JPH0613963B2 - 表面欠陥検査方法 - Google Patents
表面欠陥検査方法Info
- Publication number
- JPH0613963B2 JPH0613963B2 JP59186325A JP18632584A JPH0613963B2 JP H0613963 B2 JPH0613963 B2 JP H0613963B2 JP 59186325 A JP59186325 A JP 59186325A JP 18632584 A JP18632584 A JP 18632584A JP H0613963 B2 JPH0613963 B2 JP H0613963B2
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- JP
- Japan
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- optical system
- light
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- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Microscoopes, Condenser (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は、特に光学的に透明な被検査物体上にある微小
凹凸欠陥と異物欠陥とを弁別して検査するのに好適な表
面欠陥検査方法に関するものである。
凹凸欠陥と異物欠陥とを弁別して検査するのに好適な表
面欠陥検査方法に関するものである。
光学的に透明な物体表面の微小な凹凸を測定する手段と
して、光の干渉を用いるものがある。この一例として第
５図に示すようなマイケルソン干渉計と呼ばれるものが
ある。マイケルソン干渉計は例えば岩波書店発行（昭和
34年）久保田広著「応用光学」第９８頁から第100頁ま
でに記載されているが、第５図を用いて、この原理を説
明する。
して、光の干渉を用いるものがある。この一例として第
５図に示すようなマイケルソン干渉計と呼ばれるものが
ある。マイケルソン干渉計は例えば岩波書店発行（昭和
34年）久保田広著「応用光学」第９８頁から第100頁ま
でに記載されているが、第５図を用いて、この原理を説
明する。
レーザ光線等のコヒーレント光源１から出た光線がビー
ムスプリッタ２によって二つの光束に分けられ、その一
方の光束は対物レンズ３を通して被検査物体４の表面に
投影され、他方の光束は一般に対物レンズ３と等しい倍
率を持つ対物レンズ５を通して参照鏡６に投影される。
参照鏡６は対物レンズ５の視野内において、高い平面精
度を有する鏡面である。被検査物体４および参照鏡６か
らの反射光はそれぞれ対物レンズ３および５によって集
光され、ビームスプリッタ２で合成され、干渉像を像面
７に結像する。
ムスプリッタ２によって二つの光束に分けられ、その一
方の光束は対物レンズ３を通して被検査物体４の表面に
投影され、他方の光束は一般に対物レンズ３と等しい倍
率を持つ対物レンズ５を通して参照鏡６に投影される。
参照鏡６は対物レンズ５の視野内において、高い平面精
度を有する鏡面である。被検査物体４および参照鏡６か
らの反射光はそれぞれ対物レンズ３および５によって集
光され、ビームスプリッタ２で合成され、干渉像を像面
７に結像する。
この場合の干渉原理は、ビームスプリッタ２の反射面上
の点Ｏと被検査物体４上の点Ｑ1の距離OQ1と、点Ｏと参
照鏡６上の点Ｑ2の距離OQ2の差△ｘが、使用する光線の
波長をλとして、1/4λの奇数倍であれば、干渉によっ
て被検査物体４からの反射光と参照鏡６からの反射光は
互いに弱めあい、一方、△ｘが1/4λの偶数倍であれ
ば、両反射光は互に強めあうというものである。すなわ
ち、参照鏡６の位置を光軸方向に移動すると、像面７は
明暗を繰り返し、前記△ｘが1/4λの整数倍になる毎
に、像面７は明るさの極大値となる。
の点Ｏと被検査物体４上の点Ｑ1の距離OQ1と、点Ｏと参
照鏡６上の点Ｑ2の距離OQ2の差△ｘが、使用する光線の
波長をλとして、1/4λの奇数倍であれば、干渉によっ
て被検査物体４からの反射光と参照鏡６からの反射光は
互いに弱めあい、一方、△ｘが1/4λの偶数倍であれ
ば、両反射光は互に強めあうというものである。すなわ
ち、参照鏡６の位置を光軸方向に移動すると、像面７は
明暗を繰り返し、前記△ｘが1/4λの整数倍になる毎
に、像面７は明るさの極大値となる。
本原理によって、被検査試料４上の凹凸は、その凹凸量
に応じて1/4λを周期として明暗となって像面７で観測
される。
に応じて1/4λを周期として明暗となって像面７で観測
される。
このような、光の干渉を用いて光学的に透明な物体表面
の微小な凹凸を検出する方法は、例えば、特開昭57-120
805号公報に記載されている。この公知例では、前記マ
イケルソン干渉計の参照鏡６を光軸に対して僅かに傾け
て、検出範囲内に必ず明暗１対以上の干渉縞を生じるよ
うにして背景の干渉条件を変化させ、被検査物体上の微
小凹凸欠陥をコントラスト良く検出できる条件が得られ
るようになっている。
の微小な凹凸を検出する方法は、例えば、特開昭57-120
805号公報に記載されている。この公知例では、前記マ
イケルソン干渉計の参照鏡６を光軸に対して僅かに傾け
て、検出範囲内に必ず明暗１対以上の干渉縞を生じるよ
うにして背景の干渉条件を変化させ、被検査物体上の微
小凹凸欠陥をコントラスト良く検出できる条件が得られ
るようになっている。
しかし、これら公知例に述べられている方法は、被検査
物体４あるいは参照鏡６からの反射を考えているだけ
で、対物レンズ３や対物レンズ５等の光路中に挿入され
ている物体からの反射光については配慮されていない。
特に対物レンズ３，５等に、通常、収差を補正するため
に複数のレンズを組みあわせた、例えば第６図に示すプ
ラン対物レンズ等の組合わせレンズを用いる必要があ
り、各レンズ表面からの反射光q1,q2,qn等と参照鏡６か
らの反射光等、種々の光が互いに干渉し、像面７上でバ
ックグランドノイズとして検出されるため、被検査物体
４上の微小な凹凸による像面７上の干渉像の認識が困難
となる課題があった。
物体４あるいは参照鏡６からの反射を考えているだけ
で、対物レンズ３や対物レンズ５等の光路中に挿入され
ている物体からの反射光については配慮されていない。
特に対物レンズ３，５等に、通常、収差を補正するため
に複数のレンズを組みあわせた、例えば第６図に示すプ
ラン対物レンズ等の組合わせレンズを用いる必要があ
り、各レンズ表面からの反射光q1,q2,qn等と参照鏡６か
らの反射光等、種々の光が互いに干渉し、像面７上でバ
ックグランドノイズとして検出されるため、被検査物体
４上の微小な凹凸による像面７上の干渉像の認識が困難
となる課題があった。
また、被検査物体４上の埃等の異物の反射率が高い場
合、この異物からの反射光と同位相の被検査物からの反
射光とは区別することができず、一方、異物の反射率が
低い場合には像面７上に干渉像は得られないが、像面７
上で異物近傍の背景が明るいと、被検査物体４上の凹凸
欠陥と同様に観測されるので、被検査物体上の凹凸欠陥
のみを精度良く検出することはできないという課題があ
った。
合、この異物からの反射光と同位相の被検査物からの反
射光とは区別することができず、一方、異物の反射率が
低い場合には像面７上に干渉像は得られないが、像面７
上で異物近傍の背景が明るいと、被検査物体４上の凹凸
欠陥と同様に観測されるので、被検査物体上の凹凸欠陥
のみを精度良く検出することはできないという課題があ
った。
本発明の目的は、上記従来技術の課題を解決すべく、位
相差顕微鏡光学系のみでは識別不可能な被検査物体上に
存在する微小凹凸欠陥と埃等の異物欠陥とを画像信号と
して弁別して検査できるようにした表面欠陥検査方法を
提供することにある。
相差顕微鏡光学系のみでは識別不可能な被検査物体上に
存在する微小凹凸欠陥と埃等の異物欠陥とを画像信号と
して弁別して検査できるようにした表面欠陥検査方法を
提供することにある。
本発明は、上記目的を達成するために、位相差顕微鏡光
学系と顕微鏡光学系とを同一の検出光軸を有して配置
し、前記位相差顕微鏡光学系を用いて被検査物体によっ
て位相変調された回折光と前記被検査物体によって振幅
変調された直接光とを位相板を通して干渉させて光電変
換手段で受光して前記被検査物体からの位相差量に応じ
て少なくとも被検査物体上の微小凹凸欠陥を顕在化した
第１の２次元濃淡画像信号を検出し、前記顕微鏡光学系
を用いて前記被検査物体と被検査物体上の異物欠陥とか
らの反射率または透過率の相違に基づいて前記被検査物
体からの反射光または透過光を光電変換手段で受光して
前記反射率または透過率に応じて被検査物体上の異物欠
陥を顕在化した第２の２次元濃淡画像信号を検出し、前
記同一の検出光軸に基づいて同一の座標系で検出される
第１の２次元濃淡画像信号と第２の２次元濃淡画像信号
とを比較して被検査物体上の微小凹凸欠陥と異物欠陥と
を弁別して検査することを特徴とする表面欠陥検査方法
である。
学系と顕微鏡光学系とを同一の検出光軸を有して配置
し、前記位相差顕微鏡光学系を用いて被検査物体によっ
て位相変調された回折光と前記被検査物体によって振幅
変調された直接光とを位相板を通して干渉させて光電変
換手段で受光して前記被検査物体からの位相差量に応じ
て少なくとも被検査物体上の微小凹凸欠陥を顕在化した
第１の２次元濃淡画像信号を検出し、前記顕微鏡光学系
を用いて前記被検査物体と被検査物体上の異物欠陥とか
らの反射率または透過率の相違に基づいて前記被検査物
体からの反射光または透過光を光電変換手段で受光して
前記反射率または透過率に応じて被検査物体上の異物欠
陥を顕在化した第２の２次元濃淡画像信号を検出し、前
記同一の検出光軸に基づいて同一の座標系で検出される
第１の２次元濃淡画像信号と第２の２次元濃淡画像信号
とを比較して被検査物体上の微小凹凸欠陥と異物欠陥と
を弁別して検査することを特徴とする表面欠陥検査方法
である。
先ず、本発明の原理について第２図〜第４図に基づいて
説明する。第２図に位相差顕微鏡の光学系の一例を示す
が、被検査物体14の透過率によって変調される直接光８
を背景強とし、被検査物体の屈折率変化あるいは厚みの
変化によって位相変調される回折光９に位相板16を用い
て直接光と干渉するように位相変化を与え、被検査物体
14による位相変化を明暗コントラストで像面17を観察で
きるようにしたものである。こゝで、10は光源、11はコ
レクタレンズ、12はリングスリット、13はコンデンサレ
ンズ、15は対物レンズである。直接光８と回折光９が干
渉するように、振幅の大きい直接光８は吸収膜18によっ
て減衰させるが、位相差顕微鏡の主たる用途からいっ
て、被検査物体14の忠実度を大きく損なわないように、
吸収膜18の吸収率は90％程度までである。
説明する。第２図に位相差顕微鏡の光学系の一例を示す
が、被検査物体14の透過率によって変調される直接光８
を背景強とし、被検査物体の屈折率変化あるいは厚みの
変化によって位相変調される回折光９に位相板16を用い
て直接光と干渉するように位相変化を与え、被検査物体
14による位相変化を明暗コントラストで像面17を観察で
きるようにしたものである。こゝで、10は光源、11はコ
レクタレンズ、12はリングスリット、13はコンデンサレ
ンズ、15は対物レンズである。直接光８と回折光９が干
渉するように、振幅の大きい直接光８は吸収膜18によっ
て減衰させるが、位相差顕微鏡の主たる用途からいっ
て、被検査物体14の忠実度を大きく損なわないように、
吸収膜18の吸収率は90％程度までである。
本発明の目的からいって、位相差の有無を検出すればよ
いので、直接光８をさらに減少させるか、あるいは全く
通過させずに、主として回折光９を検出すれば、被検査
物体14による低位相差、すなわち、被検査物体14の微小
な凹凸を高感度に検出することができる。
いので、直接光８をさらに減少させるか、あるいは全く
通過させずに、主として回折光９を検出すれば、被検査
物体14による低位相差、すなわち、被検査物体14の微小
な凹凸を高感度に検出することができる。
位相板16による直接光８と回折光９の干渉のさせ方によ
って、すなわち、両光線の位相関係が同位相のとき、直
接光８による背景コントラスト19は明るいものとなり、
逆位相のときに暗いものとなる。ところで、埃等の異物
が被検査物体14上にあるとき、異物は像面17に暗部とし
て検出されるが、背景コントラスト19が暗いときは検出
することができず、逆に背景コントラスト19が明るいと
きは検出できる。しかし、この検出された異物を被検査
物体14上に微小凹凸欠陥と識別することは困難である。
一方、例えば、通常の透過照明あるいは落射照明を用い
る場合には、微小凹凸欠陥を検出することはできない
が、異物等は容易に検出することができる。
って、すなわち、両光線の位相関係が同位相のとき、直
接光８による背景コントラスト19は明るいものとなり、
逆位相のときに暗いものとなる。ところで、埃等の異物
が被検査物体14上にあるとき、異物は像面17に暗部とし
て検出されるが、背景コントラスト19が暗いときは検出
することができず、逆に背景コントラスト19が明るいと
きは検出できる。しかし、この検出された異物を被検査
物体14上に微小凹凸欠陥と識別することは困難である。
一方、例えば、通常の透過照明あるいは落射照明を用い
る場合には、微小凹凸欠陥を検出することはできない
が、異物等は容易に検出することができる。
そこで、位相差顕微鏡光学系と、例えばリングスリット
12を除去した透過照明（通常顕微鏡）とを併用し、第３
図のように位相差顕微鏡光学系による像面19の背景コン
トラストが明るいとき(a)に示す検出された欠陥20,21の
うち、通常顕微鏡でも同様に検出される欠陥21は異物で
あり、検出されない欠陥20は被検査物体14上の微小凹凸
欠陥であると識別できる。第４図のように、位相差顕微
鏡光学系による像面19の背景コントラストが暗いとき
(a)に示す検出された欠陥20は被検査物体上の微小凹凸
欠陥であり、通常顕微鏡によって検出される欠陥は異物
であると識別できる。第３図および第４図中ハッチング
が施された部分は視野中暗い部分を表わす。
12を除去した透過照明（通常顕微鏡）とを併用し、第３
図のように位相差顕微鏡光学系による像面19の背景コン
トラストが明るいとき(a)に示す検出された欠陥20,21の
うち、通常顕微鏡でも同様に検出される欠陥21は異物で
あり、検出されない欠陥20は被検査物体14上の微小凹凸
欠陥であると識別できる。第４図のように、位相差顕微
鏡光学系による像面19の背景コントラストが暗いとき
(a)に示す検出された欠陥20は被検査物体上の微小凹凸
欠陥であり、通常顕微鏡によって検出される欠陥は異物
であると識別できる。第３図および第４図中ハッチング
が施された部分は視野中暗い部分を表わす。
以下に、図面を参照しながら、実施例を用いて本発明を
一層詳細に説明するが、それらは例示に過ぎず、本発明
の枠を越えることなしにいろいろな変形や改良があり得
ることは勿論である。
一層詳細に説明するが、それらは例示に過ぎず、本発明
の枠を越えることなしにいろいろな変形や改良があり得
ることは勿論である。
第１図を参照すれば、透過照明光源10より発せられた透
過照明光25はコレクタレンズ11，リングスリット12，コ
ンデンサレンズ13を通って被検査物体14（磁気バブルメ
モリはGd3G95O12等の光学的に透明なウエハ上にY3Fe5O
12等の磁性ガーネット透明薄膜をこの液相成長させたも
のを基板として作成する。磁気バブルメモリの特性確保
のため、この透明基の凹凸を測定する必要がある。）を
照明する。透明照明光25によって、被検査物体14から、
被検査物体の透過率によって主として振幅変調される直
接光29と被検査物体の厚さあるいは屈折率によって主と
して位相変調される回折光26が発せられる。直接光29
は、位相板16によってλ/4あるいは−λ/4の位相変化を
受け、吸収膜18によって減衰させられて、回折光26と干
渉できるように変換される。これにより、テレビカメラ
23の像面上に被検査物体の位相差量に応じた２次元濃淡
画像信号（第３図(a)または第４図(a)に示す。）を検出
することができる。
過照明光25はコレクタレンズ11，リングスリット12，コ
ンデンサレンズ13を通って被検査物体14（磁気バブルメ
モリはGd3G95O12等の光学的に透明なウエハ上にY3Fe5O
12等の磁性ガーネット透明薄膜をこの液相成長させたも
のを基板として作成する。磁気バブルメモリの特性確保
のため、この透明基の凹凸を測定する必要がある。）を
照明する。透明照明光25によって、被検査物体14から、
被検査物体の透過率によって主として振幅変調される直
接光29と被検査物体の厚さあるいは屈折率によって主と
して位相変調される回折光26が発せられる。直接光29
は、位相板16によってλ/4あるいは−λ/4の位相変化を
受け、吸収膜18によって減衰させられて、回折光26と干
渉できるように変換される。これにより、テレビカメラ
23の像面上に被検査物体の位相差量に応じた２次元濃淡
画像信号（第３図(a)または第４図(a)に示す。）を検出
することができる。
一方、落射照明光源24による落射照明光28はハーフミラ
ー22によって光軸を曲げられ、対物レンズ15を通して、
被検査物体14を落射照明する。これによる被検査物体14
の反射率に応じた振幅を与えられた反射光27は、テレビ
カメラ（上記位相差顕微鏡光学系と同一検出光軸を有す
る。）２３によって検出され、同一の位置座標を持った
２次元濃淡画像信号（第３図(b)または第４図(b)に示
す。）が得られる。
ー22によって光軸を曲げられ、対物レンズ15を通して、
被検査物体14を落射照明する。これによる被検査物体14
の反射率に応じた振幅を与えられた反射光27は、テレビ
カメラ（上記位相差顕微鏡光学系と同一検出光軸を有す
る。）２３によって検出され、同一の位置座標を持った
２次元濃淡画像信号（第３図(b)または第４図(b)に示
す。）が得られる。
被検査物体14への照明は透過照明光源10と落射照明光源
24を切り換えることによっていずれかによって行なわ
れ、透明照明光源25を用いた場合には位相差顕微鏡照明
光学系を、落射照明光源22を用いた場合には、通常の顕
微鏡照明法を得ることができる。
24を切り換えることによっていずれかによって行なわ
れ、透明照明光源25を用いた場合には位相差顕微鏡照明
光学系を、落射照明光源22を用いた場合には、通常の顕
微鏡照明法を得ることができる。
位相板16の選び方によって、背景の明るい前記第３図あ
るいは背景の暗い前記第４図のような画像をテレビカメ
ラ23で検出できる。第３図の場合には、位相差顕微鏡光
学系で得られる第３図(a)と通常顕微鏡の照明で得られ
る第３図(b)とを比較することにより両者に存在する特
異点21は埃等の異物であり、(a)のみに存在する特異点2
0は微小凹凸欠陥であると判定できる。第４図の場合に
は、位相差顕微鏡光学系で得られる特異点(a)は、微小
凹凸欠陥であり、通常顕微鏡の照明で得られる特異点
(b)は埃等の異物である、と判定できる。
るいは背景の暗い前記第４図のような画像をテレビカメ
ラ23で検出できる。第３図の場合には、位相差顕微鏡光
学系で得られる第３図(a)と通常顕微鏡の照明で得られ
る第３図(b)とを比較することにより両者に存在する特
異点21は埃等の異物であり、(a)のみに存在する特異点2
0は微小凹凸欠陥であると判定できる。第４図の場合に
は、位相差顕微鏡光学系で得られる特異点(a)は、微小
凹凸欠陥であり、通常顕微鏡の照明で得られる特異点
(b)は埃等の異物である、と判定できる。
以上の実施例では位相差顕微鏡照明と通常顕微鏡の落射
照明とを組み合わせたが、位相差顕微鏡照明と組み合わ
せる通常顕微鏡の照明法は他の照明法でもよく、例えば
透過照明あるいは暗視野照明あるいは微分干渉顕微鏡と
の組み合わせであってもよい。
照明とを組み合わせたが、位相差顕微鏡照明と組み合わ
せる通常顕微鏡の照明法は他の照明法でもよく、例えば
透過照明あるいは暗視野照明あるいは微分干渉顕微鏡と
の組み合わせであってもよい。
以上説明したように、本発明によれば、位相差顕微鏡光
学系のみでは識別不可能な被検査物体上の微小凹凸欠陥
と埃等の異物欠陥とを２次元画像信号から画像信号とし
て弁別して検査することができる効果を奏する。
学系のみでは識別不可能な被検査物体上の微小凹凸欠陥
と埃等の異物欠陥とを２次元画像信号から画像信号とし
て弁別して検査することができる効果を奏する。
第１図は本発明による表面欠陥検査方法を実施するため
の装置の図式図、第２図は位相差顕微鏡光学系の構成を
示す図式図、第３図(a)，(b)および第４図(a)，(b)はそ
れぞれ位相差顕微鏡光学系および通常顕微鏡で観察され
る像を示す図、第５図は従来の表面欠陥検査方法で使用
されている干渉光学系の構成を示す図式図、第６図は第
５図に示す光学系の中で使用される対物レンズの模式図
である。 10…透過照明光源、11…コンタクトレンズ、12…リング
スリット、13…コンデンサレンズ、14…被検査物体、15
…対物レンズ、16…位相板、17…像面、18…吸収膜、19
…背景コントラスト、20…微小凹凸欠陥の像、21…埃な
どの異物の像、22…ハーフミラー、23…テレビカメラ、
24…落射照明光源、25…透過照明光、26…回折光、27…
反射光、28…落射照明光、29…直接光。
の装置の図式図、第２図は位相差顕微鏡光学系の構成を
示す図式図、第３図(a)，(b)および第４図(a)，(b)はそ
れぞれ位相差顕微鏡光学系および通常顕微鏡で観察され
る像を示す図、第５図は従来の表面欠陥検査方法で使用
されている干渉光学系の構成を示す図式図、第６図は第
５図に示す光学系の中で使用される対物レンズの模式図
である。 10…透過照明光源、11…コンタクトレンズ、12…リング
スリット、13…コンデンサレンズ、14…被検査物体、15
…対物レンズ、16…位相板、17…像面、18…吸収膜、19
…背景コントラスト、20…微小凹凸欠陥の像、21…埃な
どの異物の像、22…ハーフミラー、23…テレビカメラ、
24…落射照明光源、25…透過照明光、26…回折光、27…
反射光、28…落射照明光、29…直接光。
Claims (1)
- 【請求項１】位相差顕微鏡光学系と顕微鏡光学系とを同
一の検出光軸を有して配置し、前記位相差顕微鏡光学系
を用いて被検査物体によって位相変調された回折光と前
記被検査物体によって振幅変調された直接光とを位相板
を通して干渉させて光電変換手段で受光して前記被検査
物体からの位相差量に応じて少なくとも被検査物体上の
微小凹凸欠陥を顕在化した第１の２次元濃淡画像信号を
検出し、前記顕微鏡光学系を用いて前記被検査物体と被
検査物体上の異物欠陥とからの反射率または透過率の相
違に基づいて前記被検査物体からの反射光または透過光
を光電変換手段で受光して前記反射率または透過率に応
じて被検査物体上の異物欠陥を顕在化した第２の２次元
濃淡画像信号を検出し、前記同一の検出光軸に基づいて
同一の座標系で検出される第１の２次元濃淡画像信号と
第２の２次元濃淡画像信号とを比較して被検査物体上の
微小凹凸欠陥と異物欠陥とを弁別して検査することを特
徴とする表面欠陥検査方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59186325A JPH0613963B2 (ja) | 1984-09-07 | 1984-09-07 | 表面欠陥検査方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59186325A JPH0613963B2 (ja) | 1984-09-07 | 1984-09-07 | 表面欠陥検査方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6165107A JPS6165107A (ja) | 1986-04-03 |
| JPH0613963B2 true JPH0613963B2 (ja) | 1994-02-23 |
Family
ID=16186363
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59186325A Expired - Lifetime JPH0613963B2 (ja) | 1984-09-07 | 1984-09-07 | 表面欠陥検査方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0613963B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0752156B2 (ja) * | 1986-06-27 | 1995-06-05 | 株式会社日立製作所 | 異物検査装置 |
| JPS636442A (ja) * | 1986-06-27 | 1988-01-12 | Hitachi Ltd | 異物検査方法及びその装置 |
| JPH0646182B2 (ja) * | 1986-06-27 | 1994-06-15 | 株式会社日立製作所 | マスク上の異物検査装置およびその方法 |
| JPS636854A (ja) * | 1986-06-27 | 1988-01-12 | Hitachi Ltd | 異物検査装置 |
| JP6095382B2 (ja) * | 2013-01-28 | 2017-03-15 | 横浜リーディングデザイン合資会社 | 光学系、光学系に用いる位相板及び光学系の製造方法 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5767844A (en) * | 1980-10-15 | 1982-04-24 | Nippon Kogaku Kk <Nikon> | Surface inspecting device |
-
1984
- 1984-09-07 JP JP59186325A patent/JPH0613963B2/ja not_active Expired - Lifetime
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| 大越諄「表面アラサ検査方法」（昭３４−６−１７）株式会社コロナ社Ｐ．６５ |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6165107A (ja) | 1986-04-03 |
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