JPH06130347A

JPH06130347A - 情報記録媒体及び情報記録再生方法

Info

Publication number: JPH06130347A
Application number: JP2472292A
Authority: JP
Inventors: Masayuki Iijima; 正行飯嶋; Seiji Take; 誠司武
Original assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Current assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date: 1991-01-31
Filing date: 1992-01-14
Publication date: 1994-05-13
Anticipated expiration: 2014-02-10
Also published as: JP2855020B2

Abstract

(57)【要約】（修正有）【構成】電極層１３、光導電層１４、情報記録層１
１、電極層１３′を順次設けた情報記録媒体において、
少なくとも一方の電極が透明であり、かつ情報記録層が
液晶相及び樹脂相からなる。また、情報記録層１１は、
液晶と紫外線硬化型樹脂形成材料との混合溶液が塗布さ
れた後、紫外線照射により硬化され、その外表面層が紫
外線硬化型樹脂からなるスキン層に形成されたものであ
る。【効果】セル化しなくても液晶を保持でき、簡便に電
気光学効果が得られる。また、情報記録層ギャップを均
一に小さくでき大面積の情報記録媒体作製が可能であ
り、更に高解像度の像を記録、再生することができる。
また、電界の変調によりアナログの画像記録が可能であ
り、情報再生に際して偏向板が不用であり、又、情報の
読み取りに際しての光学系が単純化しうる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、電圧印加時露光記録方
法により記録された静電情報を可視情報として得ること
のできる情報記録媒体及びその情報記録再生方法に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】従来の電子写真技術においては、一対の
電極間に光導電層上にネマチック液晶を封入した液晶セ
ル、液晶配向用絶縁層を順次積層した情報記録媒体が知
られ、情報記録に際しては電極間に電圧を印加した状態
で情報露光して情報露光部における光導電層の抵抗を下
げて液晶を配向させ、偏向板を使用して可視像を得るも
のが知られている。

【０００３】この情報記録媒体は、液晶を封入するため
にセル化する必要があり、しかも初期においてツイスト
ネマチック配向を行うためにセル両面をラビング処理等
により配向処理した絶縁膜を設けたり、更にセルギャッ
プを一定に保つためにスペーサーを混合する必要があ
り、解像度の高い像を得ることかできない。又、ギャッ
プあるいはセルを作製するためにリジッドで透明性のあ
る支持体が必要であることから、光学的な問題がある。
更に、このように初期状態において配向処理を施したも
のは、読み取りの際に偏光板を用いなければ検出するこ
とができないという問題もある。

【０００４】一方、最近、液晶セルにおける液晶層に高
分子分散型液晶としたものが開発され、このような媒体
においてはＩＴＯ電極を有する２枚の基板に挟持した状
態で保持されているが、この媒体を基板／ＩＴＯ電極／
液晶層の構成とし、感光体と対向させた状態での電圧印
加時露光により、情報光に応じた放電現象により液晶層
に静電情報を記録する方法に使用する場合には、高分子
分散型液晶においてその表面に液晶の滲み出し現象が起
こり、情報記録に際してノイズとなるという問題があ
り、また基板／ＩＴＯ電極／液晶層／ＩＴＯ電極の構成
として両電極間に電圧印加して液晶層を配向させて情報
記録する方法に使用する場合には、やはり液晶の滲み出
しにより、表面層のＩＴＯ電極にひび割れ、浮きだし等
が生じ導電性が低下するという問題が生じる。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、液晶層とし
て高分子分散型液晶を使用する情報記録媒体の改良に関
するものであり、静電情報を精度よく記録することがで
き、情報再生の簡単な情報記録媒体及び情報記録再生方
法の提供を課題とする。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明の第１の情報記録
媒体は、電極層、光導電層、情報記録層、電極層を順次
設けた情報記録媒体において、少なくとも一方の電極が
透明であり、かつ情報記録層が液晶相及び樹脂相からな
ることを特徴とする。

【０００７】また、本発明の第２の情報記録媒体は、電
極層、光導電層、透明絶縁層、情報記録層、電極層を順
次設けた情報記録媒体において、少なくとも一方の電極
が透明であり、かつ情報記録層が液晶相及び樹脂相から
なることを特徴とする。

【０００８】更に、上記情報記録層は、液晶と紫外線硬
化型樹脂形成材料との混合溶液が塗布された後、紫外線
照射により硬化され、その外表面層が紫外線硬化型樹脂
のみからなるスキン層に形成されたことを特徴とする。

【０００９】また、本発明の情報記録再生方法は、上記
第１の情報記録媒体又は第２の情報記録媒体の両電極間
に電圧を印加しつつ情報露光して情報に応じて液晶相を
配向させることにより情報記録を行い、情報記録の再生
にあたっては透過光或いは反射光により可視情報として
再生することを特徴とする。

【００１０】以下、本発明の情報記録媒体及び情報記録
再生方法について説明する。

【００１１】図１（ａ）は、本発明の第１の情報記録媒
体の断面を模式的に説明するための図で、図中３は情報
記録媒体、１１は情報記録層、１３、１３′は電極層、
１４は光導電層、１５は基板である。

【００１２】本発明の第１の情報記録媒体について説明
する。

【００１３】図１（ａ）に示すように、第１の情報記録
媒体は、電極層１３上に、光導電層１４、情報記録層１
１、電極層１３′を順次積層したものである。

【００１４】電極層１３、１３′は、いずれか一方、ま
たは両方が透明性であればよく、比抵抗値が１０⁶Ω・
cm以下の金属薄膜導電膜、無機金属酸化物導電膜、四級
アンモニウム塩等の有機導電膜等である。電極層１３は
蒸着、スパッタリング、ＣＶＤ、コーティング、メッ
キ、ディッピング、電解重合等の方法により形成され
る。またその膜厚は電極を構成する材料の電気特性、お
よび情報記録の際の印加電圧により変化させる必要があ
るが、例えばＩＴＯ膜では１００〜３０００Å程度であ
り、情報記録層との間の全面、或いは情報記録層の形成
パターンに合わせて形成される。

【００１５】基板１５は、カード、フィルム、テープ、
ディスク等の形状を有した情報記録媒体を強度的に支持
するものであり、情報記録層が支持性を有する場合には
設ける必要がないが、情報記録層を支持することができ
るある程度の強度を有していれば、その材質、厚みは特
に制限がなく、例えば可撓性のあるプラスチックフィル
ム、或いは硝子、プラスチックシート、カード等の剛体
が使用される。具体的には、情報記録媒体がフレキシブ
ルなフィルム、テープ、ディスク、カード形状をとる場
合にはフレキシブル性のあるプラスチックフィルムが使
用され、強度が要求される場合には剛性のあるシート、
ガラス等の無機材料等が使用される。

【００１６】尚、基板において電極層１３が設けられる
面の他方の面には、必要に応じて反射防止効果を有する
層を積層するか、また反射防止効果を発現しうる膜厚に
透明基板を調整するか、更に両者を組み合わせることに
より反射防止性を付与してもよい。

【００１７】次に、光導電層１４は、光が照射されると
照射部分で光キャリア（電子、正孔）が発生し、それら
のキャリアが層幅を移動することができる導電性層であ
り、特に電界が存在する場合にその効果が顕著である層
である。以下、光導電材料及び光導電層の形成方法につ
いて説明する。

【００１８】（Ａ）シリコン光導電層としては、(1) シ
リコン単体、(2) 不純物をドーピングしたもの（Ｂ、Ａ
ｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｔｌ等をドーピングによりＰ型（ホ−
ル輸送型）にしたもの、Ｐ、Ａｇ、Ｓｂ、Ｂｉ等をドー
ピングによりＮ型（電子輸送型）にしたもの）があり、
形成方法としては、シランガス、不純物ガスを水素ガス
などと共に低真空中に導入し（１０^-2〜１Torr）、グロ
ー放電により加熱、或いは加熱しない電極基板上に堆積
して成膜するか、単に加熱した電極基板上に熱化学的に
反応形成するか、或いは固体原料を蒸着、スパッター法
により成膜し、単層、或いは積層で使用する。膜厚は１
〜５０μｍである。

【００１９】（Ｂ）セレン光導電層としては、(1) セレ
ン単体、(2) セレンテルル、(3) ひ素セレン化合物（As
₂Se₃) 、(4) ひ素セレン化合物＋Te等があり、蒸着、ス
パッター法により作製する。又、これら(1) 〜(4) を組
み合わせ、積層型光導電層としてもよい。膜厚はシリコ
ン光導電層と同様である。

【００２０】（Ｃ）硫化カドミウム (CdS ）光導電層と
しては、コーティング、蒸着、スパッタリング法により
作製する。蒸着の場合はCdS の固体粒をタングステンボ
ードにのせ、抵抗加熱により蒸着するか、ＥＢ（エレク
トロンビーム）蒸着により行う。またスパッタリングの
場合はCdS ターゲットを用いてアルゴンプラズマ中で基
板上に堆積させる。この場合、通常はアモルファス状態
でCdS が堆積されるが、スパッタリング条件を選択する
ことにより結晶性の配向膜（膜厚方向に配向）を得るこ
ともできる。コーティングの場合はCdS 粒子（粒径１〜
１００μｍ）をバインダー中に分散させ、溶媒を添加し
て基板上にコーティングするとよい。

【００２１】（Ｄ）酸化亜鉛（Zn O）光導電層は、コー
ティング法或いはＣＶＤ法で作製される。コーティング
法としては、ZnO 粒子（粒径１〜１００μｍ）をバイン
ダー中に分散させ、溶媒を添加して基板上にコーティン
グを行って得られる。またＣＶＤ法としては、ジエチル
亜鉛、ジメチル亜鉛等の有機金属と酸素ガスを低真空中
（１０^-2〜１Torr）で混合し、加熱した電極基板（１５
０〜４００℃）上で化学反応させ、酸化亜鉛膜として堆
積させる。この場合も膜厚方向に配向した膜が得られ
る。

【００２２】（Ｅ）有機光導電層としては、単層型光導
電層、積層型光導電層とすることができる。単層型は、
電荷発生物質と電荷輸送物質の混合物を電極上に積層さ
れて形成されるものであり、また、積層型は電荷発生層
と電荷輸送層を分離し、電荷発生層と電荷輸送層を電極
上に順次積層したタイプである。

【００２３】本発明における光導電層には、下記一般式
（１）一般式（１）

【００２４】

【化２】（但し、式中のＸは水素、低級アルキル基、低級アルコ
キシ基、ニトロ基、スルホン酸基、水酸基、カルボキシ
ル基、ハロゲン原子より選択される同じか又は異なって
もよく、またｎは０〜３の整数、Ｒは置換されててもよ
い炭化水素環基、複素環基、或いはアルキル基であ
る。）で示されるビスアゾ系化合物を電荷発生物質とし
て使用すると共に、電子受容性物質を、単層型感光体で
はビスアゾ系化合物と共に添加され、また積層型感光体
にあっては電荷発生層にビスアゾ系化合物と共に添加さ
れるか、又は電荷発生層に共に添加されると共に電荷輸
送層にも添加される。

【００２５】これにより情報パターンに対応した静電情
報を、高感度で、しかも高いコントラストで電荷保持媒
体に付与することができるばかりでなく、光導電層形成
後の経過においても、暗電位の上昇を生ずることないた
めにコントラスト比の経時安定性に優れるものである。

【００２６】このようなビスアゾ系化合物を上記一般式
（１）における各置換基の組み合わせにより下記に例示
する。

【００２７】

【表１】中でも好ましいビスアゾ系化合物を下記に例示する。

【００２８】

【化３】次に、電荷輸送層を形成する電荷輸送物質は、電荷発生
物質で発生した電荷の輸送特性がよい物質であり、例え
ばヒドラゾン系、ピラゾリン系、ＰＶＫ系、カルバゾー
ル系、オキサゾール系、トリアゾール系、芳香族アミン
系、アミン系、トリフェニルメタン系、多環芳香族化合
物系等があり、ホール輸送性、電子輸送性のいずれの物
質でも使用することができる。

【００２９】中でも、下式で示される化合物番号（２
４）〜（３３）のものが好ましい。

【００３０】

【化４】

【００３１】

【化５】次に、電荷発生層、または電荷発生層及び電荷輸送層に
添加される電子受容性物質としては、２，４，７−トリ
ニトロフルオレノン、テトラフルオロ−Ｐ−ベンゾキノ
ン、テトラシアノキノジメタン、トリフェニルメタン、
無水マレイン酸、ヘキサシアノブタジエン等を使用する
ことができる。

【００３２】次に、光導電層の形成方法について説明す
る。まず、積層型は電荷発生物質と電子受容性物質を、
電荷発生物質１重量部に対して電子受容性物質を０．０
０１重量部〜１０重量部の割合で混合し、適当な媒体中
に分散、溶解させて電極上に塗布、乾燥して電荷発生層
を形成し、次いでこの電荷発生層上に電荷輸送物質を適
宜媒体に溶解、又は分散させて塗布して電荷輸送層を形
成するか、又は電荷輸送物質１重量部に対して電子受容
性物質を０．００１重量部〜１０重量部の割合で混合
し、適当な媒体中に分散、溶解して塗布、乾燥して塗
布、乾燥して電荷輸送層を形成する。電荷発生層は乾燥
後膜厚で０．１〜１０μｍ、電荷輸送層は１〜５０μｍ
とするとよい。

【００３３】また、単層型においては電荷発生物質と電
荷輸送物質とを１：１００〜１００：１００の割合（重
量部）で混合するとよく、電子受容性物質は電荷発生物
質と電荷輸送物質の合計量１重量部に対して０．００１
重量部〜１０重量部の割合で混合するとよく、媒体中に
分散、又は溶解させて電極上に塗布、乾燥して層形成さ
れる。膜厚は１〜５０μｍが好ましい。

【００３４】また、電荷発生系物質と電荷輸送系物質に
より錯体を形成させ、電荷移動錯体としてもよい。通
常、光導電層は電荷発生物質の光吸収特性で決まる感光
特性を有するが、電荷発生物質と電荷輸送物質とを混ぜ
て錯体をつくると、光吸収特性が変わり、例えばポリビ
ニルカルバゾール（ＰＶＫ）は紫外域でしか感ぜず、ト
リニトロフルオレノン (ＴＮＦ）は４００ｎｍ波長近傍
しか感じないが、ＰＶＫーＴＮＦ錯体は６５０ｎｍ波長
域まで感光するようになる。

【００３５】単層型、積層型いずれにおいても、光導電
層を形成するにあたってはバインダーを使用することが
できるが、バインダーとしては、シリコーン樹脂、スチ
レン−ブタジエン共重合体樹脂、エポキシ樹脂、アクリ
ル樹脂、飽和又は不飽和ポリエステル樹脂、ポリカーボ
ネート樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、フェノール樹
脂、ポリメチルメタアクリレート（ＰＭＭＡ）樹脂、メ
ラミン樹脂、ポリイミド樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビ
ニル樹脂等が挙げられ、電荷発生物質と電荷輸送物質の
各材料１重量部に対し、０．１〜１０重量部使用すると
よい。尚、電荷発生物質、電荷輸送物質としてそれ自体
バインダーの役割を示す場合にはバインダーは不要であ
る。

【００３６】溶媒としては、ジクロロエタン、１，１，
２−トリクロロエタン、モノクロロベンゼン、テトラヒ
ドロフラン、シクロヘキサン、ジオキサン、１，２，３
−トリクロロプロパン、エチルセルソルブ、１，１，
１，−トリクロロエタン、メチルエチルケトン、クロロ
ホルム、トルエン等が挙げられる。

【００３７】塗布方法としては、ブレードコーティング
法、ディッピング法、スピンナーコーティング法等の塗
布方法が挙げられる。

【００３８】次に、光導電層１４は、電荷注入防止層を
介して電極１３上に積層してもよい。電荷注入防止層
は、電圧印加時の暗電流（電極からの電荷注入）、すな
わち露光していないにもかかわらず恰も露光したように
感光層中を電荷が移動する現象を防止するために設ける
ものである。この電荷注入防止層は、いわゆるトンネリ
ング効果を利用した層と整流効果を利用した層との二種
類のものがある。

【００３９】このような電荷注入防止層は無機絶縁性
膜、有機絶縁性高分子膜、絶縁性単分子膜等の単層、あ
るいはこれらを積層して形成され、無機絶縁性膜として
は、例えばAs₂O₃、B₂O₃、Bi₂O₃、CdS 、CaO 、CeO₂、
Cr₂O₃、CoO 、GeO₂、HfO₂、Fe₂O₃ 、La₂O₃、MgO 、Mn
O₂、Nd₂O₃、Nb₂O₅、PbO 、Sb₂O₃、SiO₂、SeO₂、Ta₂O
₅、TiO₂、WO₃、V₂O₅、Y₂O₅、Y₂O₃、ZrO₂、BaTiO₃、Al
₂O₃、Bi₂TiO₅、CaO-SrO 、CaO-Y₂O₃、Cr-SiO、LiTa
O₃、PbTiO₃、PbZrO₃、ZrO₂-Co 、ZrO₂-SiO₂、AlN、B
N、NbN 、Si₃N₄、TaN 、TiN 、VN、ZrN 、SiC 、TiC
、WC、Al₄C₃等をグロー放電、蒸着、スパッタリング
等により形成される。尚、この層の膜厚は電荷の注入を
防止する絶縁性と、トンネル効果の点を考慮して使用さ
れる材質ごとに決められる。

【００４０】整流効果を利用した電荷注入防止層は、整
流効果を利用して電極基板の極性と逆極性の電荷輸送能
を有する電荷輸送層を設ける。即ち、このような電荷注
入防止層は無機光導電層、有機光導電層、有機無機複合
型光導電層で形成され、その膜厚は０．１〜１０μｍ程
度である。具体的には、電極がマイナスの場合はＢ、Ａ
ｌ、Ｇａ、Ｉｎ等をドープしたアモルファスシリコン光
導電層、アモルファスセレン、またはオキサジアゾー
ル、ピラゾリン、ポリビニルカルバゾール、スチルベ
ン、アントラセン、ナフタレン、トリジフェニルメタ
ン、トリフェニルメタン、アジン、アミン、芳香族アミ
ン等を樹脂中に分散して形成した有機光導電層、電極が
プラスの場合は、Ｐ、Ｎ、Ａｓ、Ｓｂ、Ｂｉ等をドープ
したアモルファスシリコン光導電層、ＺｎＯ光導電層等
をグロー放電、蒸着、スパッタリング、ＣＶＤ、コーテ
ィング等の方法により形成される。これらの光導電層
は、電極側の極性を同じ極性のキャリアーを発生する光
導電性材料により形成する必要がある。電極をマイナス
とする場合はＢ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ等をドープしたシリ
コン光導電層、電極がプラスの場合は、Ｐ、Ｎ、Ａｓ、
Ｓｂ、Ｂｉ等をドープしたシリコン光導電層、セレン光
導電層、有機光導電層等をグロー放電、蒸着、スパッタ
リング、ＣＶＤ、コーティング等の方法により形成され
る。

【００４１】又、光導電層の特性によっては、電荷注入
を増加させた方が好ましい場合もあり、この場合には電
極表面の材料を選択することにより、界面の電荷注入を
増加させることもできる。

【００４２】次に、光導電層１４上に設けられる情報記
録層１１は、液晶相と樹脂相とからなるものであり、液
晶材料としてはスメクチック液晶、ネマチック液晶、コ
レステリック液晶あるいはこれらの混合物を使用するこ
とができるが、液晶の配向性を保持し、情報を永続的に
保持させる、所謂、メモリー性の観点からはスメクチッ
ク液晶を使用するのが好ましい。

【００４３】スメクチック液晶としては、液晶性を呈す
る物質の末端基の炭素鎖が長いシアノビフェニル系、シ
アノターフェニル系、フェニルエステル系、更に弗素系
等のスメクチックＡ相を呈する液晶物質、強誘電性液晶
として用いられるスメクチックＣ相を呈する液晶物質、
或いはスメクチックＨ、Ｇ、Ｅ、Ｆ等を呈する液晶物質
等が挙げられる。

【００４４】又、ネマチック液晶を使用してもよく、ス
メクチック或いはコレステリック液晶と混合することに
よりメモリー性を向上させることができ、例えば、シッ
フ塩基系、アゾキシ系、アゾ系、安息香酸フェニルエス
テル系、シクロヘキシル酸フェニルエステル系、ビフェ
ニル系、ターフェニル系、フェニルシクロヘキサン系、
フェニルピリジン系、フェニルオキサジン系、多環エタ
ン系、フェニルシクロヘキセン系、シクロヘキシルピリ
ミジン系、フェニル系、トラン系等の公知のネマチック
液晶を使用できる。又、ポリビニルアルコール等と液晶
材料を混合してマイクロカプセル化したものも使用でき
る。

【００４５】尚、液晶材料を選ぶ際には、屈折率の異方
向性の大きい材料の方がコントラストがとれるので好ま
しい。

【００４６】樹脂相を形成する材料としては、例えば、
紫外線硬化型樹脂であって、モノマー、オリゴマーの状
態で液晶材料と相溶性を有するもの、或いはモノマー、
オリゴマーの状態で液晶材料と共通の溶媒に相溶性を有
するものを好ましく使用できる。

【００４７】このような紫外線硬化型樹脂としては、例
えばアクリル酸エステル、メタクリル酸エステル等が挙
げられ、モノマー、オリゴマーの状態で、例えばジペン
タエリスリトールヘキサアクリレート、トリメチロール
プロパントリアクリレート、ポリエチレングリコールジ
アクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレー
ト、イソシアヌール酸（エチレンオキサイド変性）トリ
アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレ
ート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ネ
オペンチルグリコールジアクリレート、ヘキサンジオー
ルジアクリレート等の多官能性モノマー或いは多官能性
ウレタン系、エステル系オリゴマー、更にノニルフェノ
ール変性アクリレート、Ｎ−ビニル−２−ピロリドン、
２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルアクリレート
等の単官能性モノマー或いはオリゴマー等が挙げられ
る。

【００４８】溶媒としては、共通の溶媒であれば特に問
題はないが、例えばキシレン等に代表される炭化水素系
溶媒、クロロホルム等に代表されるハロゲン化炭化水素
系溶媒、メチルセロソルブ等に代表されるアルコール誘
導体系溶媒、ジオキサン等に代表されるエーテル系溶媒
等が挙げられる。

【００４９】光硬化剤としては、例えば２−ヒドロキシ
−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン（メル
ク社製「ダロキュア１１７３」）、１−ヒドロキシシク
ロヘキシルフェニルケトン（チバ・ガイギー社製「イル
ガキュア１８４」）、１−（４−イソプロピルフェニ
ル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン
（メルク社製「ダロキュア１１１６」）、ベンジルジメ
チルケタール（チバ・ガイギー社製「イルガキュア６５
１」）、２−メチル−１−〔４−（メチルチオ）フェニ
ル〕−２−モルホリノプロパノン−１（チバ・ガイギー
社製「イルガキュア９０７」）、２，４−ジエチルチオ
キサントン（日本化薬社製「カヤキュアＤＥＴＸ」）と
ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル（日本化薬社製「カ
ヤキュアＥＰＡ」）との混合物、イソプロピルチオキサ
ントン（ワードブレキンソップ社製「クンタキュア・Ｉ
ＴＸ」とｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチルとの混合物
等が挙げられるが、液状である２−ヒドロキシ−２−メ
チル−１−フェニルプロパン−１−オンが液晶材料、重
合体形成性モノマー若しくはオリゴマーとの相溶性の面
で特に好ましい。

【００５０】また、液晶材料と共通の溶媒に相溶性を有
する溶媒可溶型の熱硬化性樹脂、例えばアクリル樹脂、
メタクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリスチレン樹
脂、及びこれらを主体とした共重合体等、エポキシ樹
脂、シリコン樹脂等を使用してもよい。

【００５１】液晶材料と樹脂の使用割合は、液晶の含有
量が１０重量％〜９０重量％、好ましくは４０重量％〜
８０重量％となるように使用するとよく、１０重量％未
満であると情報記録により液晶相が配向しても光透過性
が低く、また、９０重量％を越えると液晶の滲み出し等
の減少が生じ、画像ムラが生じ好ましくない。液晶は情
報記録相中に多く存在させることにより、コントラスト
比を向上させ、動作電圧を低くすることができる。

【００５２】情報記録層の形成方法は、樹脂形成用材料
と液晶との混合溶液を、光導電層上にブレードコータ
ー、ロールコーター、或いはスピンコーター等の塗布方
法により塗布し、硬化させることにより形成される。な
お、必要に応じて、溶液の塗布適性を向上させ、表面性
を良くするためにレベリング剤を添加してもよい。

【００５３】また、液晶が等方相を保持する温度以上に
加熱し、液晶と紫外線硬化型樹脂形成材料とを完全に相
溶させることが必要である。情報記録層を紫外線硬化さ
せるに際して、液晶が等方相を示す温度以下で紫外線硬
化させると、液晶と紫外線硬化型樹脂材料とが一部相分
離することに起因する問題が生じる。即ち、液晶ドメイ
ンが成長しすぎ、情報記録層表面にスキン層が完全に形
成されず、液晶の滲み出し現象が生じたり、また、紫外
線硬化型樹脂がマット化し、正確に情報を取り込むこと
が困難となり、好ましくない。また、紫外線硬化型樹脂
が液晶を保持できず、情報記録層を形成されないことす
らある。他方、溶媒を蒸発させる際に、等方相を保持す
るために加熱が必要な場合には特に、電極層に対する濡
れ性が低下し、均一な情報記録層が得られないという問
題がある。

【００５４】また、電極層に対する濡れ性を維持するこ
とを目的として弗素系界面活性剤が添加される。このよ
うな弗素系界面活性剤としては、例えば住友３Ｍ（株）
製、フロラードＦＣ−４３０、同フロラードＦＣ−４３
１、Ｎ−（ｎ−プロピル）−Ｎ−（β−アクリロキシエ
チル）−パーフルオロオクチルスルホン酸アミド〔三菱
マテリアル（株）製ＥＦ−１２５Ｍ〕、Ｎ−（ｎ−プロ
ピル）−Ｎ−（β−メタクリロキシエチル）−パーフル
オロオクチルスルホン酸アミド〔三菱マテリアル（株）
製ＥＦ−１３５Ｍ〕、パーフルオロオクタンスルホン酸
〔三菱マテリアル（株）製ＥＦ−１０１〕、パーフルオ
ロカプリル酸〔三菱マテリアル（株）製ＥＦ−２０
１〕、Ｎ−（ｎ−プロピル）−Ｎ−パーフルオロオクタ
ンスルホン酸アミドエタノール〔三菱マテリアル（株）
製ＥＦ−１２１〕、更に三菱マテリアル（株）製ＥＦ−
１０２、同ＥＦ−１０３、同ＥＦ−１０４、同ＥＦ−１
０５、同ＥＦ−１１２、同ＥＦ−１２１、同ＥＦ−１２
２Ａ、同ＥＦ−１２２Ｂ、同ＥＦ−１２２Ｃ、同ＥＦ−
１２２Ａ３、同ＥＦ−１２３Ａ、同ＥＦ−１２３Ｂ、同
ＥＦ−１３２、同ＥＦ−３０１、同ＥＦ−３０３、同Ｅ
Ｆ−３０５、同ＥＦ−３０６Ａ、同ＥＦ−５０１、同Ｅ
Ｆ−７００、同ＥＦ−２０１、同ＥＦ−２０４、同ＥＦ
−３５１、同ＥＦ−３５２、同ＥＦ−８０１、同ＥＦ−
８０２、同ＥＦ−１２５ＤＳ、同ＥＦ−１２００、同Ｅ
Ｆ−Ｌ１０２、同ＥＦ−Ｌ１５５、同ＥＦ−Ｌ１７４、
同ＥＦ−Ｌ２１５等が挙げられる。また、３−（２−パ
ーフルオロヘキシル）エトキシ−１，２−ジヒドロキシ
プロパン〔三菱マテリアル（株）製ＭＦ−１００〕、Ｎ
−ｎ−プロピル−Ｎ−２，３−ジヒドロキシプロピルパ
ーフルオロオクチルスルホンアミド〔三菱マテリアル
（株）製ＭＦ−１１０〕、３−（２−パーフルオロヘキ
シル）エトキシ−１，２−エポキシプロパン〔三菱マテ
リアル（株）製ＭＦ−１２０〕、Ｎ−ｎ−プロピル−Ｎ
−２，３−エポキシプロピルパーフルオロオクチルスル
ホンアミド〔三菱マテリアル（株）製ＭＦ−１３０〕、
パーフルオロヘキシルエチレン〔三菱マテリアル（株）
製ＭＦ−１４０〕、Ｎ−〔３−トリメトキシシリル）プ
ロピル〕パーフルオロヘプチルカルボン酸アミド〔三菱
マテリアル（株）製ＭＦ−１５０〕、Ｎ−〔３−トリメ
トキシシリル）プロピル〕パーフルオロヘプチルスルホ
ンアミド〔三菱マテリアル（株）製ＭＦ−１６０〕等が
挙げられる。弗素系界面活性剤は、液晶と樹脂形成材料
との合計量に対して０．１〜２０重量％の割合で使用さ
れる。

【００５５】また、情報記録層形成における塗布溶液に
おける固形分濃度は１０〜６０重量％とするとよく、硬
化に際して、樹脂の種類、濃度、塗布層温度、また紫外
線照射条件等の硬化条件を適宜に設定することにより、
外表面層として液晶相を有しない樹脂層のみからなるス
キン層を良好に形成させることができる。

【００５６】情報記録層の膜厚は解像性に影響を与える
ので、乾燥後膜厚０．１μｍ〜１０μｍ、好ましくは３
μｍ〜８μｍとするとよく、高解像性を維持しつつ、動
作電圧も低くすることができる。膜厚が薄すぎると情報
記録部のコントラストが低く、また、厚すぎると動作電
圧が高くなるので好ましくない。

【００５７】情報記録層の外表面にスキン層が形成され
ることにより、情報記録層における液晶の使用割合を増
大することができ、また液晶の滲み出しを無くすること
ができる。

【００５８】次に、この情報記録層上に、上述の電極層
１３と同様の材料、同様の積層方法で電極層１３′を設
けるが、情報記録層の表面にはスキン層が形成されてい
るので、例えばＩＴＯ膜を蒸着法、スパッタ法等により
積層してもひび割れが生じなく、導電性の低下のないも
のとできる。

【００５９】又、電極１３′層上に、更に必要に応じ
て、上述したと同様の基板或いは透明保護層を積層して
もよい。

【００６０】次に、第２の情報記録媒体について説明す
る。

【００６１】図１（ｂ）は第２の情報記録媒体を断面図
により示す図であり、図中１６は透明絶縁層であり、ま
た、図１（ａ）と同一符号は同一内容を示す。

【００６２】第２の情報記録媒体においては、第１の情
報記録媒体における光導電層と情報記録層間に透明絶縁
層が設けられるものである。第２の情報記録媒体は、光
導電層が溶媒を使用して形成される有機感光層の場合に
特に適しており、光導電層と情報記録層の相互作用によ
り情報記録層における液晶が溶出したり、又、情報記録
層を光導電層上に塗布形成する際に、情報記録層形成用
の溶媒により光導電材料が溶出し、画像ムラが生じるの
を防止することを目的として設けられる。

【００６３】従って、透明絶縁層は、その形成にあたっ
て、有機光導電層形成材料、情報記録層形成材料のいず
れに対しても相溶性を有しないことが必要であり、また
導電性を有する場合には空間電荷の拡散が生じ、解像度
の劣化が生じることから絶縁性が要求される。しかしな
がら、透明絶縁層は液晶層にかかる分配電圧を低下させ
たり、或いは解像性を悪化させるので、その膜厚は薄い
方が好ましく、２μｍ以下とするとよい。また、薄くす
ることにより、経時的な相互作用による画像ノイズの発
生ばかりでなく、積層塗布する時にピンホール等の欠陥
による浸透の問題が生じる。浸透性は積層塗布する材料
の固形分比率、溶媒の種類、粘度により異なることか
ら、積層塗布されるものについてその膜厚は適宜設定さ
れる。また、これらの問題を防止するために下記材料を
積層して用いることもできる。さらに、各層に掛かる電
圧分配を考慮した場合、薄膜化と共に誘電率の高い材料
が好ましい。

【００６４】このような透明絶縁層は、無機材料として
SiO₂、TiO₂、CeO₂、Al₂O₃、GeO₂、Si₃N₄、AlN 、Ti
N 等を使用し、蒸着法、スパッタ法、ケミカル・ベーパ
ー・デポジション（ＣＶＤ）法等により積層して形成し
てもよい。また、有機溶剤に対して相溶性の少ない水溶
性樹脂としてポリビニルアルコール、水系ポリウレタ
ン、水ガラス等の水溶液を使用し、スピンコート法、ブ
レードコート法、ロールコート法等により積層してもよ
い。更に、塗布可能な弗素樹脂を使用してもよく、この
場合には弗素系溶剤に溶解し、スピンコート法により塗
布するか、またブレードコート法、ロールコート法等に
より積層してもよい。

【００６５】塗布可能な弗素樹脂としては、一般式

【００６６】

【化６】及び／又は、一般式

【００６７】

【化７】（但し、ｎは１又は２）で示される環構造の繰り返し単
位からなり、５０℃での固有粘度が少なくても０．１で
あるような分子量を有する含弗素熱可塑性樹脂、又、一
般式

【００６８】

【化８】及び／又は、一般式

【００６９】

【化９】（但し、ｎは１又は２）で示される環構造の繰り返し単
位（ａ）と、一般式 -(CF₂-CFX)- （但し、ＸはＦ、Ｃ
ｌ、-O-CF₂CF₂CF₃、-O-CF₂CF(CF₃)OCF₂CF₂SO₃F、-O-CF₂
CF₂CF₂COOCH₃）で示される繰り返し単位（ｂ）からな
り、少なくても８０重量％の繰り返し単位（ａ）を含
み、５０℃での固有粘度が少なくとも０．１であるよう
な含弗素熱可塑性樹脂を好適に使用することができる。

【００７０】繰り返し単位（ａ）は、一般式 CF₂=CF-O
-(CF₂)_nCF=CF₂ （但し、ｎは１又２）で示されるパー
フルオロアリルビニルエーテル、又はパーフルオロブテ
ニルビニルエーテルをラジカル的に環化重合することに
より得られるものである。

【００７１】また繰り返し単位（ａ）と上記繰り返し単
位（ｂ）を含有するものは、一般式、CF₂=CF-O-(CF₂)_n
CF=CF₂ （但し、ｎは１又２）で示されるパーフルオロ
ビニルエーテルと一般式、CF₂=CFX （但し、ＸはＦ、Ｃ
ｌ、-O-CF₂CF₂CF₃、-O-CF₂CF(CF₃)OCF₂CF₂SO₃F、-O-CF₂
CF₂CF₂COOCH₃）で示されるモノマーとラジカル重合させ
ることにより得られるものである。これらの樹脂は例え
ば、特開平１−１３１２１５号公報に開示されている。

【００７２】更に、

【００７３】

【化１０】（但し、繰り返し単位数ｍで示されるジオキソノール成
分含量が２０〜９０モル％）である繰り返し単位からな
り、ガラス転移温度より９０〜１１０℃高い温度での溶
融粘度が１０²〜１０⁴Pa・secである含弗素熱可塑性
樹脂を使用してもよい。

【００７４】上記〔化１０〕で示される含弗素熱可塑性
樹脂としては、例えばデュポン社製〔商品名「テフロ
ン」ＡＦ１６００、ジオキソノール単位を約６５モル％
含有、ガラス転移温度１６０℃、溶融粘度２６５７Pa・
sec （２５０℃、１００sec ^-1でＡＳＴＭＤ３８３５
による測定値）、吸水率０．０１％以下〕、同社製〔商
品名「テフロン」ＡＦ２４００、ジオキソノール単位を
約８５モル％含有、ガラス転移温度２４０℃、溶融粘度
５４０Pa・sec （３５０℃、１００sec ^-1でＡＳＴＭ
Ｄ３８３５による測定値）、吸水率０．０１％以下〕が
具体的に例示される。

【００７５】また、弗素樹脂としては、必ずしもパーフ
ルオロ樹脂である必要はなく、汎用溶剤に難溶で弗素系
溶剤に可溶のものであればよい。

【００７６】塗布型の透明絶縁材料を選択する際には、
その溶媒が光導電層を溶解しない、且つ、情報記録層を
塗布形成する際に情報記録層を構成する材料に溶解しな
い、或いは、塗布する際の溶媒に溶解しないことが必要
である。

【００７７】また、真空系で膜形成される有機材料の場
合は、膜形成時に光導電層を溶解する恐れはない。この
うち蒸着法により膜形成される材料としてはポリエチレ
ン、ポリプロピレン、ポリ（モノクロロトリフルオロエ
チレン）、ポリテトラフルオロエチレン等を使用でき、
また、ＣＶＤ法により膜形成される材料としてはポリパ
ラキシレンの下記構造式で示されるもの、

【００７８】

【化１１】（尚、上記Ｃタイプは上記構造のもののみでなく、ベン
ゼン環における主鎖結合部位以外の部位の内１つが塩素
で置換されているもの、またＤタイプはその２つが塩素
で置換されていればよい）等を使用することができる。

【００７９】なお、光導電層が無機材料より形成され、
情報記録層との液晶滲み出し等の相互作用がない場合に
は、透明絶縁層を設ける必要はない。

【００８０】本発明の第１、第２の情報記録媒体は、静
電情報を液晶の配向により可視化した状態で記録するも
のであるが、液晶と樹脂との組合せを選ぶことにより、
一旦配向し、可視化した情報は消去せず、メモリ性が付
与される。メモリーを消去するには等方相転移付近の高
温に加熱するとよく、再度情報記録に使用することがで
きる。

【００８１】次に、本発明の情報記録媒体への情報記録
再生方法について説明する。

【００８２】図３は、本発明の第１の情報記録媒体への
情報記録方法を説明するための図であり、第２の情報記
録媒体への情報記録方法も同様である。

【００８３】まず、電源により電極１３、１３′間に電
圧を印加する。この情報記録媒体への記録に際して、情
報記録媒体を例えば支持体中に埋設した抵抗加熱（図示
せず）により加熱し、液晶を液晶相を示す温度まで加熱
することにより、よりメモリー性を向上させることがで
きる。

【００８４】電極１３、１３′間に電圧を印加しつつ、
情報光１８が入射すると、光が入射した部分の光導電層
１４で発生した光キャリアは、両電極により形成される
電界により移動し、電圧の再配分が行われることで情報
記録層における液晶相が配向し、情報光１８のパターン
に応じた記録が行なわれる。なお、情報光１８を入射し
つつ、電圧を所定時間印加してもよい。

【００８５】また、液晶によって作動電圧及び範囲が異
なるものもあるので、印加電圧及び印加電圧時間を設定
するにあたっては、情報記録媒体における電圧配分を適
宜設定し、情報記録層にかかる電圧配分を液晶の動作電
圧領域に設定するとよい。

【００８６】この情報記録方法は、面状アナログ記録が
可能であり、液晶粒子レベルでの記録が得られるので高
解像度が得られ、また露光パターンは液晶相の配向によ
り可視像化されて保持される。

【００８７】本発明の情報記録媒体への情報入力方法と
しては、カメラによる方法、またレーザーによる記録方
法がある。カメラによる方法としては、通常のカメラに
使用されている写真フィルムの代わりに情報記録媒体が
使用され、記録部材とするもので、光学的なシャッタも
使用しうるし、また電気的なシャッタも使用しうるもの
である。また、プリズム及びカラーフィルターにより光
情報を、Ｒ、Ｇ、Ｂ光成分に分離し、平行光として取り
出しＲ、Ｇ、Ｂ分解した情報記録媒体３セットで１コマ
を形成するか、または１平面上にＲ、Ｇ、Ｂ像を並べて
１セットで１コマとすることにより、カラー撮影するこ
ともできる。

【００８８】また、レーザーによる記録方法としては、
光源としてはアルゴンレーザー（５１４．４８８ｎ
ｍ）、ヘリウム−ネオンレーザー（６３３ｎｍ）、半導
体レーザー（７８０ｎｍ、８１０ｎｍ等）が使用でき、
画像信号、文字信号、コード信号、線画信号に対応した
レーザー露光をスキャニングにより行うものである。画
像のようなアナログ的な記録は、レーザーの光強度を変
調して行い、文字、コード、線画のようなデジタル的な
記録は、レーザー光のＯＮ−ＯＦＦ制御により行う。ま
た画像において網点形成されるものには、レーザー光に
ドットジェネレーターＯＮ−ＯＦＦ制御をかけて形成す
るものである。尚、情報記録媒体における光導電層の分
光特性は、パンクロマティックである必要はなく、レー
ザー光源の波長に感度を有していればよい。

【００８９】情報記録媒体に記録された静電情報は、図
４に示すように、透過光により情報を再生すると、情報
記録部では液晶が電界方向に配向するために光Ａは透過
するのに対して、情報を記録していない部位においては
光Ｂは散乱し、情報記録部とのコントラストがとれる。
液晶の配向により記録された情報は、透過光により目視
による読み取りが可能な可視情報であるが、投影機によ
り拡大して読み取ることもでき、レーザースキャニン
グ、或いはＣＣＤを用いて透過光により読み取りをする
ことにより高精度で情報を読み取ることができ、必要に
応じてシュリーレン光学系を用いることにより散乱光を
防ぐことができる。

【００９０】更に、反射光により読み取ることもでき
る。コントラストが問題になる場合には、何れかの層に
反射層を設けるとよい。

【００９１】

【作用及び発明の効果】本発明の第１の情報記録媒体
は、２枚の電極層間に情報記録層及び光導電層を有し、
その情報記録層が液晶相と樹脂相とからなる記録層であ
り、両電極間に電圧を印加しつつ、情報露光されると、
光導電層において発生するキャリアにより形成される電
界により、情報記録層における露光部の液晶層を配向さ
せることにより情報記録を可能とするものである。

【００９２】第２の情報記録媒体は、光導電層を特に有
機感光材料を塗布することにより形成される場合に適用
されるもので、光導電層を溶出させないで、情報記録層
を塗布法により形成することを可能とするものである。

【００９３】また、本発明の記録媒体における情報記録
層は、液晶と紫外線硬化型樹脂形成材料との混合溶液が
塗布された後、紫外線照射により硬化され、その外表面
層が紫外線硬化型樹脂からなるスキン層に形成されるの
で、情報記録層上に直接ＩＴＯ膜を蒸着形成することが
できる。

【００９４】従って、本発明の情報記録媒体において
は、情報記録層、光導電層、電極層を共に塗布法により
形成するので、セル化しなくても液晶を保持でき、簡便
に電気光学効果が得られるものである。また、情報記録
層をコーティング技術により均一に薄膜化しうるので、
情報記録層ギャップを均一に小さくでき大面積の情報記
録媒体作製が可能であり、更に高解像度の像を記録、再
生することができる。

【００９５】また、本発明の情報記録媒体は、像情報光
による感光体の光キャリアの発生に伴い、電界のかから
ない状態では光散乱により不透明であるのに対して、電
界をかけると液晶相が配向し、情報記録部を透明状態と
することかできるもので、電界の変調によりアナログの
画像記録が可能であり、情報再生に際して偏向板が不用
であり、又、情報の読み取りに際しての光学系が単純化
しうるものである。

【００９６】更に、本発明の第２の情報記録媒体におい
ては、透明絶縁層を有機光導電層と情報記録層の間に設
けることにより、光導電層と情報記録層との相互作用を
無くすことができ、画像ムラ等を無くすことができる。

【００９７】また、情報記録層表面に樹脂のみからなる
スキン層を形成するので、液晶の滲み出しを抑制するこ
とができ、透明電極層を蒸着法により形成することがで
きる。更に、液晶を多く含有させることができるので、
膜厚を薄くでき、動作電圧を低く設定することができ、
高感度、高コントラスト、高品質の可視像を形成するこ
とが可能となるものである。

【００９８】以下、実施例を説明するが、実施例中、
「部」は重量部、「％」は重量％を示す。

【００９９】

【実施例１】

【０１００】

【化１２】電荷発生材料として上記構造を有するビスアゾ系顔料３
部とポリビニルアセタール樹脂１部を、ジオキサン：シ
クロヘキサン＝１：１の混合溶媒で固形分２％とした１
００ｇ溶液をボールミルで十分に分散させた溶液を、Ｉ
ＴＯ透明電極（膜厚：約５００Å、抵抗値：８０Ω／
口）を有するガラス基板上のＩＴＯ面側に２ミルのギャ
ップのブレードコーターで塗布し、１００℃、１時間乾
燥して膜厚０．３μｍの電荷発生層を形成した。

【０１０１】次に、電荷輸送材料としてｐ−ジエチルア
ミノベンズアルデヒド−Ｎ−フェニル−ベンジルヒドラ
ゾン１５部とポリカーボネート樹脂（三菱ガス化学：ユ
ーピロンＳ−１００）１０部とを、ジクロロメタン：
１，１，２−トリクロロエタン＝４：６の混合溶媒にて
固形分１７．８％に調整し、この溶液を２ミルのギャッ
プ厚のブレードコーターで上記電荷発生層上に塗布し、
８０℃、２時間乾燥して膜厚１０μｍの電荷輸送層を形
成した。

【０１０２】続いて、上記電荷輸送層上に、含フッ素樹
脂サイトップ（商品名；旭硝子 (株）製、吸水率０．０
１％、比抵抗１×１０¹⁸Ω・cm）をパーフルオロ（２−
ブチルテトラヒドロフラン）に溶解し、その４．５％溶
液をスピンナーで１５００ｒｐｍ、２０秒の条件で塗布
し、８０℃、３ｈｒ乾燥後、膜厚約０．３μｍの透明絶
縁層を形成した。

【０１０３】更に、この透明絶縁層の上に、高分子分散
型液晶の情報記録層として、ジペンタエリスリトールヘ
キサアクリレート４部、スメクチック液晶Ｓ６（商品
名；メルク社製）６部、フッ素系界面活性剤フロラード
ＦＣ−４３０（商品名；３Ｍ社製）０．２部、光重合開
始剤「ダロキュア１１７３」（商品名：メルク社製）
０．２部の混合物をキシレンにて固形分３０％に調整
し、この溶液を５０μｍのギャップ厚のブレードコータ
ーで塗布し、これを５０℃に保持し、０．３ｍＪ／cm²
のＵＶ光を照射して、膜厚約６μｍの高分子分散型液晶
よりなる情報記録層を得た。

【０１０４】この情報記録層断面を熱メタノールを用い
て、液晶を抽出し、乾燥させた後、走査型電子顕微鏡
（日立製作所（株）製、Ｓ−８００、１００００倍）で
内部構造を観察したところ、図３に示すように、層の表
面は０．６μｍ厚の紫外線硬化型樹脂で覆われ、層内部
には、粒径０．１μｍの樹脂粒子が充填している構造を
有していることがわかった。

【０１０５】更に、上記情報記録層の上に、透明電極と
してスパッタ法でＩＴＯを約２００Å積層し、本発明の
情報記録媒体を作成した。

【０１０６】この情報記録媒体の光導電層側からグレー
スケールを投影露光すると同時に、直流電圧１２００Ｖ
をＩＴＯ電極間に、光導電層側を正、情報記録層側を負
として、０．１秒間印加することで、グレースケールに
対応した透過像が情報記録層に形成され、グレースケー
ルの低露光量側でも、十分なコントラストが得られる像
が透過光により確認できた。

【０１０７】更に、この情報記録媒体をＣＣＤラインセ
ンサーを用いたスキャナーにより読み取り、昇華プリン
ターで出力した結果、諧調性を有し、高解像度のハード
コピーが得られた。

【０１０８】

【実施例２】ガラス基板（コーニング社製、７０５９ガ
ラス、４５×５０mm、１．１mm厚）の上に、酸化インジ
ウム−錫透明電極（１００Ω／口）を電子銃蒸着により
成膜し、その電極上に電荷注入防止層としてＳｉＯ₂膜
（０．１μｍ）をスパッタリング法により成膜した。

【０１０９】この電荷注入防止層上に、電荷発生層とし
てａ−セレン−テルル混合蒸着層（テルル濃度４２％）
を０．１μｍの膜厚に成膜した。蒸着条件は次の通りで
ある。真空蒸着装置（ＪＥＥ−４Ｂ、日本電子 (株）
製）を使用し、到達真空度を２．０×１０^-5torrとし、
蒸発原料として粒状セレン（純度９９．９９９％、三菱
金属 (株）製）、粒状テルル（純度９９．９９％、高純
度化学 (株）製）を使用し、粒状セレンはアルミナ製坩
墻（ニラコ (株）製）、粒状テルルは昇華金属用ボート
（ニラコ (株）製）によって蒸発させた。

【０１１０】セレンの結晶化及びテルルの拡散を防止す
るために基板ホルダーを水冷して基板を室温状態に維持
し、セレン、テルルそれぞれの蒸発源の蒸着速度を水晶
発信子膜厚計（ＣＲＴＭ−７０００、日本真空技術
(株）製）によって独立に測定しつつ、一定の蒸発速度
比になるように蒸発源電源を帰還制御しながら蒸着し
た。蒸着速度比は、組成に対する検量線を予め作成して
おき、所望の組成になるように決定した。テルル濃度が
４２％の場合にはセレンとテルルの蒸着速度比は２０：
１０とした。

【０１１１】次に、セレンのみを蒸着（膜厚３μｍ）さ
せて電荷輸送層を形成し、本発明の光導電層を積層し
た。

【０１１２】続いて、この電荷輸送層の上に、高分子分
散型液晶よりなる情報記録層、透明電極層を順次実施例
１と同様に作製し、本発明の情報記録媒体を作製した。

【０１１３】この情報記録媒体の光導電層側からグレー
スケールを投影露光すると同時に、直流電圧５００Ｖを
ＩＴＯ電極間に、光導電層側を正、情報記録層側を負と
して０．１秒間印加することで、グレースケールに対応
した透過像が情報記録層に形成され、グレースケールの
低露光量側でも十分なコントラストが得られる像が透過
光により確認できた。

【０１１４】

【実施例３】ＩＴＯ透明電極（膜厚：約５００Å、抵抗
値：８０Ω／口）を有するガラス基板上のＩＴＯ面側
に、電荷発生層、電荷輸送層を順次実施例１と同様に積
層した。

【０１１５】次に、この電荷輸送層上に透明絶縁層とし
てＥＢ蒸着法によりＳｉＯ₂を２５００Å積層し、透明
絶縁層を形成した。

【０１１６】続いて、この透明絶縁層の上に、高分子分
散型液晶よりなる情報記録層、透明電極層を順次実施例
１と同様に作製し、本発明の情報記録媒体を作製した。

【０１１７】この情報記録媒体の光導電層側からグレー
スケールを投影露光すると同時に、直流電圧８００Ｖを
ＩＴＯ電極間に、光導電層側を正、情報記録層側を負と
して０．１秒間印加することで、グレースケールに対応
した透過像が情報記録層に形成され、グレースケールの
低露光量側でも十分なコントラストが得られる像が透過
光により確認できた。

【０１１８】

【実施例４】ＩＴＯ透明電極（膜厚：約５００Å、抵抗
値：８０Ω／口）を有するガラス基板上のＩＴＯ面側
に、電荷発生層、電荷輸送層を順次実施例１と同様に積
層し、光導電層を形成した。

【０１１９】次に、この光導電層上に透明絶縁層として
ポリビニルアルコール；ゴーセノールＫＬ−２５０（商
品名；日本合成化学 (株）製）を蒸留水に溶解し、固形
分５％の溶液を得、スピンコート法により１０００ｒｐ
ｍ、２０秒の条件で塗布し、８０℃、３ｈｒ乾燥後、膜
厚約２μｍの透明絶縁層を形成した。

【０１２０】続いてこの透明絶縁層の上に、高分子分散
型液晶よりなる情報記録層、透明導電層を順次実施例１
と同様に作製し、本発明の情報記録媒体を作製した。

【０１２１】この情報記録媒体の光導電層側からグレー
スケールを投影露光すると同時に、直流電圧１４００Ｖ
をＩＴＯ電極間に、光導電層側を正、情報記録層側を負
として０．１秒間印加することで、グレースケールに対
応した透過像が情報記録層に形成され、グレースケール
の低露光量側でも十分なコントラストが得られる像が透
過光により確認できた。

【０１２２】

【実施例５】ＩＴＯ透明電極（膜厚：約５００Å、抵抗
値：８０Ω／口）を有するガラス基板上のＩＴＯ面側
に、電荷発生層、電荷輸送層を順次実施例１と同様に積
層し、光導電層を形成した。

【０１２３】次に、この光導電層上に透明絶縁層として
含弗素樹脂コーティング剤「フロラード７２２」（商品
名：３Ｍ社製、体積抵抗率２．７×１０¹⁶Ω・cm）を２
ミルのギャップのブレードコーターで塗布し、８０℃、
３ｈｒ乾燥後、膜厚約０．３μｍの透明絶縁層を形成し
た。

【０１２４】続いてこの透明絶縁層の上に、高分子分散
型液晶よりなる情報記録層、透明導電層を順次実施例１
と同様に作製し、本発明の情報記録媒体を作製した。

【０１２５】この情報記録媒体の光導電層側からグレー
スケールを投影露光すると同時に、直流電圧８００Ｖを
ＩＴＯ電極間に、光導電層側を正、情報記録層側を負と
して０．１秒間印加することで、グレースケールに対応
した透過像が情報記録層に形成され、グレースケールの
低露光量側でも十分なコントラストが得られる像が透過
光により確認できた。

【０１２６】

【実施例６】ＩＴＯ透明電極（膜厚：約５００Å、抵抗
値：８０Ω／口）を有するガラス基板上のＩＴＯ面側
に、電荷発生層、電荷輸送層を順次実施例１と同様に積
層し、光導電層を形成した。

【０１２７】次に、この光導電層上に透明絶縁層として
次の構造を有するジパラキシリレン

【０１２８】

【化１３】を真空下で気化重合させ、ポリ−モノクロロパラキシリ
レンを膜厚約０．６μｍで成膜し、透明絶縁層を形成し
た。

【０１２９】続いてこの透明絶縁層の上に、高分子分散
型液晶よりなる情報記録層、透明導電層を順次実施例１
と同様に作製し、本発明の情報記録媒体を作製した。

【０１３０】この情報記録媒体の光導電層側からグレー
スケールを投影露光すると同時に、直流電圧６００Ｖを
ＩＴＯ電極間に、光導電層側を正、情報記録層側を負と
して０．１秒間印加することで、グレースケールに対応
した透過像が情報記録層に形成され、グレースケールの
低露光量側でも十分なコントラストが得られる像が透過
光により確認できた。

【０１３１】

【実施例７】電荷発生材料として上記〔化１２〕で示さ
れるビスアゾ系顔料３部と塩化ビニル樹脂と酢酸ビニル
樹脂の混合樹脂（デンカ（株）製、商品名＃１０００
Ｄ）１部を、ジオキサン：シクロヘキサン＝１：１の混
合溶媒で固形分１．３％とした１００ｇ溶液をボールミ
ルで十分に分散させた溶液を、ＩＴＯ透明電極（膜厚：
約５００Å、抵抗値：８０Ω／口）を有するガラス基板
上のＩＴＯ面側に２ミルのギャップのブレードコーター
で塗布し、１００℃、１時間乾燥して膜厚０．３μｍの
電荷発生層を形成した。

【０１３２】次に、電荷輸送材料として１，１−ビス
（４−ジエチルアミノフェニル）−４，４−ジフェニル
−１，３−ブタジエン１０部とポリスチレン樹脂（デン
カ社製：ＭＷ−１）１部とを、ジクロロメタン：１，
１，２−トリクロロエタン＝４：６の混合溶媒にて固形
分１５％に調整し、この溶液を５ミルのギャップ厚のブ
レードコーターで上記電荷発生層上に塗布し、８０℃、
２時間乾燥して膜厚２０μｍの電荷輸送層を形成した。

【０１３３】続いて、上記電荷輸送層上に、実施例６と
同様にポリ（バラキシリレン）を使用して透明絶縁層を
形成し、更に、この透明絶縁層上にジペンタエリスリト
ールヘキサアクリレート４部、スメクチック液晶Ｓ１
（商品名；メルク社製）部、フッ素系界面活性剤フロ
ラードＦＣ−４３０（商品名；３Ｍ社製）０．２部、光
重合開始剤「ダロキュア１１７３」（商品名：メルク社
製）０．２部の混合物をキシレンにて固形分５０％に調
整し、この溶液を５０μｍのギャップ厚のブレードコー
ターで塗布し、これを３２℃に保持し、０．６ｍＪ／cm
²のＵＶ光を照射して、膜厚約６μｍの高分子分散型液
晶よりなる情報記録層を得た。

【０１３４】更に、上記情報記録層の上に、透明電極を
実施例１同様に積層した。

【０１３５】この情報記録媒体の光導電層側からグレー
スケールを投影露光すると同時に、直流電圧６００Ｖを
ＩＴＯ電極間に、光導電層側を正、情報記録層側を負と
して、１／３０秒間印加することで、グレースケールに
対応した透過像が情報記録層に形成され、グレースケー
ルの低露光量側でも十分なコントラストが得られる像が
透過光により確認できた。

【０１３６】

【実施例８】実施例１における樹脂形成用材料に代え
て、熱硬化型樹脂であるビスフェノール樹脂（エピコー
ト８２８：油化シェルエポキシ（株）製）脂肪族硬化剤
（Ｂ−００２：同上製）を使用し、６０℃に加熱して硬
化させた以外は、実施例１同様にして情報記録媒体を作
製した。

【０１３７】この情報記録媒体を実施例１同様に情報記
録させたところ、同様の結果が得られたが、情報記録面
にしみ状の汚れが発生し、液晶の滲み出しが生じている
ことがわかった。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の情報記録媒体の模式断面図である。

【図２】本発明の情報記録媒体の情報記録再生方法を説
明するための図である。

【図３】本発明の情報記録媒体の情報記録層断面におけ
る粒子構造を示す図面に代える走査型電子顕微鏡写真で
ある。

【符号の説明】

３は情報記録媒体、１１は情報記録層、１３、１３′は
電極層、１４は光導電層、１５は基板、１６は透明絶縁
層、１８はパターン露光、Ａは透過光、Ｂは散乱光

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】電極層、光導電層、情報記録層、電極層
を順次設けた情報記録媒体において、少なくとも一方の
電極が透明であり、かつ情報記録層が液晶相及び樹脂相
からなることを特徴とする情報記録媒体。
【請求項２】電極層、光導電層、透明絶縁層、情報記
録層、電極層を順次設けた情報記録媒体において、少な
くとも一方の電極が透明であり、かつ情報記録層が液晶
相及び樹脂相からなることを特徴とする情報記録媒体。
【請求項３】透明絶縁層がポリ（モノクロロパラキシ
リレン）である請求項２記載の情報記録媒体。
【請求項４】情報記録層が、弗素系界面活性剤を含有
していること特徴とする請求項１または２記載の情報記
録体。
【請求項５】光導電層が、下記一般式（１）で示され
る化合物を含有していることを特徴とする請求項１また
は２記載の情報記録媒体。一般式（１）【化１】（但し、式中のＸは水素、低級アルキル基、低級アルコ
キシ基、ニトロ基、スルホン酸基、水酸基、カルボキシ
ル基、ハロゲン原子より選択される同じか又は異なって
もよく、またｎは０〜３の整数、Ｒは置換されててもよ
い炭化水素環基、複素環基、或いはアルキル基であ
る。）
【請求項６】情報記録層が、液晶と紫外線硬化型樹脂
形成材料との混合溶液が塗布された後、紫外線照射によ
り硬化され、その外表面層が紫外線硬化型樹脂のみから
なるスキン層に形成されたことを特徴とする請求項１ま
たは２記載の情報記録媒体。
【請求項７】電極層、光導電層、情報記録層、電極層
を順次設けた情報記録媒体であって、少なくとも一方の
電極が透明であり、かつ情報記録層が液晶相及び樹脂相
からなる情報記録媒体において、その両電極間に電圧を
印加しつつ情報露光し、情報に応じて液晶相を配向させ
て情報記録を行い、情報記録の再生にあたっては透過光
或いは反射光により可視情報として再生することを特徴
とする情報記録再生方法。
【請求項８】電極層、光導電層、透明絶縁層、情報記
録層、電極層を順次設けた情報記録媒体であって、少な
くとも一方の電極が透明であり、かつ情報記録層が液晶
相及び樹脂相からなる情報記録媒体において、その両電
極間に電圧を印加しつつ情報露光し、情報に応じて液晶
相を配向させることにより情報記録を行い、情報記録の
再生にあたっては透過光或いは反射光により可視情報と
して再生することを特徴とする情報記録再生方法。