JPH06144849A - 光学素子の成形装置、その製造方法及び光学素子の成形方法 - Google Patents
光学素子の成形装置、その製造方法及び光学素子の成形方法Info
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- JPH06144849A JPH06144849A JP29262992A JP29262992A JPH06144849A JP H06144849 A JPH06144849 A JP H06144849A JP 29262992 A JP29262992 A JP 29262992A JP 29262992 A JP29262992 A JP 29262992A JP H06144849 A JPH06144849 A JP H06144849A
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- C03B11/06—Construction of plunger or mould
- C03B11/08—Construction of plunger or mould for making solid articles, e.g. lenses
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- C03B2215/00—Press-moulding glass
- C03B2215/02—Press-mould materials
- C03B2215/08—Coated press-mould dies
- C03B2215/14—Die top coat materials, e.g. materials for the glass-contacting layers
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- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 成形時に胴型内面と光学素子材料との融着を
安価に防止しうる光学素子の成形装置及びその製造方法
を開発し、不良品がほとんど発生しない光学素子の成形
方法を提供すること。 【構成】 胴型4の内面に炭素質薄膜5を設けたことを
特徴とする光学素子の成形装置である。上型1及び下型
2と内面に炭素質薄膜5を有する胴型4との間に光学素
子材料7を置き、光学素子材料を加熱軟化させ、押圧成
形する。
安価に防止しうる光学素子の成形装置及びその製造方法
を開発し、不良品がほとんど発生しない光学素子の成形
方法を提供すること。 【構成】 胴型4の内面に炭素質薄膜5を設けたことを
特徴とする光学素子の成形装置である。上型1及び下型
2と内面に炭素質薄膜5を有する胴型4との間に光学素
子材料7を置き、光学素子材料を加熱軟化させ、押圧成
形する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、光学素子材料を加熱軟
化させ、一対の成形型及び胴型の間で押圧成形すること
により光学素子を成形する成形装置、該装置の製造方法
及び光学素子の成形方法に関する。
化させ、一対の成形型及び胴型の間で押圧成形すること
により光学素子を成形する成形装置、該装置の製造方法
及び光学素子の成形方法に関する。
【0002】
【従来技術及びその問題点】光学素子を製造するには、
従来、成形型に光学素子の設計に応じた有効成形面を形
成し、光学素子材料を加熱軟化させ、上型及び下型から
成る一対の成形型と胴型の間で押圧し、有効成形面に応
じた所定の形状に成形する押圧成形法が知られている。
この成形型の有効成形面には耐酸化性及び耐濡れ性を目
的とした保護膜が設けられているので、成形時に型と光
学素子材料とで融着を起こすことはないが、胴型内面で
光学素子の外径を規制しようとする成形方法の場合に
は、高温下で胴型内面と光学素子材料が圧力がかかった
状態で接触するため、融着を起こし、成形した光学素子
の取り出しが不可能になったり、あるいは外径部に欠け
を生じさせるという問題があった。上記問題を回避する
には、胴型内面にも成形型と同じ保護膜を設ければよい
が、成形型の保護膜としては、従来、白金膜などの高価
な材料が用いられるため、コストが高くなるとともに、
胴型の細長い内径にこの種の保護膜を設けることは困難
である。
従来、成形型に光学素子の設計に応じた有効成形面を形
成し、光学素子材料を加熱軟化させ、上型及び下型から
成る一対の成形型と胴型の間で押圧し、有効成形面に応
じた所定の形状に成形する押圧成形法が知られている。
この成形型の有効成形面には耐酸化性及び耐濡れ性を目
的とした保護膜が設けられているので、成形時に型と光
学素子材料とで融着を起こすことはないが、胴型内面で
光学素子の外径を規制しようとする成形方法の場合に
は、高温下で胴型内面と光学素子材料が圧力がかかった
状態で接触するため、融着を起こし、成形した光学素子
の取り出しが不可能になったり、あるいは外径部に欠け
を生じさせるという問題があった。上記問題を回避する
には、胴型内面にも成形型と同じ保護膜を設ければよい
が、成形型の保護膜としては、従来、白金膜などの高価
な材料が用いられるため、コストが高くなるとともに、
胴型の細長い内径にこの種の保護膜を設けることは困難
である。
【0003】
【発明の目的】本発明は、前記従来技術の問題点を解消
し、成形時に胴型内面と光学素子材料との融着を安価に
防止し、歩留りを向上しうる光学素子の成形装置及びそ
の製造方法を開発するとともに、品質の良い光学素子を
効率よく安価に製造しうる成形方法を提供することを目
的とする。
し、成形時に胴型内面と光学素子材料との融着を安価に
防止し、歩留りを向上しうる光学素子の成形装置及びそ
の製造方法を開発するとともに、品質の良い光学素子を
効率よく安価に製造しうる成形方法を提供することを目
的とする。
【0004】
【発明の概要】本発明は、炭素質薄膜であれば、胴型の
細長い内径部にも容易に安価に形成でき、光学素子材料
の融着を防止しうるとの知見を得、この知見に基づいて
上記目的を達成したものである。すなわち、本発明の光
学素子の成形装置は、光学素子材料を加熱軟化させ、一
対の成形型及び胴型の間で押圧成形することにより光学
素子を成形する成形装置において、胴型内面の少なくと
も、成形時に光学素子材料と接触する部分に炭素質薄膜
を設けたことを特徴とする。
細長い内径部にも容易に安価に形成でき、光学素子材料
の融着を防止しうるとの知見を得、この知見に基づいて
上記目的を達成したものである。すなわち、本発明の光
学素子の成形装置は、光学素子材料を加熱軟化させ、一
対の成形型及び胴型の間で押圧成形することにより光学
素子を成形する成形装置において、胴型内面の少なくと
も、成形時に光学素子材料と接触する部分に炭素質薄膜
を設けたことを特徴とする。
【0005】本発明の光学素子の成形装置は、上記のよ
うに、胴型内面の少なくとも、成形時に光学素子材料と
接触する部分に炭素質薄膜を設けたものである。すなわ
ち、炭素質薄膜は、成形時に光学素子材料と接触する部
分だけに設けてもよいし、該部分を含むその周辺、ある
いは胴型内面の全面に設けてもよい。この炭素質薄膜の
膜厚は0.01μm〜2.00μmであるのが好まし
い。この膜厚が0.01μm未満であると、胴型への融
着が完全には避けられない。また、2.00μmを超え
ると、胴型内径から炭素質物質が落ちやすく、成形品中
に異物を混入することがあり、また、付着させるのに時
間を要する。
うに、胴型内面の少なくとも、成形時に光学素子材料と
接触する部分に炭素質薄膜を設けたものである。すなわ
ち、炭素質薄膜は、成形時に光学素子材料と接触する部
分だけに設けてもよいし、該部分を含むその周辺、ある
いは胴型内面の全面に設けてもよい。この炭素質薄膜の
膜厚は0.01μm〜2.00μmであるのが好まし
い。この膜厚が0.01μm未満であると、胴型への融
着が完全には避けられない。また、2.00μmを超え
ると、胴型内径から炭素質物質が落ちやすく、成形品中
に異物を混入することがあり、また、付着させるのに時
間を要する。
【0006】本発明において、炭素質薄膜とは、純粋な
炭素からなる薄膜ばかりでなく、主として炭素からなる
薄膜をも包含するものである。このような炭素質薄膜の
形成方法は、特に限定されるものではなく、様々な方法
を採用しうるが、例えば、カーボンブラック、黒鉛、
木炭などを押し当てこすりつける、蒸着による、任
意の方法で油(各種の機械油、料理用油など)、その他
の有機物をスポイト、細い筆などを用いて塗布し、これ
を高温処理して煤化する、ろうそく、木材など、燃焼
により煤を発生する材料を燃焼させる方法などが考えら
れる。こうして形成した炭素質薄膜は、成形を反復して
行うにしたがって徐々に剥離するので、およそ1000
回の成形に1度の割合で炭素質薄膜を更新するのが好ま
しい。
炭素からなる薄膜ばかりでなく、主として炭素からなる
薄膜をも包含するものである。このような炭素質薄膜の
形成方法は、特に限定されるものではなく、様々な方法
を採用しうるが、例えば、カーボンブラック、黒鉛、
木炭などを押し当てこすりつける、蒸着による、任
意の方法で油(各種の機械油、料理用油など)、その他
の有機物をスポイト、細い筆などを用いて塗布し、これ
を高温処理して煤化する、ろうそく、木材など、燃焼
により煤を発生する材料を燃焼させる方法などが考えら
れる。こうして形成した炭素質薄膜は、成形を反復して
行うにしたがって徐々に剥離するので、およそ1000
回の成形に1度の割合で炭素質薄膜を更新するのが好ま
しい。
【0007】本発明による光学素子の成形方法は、本発
明による上記の成形装置を用いて光学素子を成形するこ
とを特徴とする。この方法によれば、光学素子が胴型と
融着していないので、欠け等の欠陥を生じることなく容
易に取り出すことができる。この方法で成形された光学
素子の外径部(コバ部)には、多少炭素質物質が付着す
ることがあるが、これは超音波洗浄又は拭き取りによっ
て容易に除去することができる。
明による上記の成形装置を用いて光学素子を成形するこ
とを特徴とする。この方法によれば、光学素子が胴型と
融着していないので、欠け等の欠陥を生じることなく容
易に取り出すことができる。この方法で成形された光学
素子の外径部(コバ部)には、多少炭素質物質が付着す
ることがあるが、これは超音波洗浄又は拭き取りによっ
て容易に除去することができる。
【0008】
【実施例】次に、図面を参照して本発明をさらに具体的
に説明する。図1は、本発明の一実施例を示す光学素子
の成形装置を用いた押圧成形前の成形部の状態を示す概
略説明図である。図1において、上型1及び下型2の母
材の有効成形面には、耐酸化性及び耐濡れ性の向上を目
的として保護膜3が被着されている。成形型の母材とし
ては、特に制限されるものではなく、各種のものを使用
でき、例えば、炭化タングステン、炭化珪素、窒化珪
素、酸化クロムなどから成るものが挙げられる。これら
の母材は、超精密加工で所望の非球面に削った後、ダイ
ヤモンドペースト研磨材などを使用して表面粗さがR
max =0.02μm以下になるように表面を研磨される。
また、上記保護膜3は、貴金属、セラミックス又は貴金
属とセラミックスとの混合物を用いて、スパッタリング
法、イオンプレーティング法、化学的気相成長(CV
D)法など、任意の方法で形成される。ここで、貴金属
としては、白金、ロジウム、金などが挙げられ、セラミ
ックスとしては、窒化チタン、炭化チタン、窒化珪素、
炭化珪素、アルミナなどが挙げられる。
に説明する。図1は、本発明の一実施例を示す光学素子
の成形装置を用いた押圧成形前の成形部の状態を示す概
略説明図である。図1において、上型1及び下型2の母
材の有効成形面には、耐酸化性及び耐濡れ性の向上を目
的として保護膜3が被着されている。成形型の母材とし
ては、特に制限されるものではなく、各種のものを使用
でき、例えば、炭化タングステン、炭化珪素、窒化珪
素、酸化クロムなどから成るものが挙げられる。これら
の母材は、超精密加工で所望の非球面に削った後、ダイ
ヤモンドペースト研磨材などを使用して表面粗さがR
max =0.02μm以下になるように表面を研磨される。
また、上記保護膜3は、貴金属、セラミックス又は貴金
属とセラミックスとの混合物を用いて、スパッタリング
法、イオンプレーティング法、化学的気相成長(CV
D)法など、任意の方法で形成される。ここで、貴金属
としては、白金、ロジウム、金などが挙げられ、セラミ
ックスとしては、窒化チタン、炭化チタン、窒化珪素、
炭化珪素、アルミナなどが挙げられる。
【0009】胴型4の内面には炭素質薄膜5が形成され
ている。6は成形品の肉厚調整部材である。この炭素質
薄膜5の形成方法は、前記のとおりであるが、下記の実
施例において具体的に説明する。下型2及び胴型4を組
み合わせた後、下型2上に光学素子材料7を載せ、上型
1をセットし、光学素子材料の加熱工程に移る。
ている。6は成形品の肉厚調整部材である。この炭素質
薄膜5の形成方法は、前記のとおりであるが、下記の実
施例において具体的に説明する。下型2及び胴型4を組
み合わせた後、下型2上に光学素子材料7を載せ、上型
1をセットし、光学素子材料の加熱工程に移る。
【0010】次に、押圧成形中の成形部の状態を図2を
参照して説明する。図1に示したように上型1及び下型
2と胴型4との間に置かれた光学素子材料7を、図2に
示したように、ヒーター8によって加熱軟化させる。加
熱温度は、熱電対9によって測定される。高温時には、
酸化による型部材の劣化を防ぐため雰囲気ガス供給口1
0から不活性ガス、例えば窒素ガスを供給することがで
きる。光学素子材料7が軟化したら、シリンダー11を
降下させて所望の圧力で押圧して成形する。その後、徐
冷し、成形部の温度が光学素子材料の転移点より低くな
ったときに圧力を除けば、成形品を離型性よく取り出す
ことができる。
参照して説明する。図1に示したように上型1及び下型
2と胴型4との間に置かれた光学素子材料7を、図2に
示したように、ヒーター8によって加熱軟化させる。加
熱温度は、熱電対9によって測定される。高温時には、
酸化による型部材の劣化を防ぐため雰囲気ガス供給口1
0から不活性ガス、例えば窒素ガスを供給することがで
きる。光学素子材料7が軟化したら、シリンダー11を
降下させて所望の圧力で押圧して成形する。その後、徐
冷し、成形部の温度が光学素子材料の転移点より低くな
ったときに圧力を除けば、成形品を離型性よく取り出す
ことができる。
【0011】実施例1 図1に示した上型1及び下型2は、母材である炭化タン
グステンWCを超精密旋盤により所望の非球面形状に削
った後、ダイヤモンドペースト研磨材を用いて表面粗さ
Rmax =0.02μm以下になるように研磨する。次
に、成形面の母材表面に耐酸化性及び耐濡れ性を目的と
してスパッタリングにより白金膜3を膜厚1μmで形成
させ、成形型とした。胴型4は、成形型母材と同じ材料
WCを用いて製造されており、図3に示したように胴型
4の内面に黒鉛棒12を押し当て矢印で示したように胴
型4の回転及び黒鉛棒12の上下運動により擦りつけて
膜厚0.1μmの炭素質薄膜5を形成した。余分な黒鉛
が異物として光学素子材料7に入り込まないように胴型
内面に圧縮空気を当て余分な黒鉛を吹き飛ばした。
グステンWCを超精密旋盤により所望の非球面形状に削
った後、ダイヤモンドペースト研磨材を用いて表面粗さ
Rmax =0.02μm以下になるように研磨する。次
に、成形面の母材表面に耐酸化性及び耐濡れ性を目的と
してスパッタリングにより白金膜3を膜厚1μmで形成
させ、成形型とした。胴型4は、成形型母材と同じ材料
WCを用いて製造されており、図3に示したように胴型
4の内面に黒鉛棒12を押し当て矢印で示したように胴
型4の回転及び黒鉛棒12の上下運動により擦りつけて
膜厚0.1μmの炭素質薄膜5を形成した。余分な黒鉛
が異物として光学素子材料7に入り込まないように胴型
内面に圧縮空気を当て余分な黒鉛を吹き飛ばした。
【0012】セット時には、まず、下型2と胴型4を組
み合わせ、光学素子材料7として球形に加工したF2ガ
ラス(株式会社オハラ製)を下型2上に載せ、上型1を
胴型4内に挿入し、ゆっくりとガラスに当てた。この状
態でヒーター8により500℃まで加熱した。温度は、
熱電対9によって測定した。高温時の酸化による型及び
成形部材の劣化を防ぐため、雰囲気ガス供給口10より
窒素ガス(N2 )を流した。500℃に達した時点でシ
リンダー11を降ろし、光学素子材料であるF2ガラス
を約100kg/cm2 の圧力で押圧成形した。肉厚
は、肉厚調整部材6によって調整した。
み合わせ、光学素子材料7として球形に加工したF2ガ
ラス(株式会社オハラ製)を下型2上に載せ、上型1を
胴型4内に挿入し、ゆっくりとガラスに当てた。この状
態でヒーター8により500℃まで加熱した。温度は、
熱電対9によって測定した。高温時の酸化による型及び
成形部材の劣化を防ぐため、雰囲気ガス供給口10より
窒素ガス(N2 )を流した。500℃に達した時点でシ
リンダー11を降ろし、光学素子材料であるF2ガラス
を約100kg/cm2 の圧力で押圧成形した。肉厚
は、肉厚調整部材6によって調整した。
【0013】その後、徐冷し、成形部温度が光学素子材
料の転移点を下回った時点(400℃)で圧力を除き、
シリンダー11を上昇させ、成形品を上型及び胴型より
抜き取った。成形されたレンズは、成形面及び胴型との
接触面でも融着を起こさなかったため、上型を抜いた成
形ブロックを反転させるだけで容易に取り出すことがで
きた。成形レンズコバ部に多少黒鉛が付着することもあ
ったが、これは超音波洗浄を行う際に容易に除去でき
た。炭素質薄膜形成後、連続して500個のレンズを成
形したが、その間に取り出し不可あるいは無理に取り出
して欠けを生じるようなことは1回も起こらなかった。
料の転移点を下回った時点(400℃)で圧力を除き、
シリンダー11を上昇させ、成形品を上型及び胴型より
抜き取った。成形されたレンズは、成形面及び胴型との
接触面でも融着を起こさなかったため、上型を抜いた成
形ブロックを反転させるだけで容易に取り出すことがで
きた。成形レンズコバ部に多少黒鉛が付着することもあ
ったが、これは超音波洗浄を行う際に容易に除去でき
た。炭素質薄膜形成後、連続して500個のレンズを成
形したが、その間に取り出し不可あるいは無理に取り出
して欠けを生じるようなことは1回も起こらなかった。
【0014】実施例2 図4に示したように、胴型4の内面にスポイト13を用
いて機械油を垂らして塗布した。油を塗布した胴型を加
熱炉中で1000℃で1時間放置することにより油を分
解、煤化させた。これにより胴型内面に膜厚が約0.3
μmの炭素質薄膜を形成することができた。この胴型を
用いた以外は、実施例1と同様の操作で連続して500
個のレンズを成形したが、その間に取り出し不可あるい
は無理に取り出して欠けを生じるようなことは1回も起
こらなかった。
いて機械油を垂らして塗布した。油を塗布した胴型を加
熱炉中で1000℃で1時間放置することにより油を分
解、煤化させた。これにより胴型内面に膜厚が約0.3
μmの炭素質薄膜を形成することができた。この胴型を
用いた以外は、実施例1と同様の操作で連続して500
個のレンズを成形したが、その間に取り出し不可あるい
は無理に取り出して欠けを生じるようなことは1回も起
こらなかった。
【0015】実施例3 図5に示したように、胴型の内面に煤が付着するように
ろうそく14の火炎を近づけることにより胴型内面に膜
厚が約0.3μmの炭素質薄膜を形成することができ
た。この胴型を用いた以外は、実施例1と同様の操作で
連続して500個のレンズを成形したが、その間に取り
出し不可あるいは無理に取り出して欠けを生じるような
ことは1回も起こらなかった。
ろうそく14の火炎を近づけることにより胴型内面に膜
厚が約0.3μmの炭素質薄膜を形成することができ
た。この胴型を用いた以外は、実施例1と同様の操作で
連続して500個のレンズを成形したが、その間に取り
出し不可あるいは無理に取り出して欠けを生じるような
ことは1回も起こらなかった。
【0016】
【発明の効果】本発明によれば、光学素子の成形時に胴
型の内面と光学素子材料との融着が極めて容易にかつ確
実に防止される光学素子の成形装置が得られる。この成
形装置は、融着の防止手段を高価な材料を必要とせずに
設けることができ、簡単な操作で安価に製造することが
できる。したがって、本発明の成形装置を用いれば、不
良品の発生が極めて少なく、胴型を損傷することもな
く、品質のよい光学素子を効率よく提供することができ
る。
型の内面と光学素子材料との融着が極めて容易にかつ確
実に防止される光学素子の成形装置が得られる。この成
形装置は、融着の防止手段を高価な材料を必要とせずに
設けることができ、簡単な操作で安価に製造することが
できる。したがって、本発明の成形装置を用いれば、不
良品の発生が極めて少なく、胴型を損傷することもな
く、品質のよい光学素子を効率よく提供することができ
る。
【図1】本発明の一実施例を示す光学素子の成形装置を
用いた押圧成形前の成形部の状態を示す概略説明図であ
る。
用いた押圧成形前の成形部の状態を示す概略説明図であ
る。
【図2】図1に示した成形装置を用いた押圧成形中の成
形部の状態を示す概略説明図である。
形部の状態を示す概略説明図である。
【図3】胴型内面への炭素質薄膜の形成法の一実施態様
を示す概略説明図である。
を示す概略説明図である。
【図4】胴型内面への炭素質薄膜の形成法の別の実施態
様を示す概略説明図である。
様を示す概略説明図である。
【図5】胴型内面への炭素質薄膜の形成法の別の実施態
様を示す概略説明図である。
様を示す概略説明図である。
1 上型 2 下型 3 保護膜 4 胴型 5 炭素質薄膜 6 肉厚調整部材 7 光学素子材料 8 ヒーター 9 熱電対 12 黒鉛棒 13 スポイト 14 ろうそく
Claims (7)
- 【請求項1】 光学素子材料を加熱軟化させ、一対の成
形型及び胴型の間で押圧成形することにより光学素子を
成形する成形装置において、胴型内面の少なくとも、成
形時に光学素子材料と接触する部分に炭素質薄膜を設け
たことを特徴とする光学素子の成形装置。 - 【請求項2】 炭素質薄膜の膜厚が0.01μm〜2.
00μmである請求項1記載の光学素子の成形装置。 - 【請求項3】 請求項1記載の成形装置を製造するた
め、胴型内面の少なくとも、成形時に光学素子材料と接
触する部分に炭素質薄膜を形成することを特徴とする光
学素子の成形装置の製造方法。 - 【請求項4】 炭素質薄膜の膜厚を0.01μm〜2.
00μmとする請求項3記載の光学素子の成形装置の製
造方法。 - 【請求項5】 炭素質薄膜の形成を、カーボンブラッ
ク、黒鉛、木炭などを押し当てこすりつけるか、又は蒸
着によるか、又は油あるいは他の有機物を塗布し、これ
を高温処理して煤化することによって行う請求項3記載
の光学素子の成形装置の製造方法。 - 【請求項6】 炭素質薄膜の形成を、ろうそく、木材な
ど、燃焼により煤を発生する材料の燃焼によって行う請
求項5記載の光学素子の成形装置の製造方法。 - 【請求項7】 請求項1記載の成形装置を用いて光学素
子を成形することを特徴とする光学素子の成形方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29262992A JPH06144849A (ja) | 1992-10-30 | 1992-10-30 | 光学素子の成形装置、その製造方法及び光学素子の成形方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29262992A JPH06144849A (ja) | 1992-10-30 | 1992-10-30 | 光学素子の成形装置、その製造方法及び光学素子の成形方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06144849A true JPH06144849A (ja) | 1994-05-24 |
Family
ID=17784276
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29262992A Pending JPH06144849A (ja) | 1992-10-30 | 1992-10-30 | 光学素子の成形装置、その製造方法及び光学素子の成形方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06144849A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5805361A (en) * | 1995-07-18 | 1998-09-08 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Optical element, optical element molding die, and method of molding the optical element |
| JP2008223092A (ja) * | 2007-03-13 | 2008-09-25 | Hoya Corp | モールドプレス成形型、及びその製造方法、並びにガラス光学素子の製造方法 |
| KR20170017507A (ko) * | 2015-08-07 | 2017-02-15 | 박시환 | 흑기와 제조방법 |
-
1992
- 1992-10-30 JP JP29262992A patent/JPH06144849A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5805361A (en) * | 1995-07-18 | 1998-09-08 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Optical element, optical element molding die, and method of molding the optical element |
| JP2008223092A (ja) * | 2007-03-13 | 2008-09-25 | Hoya Corp | モールドプレス成形型、及びその製造方法、並びにガラス光学素子の製造方法 |
| KR20170017507A (ko) * | 2015-08-07 | 2017-02-15 | 박시환 | 흑기와 제조방법 |
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