JPH06135869A - ペルフルオロアルキル基を持つ化合物の製造法 - Google Patents
ペルフルオロアルキル基を持つ化合物の製造法Info
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 安全に、かつガラス容器を使用して穏やかな
条件で、収率よく、高選択的にペルフルオロアルキル基
を有する化合物を製造する方法の提供。 【構成】 フッ化物イオン源を、ハロニウムイオン発生
剤存在下、一般式(I) 【化1】 (式中、Xは置換もしくは未置換アリ−ル基あるいは第
2級アミノ基R1R2N、Rfはペルフルオロアルキル基
を表す。Y、Zは同一または異なるアルキルチオ基であ
り、YとZは結合する炭素原子と一体となって環を形成
することができる。さらにC(Y)(Z)基はC=S基
であってもよい。)で表される化合物と反応させること
を特徴とする、一般式(II) 【化2】 (式中、X,Rfは前記の意味を表す。)で表されるペ
ルフルオロアルキル基を有する化合物の製造法。
条件で、収率よく、高選択的にペルフルオロアルキル基
を有する化合物を製造する方法の提供。 【構成】 フッ化物イオン源を、ハロニウムイオン発生
剤存在下、一般式(I) 【化1】 (式中、Xは置換もしくは未置換アリ−ル基あるいは第
2級アミノ基R1R2N、Rfはペルフルオロアルキル基
を表す。Y、Zは同一または異なるアルキルチオ基であ
り、YとZは結合する炭素原子と一体となって環を形成
することができる。さらにC(Y)(Z)基はC=S基
であってもよい。)で表される化合物と反応させること
を特徴とする、一般式(II) 【化2】 (式中、X,Rfは前記の意味を表す。)で表されるペ
ルフルオロアルキル基を有する化合物の製造法。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は一般式(II)
【0002】
【化3】
【0003】(式中、Xは置換もしくは未置換アリール
基あるいは第2級アミノ基R1R2N(ただし、R1、R2
は置換もしくは未置換アリール基または置換もしくは未
置換の直鎖あるいは分枝状アルキル基、アルケニル基ま
たはアルキニル基を表す。また、R1、R2は窒素と一体
となって環を形成してもよい。)、Rfはペルフルオロ
アルキル基を表す。Y、Zは同一または異なるアルキル
チオ基であり、YとZは結合する炭素原子と一体となっ
て環を形成することができる。さらにC(Y)(Z)基
はC=S基であってもよい。)で表されるペルフルオロ
アルキル基を有する化合物の製造法に関する。
基あるいは第2級アミノ基R1R2N(ただし、R1、R2
は置換もしくは未置換アリール基または置換もしくは未
置換の直鎖あるいは分枝状アルキル基、アルケニル基ま
たはアルキニル基を表す。また、R1、R2は窒素と一体
となって環を形成してもよい。)、Rfはペルフルオロ
アルキル基を表す。Y、Zは同一または異なるアルキル
チオ基であり、YとZは結合する炭素原子と一体となっ
て環を形成することができる。さらにC(Y)(Z)基
はC=S基であってもよい。)で表されるペルフルオロ
アルキル基を有する化合物の製造法に関する。
【0004】一般式(II)で表されるペルフルオロア
ルキル基を有する化合物は、医農薬の合成原料として利
用できる〔たとえば化学の領域、35(6), 45
(1981)〕ほか、液晶材料〔たとえば機能材料、1
1(2), 5 (1991)〕やフォトレジスト(た
とえばGer. Offen., 2352349)と
しての用途がある。
ルキル基を有する化合物は、医農薬の合成原料として利
用できる〔たとえば化学の領域、35(6), 45
(1981)〕ほか、液晶材料〔たとえば機能材料、1
1(2), 5 (1991)〕やフォトレジスト(た
とえばGer. Offen., 2352349)と
しての用途がある。
【0005】
【従来の技術】前記一般式(II)で示されるトリフル
オロメチル置換芳香族化合物を合成する方法としては、
(1)ヨウ化ペルフルオロアルキルと芳香族化合物を反
応させる方法〔たとえばChem. Pherm. B
ull., 26, 1247(1978)〕、(2)
アリールペルフルオロアルキルヨードニウム塩と芳香族
化合物とを反応させる方法〔たとえば、Synthes
is,1978, 835.あるいは有機合成化学協会
誌,41,251 (1983)〕、(3)ペルフルオ
ロアルキル銅反応剤とヨウ化アリールとの反応〔たとえ
ばJ. Fluorine Chem., 2, 16
7 (1972/1973〕がある。しかしながら、い
ずれの方法も反応条件が過酷であり、また、収率が低
く、ペルフルオロアルキル基の導入される位置選択性に
乏しい欠点がある。
オロメチル置換芳香族化合物を合成する方法としては、
(1)ヨウ化ペルフルオロアルキルと芳香族化合物を反
応させる方法〔たとえばChem. Pherm. B
ull., 26, 1247(1978)〕、(2)
アリールペルフルオロアルキルヨードニウム塩と芳香族
化合物とを反応させる方法〔たとえば、Synthes
is,1978, 835.あるいは有機合成化学協会
誌,41,251 (1983)〕、(3)ペルフルオ
ロアルキル銅反応剤とヨウ化アリールとの反応〔たとえ
ばJ. Fluorine Chem., 2, 16
7 (1972/1973〕がある。しかしながら、い
ずれの方法も反応条件が過酷であり、また、収率が低
く、ペルフルオロアルキル基の導入される位置選択性に
乏しい欠点がある。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】本発明者らはペルフル
オロアルキル基を有する化合物を合成するにあたり、
(1)安価で、(2)安全であり、(3)ガラス容器を
用いることのでき、(4)酸性条件下で不安定な基質に
も適用でき、(5)穏やかな条件でフッ素化できる反応
条件を鋭意検討した結果、一般式(I)
オロアルキル基を有する化合物を合成するにあたり、
(1)安価で、(2)安全であり、(3)ガラス容器を
用いることのでき、(4)酸性条件下で不安定な基質に
も適用でき、(5)穏やかな条件でフッ素化できる反応
条件を鋭意検討した結果、一般式(I)
【0007】
【化4】
【0008】(式中、Xは置換もしくは未置換アリール
基あるいは第2級アミノ基R1R2N(ただし、R1、R2
は置換もしくは未置換アリール基または置換もしくは未
置換の直鎖あるいは分枝状アルキル基、アルケニル基ま
たはアルキニル基を表す。また、R1、R2は窒素と一体
となって環を形成してもよい。)、Rfはペルフルオロ
アルキル基を表す。Y、Zは同一または異なるアルキル
チオ基であり、YとZは結合する炭素原子と一体となっ
て環を形成することができる。さらに、YとZは結合す
る炭素と一体となってチオカルボニル基を形成してもよ
い。)で表される化合物をフッ化物イオン源とハロニウ
ムイオン発生剤とを反応させると、目的とするペルフル
オロアルキル基を有する化合物を効率よくかつ高選択的
に製造できることを見つけた。
基あるいは第2級アミノ基R1R2N(ただし、R1、R2
は置換もしくは未置換アリール基または置換もしくは未
置換の直鎖あるいは分枝状アルキル基、アルケニル基ま
たはアルキニル基を表す。また、R1、R2は窒素と一体
となって環を形成してもよい。)、Rfはペルフルオロ
アルキル基を表す。Y、Zは同一または異なるアルキル
チオ基であり、YとZは結合する炭素原子と一体となっ
て環を形成することができる。さらに、YとZは結合す
る炭素と一体となってチオカルボニル基を形成してもよ
い。)で表される化合物をフッ化物イオン源とハロニウ
ムイオン発生剤とを反応させると、目的とするペルフル
オロアルキル基を有する化合物を効率よくかつ高選択的
に製造できることを見つけた。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明はフッ化物イオン
源を、ハロニウムイオン発生剤の存在下、一般式(I)
源を、ハロニウムイオン発生剤の存在下、一般式(I)
【0010】
【化5】
【0011】(式中、Xは置換もしくは未置換アリール
基あるいは第2級アミノ基R1R2N(ただし、R1、R2
は置換もしくは未置換アリール基または置換もしくは未
置換の直鎖あるいは分枝状アルキル基、アルケニル基ま
たはアルキニル基を表す。また、R1、R2は窒素と一体
となって環を形成してもよい。)、Rfはペルフルオロ
アルキル基を表す。Y、Zは同一または異なるアルキル
チオ基であり、YとZは結合する炭素原子と一体となっ
て環を形成することができる。さらに、YとZは結合す
る炭素と一体となってチオカルボニル基を形成してもよ
い。)で表される化合物と反応させて一般式(II)
基あるいは第2級アミノ基R1R2N(ただし、R1、R2
は置換もしくは未置換アリール基または置換もしくは未
置換の直鎖あるいは分枝状アルキル基、アルケニル基ま
たはアルキニル基を表す。また、R1、R2は窒素と一体
となって環を形成してもよい。)、Rfはペルフルオロ
アルキル基を表す。Y、Zは同一または異なるアルキル
チオ基であり、YとZは結合する炭素原子と一体となっ
て環を形成することができる。さらに、YとZは結合す
る炭素と一体となってチオカルボニル基を形成してもよ
い。)で表される化合物と反応させて一般式(II)
【0012】
【化6】
【0013】(式中、X,Rfは上記と同様の意味を表
す。)で表されるペルフルオロアルキル基を有する化合
物を製造する方法に関する。
す。)で表されるペルフルオロアルキル基を有する化合
物を製造する方法に関する。
【0014】前記一般式(I)で表される化合物は、ペ
ルフルオロアルカンアミドをLawesson反応剤で
処理するか、あるいはペルフルオロアルキルケトンを、
三フッ化ホウ素-ジエチルエーテル錯体存在下、チオー
ルと反応させることによって容易に合成することができ
る。
ルフルオロアルカンアミドをLawesson反応剤で
処理するか、あるいはペルフルオロアルキルケトンを、
三フッ化ホウ素-ジエチルエーテル錯体存在下、チオー
ルと反応させることによって容易に合成することができ
る。
【0015】式(I)中、Xの置換もしくは未置換のア
リール基としては置換または未置換のフェニル基、1−
ナフチル基、2−ナフチル基、1−アンスリル基、2−
アンスリル基、9−アンスリル基、2−ピリジル基、3
−ピリジル基、4−ピリジル基、2−チオフェニル基、
3−チオフェニル基、2−ピリミジル基などをあげるこ
とができる。芳香環上の置換基としては、炭素数1から
20までの直鎖あるいは分枝状アルキル基、フェニル
基、ビフェニル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基、
1−アンスリル基、2−アンスリル基、9−アンスリル
基、2−ピリジル基、3−ピリジル基、4−ピリジル
基、2−チオフェニル基、3−チオフェニル基、2−ピ
リミジル基などのようなアリール基、ビニル基、プロペ
ニル基、ブテニル基のようなアルケニル基、メトキシ
基、エトキシ基、ブトキシ基、ヘプチルオキシ基、オク
チルオキシ基のようなアルコキシル基、アセトキシル
基、ブトキシル基のようなアシルオキシル基、メトキシ
メチルオキシ基、メトキシエトキシメチルオキシ基のよ
うなアルコキシメチルオキシル基、フェニルオキシル
基、ナフトキシル基のようなアリールオキシル基、2−
オキサ−3−ヒドロキシメチル−4,5,6−トリヒド
ロキシシクロヘキシルオキシ基のような糖骨格を有する
基、ハロゲンなどをあげることができ、また、これら
の、芳香環に置換する置換基上にはさらにアルキル基、
アリール基、アルケニル基、ニトロ基、シアノ基、アル
コキシカルボニル基、アルコキシル基、ヒドロキシル
基、ハロゲン、スルホニル基、エポキシドのような環状
エ−テル構造や糖骨格を有する基などが置換していても
よい。
リール基としては置換または未置換のフェニル基、1−
ナフチル基、2−ナフチル基、1−アンスリル基、2−
アンスリル基、9−アンスリル基、2−ピリジル基、3
−ピリジル基、4−ピリジル基、2−チオフェニル基、
3−チオフェニル基、2−ピリミジル基などをあげるこ
とができる。芳香環上の置換基としては、炭素数1から
20までの直鎖あるいは分枝状アルキル基、フェニル
基、ビフェニル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基、
1−アンスリル基、2−アンスリル基、9−アンスリル
基、2−ピリジル基、3−ピリジル基、4−ピリジル
基、2−チオフェニル基、3−チオフェニル基、2−ピ
リミジル基などのようなアリール基、ビニル基、プロペ
ニル基、ブテニル基のようなアルケニル基、メトキシ
基、エトキシ基、ブトキシ基、ヘプチルオキシ基、オク
チルオキシ基のようなアルコキシル基、アセトキシル
基、ブトキシル基のようなアシルオキシル基、メトキシ
メチルオキシ基、メトキシエトキシメチルオキシ基のよ
うなアルコキシメチルオキシル基、フェニルオキシル
基、ナフトキシル基のようなアリールオキシル基、2−
オキサ−3−ヒドロキシメチル−4,5,6−トリヒド
ロキシシクロヘキシルオキシ基のような糖骨格を有する
基、ハロゲンなどをあげることができ、また、これら
の、芳香環に置換する置換基上にはさらにアルキル基、
アリール基、アルケニル基、ニトロ基、シアノ基、アル
コキシカルボニル基、アルコキシル基、ヒドロキシル
基、ハロゲン、スルホニル基、エポキシドのような環状
エ−テル構造や糖骨格を有する基などが置換していても
よい。
【0016】前記一般式(I)において、Xの第2級ア
ミノ基上のR1、R2としては、上記置換または未置換ア
リール基のほか、炭素数1から20までの直鎖あるいは
分枝状アルキル基、アルケニル基、もしくはアルキニル
基を用いることができる。これらのアルキル基、アルケ
ニル基、もしくはアルキニル基上には、フェニル基、ビ
フェニル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基、1−ア
ンスリル基、2−アンスリル基、9−アンスリル基、2
−ピリジル基、3−ピリジル基、4−ピリジル基、2−
チオフェニル基、3−チオフェニル基、2−ピリミジル
基などのようなアリール基、ビニル基、プロペニル基、
ブテニル基のようなアルケニル基、メトキシ基、エトキ
シ基、ブトキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ
基のようなアルコキシル基、アセトキシル基、ブトキシ
ル基のようなアシルオキシル基、メトキシメチルオキシ
基、メトキシエトキシメチルオキシ基のようなアルコキ
シメチルオキシル基、フェニルオキシル基、ナフトキシ
ル基のようなアリールオキシル基、2−オキサ−3−ヒ
ドロキシメチル−4,5,6−トリヒドロキシシクロヘ
キシルオキシ基のような糖骨格を有する基、ニトロ基、
シアノ基、ヒドロキシル基、アルコキシカルボニル基、
ハロゲン、スルホニル基、エポキシドのような環状エ−
テル構造を有する基などが置換することができる。ま
た、これらの、アルキル基に置換する置換基上にはさら
に、アルキル基、アリール基、アルケニル基、ニトロ
基、シアノ基、アルコキシカルボニル基、アルコキシル
基、ヒドロキシル基、ハロゲン、スルホニル基、エポキ
シドのような環状エ−テル構造や糖骨格を有する基が置
換してもよいなどの置換もしくは未置換のアルキル基を
あげることができる。また、R1、R2は窒素と一体とな
って環を形成してもよく、その場合のR1R2Nの例とし
て1−アジリジノ基、1−ピロリル基、1−ピロリジニ
ル基、1−イミダゾリル基、1−ピペリジノ基、4−モ
ルホリノ基、1−インドリル基、1−インドリリル基、
1−ベンゾイミダゾリル基、1ーベンゾトリアゾリル
基、10ーフェノキサジル基などをあげることができ
る。
ミノ基上のR1、R2としては、上記置換または未置換ア
リール基のほか、炭素数1から20までの直鎖あるいは
分枝状アルキル基、アルケニル基、もしくはアルキニル
基を用いることができる。これらのアルキル基、アルケ
ニル基、もしくはアルキニル基上には、フェニル基、ビ
フェニル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基、1−ア
ンスリル基、2−アンスリル基、9−アンスリル基、2
−ピリジル基、3−ピリジル基、4−ピリジル基、2−
チオフェニル基、3−チオフェニル基、2−ピリミジル
基などのようなアリール基、ビニル基、プロペニル基、
ブテニル基のようなアルケニル基、メトキシ基、エトキ
シ基、ブトキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ
基のようなアルコキシル基、アセトキシル基、ブトキシ
ル基のようなアシルオキシル基、メトキシメチルオキシ
基、メトキシエトキシメチルオキシ基のようなアルコキ
シメチルオキシル基、フェニルオキシル基、ナフトキシ
ル基のようなアリールオキシル基、2−オキサ−3−ヒ
ドロキシメチル−4,5,6−トリヒドロキシシクロヘ
キシルオキシ基のような糖骨格を有する基、ニトロ基、
シアノ基、ヒドロキシル基、アルコキシカルボニル基、
ハロゲン、スルホニル基、エポキシドのような環状エ−
テル構造を有する基などが置換することができる。ま
た、これらの、アルキル基に置換する置換基上にはさら
に、アルキル基、アリール基、アルケニル基、ニトロ
基、シアノ基、アルコキシカルボニル基、アルコキシル
基、ヒドロキシル基、ハロゲン、スルホニル基、エポキ
シドのような環状エ−テル構造や糖骨格を有する基が置
換してもよいなどの置換もしくは未置換のアルキル基を
あげることができる。また、R1、R2は窒素と一体とな
って環を形成してもよく、その場合のR1R2Nの例とし
て1−アジリジノ基、1−ピロリル基、1−ピロリジニ
ル基、1−イミダゾリル基、1−ピペリジノ基、4−モ
ルホリノ基、1−インドリル基、1−インドリリル基、
1−ベンゾイミダゾリル基、1ーベンゾトリアゾリル
基、10ーフェノキサジル基などをあげることができ
る。
【0017】本発明において用いるフッ化物イオン源と
しては、フッ化水素、フッ化水素とピリジン、トリエチ
ルアミン、ジイソプロピルエチルアミンなどのようなア
ミンとの錯体、一般式(III)
しては、フッ化水素、フッ化水素とピリジン、トリエチ
ルアミン、ジイソプロピルエチルアミンなどのようなア
ミンとの錯体、一般式(III)
【0018】
【化7】
【0019】で表される二水素三フッ化四級アンモニウ
ム、一般式(IV)
ム、一般式(IV)
【0020】
【化8】
【0021】で表される二水素三フッ化四級ホスホニウ
ムなどがあげられる。一般式(III)で表される二水
素三フッ化四級アンモニウムとしてはたとえば、二水素
三フッ化テトラメチルアンモニウム、二水素三フッ化テ
トラエチルアンモニウム、二水素三フッ化テトラブチル
アンモニウム(TBAH2F3)、二水素三フッ化ベンジ
ルトリメチルアンモニウム、二水素三フッ化ベンジルト
リエチルアンモニウム、二水素三フッ化セチルトリメチ
ルアンモニウムをあげることができる。これらは50%
フッ酸、フッ化カリウム及びフッ化四級アンモニウムか
ら容易に合成できる〔Bull. Soc. Chi
m. Fr., 910 (1986)〕。一般式(I
V)で表される二水素三フッ化四級ホスホニウムとして
はたとえば、二水素三フッ化テトラメチルホスホニウ
ム、二水素三フッ化テトラエチルホスホニウム、二水素
三フッ化テトラブチルホスホニウム、二水素三フッ化ベ
ンジルトリメチルホスホニウム、二水素三フッ化ベンジ
ルトリエチルホスホニウム、二水素三フッ化セチルトリ
メチルホスホニウムをあげることができる。使用量はフ
ッ化物イオン換算で3当量ないし大過剰量の範囲である
が、経済性を考慮して3〜5当量が好ましい。
ムなどがあげられる。一般式(III)で表される二水
素三フッ化四級アンモニウムとしてはたとえば、二水素
三フッ化テトラメチルアンモニウム、二水素三フッ化テ
トラエチルアンモニウム、二水素三フッ化テトラブチル
アンモニウム(TBAH2F3)、二水素三フッ化ベンジ
ルトリメチルアンモニウム、二水素三フッ化ベンジルト
リエチルアンモニウム、二水素三フッ化セチルトリメチ
ルアンモニウムをあげることができる。これらは50%
フッ酸、フッ化カリウム及びフッ化四級アンモニウムか
ら容易に合成できる〔Bull. Soc. Chi
m. Fr., 910 (1986)〕。一般式(I
V)で表される二水素三フッ化四級ホスホニウムとして
はたとえば、二水素三フッ化テトラメチルホスホニウ
ム、二水素三フッ化テトラエチルホスホニウム、二水素
三フッ化テトラブチルホスホニウム、二水素三フッ化ベ
ンジルトリメチルホスホニウム、二水素三フッ化ベンジ
ルトリエチルホスホニウム、二水素三フッ化セチルトリ
メチルホスホニウムをあげることができる。使用量はフ
ッ化物イオン換算で3当量ないし大過剰量の範囲である
が、経済性を考慮して3〜5当量が好ましい。
【0022】本発明に用いるハロニウムイオン発生剤と
して、1,3−ジブロモ−5,5−ジメチルヒダントイ
ン(DBH)、N−ブロモコハク酸イミド(NBS)、
N−ブロモアセトアミド(NBA)、2,4,4,6−
テトラブロモ−2,5−シクロヘキサジエノン、N−ヨ
ードコハク酸イミド(NIS)を例示できる。使用量
は、基質に対して3当量ないし大過剰量の範囲である
が、経済性を考慮して3〜5当量が好ましい。
して、1,3−ジブロモ−5,5−ジメチルヒダントイ
ン(DBH)、N−ブロモコハク酸イミド(NBS)、
N−ブロモアセトアミド(NBA)、2,4,4,6−
テトラブロモ−2,5−シクロヘキサジエノン、N−ヨ
ードコハク酸イミド(NIS)を例示できる。使用量
は、基質に対して3当量ないし大過剰量の範囲である
が、経済性を考慮して3〜5当量が好ましい。
【0023】反応に際し、溶媒を使用してもよい。溶媒
としては反応に関与しないものならば何でも使用でき、
ヘキサン、ベンゼン、トルエン、アセトニトリル、ジエ
チルエーテル、テトラヒドロフラン、1,2−ジメトキ
シエタン、ジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン、
四塩化炭素などを例示することができる。また、適宜こ
れらの混合物として使用してもよい。
としては反応に関与しないものならば何でも使用でき、
ヘキサン、ベンゼン、トルエン、アセトニトリル、ジエ
チルエーテル、テトラヒドロフラン、1,2−ジメトキ
シエタン、ジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン、
四塩化炭素などを例示することができる。また、適宜こ
れらの混合物として使用してもよい。
【0024】反応は基質にもよるが、−100℃から1
00℃の温度範囲で実施できる。しかし、反応時間を短
縮し、かつ選択性を高めるためには0℃から80℃の間
で行うのが好ましい。
00℃の温度範囲で実施できる。しかし、反応時間を短
縮し、かつ選択性を高めるためには0℃から80℃の間
で行うのが好ましい。
【0025】ペルフルオロアルキルケトンは、芳香族化
合物とペルフルオロアルカンカルボン酸無水物とのフリ
ーデルクラフツ反応によっても、あるいは芳香族有機金
属化合物とペルフルオロアルカンカルボン酸との反応に
よっても容易に合成できる。特に後者の方法では、芳香
族有機金属化合物が対応する芳香族化合物あるいは芳香
族ハロゲン化物から位置選択的に生成できる〔たとえば
Chem. Rev., 90, 879 (199
0).〕ので、本発明の方法により、ペルフルオロアル
キル基を位置選択的に芳香族化合物に導入できる。ま
た、本発明の方法によれば、従来法が適用できない基
質、たとえば酸に弱い官能基を持つ基質のペルフルオロ
アルキル化も問題なく進行し、収率よく、高い選択性で
目的物が得られる利点がある。
合物とペルフルオロアルカンカルボン酸無水物とのフリ
ーデルクラフツ反応によっても、あるいは芳香族有機金
属化合物とペルフルオロアルカンカルボン酸との反応に
よっても容易に合成できる。特に後者の方法では、芳香
族有機金属化合物が対応する芳香族化合物あるいは芳香
族ハロゲン化物から位置選択的に生成できる〔たとえば
Chem. Rev., 90, 879 (199
0).〕ので、本発明の方法により、ペルフルオロアル
キル基を位置選択的に芳香族化合物に導入できる。ま
た、本発明の方法によれば、従来法が適用できない基
質、たとえば酸に弱い官能基を持つ基質のペルフルオロ
アルキル化も問題なく進行し、収率よく、高い選択性で
目的物が得られる利点がある。
【0026】以下、実施例によって本発明を詳細に説明
する。
する。
【0027】
実施例1 ジフェニルペンタフルオロエチルアミンの合
成
成
【0028】
【化9】
【0029】チオントリフルオロ酢酸ジフェニルアミド
(140 mg, 0.5 mmol)とTBAH2F3
とのジクロロンメタン(1.5 mL)溶液にNIS
(250 mg, 1.1 mmol)を室温で加え、
0.5時間かき混ぜた。反応液にヘキサン/ジエチルエ
ーテル(4:1)混合液を加えて激しく振蘯し、静置し
た。上澄み液をデカンテーションし、セライト濾過した
のち、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィーによって精製し、表題化合物(92mg,
0.32 mmol, 64%)を得た。
(140 mg, 0.5 mmol)とTBAH2F3
とのジクロロンメタン(1.5 mL)溶液にNIS
(250 mg, 1.1 mmol)を室温で加え、
0.5時間かき混ぜた。反応液にヘキサン/ジエチルエ
ーテル(4:1)混合液を加えて激しく振蘯し、静置し
た。上澄み液をデカンテーションし、セライト濾過した
のち、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィーによって精製し、表題化合物(92mg,
0.32 mmol, 64%)を得た。
【0030】1H−NMR ((CD3)2CO−Me4S
i): δ 7.5−7.2 (m).
i): δ 7.5−7.2 (m).
【0031】19F−NMR ((CD3)2CO−CFC
l3): δ −79.48 (s,3 F), −8
4.59 (s, 2 F).
l3): δ −79.48 (s,3 F), −8
4.59 (s, 2 F).
【0032】実施例2 ベンジル(1−ナフチル)ペ
ンタフルオロエチルアミンの合成
ンタフルオロエチルアミンの合成
【0033】
【化10】
【0034】チオントリフルオロ酢酸ベンジル1−ナフ
チルアミド(170 mg, 0.5mmol)とTB
AH2F3とのジクロロンメタン(1.5 mL)溶液に
NBS(200 mg, 1.1 mmol)を室温で
加え、0.5時間かき混ぜた。実施例1と同様の後処理
ののち、シリカゲルカラムクロマトグラフィー精製によ
って、表題化合物(100 mg, 0.28 mmo
l, 57%)を得た。
チルアミド(170 mg, 0.5mmol)とTB
AH2F3とのジクロロンメタン(1.5 mL)溶液に
NBS(200 mg, 1.1 mmol)を室温で
加え、0.5時間かき混ぜた。実施例1と同様の後処理
ののち、シリカゲルカラムクロマトグラフィー精製によ
って、表題化合物(100 mg, 0.28 mmo
l, 57%)を得た。
【0035】1H−NMR ((CD3)2CO−Me4S
i): δ 8.2−8.1 (m,1 H), 8.
0−7.8 (m, 2 H), 7.6− 7.4
(m, 4 H),7.1 (br s, 5 H),
4.77 (dt, J= 14, 2 Hz, 1
H), 4.67 (dt, J = 14,2 H
z, 1 H).
i): δ 8.2−8.1 (m,1 H), 8.
0−7.8 (m, 2 H), 7.6− 7.4
(m, 4 H),7.1 (br s, 5 H),
4.77 (dt, J= 14, 2 Hz, 1
H), 4.67 (dt, J = 14,2 H
z, 1 H).
【0036】19F−NMR ((CD3)2CO−CFC
l3): δ −79.41 (s,3 F), −8
4.13 (d, J = 205 Hz, 1
F),−88.67 (d, J = 205 Hz,
1 F).
l3): δ −79.41 (s,3 F), −8
4.13 (d, J = 205 Hz, 1
F),−88.67 (d, J = 205 Hz,
1 F).
【0037】実施例3 ベンジル(4−シアノフェニ
ル)ペンタフルオロエチルアミンの合成
ル)ペンタフルオロエチルアミンの合成
【0038】
【化11】
【0039】実施例2と同様にして、チオントリフルオ
ロ酢酸ベンジル4−シアノフェニルアミド(160 m
g, 5 mmol)から表題化合物(98 mg,
0.30 mmol, 60%)を得た。
ロ酢酸ベンジル4−シアノフェニルアミド(160 m
g, 5 mmol)から表題化合物(98 mg,
0.30 mmol, 60%)を得た。
【0040】1H−NMR ((CD3)2CO−Me4S
i): δ 7.75 (d, J= 9 Hz, 2
H), 7.50 (d, J = 9 Hz, 2
H), 7.27 (br s, 5 H), 4.7
8 (br s, 2H).
i): δ 7.75 (d, J= 9 Hz, 2
H), 7.50 (d, J = 9 Hz, 2
H), 7.27 (br s, 5 H), 4.7
8 (br s, 2H).
【0041】19F−NMR ((CD3)2CO−CFC
l3): δ −80.16 (s,3 F), −8
9.76 (s, 2 F).
l3): δ −80.16 (s,3 F), −8
9.76 (s, 2 F).
【0042】実施例4 ベンジル(4−メトキシ)フ
ェニルペンタフルオロエチルアミンの合成
ェニルペンタフルオロエチルアミンの合成
【0043】
【化12】
【0044】実施例2と同様にして、チオントリフルオ
ロ酢酸ベンジル4−メトキシフェニルアミド(160
mg, 0.5 mmol)から表題化合物(13 m
g,0.039 mmol, 8%)を得た。
ロ酢酸ベンジル4−メトキシフェニルアミド(160
mg, 0.5 mmol)から表題化合物(13 m
g,0.039 mmol, 8%)を得た。
【0045】1H−NMR ((CD3)2CO−Me4S
i): δ 7.3−7.2 (m,5 H), 7.
07 (d, J = 9 Hz, 2 H),6.7
5(d, J = 9 Hz, 2 H), 4.47
(s, 2 H), 3.76 (s, 3 H).
i): δ 7.3−7.2 (m,5 H), 7.
07 (d, J = 9 Hz, 2 H),6.7
5(d, J = 9 Hz, 2 H), 4.47
(s, 2 H), 3.76 (s, 3 H).
【0046】19F−NMR ((CD3)2CO−CFC
l3): δ −80.31 (s,3 F), −8
9.85 (s, 2F).
l3): δ −80.31 (s,3 F), −8
9.85 (s, 2F).
【0047】実施例5 (ジフェニル)ノナフルオロ
ブチルアミンの合成
ブチルアミンの合成
【0048】
【化13】
【0049】実施例2と同様にして、チオンヘプタフル
オロブタン酸ジフェニルアミド(190 mg, 0.
5 mmol)から表題化合物(122 mg, 0.
31mmol, 63%)を得た。
オロブタン酸ジフェニルアミド(190 mg, 0.
5 mmol)から表題化合物(122 mg, 0.
31mmol, 63%)を得た。
【0050】1H−NMR (CDCl3−Me4S
i): δ 7.4−7.2 (m, 5H).
i): δ 7.4−7.2 (m, 5H).
【0051】19F−NMR (CDCl3−CFC
l3): δ −81.05 (t, J= 14.6
Hz, 2 F), −81.41 (t, J =
9.8Hz, 3 F), −119.1 (m, 2
F), −126.5 (m, 2 F).
l3): δ −81.05 (t, J= 14.6
Hz, 2 F), −81.41 (t, J =
9.8Hz, 3 F), −119.1 (m, 2
F), −126.5 (m, 2 F).
【0052】実施例6 ベンジル(4−クロロフェニ
ル)ノナフルオロブチルアミンの合成
ル)ノナフルオロブチルアミンの合成
【0053】
【化14】
【0054】実施例2と同様にして、チオンヘプタフル
オロブタン酸ベンジル 4−クロロフェニルアミド(2
20 mg, 0.5 mmol)から表題化合物(1
74mg, 0.40 mmol, 80%)を得た。
オロブタン酸ベンジル 4−クロロフェニルアミド(2
20 mg, 0.5 mmol)から表題化合物(1
74mg, 0.40 mmol, 80%)を得た。
【0055】1H−NMR (CDCl3−Me4S
i): δ 7.3−7.0 (m, 9H), 4.
54 (s, 2 H).
i): δ 7.3−7.0 (m, 9H), 4.
54 (s, 2 H).
【0056】19F−NMR (CDCl3−CFC
l3): δ −81.41 (t, J= 9.8 H
z, 3 F), −86.07 (t, J = 1
4.6Hz, 2 F), −120.2 (m, 2
F), −126.5 (m, 2 F).
l3): δ −81.41 (t, J= 9.8 H
z, 3 F), −86.07 (t, J = 1
4.6Hz, 2 F), −120.2 (m, 2
F), −126.5 (m, 2 F).
【0057】実施例7 1−(1,1,2,2,2−
ペンタフルオロエチル)−4−プロピルベンゼンの合成
ペンタフルオロエチル)−4−プロピルベンゼンの合成
【0058】
【化15】
【0059】2−(4−プロピルフェニル)−2−トリ
フルオロメチル−1,3−ジチオラン(150 mg,
0.5 mmol)のジクロロメタン(1.5 m
L)溶液に−78℃で(HF)9/Py(1 mL,
4.4 mmol,F-として40 mmol)、つい
でNBS(220 mg, 1.2 mmol)を加
え、室温にまで昇温して10時間かき混ぜた。反応混合
物を飽和NaHCO3−NaHSO3 水溶液にあけ、ジ
エチルエーテルで抽出した。無水Na2SO4で乾燥した
のち、有機層を濾過、減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーで精製することによって、表題
化合物(63 mg, 0.27 mmol, 53
%)を得た。
フルオロメチル−1,3−ジチオラン(150 mg,
0.5 mmol)のジクロロメタン(1.5 m
L)溶液に−78℃で(HF)9/Py(1 mL,
4.4 mmol,F-として40 mmol)、つい
でNBS(220 mg, 1.2 mmol)を加
え、室温にまで昇温して10時間かき混ぜた。反応混合
物を飽和NaHCO3−NaHSO3 水溶液にあけ、ジ
エチルエーテルで抽出した。無水Na2SO4で乾燥した
のち、有機層を濾過、減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーで精製することによって、表題
化合物(63 mg, 0.27 mmol, 53
%)を得た。
【0060】1H−NMR (CDCl3−Me4Si)
: δ 7.50 (d, J= 8.2 H
z, 2 H), 7.29 (d, J = 8.2
Hz, 2 H), 2.65 (t, J =
7.3 Hz, 2 H), 1.67 (hexte
t, J= 7.3 Hz, 2 H), 0.96
(t, J = 7.3Hz, 3 H).
: δ 7.50 (d, J= 8.2 H
z, 2 H), 7.29 (d, J = 8.2
Hz, 2 H), 2.65 (t, J =
7.3 Hz, 2 H), 1.67 (hexte
t, J= 7.3 Hz, 2 H), 0.96
(t, J = 7.3Hz, 3 H).
【0061】19F−NMR (CDCl3−CFCl3)
: δ −85.41 (s,3 F), −1
15.04 (s, 2 F).
: δ −85.41 (s,3 F), −1
15.04 (s, 2 F).
【0062】実施例8 1−(1,1,2,2,2−
ペンタフルオロエチル)−4−プロピルベンゼンの合成
ペンタフルオロエチル)−4−プロピルベンゼンの合成
【0063】
【化16】
【0064】2−(4−プロピルフェニル)−2−トリ
フルオロメチル−1,3−ジチオラン(150 mg,
0.5 mmol)のジクロロメタン(1.5 m
L)溶液に−78℃でHF/メラミン(1 mL)、つ
いでNBS(220 mg,1.2 mmol)を加
え、室温にまで昇温して10時間かき混ぜた。反応混合
物を飽和NaHCO3−NaHSO3水溶液にあけ、ジエ
チルエーテルで抽出した。無水Na2SO4で乾燥したの
ち、有機層を濾過、減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィーで精製することによって、表題化
合物(62 mg, 0.26 mmol, 52%)
を得た。
フルオロメチル−1,3−ジチオラン(150 mg,
0.5 mmol)のジクロロメタン(1.5 m
L)溶液に−78℃でHF/メラミン(1 mL)、つ
いでNBS(220 mg,1.2 mmol)を加
え、室温にまで昇温して10時間かき混ぜた。反応混合
物を飽和NaHCO3−NaHSO3水溶液にあけ、ジエ
チルエーテルで抽出した。無水Na2SO4で乾燥したの
ち、有機層を濾過、減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィーで精製することによって、表題化
合物(62 mg, 0.26 mmol, 52%)
を得た。
【0065】実施例9 4−ブトキシ−1−(1,
1,2,2,2−ペンタフルオロエチル)ベンゼンの合
成
1,2,2,2−ペンタフルオロエチル)ベンゼンの合
成
【0066】
【化17】
【0067】実施例7と同様にして、2−(4−ブトキ
シフェニル)−2−トリフルオロメチル−1,3−ジチ
オラン(161 mg, 0.5 mmol)、(H
F)9/Py(1 mL, 4.4 mmol,F-とし
て 40 mmol)、およびNIS(336 mg,
1.5 mmol)から表題化合物(99 mg,
0.37 mmol, 74%)を得た。
シフェニル)−2−トリフルオロメチル−1,3−ジチ
オラン(161 mg, 0.5 mmol)、(H
F)9/Py(1 mL, 4.4 mmol,F-とし
て 40 mmol)、およびNIS(336 mg,
1.5 mmol)から表題化合物(99 mg,
0.37 mmol, 74%)を得た。
【0068】1H−NMR (CDCl3−Me4Si)
: δ 7.51 (dm,J = 8.8 H
z, 2 H), 6.97 (dm, J = 8.
8Hz, 2 H), 4.01 (t, J =
6.5 Hz, 2 H), 1.9−1.8 (m,
2 H),1.6−1.4 (m, 2 H),0.
99 (t, J = 7.3 Hz, 3 H).
: δ 7.51 (dm,J = 8.8 H
z, 2 H), 6.97 (dm, J = 8.
8Hz, 2 H), 4.01 (t, J =
6.5 Hz, 2 H), 1.9−1.8 (m,
2 H),1.6−1.4 (m, 2 H),0.
99 (t, J = 7.3 Hz, 3 H).
【0069】19F−NMR (CDCl3−CFCl3)
: δ −85.55(s, 3 F), −1
14.36 (s, 2 F).
: δ −85.55(s, 3 F), −1
14.36 (s, 2 F).
【0070】実施例10 1−(1,1,2,2,2
−ペンタフルオロエチル)−ナフタレンの合成
−ペンタフルオロエチル)−ナフタレンの合成
【0071】
【化18】
【0072】実施例7と同様にして、2−(1−ナフチ
ル)−2−トリフルオロメチル−1,3−ジチオラン
(150 mg, 0.5 mmol)、(HF)9/
Py(1 mL, 4.4 mmol,F-として 4
0 mmol)、およびNIS(336 mg,1.5
mmol)から表題化合物(96 mg, 0.39
mmol, 78%)を得た。
ル)−2−トリフルオロメチル−1,3−ジチオラン
(150 mg, 0.5 mmol)、(HF)9/
Py(1 mL, 4.4 mmol,F-として 4
0 mmol)、およびNIS(336 mg,1.5
mmol)から表題化合物(96 mg, 0.39
mmol, 78%)を得た。
【0073】1H−NMR (CDCl3−Me4Si)
: δ 8.26 (d, J= 7.6 H
z, 1 H), 8.06 (d, J = 8.2
Hz, 1 H), 8.0−7.8 (m, 2
H),7.7−7.5 (m,3 H).
: δ 8.26 (d, J= 7.6 H
z, 1 H), 8.06 (d, J = 8.2
Hz, 1 H), 8.0−7.8 (m, 2
H),7.7−7.5 (m,3 H).
【0074】19F−NMR (CDCl3−CFCl3)
: δ −83.93 (s,3 F),−10
8.83 (s, 2 F).
: δ −83.93 (s,3 F),−10
8.83 (s, 2 F).
【発明の効果】本発明の方法によれば、ペルフルオロア
ルキル基を位置選択的に芳香族化合物に導入することが
できる。また、従来方法を、適用できない基質、たとえ
ば酸に弱い官能基を持つ基質のペルフルオロアルキル化
も可能であり、収率よく、高い選択性で目的物を得るこ
とができる。
ルキル基を位置選択的に芳香族化合物に導入することが
できる。また、従来方法を、適用できない基質、たとえ
ば酸に弱い官能基を持つ基質のペルフルオロアルキル化
も可能であり、収率よく、高い選択性で目的物を得るこ
とができる。
フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C07C 211/45 9280−4H 211/52 9280−4H 211/56 9280−4H 211/58 9280−4H 213/02 7457−4H 217/84 7457−4H 253/30 255/58 9357−4H
Claims (1)
- 【請求項1】フッ化物イオン源を、ハロニウムイオン発
生剤存在下、一般式(I) 【化1】 (式中、Xは置換もしくは未置換アリール基あるいは第
2級アミノ基R1R2N(ただし、R1、R2は置換もしく
は未置換アリール基または置換もしくは未置換の直鎖あ
るいは分枝状アルキル基、アルケニル基またはアルキニ
ル基を表す。また、R1、R2は窒素と一体となって環を
形成してもよい。)、Rfはペルフルオロアルキル基を
表す。Y、Zは同一または異なるアルキルチオ基であ
り、YとZは結合する炭素原子と一体となって環を形成
することができる。さらに、YとZは結合する炭素と一
体となってチオカルボニル基を形成してもよい。)で表
される化合物と反応させることを特徴とする、一般式
(II) 【化2】 (式中、X、Rfは前記の意味を表す。)で表されるペ
ルフルオロアルキル基を有する化合物の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31104092A JPH06135869A (ja) | 1992-10-28 | 1992-10-28 | ペルフルオロアルキル基を持つ化合物の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31104092A JPH06135869A (ja) | 1992-10-28 | 1992-10-28 | ペルフルオロアルキル基を持つ化合物の製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06135869A true JPH06135869A (ja) | 1994-05-17 |
Family
ID=18012397
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP31104092A Pending JPH06135869A (ja) | 1992-10-28 | 1992-10-28 | ペルフルオロアルキル基を持つ化合物の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06135869A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002060853A1 (en) * | 2001-01-31 | 2002-08-08 | Asahi Glass Company, Limited | Process for producing fluorine compound |
| KR100682711B1 (ko) * | 2003-04-25 | 2007-02-15 | 가부시키가이샤 닛폰 쇼쿠바이 | 화상형성용 감광성수지 조성물 및 그의 제조방법 |
| WO2007097395A1 (ja) | 2006-02-22 | 2007-08-30 | Sumitomo Chemical Company, Limited | 含フッ素化合物及びその製造方法、含フッ素重合体、有機薄膜、並びに、有機薄膜素子 |
| JPWO2006049014A1 (ja) * | 2004-11-05 | 2008-05-29 | 国立大学法人 北海道大学 | α,α−ジフルオロアミンの製造方法 |
| WO2008111461A1 (ja) | 2007-03-09 | 2008-09-18 | Sumitomo Chemical Company, Limited | 含フッ素多環芳香族化合物、含フッ素重合体、有機薄膜及び有機薄膜素子 |
| US8008336B2 (en) | 2005-03-09 | 2011-08-30 | Sumitomo Chemical Co., Ltd. | Condensation compound between fluorinated cyclopentane ring and aromatic ring, and process for producing the same |
| US8378338B2 (en) | 2007-11-30 | 2013-02-19 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Conjugated compound, nitrogenated condensed-ring compound, nitrogenated condensed-ring polymer, organic thin film, and organic thin film element |
| DE10302781B4 (de) * | 2002-02-23 | 2015-08-27 | Merck Patent Gmbh | Verfahren zur α,α-Difluoralkylierung von Stickstoffnucleophilen |
-
1992
- 1992-10-28 JP JP31104092A patent/JPH06135869A/ja active Pending
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002060853A1 (en) * | 2001-01-31 | 2002-08-08 | Asahi Glass Company, Limited | Process for producing fluorine compound |
| US6903230B2 (en) | 2001-01-31 | 2005-06-07 | Asahi Glass Company, Limited | Process for producing a fluorine-containing compound |
| DE10302781B4 (de) * | 2002-02-23 | 2015-08-27 | Merck Patent Gmbh | Verfahren zur α,α-Difluoralkylierung von Stickstoffnucleophilen |
| KR100682711B1 (ko) * | 2003-04-25 | 2007-02-15 | 가부시키가이샤 닛폰 쇼쿠바이 | 화상형성용 감광성수지 조성물 및 그의 제조방법 |
| JPWO2006049014A1 (ja) * | 2004-11-05 | 2008-05-29 | 国立大学法人 北海道大学 | α,α−ジフルオロアミンの製造方法 |
| US8008336B2 (en) | 2005-03-09 | 2011-08-30 | Sumitomo Chemical Co., Ltd. | Condensation compound between fluorinated cyclopentane ring and aromatic ring, and process for producing the same |
| US8129400B2 (en) | 2005-03-09 | 2012-03-06 | Sumitomo Chemical Co., Ltd. | Condensation compound between fluorinated cyclopentane ring and aromatic ring, and process for producing the same |
| US8207184B2 (en) | 2005-03-09 | 2012-06-26 | Sumitomo Chemical Co., Ltd. | Condensation compound between fluorinated cyclopentane ring and aromatic ring, and process for producing the same |
| WO2007097395A1 (ja) | 2006-02-22 | 2007-08-30 | Sumitomo Chemical Company, Limited | 含フッ素化合物及びその製造方法、含フッ素重合体、有機薄膜、並びに、有機薄膜素子 |
| WO2008111461A1 (ja) | 2007-03-09 | 2008-09-18 | Sumitomo Chemical Company, Limited | 含フッ素多環芳香族化合物、含フッ素重合体、有機薄膜及び有機薄膜素子 |
| US8378338B2 (en) | 2007-11-30 | 2013-02-19 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Conjugated compound, nitrogenated condensed-ring compound, nitrogenated condensed-ring polymer, organic thin film, and organic thin film element |
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