。明
暗パターンにおける明部の明度の低下を防ぐためには、
光源のパワーを上げれば良いが、その場合、拡散光の遮
断が不十分なために暗部(シャドウ)の明度も高くなっ
てしまい、結果として、コントラストの改善を図ること
ができない。
【0010】本発明は、このような問題点に鑑みなされ
たもので、コントラストの高い、鮮明な明暗パターンを
得ることができる検査装置を提供することをその目的と
している。
たもので、コントラストの高い、鮮明な明暗パターンを
得ることができる検査装置を提供することをその目的と
している。
【0011】
【課題を解決するための手段】請求項1記載の発明は、
試料に平行光を照射し、その反射光または透過光を収束
し、後側焦点の後方で前記試料面の観測を行うように構
成されるとともに、前記後側焦点またはその近傍に遮蔽
体を設けて観測面に向かう反射光の一部を遮断するよう
にした光学系を備え、前記平行光よりは大きい入射角で
前記試料に対して光を照射する光照射手段を設けたもの
である。
試料に平行光を照射し、その反射光または透過光を収束
し、後側焦点の後方で前記試料面の観測を行うように構
成されるとともに、前記後側焦点またはその近傍に遮蔽
体を設けて観測面に向かう反射光の一部を遮断するよう
にした光学系を備え、前記平行光よりは大きい入射角で
前記試料に対して光を照射する光照射手段を設けたもの
である。
【0012】請求項2記載の発明は、請求項1記載の検
査装置における光照射手段を複数設け、その際、これら
複数の光照射手段を入射面が互いに一致しないように配
置したものである。
査装置における光照射手段を複数設け、その際、これら
複数の光照射手段を入射面が互いに一致しないように配
置したものである。
【0013】請求項3記載の発明は、請求項1または請
求項2記載の検査装置における遮蔽体として開口絞りを
設けたものである。
求項2記載の検査装置における遮蔽体として開口絞りを
設けたものである。
【0014】
【作用】この検査装置によれば、光照射手段による光の
照射方向や入射角の変更、あるいは偏光子の挿入や試料
の移動などによって明暗パターンにおける明暗差を強調
することができると同時に、遮蔽体によって無用な反射
光の一部を遮断できるので、コントラストの高い、鮮明
な明暗パターンを得ることができる。
照射方向や入射角の変更、あるいは偏光子の挿入や試料
の移動などによって明暗パターンにおける明暗差を強調
することができると同時に、遮蔽体によって無用な反射
光の一部を遮断できるので、コントラストの高い、鮮明
な明暗パターンを得ることができる。
【0015】また、遮蔽体として開口絞りを用いれば、
ナイフエッジを用いる場合に比べて無用な反射光をさら
に除去することができるので、明暗パターンにおける明
暗差をより強調することができる。
ナイフエッジを用いる場合に比べて無用な反射光をさら
に除去することができるので、明暗パターンにおける明
暗差をより強調することができる。
【0016】
【実施例】以下、本発明に係る検査装置の実施例につい
て説明する。
て説明する。
【0017】(1)第1実施例 図1には第1実施例の検査装置の光学系1が示されてい
る。この光学系1について説明すれば、この光学系1
は、平板状の試料2の表面(以下試料面と称す)2aに
その法線方向および斜め方向から光を当て、その試料面
2aからの反射光を収束し、後側焦点の後方でその反射
像をスクリーン4上に投影して観測するようにしたもの
で、その観測にあたっては、後側焦点に置いた開口絞り
(遮蔽体)3によって、試料面2aで散乱された光(拡
散光)を遮断するようになっている。
る。この光学系1について説明すれば、この光学系1
は、平板状の試料2の表面(以下試料面と称す)2aに
その法線方向および斜め方向から光を当て、その試料面
2aからの反射光を収束し、後側焦点の後方でその反射
像をスクリーン4上に投影して観測するようにしたもの
で、その観測にあたっては、後側焦点に置いた開口絞り
(遮蔽体)3によって、試料面2aで散乱された光(拡
散光)を遮断するようになっている。
【0018】以下、この光学系1について詳細に説明す
る。
る。
【0019】この光学系1は3つの光照射手段A,B,
Cを備えている。この光照射手段A,B,Cの各光源5
a,5b,5cとしては特に限定はされないがキセノン
ランプやハロゲンランプなどが用いられている。この光
源5a,5b,5cとして何を用いるかは、検査対称物
(試料2)の性質によって決定することが望ましい。例
えば、鏡面ウェーハなどのように反射率の比較的高いも
のを検査する場合には、ハロゲンランプまたはキセノン
ランプのいずれを用いることとしても良いが、ガラス基
板のように反射率の比較的低いものを検査する場合に
は、輝度の大きいキセノンランプを用いることが望まし
い。
Cを備えている。この光照射手段A,B,Cの各光源5
a,5b,5cとしては特に限定はされないがキセノン
ランプやハロゲンランプなどが用いられている。この光
源5a,5b,5cとして何を用いるかは、検査対称物
(試料2)の性質によって決定することが望ましい。例
えば、鏡面ウェーハなどのように反射率の比較的高いも
のを検査する場合には、ハロゲンランプまたはキセノン
ランプのいずれを用いることとしても良いが、ガラス基
板のように反射率の比較的低いものを検査する場合に
は、輝度の大きいキセノンランプを用いることが望まし
い。
【0020】各光源5a,5b,5cには楕円リフレク
タ6a,6b,6cが付設されている。この場合、各光
源5a,5b,5cは楕円リフレクタ6a,6b,6c
の一方の焦点に設置される。各楕円リフレクタ6a,6
b,6cの他方の焦点にはピンホール7a,7b,7c
が置かれる。その結果、楕円の性質によって楕円リフレ
クタ6a,6b,6cで反射された光はピンホール7
a,7b,7cの所で収束される。その結果、この収束
点に点光源を置いたのと同じ状態になる。なお、楕円リ
フレクタ6a,6b,6cの代わりにパラボラリフレク
タを用いても良い。この場合には、パラボラリフレクタ
を出た光はその光軸に平行に進むので、コリメートレン
ズを別途設け、このコリメートレンズによりピンホール
の所に収束するようにする。
タ6a,6b,6cが付設されている。この場合、各光
源5a,5b,5cは楕円リフレクタ6a,6b,6c
の一方の焦点に設置される。各楕円リフレクタ6a,6
b,6cの他方の焦点にはピンホール7a,7b,7c
が置かれる。その結果、楕円の性質によって楕円リフレ
クタ6a,6b,6cで反射された光はピンホール7
a,7b,7cの所で収束される。その結果、この収束
点に点光源を置いたのと同じ状態になる。なお、楕円リ
フレクタ6a,6b,6cの代わりにパラボラリフレク
タを用いても良い。この場合には、パラボラリフレクタ
を出た光はその光軸に平行に進むので、コリメートレン
ズを別途設け、このコリメートレンズによりピンホール
の所に収束するようにする。
【0021】また、各ピンホール7a,7b,7cの近
傍には所望の波長範囲の光だけを透過させる波長選択フ
ィルタ10a,10b,10cが設置されている。この
波長選択フィルタ10a,10b,10cとしては例え
ば干渉フィルタが用いられる。この波長選択フィルタ1
0a,10b,10cの設置は任意であり、その設置場
所もピンホール7a,7b,7cの近傍に限定されず、
例えばハーフミラー11の後ろであっても良い。この波
長選択フィルタ10a,10b,10cは光学系1の感
度調節機能を持ち、試料面2aの凹凸のピークツーバレ
ーが小さい場合には波長の短い領域を選択することが望
ましい。
傍には所望の波長範囲の光だけを透過させる波長選択フ
ィルタ10a,10b,10cが設置されている。この
波長選択フィルタ10a,10b,10cとしては例え
ば干渉フィルタが用いられる。この波長選択フィルタ1
0a,10b,10cの設置は任意であり、その設置場
所もピンホール7a,7b,7cの近傍に限定されず、
例えばハーフミラー11の後ろであっても良い。この波
長選択フィルタ10a,10b,10cは光学系1の感
度調節機能を持ち、試料面2aの凹凸のピークツーバレ
ーが小さい場合には波長の短い領域を選択することが望
ましい。
【0022】また、光照射手段Aにおいては、ピンホー
ル7aと試料2との間に、波長選択フィルタ10aを透
過した光を平行光に変えるためのコリメートレンズ8が
設けられている。このコリメートレンズ8はピンホール
7aが前側焦点にくるような位置に設置される。このコ
リメートレンズ8としては、光のロスを可及的に少なく
するため収差の小さいものを使用することが望ましい。
ル7aと試料2との間に、波長選択フィルタ10aを透
過した光を平行光に変えるためのコリメートレンズ8が
設けられている。このコリメートレンズ8はピンホール
7aが前側焦点にくるような位置に設置される。このコ
リメートレンズ8としては、光のロスを可及的に少なく
するため収差の小さいものを使用することが望ましい。
【0023】また、光照射手段Aにおいては、波長選択
フィルタ10aとコリメートレンズ8との間にハーフミ
ラー11が設置されている。このハーフミラー11は光
路分割のために用いられ、試料面2aからの反射光の光
路を曲げるために使用される。このハーフミラー11に
よってスクリーン4の方向へ反射光の光路が曲げられ
る。
フィルタ10aとコリメートレンズ8との間にハーフミ
ラー11が設置されている。このハーフミラー11は光
路分割のために用いられ、試料面2aからの反射光の光
路を曲げるために使用される。このハーフミラー11に
よってスクリーン4の方向へ反射光の光路が曲げられ
る。
【0024】このハーフミラー11とスクリーン4との
間には開口絞り3が設けられている。この開口絞り3と
しては特に限定はされないがアイリス絞りが用いられ、
可動調節部を動かすことにより同心状の開口部の直径を
連続的に変化させることができるようになっている。こ
の開口部の直径を変化させることにより、検査の種別
(うねりの検査、ディンプルの検査、傷の検査など)に
適した反射像が得られる。
間には開口絞り3が設けられている。この開口絞り3と
しては特に限定はされないがアイリス絞りが用いられ、
可動調節部を動かすことにより同心状の開口部の直径を
連続的に変化させることができるようになっている。こ
の開口部の直径を変化させることにより、検査の種別
(うねりの検査、ディンプルの検査、傷の検査など)に
適した反射像が得られる。
【0025】なお、図1においては、光照射手段B,C
はその入射面が一致しているかのように描かれている
が、実際には入射面が一致しないように、より好ましく
は入射面同士が直交するように光照射手段B,Cは設置
されているとともに、光照射手段B,Cからの光の入射
角は特に限定はされないが60°以上となるようにされ
ている。入射面同士が一致し、かつ、光照射手段B,C
からの光の入射角が同じ場合には、光照射手段B,Cか
らの光の正反射成分が他方の光照射手段に入り、これが
リフレクタで反射されて再び試料面2aに照射され、そ
れがノイズとなったり、光照射手段B,Cを構成する光
学素子を熱によって毀損したりする危険性があるからで
ある。また、入射角を大きくすると光照射手段B,Cか
らの光の正反射成分がコリメートレンズ8によって再び
反射して試料面2aに照射され、それがノイズとなって
しまう危険性があるからである。
はその入射面が一致しているかのように描かれている
が、実際には入射面が一致しないように、より好ましく
は入射面同士が直交するように光照射手段B,Cは設置
されているとともに、光照射手段B,Cからの光の入射
角は特に限定はされないが60°以上となるようにされ
ている。入射面同士が一致し、かつ、光照射手段B,C
からの光の入射角が同じ場合には、光照射手段B,Cか
らの光の正反射成分が他方の光照射手段に入り、これが
リフレクタで反射されて再び試料面2aに照射され、そ
れがノイズとなったり、光照射手段B,Cを構成する光
学素子を熱によって毀損したりする危険性があるからで
ある。また、入射角を大きくすると光照射手段B,Cか
らの光の正反射成分がコリメートレンズ8によって再び
反射して試料面2aに照射され、それがノイズとなって
しまう危険性があるからである。
【0026】このように構成された検査装置によれば、
光源5a,5b,5cから出た光は楕円リフレクタ6
a,6b,6cによってピンホール7a,7b,7cの
所で収束されて点光源を構成し、この点光源からの光は
波長選択フィルタ10a,10b,10c等を経て試料
面2aに照射される。
光源5a,5b,5cから出た光は楕円リフレクタ6
a,6b,6cによってピンホール7a,7b,7cの
所で収束されて点光源を構成し、この点光源からの光は
波長選択フィルタ10a,10b,10c等を経て試料
面2aに照射される。
【0027】そして、この試料面2aからの反射光はコ
リメートレンズ8、ハーフミラー11および開口絞り3
を経てスクリーン4に導かれ、そこで、明暗パターンを
形成する。
リメートレンズ8、ハーフミラー11および開口絞り3
を経てスクリーン4に導かれ、そこで、明暗パターンを
形成する。
【0028】なお、試料面2aの他の部分の観測を行う
場合には、テーブル13の移動(回転移動を含む)ある
いは光学系1の全部または部分的移動によって相対的に
試料2を動かせば良い。この試料2の相対的移動は単に
観測部分を変える意義を持つだけでなく、光照射手段
B,Cによる光の照射方向や入射角を変える意義を持
つ。
場合には、テーブル13の移動(回転移動を含む)ある
いは光学系1の全部または部分的移動によって相対的に
試料2を動かせば良い。この試料2の相対的移動は単に
観測部分を変える意義を持つだけでなく、光照射手段
B,Cによる光の照射方向や入射角を変える意義を持
つ。
【0029】このように構成された実施例の検査装置は
次のような効果を有する。
次のような効果を有する。
【0030】すなわち、前記検査装置によれば、試料面
2aにピントを合わせて観測できる上、開口絞り3によ
って拡散光のほとんどが除去できるため、明暗パターン
の鮮明度が著しく向上する。
2aにピントを合わせて観測できる上、開口絞り3によ
って拡散光のほとんどが除去できるため、明暗パターン
の鮮明度が著しく向上する。
【0031】また、この検査装置によれば、光照射手段
B,Cによる光の照射方向や入射角の変更によって明暗
パターンにおける明暗差を強調できるので、コントラス
トの高い、鮮明な明暗パターンを得ることができ、試料
面2aが粗面の場合にあっても、精密な検査が行えるこ
とになる。
B,Cによる光の照射方向や入射角の変更によって明暗
パターンにおける明暗差を強調できるので、コントラス
トの高い、鮮明な明暗パターンを得ることができ、試料
面2aが粗面の場合にあっても、精密な検査が行えるこ
とになる。
【0032】(2)第2実施例 図2には第2実施例の検査装置の光学系30が示されて
いる。この光学系30は傷の検出に特に有用な光学系で
ある。この光学系30が第1実施例の光学系1と異なる
点は、試料2に光を照射するため4つの光照射手段A,
B,C,Dを保有していること(但し、図2においては
便宜上光照射手段A,B,Dしか描かれていない)、光
路分割のため2つのハーフミラー11,21を保有して
いること、ハーフミラー21によって光路を曲げられた
反射光を結像レンズ系24を通じて1次元イメージセン
サ26で受光していることである。
いる。この光学系30は傷の検出に特に有用な光学系で
ある。この光学系30が第1実施例の光学系1と異なる
点は、試料2に光を照射するため4つの光照射手段A,
B,C,Dを保有していること(但し、図2においては
便宜上光照射手段A,B,Dしか描かれていない)、光
路分割のため2つのハーフミラー11,21を保有して
いること、ハーフミラー21によって光路を曲げられた
反射光を結像レンズ系24を通じて1次元イメージセン
サ26で受光していることである。
【0033】光照射手段A,B,C,Dのうち3つの光
照射手段A,B,Cは光照射手段B,Cの設置場所の点
を除いては第1実施例のそれと同じ構成となっている。
一方、光照射手段Dは、光源5e、楕円リフレクタ6
e、ピンホール7eおよび波長選択フィルタ10eを保
有する点では光照射手段B,Cと同じ構成となっている
が、ピンホール7eと波長選択フィルタ10eとの間に
コリメートレンズ27およびシリンドリカルレンズ28
が設けられている点でそれと異なっている。なお、光照
射手段B,C,Dにおける入射面は特に限定はされない
が互いに120°の角度を持つように設定されている。
照射手段A,B,Cは光照射手段B,Cの設置場所の点
を除いては第1実施例のそれと同じ構成となっている。
一方、光照射手段Dは、光源5e、楕円リフレクタ6
e、ピンホール7eおよび波長選択フィルタ10eを保
有する点では光照射手段B,Cと同じ構成となっている
が、ピンホール7eと波長選択フィルタ10eとの間に
コリメートレンズ27およびシリンドリカルレンズ28
が設けられている点でそれと異なっている。なお、光照
射手段B,C,Dにおける入射面は特に限定はされない
が互いに120°の角度を持つように設定されている。
【0034】ハーフミラー11,21のうちハーフミラ
ー11後方の結像光学系については第1実施例のそれと
同じ構成となっている。また、ハーフミラー21後方の
結像レンズ系24としてはカメラにおけると同様の結像
レンズ系が用いられ、この結像レンズ系24によって反
射光を1次元イメージセンサ26へ導くようになってい
る。
ー11後方の結像光学系については第1実施例のそれと
同じ構成となっている。また、ハーフミラー21後方の
結像レンズ系24としてはカメラにおけると同様の結像
レンズ系が用いられ、この結像レンズ系24によって反
射光を1次元イメージセンサ26へ導くようになってい
る。
【0035】この第2実施例の検査装置によれば、光照
射手段Dのシリンドリカルレンズ28の作用によって試
料面2aに線状の収束光が集中的に照射される。一方、
その部分からの反射光(この場合の反射光は光照射手段
Dによるものだけでなく光照射手段A,B,Cによるも
のも含む)は1次元イメージセンサ26によって受光さ
れる。そして、その1次元イメージセンサ26における
受光量変化によって傷の状態が検出される。
射手段Dのシリンドリカルレンズ28の作用によって試
料面2aに線状の収束光が集中的に照射される。一方、
その部分からの反射光(この場合の反射光は光照射手段
Dによるものだけでなく光照射手段A,B,Cによるも
のも含む)は1次元イメージセンサ26によって受光さ
れる。そして、その1次元イメージセンサ26における
受光量変化によって傷の状態が検出される。
【0036】この第2実施例の検査装置によれば、その
収束光の照射方向や入射角にもよるが、光照射手段A,
B,Cだけの場合に比べて明暗差をより強調することが
できる。
収束光の照射方向や入射角にもよるが、光照射手段A,
B,Cだけの場合に比べて明暗差をより強調することが
できる。
【0037】以上、本発明の実施例について説明した
が、本発明は、かかる実施例に限定されるものではな
く、その要旨を変更しない範囲で種々の変形が可能であ
ることはいうまでもない。
が、本発明は、かかる実施例に限定されるものではな
く、その要旨を変更しない範囲で種々の変形が可能であ
ることはいうまでもない。
【0038】例えば、前記第1および第2実施例の検査
装置では、ハーフミラー11からの光を直接に開口絞り
3に導いたが、その直前に格子状フィルタを設置するよ
うにしても良い。この格子状フィルタは光を回折する働
きをするので、散乱角の大きい傷などの発見がさらに容
易となる。
装置では、ハーフミラー11からの光を直接に開口絞り
3に導いたが、その直前に格子状フィルタを設置するよ
うにしても良い。この格子状フィルタは光を回折する働
きをするので、散乱角の大きい傷などの発見がさらに容
易となる。
【0039】また、前記第1および第2実施例の検査装
置では、ハーフミラー11からの光をスクリーン4で観
測するようにしたが、CCDやカメラあるいは肉眼で観
測するような光学系としても良い。
置では、ハーフミラー11からの光をスクリーン4で観
測するようにしたが、CCDやカメラあるいは肉眼で観
測するような光学系としても良い。
【0040】さらに、前記第1および第2実施例の検査
装置では、平板状の試料2を検査する場合を説明した
が、円柱などの試料面検査の場合には光照射手段Aにシ
リンドリカルレンズを組み込んで、また、球体などの表
面検査の場合には平凸レンズを組み込んで、試料面2a
に法線方向から光を照射するようにすれば良い。また、
場合によっては、平板状の試料2のときでもシリンドリ
カルレンズを用い、ある方向の凹凸状態を強調させて観
測するようにすることも可能である。
装置では、平板状の試料2を検査する場合を説明した
が、円柱などの試料面検査の場合には光照射手段Aにシ
リンドリカルレンズを組み込んで、また、球体などの表
面検査の場合には平凸レンズを組み込んで、試料面2a
に法線方向から光を照射するようにすれば良い。また、
場合によっては、平板状の試料2のときでもシリンドリ
カルレンズを用い、ある方向の凹凸状態を強調させて観
測するようにすることも可能である。
【0041】また、前記第1および第2実施例の検査装
置では、開口絞り3としてアイリス絞りを用いたが、固
定的な円形開口部が設けられた開口絞りを設け、この開
口絞りを光軸方向に移動させるようにして使用するよう
にしても良いし、また、開口絞り3の代わりにナイフエ
ッジを設けるようにしても良い。
置では、開口絞り3としてアイリス絞りを用いたが、固
定的な円形開口部が設けられた開口絞りを設け、この開
口絞りを光軸方向に移動させるようにして使用するよう
にしても良いし、また、開口絞り3の代わりにナイフエ
ッジを設けるようにしても良い。
【0042】さらに、前記第1および第2実施例の検査
装置では、後側焦点に開口絞り3を設けたが、その設置
位置は後側焦点近傍であっても良い。
装置では、後側焦点に開口絞り3を設けたが、その設置
位置は後側焦点近傍であっても良い。
【0043】またさらに、前記第1および第2実施例の
検査装置では、試料面2aの反射光を観測するような構
成としたが、試料が透過性のものである場合にはその表
面状態や内部状態を観測するため、試料の透過光を観測
するような構成としても良いことは勿論である。
検査装置では、試料面2aの反射光を観測するような構
成としたが、試料が透過性のものである場合にはその表
面状態や内部状態を観測するため、試料の透過光を観測
するような構成としても良いことは勿論である。
【0044】また、光学系1,30に偏光子や検光子を
適宜組み込んで、感度調節や光量調節を行うようにして
も良い。
適宜組み込んで、感度調節や光量調節を行うようにして
も良い。
【0045】さらに、光照射手段Aにおける光の入射角
を若干付けるとともに、観察面も少し傾けることによっ
て、ハーフミラーを用いないで反射像あるいは透過像を
観測するようにしても良い。この場合、ピンホール7a
に起因する輝点の影響をなくすことができる。
を若干付けるとともに、観察面も少し傾けることによっ
て、ハーフミラーを用いないで反射像あるいは透過像を
観測するようにしても良い。この場合、ピンホール7a
に起因する輝点の影響をなくすことができる。
【0046】また、前記実施例では、光源をハロゲンラ
ンプまたはキセノンランプとしたが、その他の光源を用
いても良い。例えば、光照射手段Dの光源にレーザを用
いるようにしても良い。
ンプまたはキセノンランプとしたが、その他の光源を用
いても良い。例えば、光照射手段Dの光源にレーザを用
いるようにしても良い。
【0047】
【発明の効果】本発明によれば、試料に平行光を照射
し、その反射光または透過光を収束し、後側焦点の後方
で前記試料面の観測を行うように構成されるとともに、
前記後側焦点またはその近傍に遮蔽体を設けて観測面に
向かう反射光の一部を遮断するようにした光学系を備
え、前記平行光よりは大きい入射角で前記試料に対して
光を照射する光照射手段を設けたので、コントラストの
高い、鮮明な明暗パターンを得ることができる。
し、その反射光または透過光を収束し、後側焦点の後方
で前記試料面の観測を行うように構成されるとともに、
前記後側焦点またはその近傍に遮蔽体を設けて観測面に
向かう反射光の一部を遮断するようにした光学系を備
え、前記平行光よりは大きい入射角で前記試料に対して
光を照射する光照射手段を設けたので、コントラストの
高い、鮮明な明暗パターンを得ることができる。
【図1】第1実施例の検査装置の光学系の概略構成図で
ある。
ある。
【図2】第2実施例の検査装置の光学系の概略構成図で
ある。
ある。
1 光学系 2 試料 2a 試料面 3 開口絞り 30 光学系
Claims (3)
- 【請求項1】 試料に平行光を照射し、その反射光また
は透過光を収束し、後側焦点の後方で前記試料面の観測
を行うように構成されるとともに、前記後側焦点または
その近傍に遮蔽体を設けて観測面に向かう反射光の一部
を遮断するようにした光学系を備え、前記平行光よりは
大きい入射角で前記試料に対して光を照射する光照射手
段を設けたことを特徴とする検査装置。 - 【請求項2】 前記光照射手段が複数設けられ、これら
複数の光照射手段は入射面が互いに一致しないように配
置されていることを特徴とする請求項1記載の検査装
置。 - 【請求項3】 前記遮蔽体は開口絞りであることを特徴
とする請求項1または請求項2記載の検査装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30760392A JPH06129844A (ja) | 1992-10-21 | 1992-10-21 | 検査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30760392A JPH06129844A (ja) | 1992-10-21 | 1992-10-21 | 検査装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06129844A true JPH06129844A (ja) | 1994-05-13 |
Family
ID=17971040
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30760392A Withdrawn JPH06129844A (ja) | 1992-10-21 | 1992-10-21 | 検査装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06129844A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6310689B1 (en) | 1996-08-23 | 2001-10-30 | Asahi Kogaku Kogyo Kabushiki Kaisha | Pattern reading apparatus |
-
1992
- 1992-10-21 JP JP30760392A patent/JPH06129844A/ja not_active Withdrawn
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6310689B1 (en) | 1996-08-23 | 2001-10-30 | Asahi Kogaku Kogyo Kabushiki Kaisha | Pattern reading apparatus |
| US6369886B2 (en) | 1996-08-23 | 2002-04-09 | Asahi Kogaku Kogyo Kabushiki Kaisha | Pattern reading apparatus |
| US6421129B2 (en) | 1996-08-23 | 2002-07-16 | Asahi Kogaku Kogyo Kabushiki Kaisha | Pattern reading apparatus |
| US6429937B2 (en) | 1996-08-23 | 2002-08-06 | Asahi Kogaku Kogyo Kabushiki Kaisha | Pattern reading apparatus |
| US6476917B2 (en) | 1996-08-23 | 2002-11-05 | Asahi Kogaku Kogyo Kabushiki Kaisha | Pattern reading apparatus |
| US6483591B1 (en) | 1996-08-23 | 2002-11-19 | Asahi Kogaku Kogyo Kabushiki Kaisha | Pattern reading apparatus |
| US6498649B2 (en) | 1996-08-23 | 2002-12-24 | Pentax Corporation | Pattern reading apparatus |
| US6622915B2 (en) | 1996-08-23 | 2003-09-23 | Pentax Corporation | Pattern reading apparatus |
| US6943888B2 (en) | 1996-08-23 | 2005-09-13 | Pentax Corporation | Pattern reading apparatus |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20000905 |