JPH06148403A - 光学機器用部材 - Google Patents

光学機器用部材

Info

Publication number
JPH06148403A
JPH06148403A JP32467192A JP32467192A JPH06148403A JP H06148403 A JPH06148403 A JP H06148403A JP 32467192 A JP32467192 A JP 32467192A JP 32467192 A JP32467192 A JP 32467192A JP H06148403 A JPH06148403 A JP H06148403A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
film
black
coating
ticn
light
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP32467192A
Other languages
English (en)
Inventor
Toshio Omura
敏夫 大村
Yuji Chiba
祐二 千葉
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Metal Mining Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Metal Mining Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Metal Mining Co Ltd filed Critical Sumitomo Metal Mining Co Ltd
Priority to JP32467192A priority Critical patent/JPH06148403A/ja
Publication of JPH06148403A publication Critical patent/JPH06148403A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 高出力光に対して充分な耐熱性を有する黒色
被膜付き光学機器用部材を提供する。 【構成】 光学機器用部材表面にTiCN膜を施す。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、光の反射、散乱を防止
する膜が施された光学機器用部材に関し、特にその膜の
改善に関するものである。
【0002】
【従来の技術】光学機器において、その光路を構成する
部品の表面で光が反射、散乱した光がその支持部材、マ
スキング部材、光路をカバーする部材等でさらに反射、
散乱して光路に戻ることがあると逆光となり、目的の像
以外の像(これをゴースト像と称している)が生じた
り、目的とする像が不鮮明となる不具合が起こるので、
これら支持部材、マスキング部材、カバー部材等の表面
に光の反射、散乱を防止する黒色被膜を施すのが一般的
である。
【0003】そのような皮膜として従来、艶消しの有機
高分子系塗料が用いられてきた。ところがこの膜は高温
環境に適さないことはもちろんであるが、用いる波長に
よっては高分子の結合が切断されて劣化するという問題
もある。
【0004】近年、有機高分子系塗料に替わる無機質の
被膜が種々試みられている。そのような被膜は例えば黒
色を有するアモルファスカーボン、黒色のアルマイト、
黒色Crめっき等である。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
【0006】しかるに、上記例示の無機質被膜は何れも
高出力レーザ光に用いると光の吸収による発熱により酸
化が起こり、変色、劣化するという欠点がまだある。
【0007】本発明の目的は高出力光に対して充分な耐
熱性を有する黒色被膜付き光学機器用部材を提供するこ
とにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
本発明の光学機器用部材は、表面にTiCN膜が施され
ている点に特徴がある。
【0009】
【作用】TiNは金色を呈する物質として知られている
が、TiNの窒素の一部が炭素に置換したTiCNは紫
系の色を呈し、TiCNについて炭素量が増えるに従い
紫色は濃くなり、黒色を呈するようになることから選択
された。
【0010】この黒色膜は大気中にて500℃までの加
熱試験を行っても色の変化は認められず比較的安定な被
膜と考えられる。また、この500℃の加熱試験後の被
膜のX線回折測定により酸化物の相は認められなかっ
た。この耐熱性はレーザ光使用の光学機器にとって極め
て好ましい。
【0011】このような黒色のTiCN膜の形成はイオ
ンプレーティング法、CVD法、スパッタリング法など
の公知の方法を用いて成膜しても良いが、強固な付着力
の被膜が作製可能なイオンプレーティング法が特に望ま
しい。
【0012】イオンプレーティング法によるTiCN膜
の製法としては、例えば真空アーク放電型イオンプレー
ティング装置を用い、Ti金属をターゲットとし、反応
ガスとしてメタン、エチレン及びアセチレンのうち一種
類またはこれらの混合ガスと窒素ガスとの混合ガスを原
料とし、これらの混合ガスを流量比(CH4 またはC2
H4 またはC2 H2 またはこれらの混合ガス)/N2 =
0.2〜0.7で、反応槽に導入し、反応ガス圧を1×
10-3から1×10-1Torrとし、被処理物に0〜−
20Vのバイアス電圧を印加し、0.05〜10μm製
膜する方法が適用できる。
【0013】
【実施例】実施例…エキシマレーザの光学系で使用され
るSKS31−P製のマスキングブレードの表面に、真
空アーク放電式にてTiCN被膜を形成させた。被膜の
形成は、Tiを蒸発源とし、反応ガスとして窒素ガスと
エチレンを用い、N2 :C2 H2 =5:1の流量比で、
圧力が30×10-3Torrとなるように全流量を調節
した。蒸発源のTiターゲットには70Aのアーク放電
電力を流し、基材のマスキングブレードに印加するバイ
アス電圧はOVとした。この条件にて、TiCNの被覆
を1時間行い、3μmの膜厚の黒色被膜を得た。この被
膜の組成分析では、原子比でTi=50%、C=12
%、N=38%であった。TiCN被覆マスキングブレ
ードの、エキシマレーザ光(波長248nm)でのO次
の散乱光の反射率を測定したところ、5%となった。
【0014】この、マスキングブレードをエキシマレー
ザ光を使用したレジストパターン焼付装置に組み込み、
24時間使用した。この時のマスキングブレードに照射
される紫外線エネルギー密度は、15mJ/cm2 とな
る。
【0015】使用後の反射率を再度測定したところ、使
用前と同じ5%となり、熱による変質の殆ど無いことが
示された。
【0016】比較例…実施例と同じマスキングブレード
に黒色Crめっきを施して、248nmでのO次の散乱
光の反射率を測定したところ0.1%となった。
【0017】この、マスキングブレードを実施例で用い
たエキシマレーザ光を使用したレジストパターン焼付装
置に組み込み、24時間、使用した。使用後のマスキン
グブレードの表面被膜は変色し、一部剥離が発生してい
た。
【0018】
【発明の効果】本発明によるTiCN膜付き光学機器用
部材を使用すると、エキシマレーザなどの高出力レーザ
を使用する光学系でも、被膜の変質が進行せず、長時間
にわたって光の散乱防止の効果が得られる。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 表面にTiCN膜が施されてなる光学機
    器用部材。
JP32467192A 1992-11-11 1992-11-11 光学機器用部材 Pending JPH06148403A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP32467192A JPH06148403A (ja) 1992-11-11 1992-11-11 光学機器用部材

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP32467192A JPH06148403A (ja) 1992-11-11 1992-11-11 光学機器用部材

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH06148403A true JPH06148403A (ja) 1994-05-27

Family

ID=18168436

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP32467192A Pending JPH06148403A (ja) 1992-11-11 1992-11-11 光学機器用部材

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH06148403A (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2008121440A3 (en) * 2007-03-30 2008-12-04 Gen Electric Thermo-optically functional compositions, systems and methods of making
US8278823B2 (en) 2007-03-30 2012-10-02 General Electric Company Thermo-optically functional compositions, systems and methods of making
CN102995008A (zh) * 2012-12-24 2013-03-27 常州大学 以TiO2、二甲胺、炭黑和甲烷、氮气为组元的激光诱导金属表层复合TiCN强化方法
CN102995007A (zh) * 2012-12-24 2013-03-27 常州大学 以TiO2、异丙胺、炭黑、乙炔和氮气为组元的激光诱导金属表层复合TiCN强化方法

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2008121440A3 (en) * 2007-03-30 2008-12-04 Gen Electric Thermo-optically functional compositions, systems and methods of making
US8278823B2 (en) 2007-03-30 2012-10-02 General Electric Company Thermo-optically functional compositions, systems and methods of making
CN102995008A (zh) * 2012-12-24 2013-03-27 常州大学 以TiO2、二甲胺、炭黑和甲烷、氮气为组元的激光诱导金属表层复合TiCN强化方法
CN102995007A (zh) * 2012-12-24 2013-03-27 常州大学 以TiO2、异丙胺、炭黑、乙炔和氮气为组元的激光诱导金属表层复合TiCN强化方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4388400A (en) Heat-mode recording material
Banks et al. Ion beam sputter‐deposited diamondlike films
Louis et al. Progress in Mo/Si multilayer coating technology for EUVL optics
JPS58500634A (ja) 半導体表面上への金属の放射線誘起堆積
JPS6034897A (ja) 書替可能光記録媒体
Fendrych et al. Cu3N films prepared by the low-pressure rf supersonic plasma jet reactor: Structure and optical properties
JPS62211659A (ja) 電子写真感光体
US5344501A (en) Solar cell
Martin et al. Optical properties of TiNx produced by reactive evaporation and reactive ion-beam sputtering
AU1485792A (en) Process for forming metal film, and aluminum film coated matter
Braun et al. Mo/Si-multilayers for EUV applications prepared by Pulsed Laser Deposition (PLD)
KR910003044B1 (ko) 광학 기록 소자
Von Klüber Production of a high resolving power by means of multilayer coatings
Lee The stability of thin tellurium and tellurium alloy films for optical data storage: II
JPH06174903A (ja) 光学機器用部材
Manoravi et al. Pulsed laser ablation—thin film deposition of polyethylene oxide
Youn et al. Absolute reflectivity measurements of multilayer mirrors in the soft x-ray region
JP2936103B2 (ja) 酸化アルミニウム薄膜
JPH05188205A (ja) 光学機器用部材
JPS588694A (ja) 光学的情報記録媒体の製造方法
Di Giulio et al. Compositional and optical characterization of rf sputter deposited TeOx thin films for optical disk application
KR100256354B1 (ko) 금속화합물 박막의 제조방법
JPH06122961A (ja) 黒色Al2 O3 膜およびその製造方法
Burton Removable volatile protective coatings for aluminised mirrors used in far-ultraviolet space astronomy
EP0339889A2 (en) Optical recording media and process for preparing same