JPH0613528B2 - セフエム化合物のメトキシ化法 - Google Patents

セフエム化合物のメトキシ化法

Info

Publication number
JPH0613528B2
JPH0613528B2 JP60183692A JP18369285A JPH0613528B2 JP H0613528 B2 JPH0613528 B2 JP H0613528B2 JP 60183692 A JP60183692 A JP 60183692A JP 18369285 A JP18369285 A JP 18369285A JP H0613528 B2 JPH0613528 B2 JP H0613528B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
cephem
carboxylic acid
oxide
methoxy
ester
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP60183692A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS6242988A (ja
Inventor
照二 辻
光 井谷
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shionogi and Co Ltd
Original Assignee
Shionogi and Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shionogi and Co Ltd filed Critical Shionogi and Co Ltd
Priority to JP60183692A priority Critical patent/JPH0613528B2/ja
Publication of JPS6242988A publication Critical patent/JPS6242988A/ja
Publication of JPH0613528B2 publication Critical patent/JPH0613528B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Cephalosporin Compounds (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 この発明はセフェム化合物のメトキシ化法、特に7−
(アルキルまたはアリール)スルフェニルイミノセフェ
ム化合物のスルホキシド(1)にメタノールと酸を作用さ
せて7α−メトキシ−7β−アミノセフェム化合物のス
ルホキシド(2)を製造する方法に関する。
(式中、Rはアルキルまたはアリール基、 R1は水素またはセファロスポリンの3位置換基、 R2は水素、金属原子またはエステル形成基、 をそれぞれ示す) セファロスポリン類の7位にメトキシ基を導入する方法
はリリー社、メルク社のセファマイシン発見以来多数の
方法が発明されている。{例えばメルク社:ベンザルア
ミノ化合物経由法。リリー社:アシルイミン経由法[ア
メリカ化学会誌95巻2401頁(1973年)、ジャ
ーナル・オブ・オーガニック・ケミストリー38巻14
36頁(1973年)]。三共:キノイドイミン経由法
[テトラヘドロン・レタース2705頁(1975
年)、テトラヘドロン・レタース1307頁(1976
年)]、スクイブ社:スルフェンイミン経由法[アメリ
カ化学会誌102巻1690頁(1980年)など}。
しかし何れも極低温や次亜塩素酸第3級ブチル試薬の使
用など実用性が低く、また何れも塩基使用の起因する△
2異性体や7−イミノ基経由に起因する7位立体異性体
(1:1までの割合)の副生などの副反応が知られてい
る。今回、本発明者はこの副生立体異性体の生成量を減
少させるためメトキシ化に際してセフェム骨格の硫黄原
子を酸化してスルホキシドとし、イミノ窒素とこのスル
ホキシド酸素とを水素イオンを介して静電的に結合させ
て反応させた所、立体的影響もあり、7β−メトキシ体
の生成量が0.1%以下に減少し、高純度の7α−メト
キシ体を製造することに成功し、この発明を完成した。
この方法は高価な材料(ジ第3級ブチルベンズアルデヒ
ド、第3級ブチルヒポクロリトなど)や有害物質(酢酸
水銀など)を用いず、緩和な条件下に高収率で目的物を
与え、大量合成に適した方法である。
この生成物(2)は、有用化合物の合成中間体として利用
できる。例えば化合物(2)の7位アミノ基をアシル化し
たのち、スルホキシドを還元し、脱保護すれば抗菌剤原
料として有用な各種の7α−メトキシ−7β−アシルア
ミノセフェム化合物を製造できる。
本発明の原料である7−(アルキルまたはアリール)ス
ルフェニルイミノセフェム化合物のスルホキシド(1)は
7−アミノ化合物に過カルボン酸など酸化剤を作用させ
てスルホキシドとしたのち、ハロゲン化メタンスルフェ
ニル、ハロゲン化フェニルスルフェニルなどのも(アル
キルまたはアリール)スルフェニル化剤を酸捕捉剤の存
在下に作用させれば製造できる。
アルキル基Rとしては低級アルキル、特にIC〜4Cア
ルキルが好ましい。
アリール基Rとしてはフェニルまたは置換フェニルが好
ましい。
セファロスポリン類の3位置換基R1としてはヒドロキ
シ、1C〜5Cアルカノイルオキシ、ハロゲン、1C〜
5Cアルコキシ、1C〜5Cアルキルチオ、1C〜5C
アルケニルチオ、1C〜5Cアルキル、2C〜5Cアル
ケニル、異原子として窒素、酸素または硫黄1〜4個を
含む異項環チオ(とくにヒドロキシ、オキソ、1C〜5
Cアルキル、置換アルキル、アルコキシなどの置換基を
有していてもよいトリアゾリルチオ、テトラゾリルチ
オ、チアジアゾリルチオ、チアジアゾリルチオ、トリア
ジニルチオなど)、ピリジニウム、置換ピリジニウムな
どが好ましい。これらの基はさらにヒドロキシ、ハロゲ
ン、ジメチルアミノ、カルボキシ、カルバモイルなどで
置換されていてもよい。
また、R1基は前記各R1がメチレン基を介して3位に
結合しているものも含む。
金属原子R2は、好ましくは周期律表第I〜III属、第
2〜4周忌の属し、生理学的に受容しうるイオンとなり
うる軽金属原子、特にリチウム、ナトリウム、カリウ
ム、マグネシウム、カルシウム、アルミニウムなどであ
る。
エステル形成基R2はペニシリン、セファロスポリンの
化学の分野で分子中の他の部分に不都合な変化を起こす
ことなく着脱可能のものとして知られている保護基であ
る。たとえばアルキルエステル(メチル、メトキシメチ
ル、エチル、エトキシメチル、ヨードエチル、プロピ
ル、イソプロピル、エトキシエチル、メチルチオエチ
ル、メタンスルホニルエチル、ブチル、イソブチル、ト
リクロロエチル、t−ブチル、アリル、直鎖、分枝、環
状または部分環状のアルカノイルオキシアルキル、アル
コキシホルミルオキシアルキル、アルコキシアルキル、
2−オキサシクロアルキル、2−オキソ−1,3−ジオ
キソレニルメチルなど、2−酸素置換−2C〜12Cア
ルキルなどのエステル)、アルケニルエステル(ビニ
ル、プロペニル、プレニルエステルなど)、アラルキル
エステル(ベンジル、メチルベンジル、ジメチルベンジ
ル、メトキシベンジル、エトキシベンジル、ニトロベン
ジル、アミノベンジル、ジフェニルメチル、フタリジ
ル、フェナシルなどのエステル)、アリールエステル
(フェニル、キシリル、ペンタクロロフェニル、インダ
ニルなどのエステル)、N−ヒドロキシアミノ化合物の
エステル(アセトンオキシム、アセトフェノンオキシ
ム、アセトアルドキシム、N−ヒドロキシこはく酸イミ
ド、N−ヒドロキシフタルイミドなどとのエステル)な
どを構成する1C〜15Cのエステル形成基が好まし
い。
これらのカルボキシ保護基は最終目的物においては脱離
してしまうので、反応を阻害せず保護の目的を達するも
のであれば、その構造は必ずしも重要な意味をもたない
ことが多く、置換誘導体など広範囲な均等基を利用でき
る。
前記定義中、各基は反応を阻害しない限り、アルキル部
分は直鎖、分枝または環状のアルキルであって、ヒドロ
キシ、アルコキシ、アシルオキシ、アミノ、アシルアミ
ノ、ジアルキルアミノ、シアノ、カルボキサミド、ホル
ムイミドイルアミノ、オキソ、アシル、アルキル、ハロ
ゲン、保護カルボキシ、カルバモイルなどの置換基を有
していてもよく、アシル部分は置換基を有していてもよ
い直鎖、分枝または環状のアルカノイル、単環または双
環の、ヘテロ原子を有していてもよいアロイル、アラル
カノイル、アリールアルケノイル、アルキルスルホニ
ル、アリールスルホニル、カルバモイル、カルボアルコ
キシ、カルボアラルコキシ、スルホなどのアシル基であ
ってもよく、アリール部分は単環または双環の異項環
(例えばフリル、チエニル、ピロール、オキサゾール、
チアゾール、イミダゾール、オキサジアゾール、チアジ
アゾール、トリアゾール、チアトリアゾール、テトラゾ
ール、ピリジン、キノリン、ピリドピリジン環など)で
あってもよく、また置換基を有していてもよい5〜6員
環のアリール基である。
この反応は前記原料物質を要すれば不活性溶媒中、−5
0〜10℃に冷却下、過剰量の乾燥メタノールと酸(塩
酸など)2当量以上加え、1〜30時間攪拌すれば十分
に進行する。
反応液は塩基で中和し、水洗して無機物を除去したの
ち、溶媒など低沸点物質を留去すれば、目的とする生成
物を単離できる。
生成物である7α−メトキシ−7β−アミノセフェム化
合物のスルホキシド(2)は、例えば常法により所望のア
シル基を有するカルボン酸またはその反応性誘導体であ
るアシル化剤を酸捕捉剤と共に作用させて7α−メトキ
シ−7β−アシルアミノセフェム化合物のスルホキシド
とし、これに還元剤(三価の燐化合物、第一錫化合物、
ヨウ化物など)2〜5当量を不活性溶媒(ジメチルホル
ムアミド、ジクロロメタン、ジオキサンなど)中で−2
0℃〜50℃で2〜50時間作用させて還元して対応す
るスルフイドとし、要すればR2のエステル形成基を常
法(鉱酸、ルイス酸、スルホン酸、強酸性カルボン酸、
塩基、緩衝液、水素など)により除去すれば、7α−メ
トキシ−7β−アシルアミノ−3−セフェム−4−カル
ボン酸化合物である抗菌剤とすることができる。
前記各合成法は通常−30〜100℃、とくに−20〜
50℃の温度で10分間〜30時間かけて反応させるこ
とが多い。これらは溶媒中、要すれば無水条件下、実施
する。その他の常法はいずれも適用できる。
反応溶媒としては、炭化水素(ペンタン、ヘキサン、オ
クタン、ベンゼン、トルエン、キシレンなど)、ハロゲ
ン化炭化水素(ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化
炭素、ジクロロエタン、トリクロロエタン、クロロベン
ゼンなど)、エーテル(ジエチルエーテル、メチルイソ
ブチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフランな
ど)、ケトン(アセトン、メチルエチルケトン、シクロ
ヘキサノンなど)、エステル(酢酸エチル、酢酸イソブ
チル、安息香酸メチルなど)、ニトロ炭化水素(ニトロ
メタン、ニトロベンゼンなど)、ニトリル(アセトニト
リル、ベンゾニトリルなど)、アミド(ホルムアミド、
アセトアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセト
アミド、ヘキサメチルホスホロトリアミドなど)、カル
ボン酸(ギ酸、酢酸、プロピオン酸など)、有機塩基
(ジエチルアミン、トリエチルアミン、ピリジン、ピコ
リン、コリジン、キノリンなど)、アルコール(メタノ
ール、エタノール、プロパノール、ヘキサノール、オク
タノール、ベンジルアルコールなど)、水、その他の系
列に属する工業用溶媒またはその混合物を例示できる。
反応によって試薬を過剰に用いて溶媒に代えうる場合も
ある。
目的とする生成物は反応液から未反応原料、副生成物、
溶媒などの來雑物を抽出、蒸発、洗浄、濃縮、沈殿、ロ
過、乾燥などの常法により除去したのち、吸着、溶離、
蒸留、沈殿、析出、クロマトグラフィーなど、常用の後
処理を組合せて処理すれば単離することができる。
以下に実施例を示し本発明の態様を説明する。
生成物の物理定数は、表にまとめて記載した。表中、IR
はcm-1値を、NMRはδ値を、J値は結合定数のHz値を示
す。
(使用した略号) Ac=アセチル。
Me=メチル。
Ph=フェニル。
PMB=p-メトキシベンジル。
Tet=1−メチルテトラゾール−5−イル。
実施例1 R1=CH2Cl, R2=PMB, R3=CF2HSCH2 1)7β−アミノ−3−クロロメチル−3−セフェム−4
−カルボン酸p−メトキシベンジルエステル5.0gを
ジクロロメタン40mlにとかし、−30℃に冷却し、こ
れに40%過酢酸2.4ml(1当量)を30分間に滴下
し、更に1時間かきまぜる。エーテルを加え析出する結
晶を濾取、メタノールとエーテルで洗い、乾燥すれば7
β−アミノ−3−クロロメチル−3−セフェム−4−カ
ルボン酸p−メトキシベンジルエステル1−オキシド
4.96gを得る。収率:92.7%。分解点145〜
155℃。
2)7β−アミノ−3−クロロメチル−3−セフェム−4
−カルボン酸p−メトキシベンジルエステル1−オキシ
ド4.06gをジクロロメタン80mlに懸濁、氷冷下攪
拌しながらプロピレンオキシド34ml(50当量)と4
Aモレキュラーシーブス34gを加える。次いで1.8
8M塩化メタンスルフェニル−四塩化炭素溶液15.9
ml(3.1当量)を1時間に滴下し、更に1時間攪拌す
る。これにテトラヒドロフランを加えた後モレキュラー
シーブスを濾去し、減圧濃縮する。残渣をメタノール−
エーテルで洗えば7β−メタンスルフェニルイミノ−3
−クロロメチル−3−セフェム−4−カルボン酸p−メ
トキシベンジルエステル1−オキシド3.87gを得
る。収率:93.6%。分解点174〜178℃。
3)7β−メタンスルフェニルイミノ−3−クロロメチル
−3−セフェム−4−カルボン酸p−メトキシベンジル
エステル1−オキシド215mgを乾燥テトラヒドロフラ
ン3.2mlに懸濁し、−25℃に冷却し、攪拌しながら
これに乾燥メタノール2.9mlと2.8N塩化水素−乾
燥メタノール溶液0.35ml(2当量)を滴下する。更
に−20℃で3.5時間かきまぜたのち、トリエチルア
ミン0.14ml(2当量)を加えた後氷水と酢酸エチル
で希釈し、酢酸エチルで抽出する。抽出液を水洗、乾燥
し、ピリジン0.02ml(0.5当量)を加えて1.2
gになるまで濃縮すれば7β−アミノ−7α−メトキシ
−3−クロロメチル−3−セフェム−4−カルボン酸p
−メトキシベンジルエステル1−オキシドの黄色溶液を
得る。
4)これに乾燥酢酸エチル1mlを加え、−25℃に冷却下
ピリジン0.08ml(2当量)と塩化ジフルオロメチル
チオアセチル0.1ml(1当量)を加えて1時間攪拌す
る。反応液を氷水で希釈し、酢酸エチルで抽出する。抽
出液を塩酸、炭酸水素ナトリウムと水で洗い、乾燥後減
圧濃縮する。残渣をメタノールエーテルから結晶化すれ
ば7β−ジフルオロメチルチオアセチルアミノ−7α−
メトキシ−3−クロロメチル−3−セフェム−4−カル
ボン酸p−メトキシベンジルエステル1−オキシド16
8mgを得る。収率:62.3%mp181〜182℃。母
液をシリカゲルクロマトで精製して得た極性部分からは
7α−ジフルオロメチルチオアセチルアミノ−7β−メ
トキシ−3−クロロメチル−3−セフェム−4−カルボ
ン酸p−メトキシベンジルエステル1−オキシド4mgを
得る。
5)7β−ジフルオロメチルチオアセチルアミノ−7α−
メトキシ−3−クロロメチル−3−セフェム−4−カル
ボン酸p−メトキシベンジルエステル1−オキシド27
7mgを乾燥アセトン3mlにとかし、−25℃に冷却し、
攪拌しながら、ヨウ化カリウム292mg(3.5当量)
と塩化アセチル0.11ml(3当量)を加えて3.5時
間攪拌する。反応液に1N−チオ硫酸ナトリウム2mlを
加え、氷水で希釈し、酢酸エチルで抽出する。抽出液を
炭酸水素ナトリウム水と水で洗い、乾燥後、減圧濃縮す
る。残渣をアセトン−n−ヘキサン−エーテルから再結
晶すれば7β−ジフルオロメチルチオアセチルアミノ−
7α−メトキシ−3−クロロメチル−3−セフェム−4
−カルボン酸p−メトキシベンジルエステル258mgを
得る。収率:95.9%。mp.126〜127.5℃。
実施例2 R1=CH2Br, R2=CHPh2, R3=Ph 1)7β−ホルムアミド−3−ブロモメチル−3−セフェ
ム−4−カルボン酸ジフェニルメチルエステル1−オキ
シド10.07gを乾燥メタノール100mlに懸濁し、
氷冷下オキシ塩化燐5.7ml(3当量)を加え、室温で
4時間攪拌する。析出する結晶を濾取すれば7β−アミ
ノ−3−ブロモメチル−3−セフェム−4−カルボン酸
ジフェニルメチルエステル1−オキシド塩酸塩8.56
gを得る。収率:83.6%。分解点182〜186
℃。
2)7β−アミノ−3−ブロモメチル−3−セフェム−4
−カルボン酸ジフェニルメチルエステル1−オキシド塩
酸塩5.12gを乾燥ジクロロメタンに懸濁し、0℃に
冷却し、攪拌しながらプロピレンオキシド35ml(50
当量)と4Aモレキュラーシーブス35gを加える。次
いで1.88M塩化メタンスルフェニル−四塩化炭素溶
液16ml(3当量)を滴下し、更に0℃〜室温で4.5
時間攪拌する。これにテトラヒドロフランで希釈後モレ
キュラーシーブスを濾去し、減圧濃縮する。残渣をメタ
ノール−エーテルで洗えば7β−メタンスルフェニルイ
ミノ−3−ブロモメチル−3−セフェム−4−カルボン
酸ジフェニルメチルエステル1−オキシド4.82gを
得る。収率:92.9%分解点148〜150℃。
3)7β−メタンスルフェニルイミノ−3−ブロモメチル
−3−セフェム−4−カルボン酸ジフェニルメチルエス
テル1−オキシド175mgを乾燥テトラヒドロフラン
3.5mlに懸濁し、窒素中−20℃に冷却し、攪拌しな
がらこれに乾燥メタノール1mlと2.8N塩化水素−乾
燥メタノール溶液0.24ml(2当量)を滴下する。更
に−20℃で40分間かきまぜたのち、トリエチルアミ
ン0.095ml(2当量)を加えた後氷水と酢酸エチル
で希釈、酢酸エチルで抽出する。抽出液を水洗、乾燥
し、ピリジン0.5当量を加えて1mlになるまで濃縮す
れば7β−アミノ−7α−メトキシ−3−ブロモメチル
−3−セフェム−4−カルボン酸ジフェニルメチルエス
テル1−オキシドの黄色溶液を得る。
4)これに乾燥酢酸エチル1mlを加え、−25℃に冷却下
ピリジン0.08ml(2当量)と塩化ベンゾイル0.1
ml(1当量)を加えて1時間攪拌する。反応液を氷水で
希釈し、酢酸エチルで抽出する。抽出液を塩酸、炭酸水
素ナトリウムと水で洗い、乾燥後減圧濃縮する。残渣を
メタノール−エーテルから結晶化すれば7β−ベンゾイ
ルアミノ−7α−メトキシ−3−ブロモメチル−3−セ
フェム−4−カルボン酸ジフェニルメチルエステル1−
オキシド120mgを得る。収率:60%。
5)(R1=CH2STet)7β−ベンゾイルアミノ−7α−メト
キシ−3−ブロモメチル−3−セフェム−4−カルボン
酸ジフェニルメチルエステル1−オキシド58mgを常法
によりナトリウム・1−メチル−1H−テトラゾール−
5−メルカプチドと処理すれば7β−ベンゾイルアミノ
−7α−メトキシ−3−(1−メチル−1H−テトラゾ
ール−5−イルチオメチル)−3−セフェム−4−カル
ボン酸ジフェニルメチルエステル1−オキシド59mgを
得る。収率:92%。mp128〜130℃。
実施例3 R1CH2OAc, R2=CHPh2, R3=CF2HSCH2 1)7β−アミノ−3−アセトキシメチル−3−セフェム
−4−カルボン酸ジフェニルメチルエステル4.49g
をジクロロメタン30mlにとかし、0℃に冷却し、攪拌
しながらこれにp−トルエンスルホン酸1.90g(1
当量)を加え30分間攪拌する。次いで−30℃に冷却
し、40%過酢酸1.9ml(1当量)を20分間に滴下
し、更に2時間攪拌する。これを減圧濃縮、エーテル−
酢酸エチルで希釈し、析出する結晶を濾取、ジクロロメ
タン−酢酸エチルから再結晶すれば7β−アミノ−3−
アセトキシメチル−3−セフェム−4−カルボン酸ジフ
ェニルメチルエステル1−オキシド・p−トルエンスル
ホン酸塩5.4gを得る。収率:86%mp.166〜1
70℃。
2)7β−アミノ−3−アセトキシメチル−3−セフェム
−4−カルボン酸ジフェニルメチルエステル1−オキシ
ド・p−トルエンスルホン酸塩2.80gをジクロロメ
タン110mlに懸濁し、氷冷下攪拌しながらプロピレン
オキシド15.8ml(50当量)と4Aモレキュラーシ
ーブス16gを加える。次いで1.88M塩化メタンス
ルフェニル−四塩化炭素溶液1当量滴下し、更に3時間
攪拌する。これにテトラヒドロフランを加えた後モレキ
ュラーシーブスを濾去し、減圧濃縮する。残渣をアセト
ン−n−ヘキサンから再結晶すれば7β−メタンスルフ
ェニルイミノ−3−アセトキシメチル−3−セフェム−
4−カルボン酸ジフェニルメチルエステル1−オキシド
1.89gを得る。収率:85%。分解点180〜18
2℃。
3)7β−メタンスルフェニルイミノ−3−アセトキシメ
チル−3−セフェム−4−カルボン酸ジフェニルメチル
エステル1−オキシド490mgを乾燥テトラヒドロフラ
ン7.4mlに懸濁し、0℃に冷却し、攪拌しながらこれ
に乾燥メタノール3.7mlと2.8N塩化水素−乾燥メ
タノール溶液0.7ml(2当量)を滴下し、20分間か
きまぜた後、トリエチルアミン0.27ml(2当量)を
加えた後氷水と酢酸エチルで希釈、酢酸エチルで抽出す
る。抽出液を塩水で洗い、乾燥後、減圧濃縮する。結晶
性残渣を冷エーテルで洗い、濾取、乾燥すれば7β−ア
ミノ−7α−メトキシ−3−アセトキシメチル−3−セ
フエム−4−カルボン酸ジフェニルメチルエステル1−
オキシド400mgを得る。収率:84.0%。mp13
0.5〜133℃。
4)前記3)に準じて7β−メタンスルフェニルイミノ−3
−アセトキシメタル−3−セフエム−4−カルボン酸ジ
フェニルメチルエステル1−オキシド509mgから、テ
トラヒドロフランの代わりにジクロロメタン中で製造し
た7β−アミノ−7α−メトキシ−3−アセトキシメチ
ル−3−セフェム−4−カルボン酸ジフェニルメチルエ
ステル1−オキシドの反応液を−20℃に冷却下ピリジ
ン2当量と塩化ジフルオロメチルチオアセチル1当量を
加えて1時間攪拌する。反応液を氷水で希釈し、酢酸エ
チルで抽出する。抽出液を塩酸、炭酸水素ナトリウムと
水で洗い、乾燥後減圧濃縮する。残渣をシリカゲルクロ
マトで精製すれば7β−ジフルオロメチルチオアセチル
アミノ−7α−メトキシ−3−アセトキシメチル−3−
セフェム−4−カルボン酸ジフェニルメチルエステル1
−オキシド349mgを得る。収率:59.2%。油状
物。
5)7β−ジフルオロメチルチオアセチルアミノ−7α−
メトキシ−3−アセトキシメチル−3−セフェム−4−
カルボン酸ジフェニルメチルエステル1−オキシド27
9mgを乾燥アセトン2.8mlとアニソール0.4mlにと
かし、−25℃に冷却し、攪拌しながら、ヨウ化カリウ
ム310mg(4.1当量)と塩化アセチル0.1ml(3
当量)を加えて1.5時間攪拌する。反応液にトリフル
オロ酢酸0.7ml(20当量)を加え、0℃〜室温で3
時間かきまぜたのち、氷水−酢酸エチルで薄め、4N−
水酸化ナトリウム水でpH7.0に調整する。水層を取
り、酢酸エチルで覆い、濃塩酸でpH2.0とし、酢酸エ
チルで抽出する。抽出液を水洗し、乾燥後、減圧濃縮す
れば7β−ジフルオロメチルチオアセチルアミノ−7α
−メトキシ−3−アセトキシメチル−3−セフェム−4
−カルボン酸150mgを得る。収率:76.9%。
実施例4 R1=CH2OAc, R2=CHPh, R3=FCH=CHSCH2 1)7β−アミノ−7α−メトキシ−3−アセトキシメチ
ル−3−セフエム−4−カルボン酸ジフェニルメチルエ
ステル1−オキシド1.45gをジクロロメタン15ml
にとかし、これに2−(2−フルオロビニル)チオ酢酸
490mg(1.2当量)を加え、−40℃で攪拌しなが
らピリジン0.97ml(4当量)とオキシ塩化燐0.3
4ml(1.2当量)を滴下する。さらに−40〜−20
℃で20分間攪拌後、反応液を冷1N塩酸12mlでうす
め、ジクロロメタン層を分取する。これを希炭酸水素ナ
トリウム水と水で洗い、硫酸マグネシウムで乾燥後、減
圧濃縮すれば油状物を得る。これをシリカゲル上クロマ
トして精製し、メタノールから再結晶すれば7β−[2
−(2−フルオロビニル)チオアセトアミド]−7α−
メトキシ−3−アセトキシメチル−3−セフエム−4−
カルボン酸ジフェニルメチルエステル1−オキシド1.
13gを得る。mp.168〜170℃。収率:62.5%。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】7−(アルキルまたはアリール)スルフェ
    ニルイミノセフェム化合物のスルホキシド(1)にメタノ
    ールと酸を作用させることを特徴とする7α−メトキシ
    −7β−アミノセフェム化合物のスルホキシド(2)の製
    造方法。 (式中、Rはアルキルまたはアリール基、 R1は水素またはセファロスポリンの3位置換基、 R2は水素、金属原子またはエステル形成基、 を、それぞれ示す)
JP60183692A 1985-08-20 1985-08-20 セフエム化合物のメトキシ化法 Expired - Lifetime JPH0613528B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP60183692A JPH0613528B2 (ja) 1985-08-20 1985-08-20 セフエム化合物のメトキシ化法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP60183692A JPH0613528B2 (ja) 1985-08-20 1985-08-20 セフエム化合物のメトキシ化法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS6242988A JPS6242988A (ja) 1987-02-24
JPH0613528B2 true JPH0613528B2 (ja) 1994-02-23

Family

ID=16140266

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP60183692A Expired - Lifetime JPH0613528B2 (ja) 1985-08-20 1985-08-20 セフエム化合物のメトキシ化法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0613528B2 (ja)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4659959B2 (ja) * 2000-09-29 2011-03-30 大塚化学株式会社 3−セフェム化合物及びその製造法
ATE450535T1 (de) * 2003-09-03 2009-12-15 Glaxo Group Ltd Neues verfahren zur herstellung von pleuromutilinderivaten

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5946953B2 (ja) * 1976-04-05 1984-11-15 三共株式会社 β−ラクタム化合物及びその製法

Also Published As

Publication number Publication date
JPS6242988A (ja) 1987-02-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0286145A2 (en) 3-Heterocyclylthiomethyl cephalosporins
HU187944B (en) Process for the epimerization of malonic acid esters
IE49657B1 (en) Cephalosporin derivatives
JPH0320397B2 (ja)
IE43845B1 (en) 4-thia-1-azabicyclo/4.2.0/oct-2-ene derivatives
US5869649A (en) Process for producing cephalosporin antibiotics
US4122086A (en) Isopenicillins
AU690482B2 (en) Process for producing cephalosporin antibiotics
EP0266060A2 (en) Cephalosporins, process for their preparation and pharmaceutical compositions containing them
JPH04225985A (ja) セフアロスポリン化合物
US4103086A (en) 8-Oxo-4-thia-1-azabicyclo (4.2.0)-oct-2-ene derivatives
JPS59231090A (ja) フルオロメチルチオオキサセフアロスポリン
KR890002107B1 (ko) 세팔로스포린 유도체의 제조방법
JP2633201B2 (ja) 新規セファロスポリン系抗生物質及びその製造方法
US3993758A (en) Cephalosporin compounds
JPS6242988A (ja) セフエム化合物のメトキシ化法
EP0397212A1 (en) Process for preparing cephalosporin compounds
FI93359C (fi) Menetelmä 7 -(suojattu amino tai asyyliamino)-3-metyyli-1-karba-(1-detia)-(2 tai 3)-kefeemi-4-karboksylaattiyhdisteiden valmistamiseksi
JP2648862B2 (ja) 置換オキシカルボニルアミノセフェム化合物の製法
JPS6348286A (ja) イミノ化合物およびその製法
KR800001383B1 (ko) 7-(α, α-디치환-아세트아미도)-3-치환-3-세펨-4-카르복실산의 제조방법
JPH0354110B2 (ja)
US5066799A (en) Intermediates for the preparation of aminothiazoloximino cephalosporins
EP0280521A2 (en) Cephalosporin compounds, process for their preparation and pharmaceutical compositions containing them
JPH0323556B2 (ja)

Legal Events

Date Code Title Description
EXPY Cancellation because of completion of term