JPH06148429A - 複合位相差フィルムの製造方法 - Google Patents
複合位相差フィルムの製造方法Info
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- JPH06148429A JPH06148429A JP4295114A JP29511492A JPH06148429A JP H06148429 A JPH06148429 A JP H06148429A JP 4295114 A JP4295114 A JP 4295114A JP 29511492 A JP29511492 A JP 29511492A JP H06148429 A JPH06148429 A JP H06148429A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】白黒レベルに優れ、良好な視野角特性を有し、
コストが低く、軽量な複合位相差フィルムの製造方法を
提供する。 【構成】フィルム面内に光学軸を有し、かつ正の屈折率
異方性を有する、熱可塑性高分子からなる一軸配向した
位相差フィルム上に、ネマチック相またはスメクチック
相を示す高分子液晶を成膜し、該高分子液晶の液晶相/
等方相の転移温度以上の温度で熱処理することを特徴と
する複合位相差フィルムの製造方法、およびネマチック
相またはスメクチック相を示す高分子液晶を、該高分子
液晶の液晶相/等方相の転移温度以上のガラス転移温度
を有する基材上に成膜し、該液晶相/等方相の転移温度
以上の温度で熱処理し、該高分子液晶が成膜された基材
と、フィルム面内に光学軸を有し、かつ正の屈折率異方
性を有する、熱可塑性高分子からなる一軸配向した位相
差フィルムとを積層することを特徴とする複合位相差フ
ィルムの製造方法。
コストが低く、軽量な複合位相差フィルムの製造方法を
提供する。 【構成】フィルム面内に光学軸を有し、かつ正の屈折率
異方性を有する、熱可塑性高分子からなる一軸配向した
位相差フィルム上に、ネマチック相またはスメクチック
相を示す高分子液晶を成膜し、該高分子液晶の液晶相/
等方相の転移温度以上の温度で熱処理することを特徴と
する複合位相差フィルムの製造方法、およびネマチック
相またはスメクチック相を示す高分子液晶を、該高分子
液晶の液晶相/等方相の転移温度以上のガラス転移温度
を有する基材上に成膜し、該液晶相/等方相の転移温度
以上の温度で熱処理し、該高分子液晶が成膜された基材
と、フィルム面内に光学軸を有し、かつ正の屈折率異方
性を有する、熱可塑性高分子からなる一軸配向した位相
差フィルムとを積層することを特徴とする複合位相差フ
ィルムの製造方法。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は液晶表示素子などに用い
られる位相差フィルムの新規な製造方法に関するもので
ある。
られる位相差フィルムの新規な製造方法に関するもので
ある。
【0002】
【従来の技術】位相差フィルムは光学的均質性と耐久性
を備え、一軸配向性を有する高分子フィルムであって、
液晶表示素子の表示品質を向上させるための光学補償板
として一般に用いられている。位相差フィルムを用いた
スーパーツイストネマチック(以下STNということが
ある)型液晶表示素子は、軽い、薄い、安価である等の
長所を持つ反面、視野角特性が悪い、白黒のレベルが劣
っているなどの短所を有していた。これらの短所は位相
差フィルムを2枚積層するなどの方法によりかなり改良
されてきたが、視野角特性についてはいまだ満足できる
レベルに達していなかった。
を備え、一軸配向性を有する高分子フィルムであって、
液晶表示素子の表示品質を向上させるための光学補償板
として一般に用いられている。位相差フィルムを用いた
スーパーツイストネマチック(以下STNということが
ある)型液晶表示素子は、軽い、薄い、安価である等の
長所を持つ反面、視野角特性が悪い、白黒のレベルが劣
っているなどの短所を有していた。これらの短所は位相
差フィルムを2枚積層するなどの方法によりかなり改良
されてきたが、視野角特性についてはいまだ満足できる
レベルに達していなかった。
【0003】液晶表示素子の視野角特性は表示用液晶セ
ルの複屈折性の角度依存性のみならず、位相差フィルム
のレターデーションの角度依存性に大きく相関してお
り、従来の位相差フィルムではレターデーションの角度
変化が小さいほど好ましいことが知られている。
ルの複屈折性の角度依存性のみならず、位相差フィルム
のレターデーションの角度依存性に大きく相関してお
り、従来の位相差フィルムではレターデーションの角度
変化が小さいほど好ましいことが知られている。
【0004】特開平2−73327号公報および特開平
2−105111号公報には、正の屈折率異方性を有す
る一軸配向性の複屈折体(表示用液晶セル)の背景色の
角度変化を低減するために、面内の屈折率は等方的であ
るが、厚み方向の屈折率が面内の屈折率より大きいよう
な複屈折性層を用いる方法が開示されている。そのよう
な屈折率異方性を有する材料として、ホメオトロピック
(垂直)配向させた補償用液晶セルが例示されている。
2−105111号公報には、正の屈折率異方性を有す
る一軸配向性の複屈折体(表示用液晶セル)の背景色の
角度変化を低減するために、面内の屈折率は等方的であ
るが、厚み方向の屈折率が面内の屈折率より大きいよう
な複屈折性層を用いる方法が開示されている。そのよう
な屈折率異方性を有する材料として、ホメオトロピック
(垂直)配向させた補償用液晶セルが例示されている。
【0005】また、特開平2−256023号公報に
は、フイルム面の法線方向に光学軸を有するフィルムと
正の複屈折値を有する位相差フィルムとを利用すること
により、レターデーションの角度変化が低減でき、視野
角特性が改良された位相差フィルムが得られることが記
載されている。フィルムの法線方向に光学軸を有するフ
ィルムとして、光重合性の化合物と液晶モノマーを混合
し、電場の中で液晶モノマーの配向を維持しつつ、重合
を進行させ、法線方向の配向を固定する方法が挙げられ
ている。
は、フイルム面の法線方向に光学軸を有するフィルムと
正の複屈折値を有する位相差フィルムとを利用すること
により、レターデーションの角度変化が低減でき、視野
角特性が改良された位相差フィルムが得られることが記
載されている。フィルムの法線方向に光学軸を有するフ
ィルムとして、光重合性の化合物と液晶モノマーを混合
し、電場の中で液晶モノマーの配向を維持しつつ、重合
を進行させ、法線方向の配向を固定する方法が挙げられ
ている。
【0006】特開平4−16916号公報には、厚み方
向の屈折率が面内の屈折率より大きいような複屈折層を
用い、該複屈折層が垂直配向した高分子液晶からなるも
のが開示されている。高分子液晶を垂直配向させる方法
については、液晶温度に加熱したのち、厚み方向に電場
または磁場を印加する方法、およびシラン化合物のよう
な垂直配向剤で表面を処理した2枚の基材で挟み込み、
液晶温度で垂直配向させる方法が開示され、高分子の延
伸によって得られる位相差フィルムと組み合わせること
により視野角特性に優れた位相差フィルムが得られるこ
とが示されている。
向の屈折率が面内の屈折率より大きいような複屈折層を
用い、該複屈折層が垂直配向した高分子液晶からなるも
のが開示されている。高分子液晶を垂直配向させる方法
については、液晶温度に加熱したのち、厚み方向に電場
または磁場を印加する方法、およびシラン化合物のよう
な垂直配向剤で表面を処理した2枚の基材で挟み込み、
液晶温度で垂直配向させる方法が開示され、高分子の延
伸によって得られる位相差フィルムと組み合わせること
により視野角特性に優れた位相差フィルムが得られるこ
とが示されている。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、フィル
ムの法線方向に光学軸を有するフィルムと位相差フィル
ムと組み合わせた場合、フィルムの法線方向に光学軸を
もたせるために、配向緩和の大きな液晶モノマーの配向
を維持しつつ、光重合を行ったり、電場、磁場などの外
場を必要としたり、疎水化した2枚の基板に挟み込み、
剥離する操作を必要とした。このように、従来の方法で
は、工業的に有利な製造方法でないという問題があっ
た。
ムの法線方向に光学軸を有するフィルムと位相差フィル
ムと組み合わせた場合、フィルムの法線方向に光学軸を
もたせるために、配向緩和の大きな液晶モノマーの配向
を維持しつつ、光重合を行ったり、電場、磁場などの外
場を必要としたり、疎水化した2枚の基板に挟み込み、
剥離する操作を必要とした。このように、従来の方法で
は、工業的に有利な製造方法でないという問題があっ
た。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明者らは上記の問題
を解決するために鋭意検討した結果、一軸配向した位相
差フィルム上に、ネマチック相またはスメクチック相を
示す高分子液晶を成膜し、液晶相/等方相の転移温度以
上の温度で熱処理することにより、白黒レベルに優れ、
良好な視野角特性を有し、しかも簡素な製造工程で安価
で軽量な複合位相差フィルムが得られることを見出して
本発明を完成するに至った。
を解決するために鋭意検討した結果、一軸配向した位相
差フィルム上に、ネマチック相またはスメクチック相を
示す高分子液晶を成膜し、液晶相/等方相の転移温度以
上の温度で熱処理することにより、白黒レベルに優れ、
良好な視野角特性を有し、しかも簡素な製造工程で安価
で軽量な複合位相差フィルムが得られることを見出して
本発明を完成するに至った。
【0009】すなわち本発明は、(1)フィルム面内に
光学軸を有し、かつ正の屈折率異方性を有する、熱可塑
性高分子からなる一軸配向した位相差フィルム上に、ネ
マチック相またはスメクチック相を示す高分子液晶を成
膜し、該高分子液晶の液晶相/等方相の転移温度以上の
温度で熱処理することを特徴とする複合位相差フィルム
の製造方法、(2)ネマチック相またはスメクチック相
を示す高分子液晶を、該高分子液晶の液晶相/等方相の
転移温度以上のガラス転移温度を有する基材上に成膜
し、該液晶相/等方相の転移温度以上の温度で熱処理
し、該高分子液晶が成膜された基材と、フィルム面内に
光学軸を有し、かつ正の屈折率異方性を有する、熱可塑
性高分子からなる一軸配向した位相差フィルムとを積層
することを特徴とする複合位相差フィルムの製造方法、
(3)基材が偏光フィルムであることを特徴とする
(2)記載の複合位相差フィルムの製造方法に関するも
のである。
光学軸を有し、かつ正の屈折率異方性を有する、熱可塑
性高分子からなる一軸配向した位相差フィルム上に、ネ
マチック相またはスメクチック相を示す高分子液晶を成
膜し、該高分子液晶の液晶相/等方相の転移温度以上の
温度で熱処理することを特徴とする複合位相差フィルム
の製造方法、(2)ネマチック相またはスメクチック相
を示す高分子液晶を、該高分子液晶の液晶相/等方相の
転移温度以上のガラス転移温度を有する基材上に成膜
し、該液晶相/等方相の転移温度以上の温度で熱処理
し、該高分子液晶が成膜された基材と、フィルム面内に
光学軸を有し、かつ正の屈折率異方性を有する、熱可塑
性高分子からなる一軸配向した位相差フィルムとを積層
することを特徴とする複合位相差フィルムの製造方法、
(3)基材が偏光フィルムであることを特徴とする
(2)記載の複合位相差フィルムの製造方法に関するも
のである。
【0010】本発明によって、屈折率の異方性を制御し
た複合位相差フィルム、特にフィルム面に垂直方向の屈
折率を高めた複合位相差フィルムを製造することができ
る。すなわち、フィルム面内に光学軸を有し、正の屈折
率異方性を有する一軸配向した位相差フィルムをA層、
ネマチック相またはスメクチック相を示す高分子液晶層
をB層、該高分子液晶の液晶相/等方相転移温度以上の
ガラス転移温度を有する基材をC層としたとき、A層上
にB層を直接設けた後、高分子液晶の液晶相/等方相転
移温度以上の温度で熱処理すること、あるいはC層上に
B層を設け、該熱処理を行った後、A層と積層すること
により、フィルム面に垂直方向の屈折率の値がフィルム
面内の屈折率の最大値と最小値の間の値とすることがで
きる。C層上にB層を設けたもののみでは、C層の光学
的な性質が実質的に等方性の場合、フィルム面に垂直方
向の屈折率がフィルム面内の屈折率の値より大きくな
る。
た複合位相差フィルム、特にフィルム面に垂直方向の屈
折率を高めた複合位相差フィルムを製造することができ
る。すなわち、フィルム面内に光学軸を有し、正の屈折
率異方性を有する一軸配向した位相差フィルムをA層、
ネマチック相またはスメクチック相を示す高分子液晶層
をB層、該高分子液晶の液晶相/等方相転移温度以上の
ガラス転移温度を有する基材をC層としたとき、A層上
にB層を直接設けた後、高分子液晶の液晶相/等方相転
移温度以上の温度で熱処理すること、あるいはC層上に
B層を設け、該熱処理を行った後、A層と積層すること
により、フィルム面に垂直方向の屈折率の値がフィルム
面内の屈折率の最大値と最小値の間の値とすることがで
きる。C層上にB層を設けたもののみでは、C層の光学
的な性質が実質的に等方性の場合、フィルム面に垂直方
向の屈折率がフィルム面内の屈折率の値より大きくな
る。
【0011】前記の屈折率の異方性を得るためには、高
分子液晶が正の誘電率異方性を有するときには、高分子
液晶層中で分子軸は層面に垂直方向に平均として配向し
ている(以下、このような配向をホメオトロピック配向
ということがある)ことが必要である。このためには高
分子液晶層を設けるA層またはC層の表面に垂直配向処
理を行うことが好ましい。ここで、垂直配向処理として
は、表面を物理的または化学的に親水化または疎水化す
る方法が挙げられる。
分子液晶が正の誘電率異方性を有するときには、高分子
液晶層中で分子軸は層面に垂直方向に平均として配向し
ている(以下、このような配向をホメオトロピック配向
ということがある)ことが必要である。このためには高
分子液晶層を設けるA層またはC層の表面に垂直配向処
理を行うことが好ましい。ここで、垂直配向処理として
は、表面を物理的または化学的に親水化または疎水化す
る方法が挙げられる。
【0012】本発明に用いる高分子液晶としては、液晶
状態でネマチック相またはスメクチック相をとる高分子
液晶であれば主鎖型高分子液晶または側鎖型高分子液晶
いずれを用いてもよい。液晶相/等方相の転移温度があ
まりに高いと用いる基材のガラス転移温度が高くなり、
工業的に利用できる基材が制限されるので、転移温度の
低い側鎖型高分子液晶が好ましい。
状態でネマチック相またはスメクチック相をとる高分子
液晶であれば主鎖型高分子液晶または側鎖型高分子液晶
いずれを用いてもよい。液晶相/等方相の転移温度があ
まりに高いと用いる基材のガラス転移温度が高くなり、
工業的に利用できる基材が制限されるので、転移温度の
低い側鎖型高分子液晶が好ましい。
【0013】主鎖型高分子液晶の例としては、低分子液
晶と同様の構造を有するメソゲン基がエステル結合によ
り連なった全芳香族ポリエステル系高分子液晶、メソゲ
ン基とポリメチレン、ポリエチレンオキサイド、ポリシ
ロキサンなどの屈曲鎖が交互に結合し屈曲性が付与され
た主鎖からなる半剛直性ポリエステル系高分子液晶など
が挙げられる。主鎖型高分子液晶は、側鎖型高分子液晶
に比べ、液晶相/等方相の転移温度が高くなる傾向があ
る。したがって、高分子液晶を積層する基材などの耐熱
温度を考慮すると、該転移温度が高くとも200℃以下
になるように、好ましくは150℃以下になるように、
屈曲鎖を増やす、分子量を低く抑えるなどの操作を行う
ことが好ましい。
晶と同様の構造を有するメソゲン基がエステル結合によ
り連なった全芳香族ポリエステル系高分子液晶、メソゲ
ン基とポリメチレン、ポリエチレンオキサイド、ポリシ
ロキサンなどの屈曲鎖が交互に結合し屈曲性が付与され
た主鎖からなる半剛直性ポリエステル系高分子液晶など
が挙げられる。主鎖型高分子液晶は、側鎖型高分子液晶
に比べ、液晶相/等方相の転移温度が高くなる傾向があ
る。したがって、高分子液晶を積層する基材などの耐熱
温度を考慮すると、該転移温度が高くとも200℃以下
になるように、好ましくは150℃以下になるように、
屈曲鎖を増やす、分子量を低く抑えるなどの操作を行う
ことが好ましい。
【0014】側鎖型高分子液晶の例としては、骨格鎖の
メタクリル酸、アクリル酸、ポリメチレン、ポリエチレ
ンオキサイド、ポリシロキサンなどに、側鎖として屈曲
鎖からなるスぺーサーを介して、メソゲン基が結合した
ものが挙げられる。骨格鎖は直鎖以外に環状のものでも
使用できる。これらの中で、ホメオトピック配向を得や
すいなどの観点から、ポリシロキサン系の側鎖型高分子
液晶が好ましい。側鎖型高分子液晶は、液晶相/等方相
の転移温度が低くなる傾向があるため、実用的な転移温
度となるように、該転移温度が200℃以下となるよう
に、好ましくは170℃以下となるように、さらに好ま
しくは150℃以下となるようにスぺーサーの長さやメ
ソゲン基の種類を考慮することが好ましい。
メタクリル酸、アクリル酸、ポリメチレン、ポリエチレ
ンオキサイド、ポリシロキサンなどに、側鎖として屈曲
鎖からなるスぺーサーを介して、メソゲン基が結合した
ものが挙げられる。骨格鎖は直鎖以外に環状のものでも
使用できる。これらの中で、ホメオトピック配向を得や
すいなどの観点から、ポリシロキサン系の側鎖型高分子
液晶が好ましい。側鎖型高分子液晶は、液晶相/等方相
の転移温度が低くなる傾向があるため、実用的な転移温
度となるように、該転移温度が200℃以下となるよう
に、好ましくは170℃以下となるように、さらに好ま
しくは150℃以下となるようにスぺーサーの長さやメ
ソゲン基の種類を考慮することが好ましい。
【0015】ポリシロキサン系の側鎖型高分子液晶とし
ては、下記化1から14に示される繰り返し単位を有す
る直鎖状もしくは環状の高分子液晶が例示される。な
お、下記化1から14のいずれにおいても、繰り返し単
位数nは2〜6の整数である。
ては、下記化1から14に示される繰り返し単位を有す
る直鎖状もしくは環状の高分子液晶が例示される。な
お、下記化1から14のいずれにおいても、繰り返し単
位数nは2〜6の整数である。
【0016】
【化1】
【0017】
【化2】
【0018】
【化3】
【0019】
【化4】
【0020】
【化5】
【0021】
【化6】
【0022】
【化7】
【0023】
【化8】
【0024】
【化9】
【0025】
【化10】
【0026】
【化11】
【0027】
【化12】
【0028】
【化13】
【0029】
【化14】
【0030】これら高分子液晶の合成方法としては、ポ
リ(メチルシロキサン)に該側鎖のビニル誘導体を付加
する方法が例示される。
リ(メチルシロキサン)に該側鎖のビニル誘導体を付加
する方法が例示される。
【0031】これら高分子液晶の結晶相/液晶相の転移
温度については、特に制限がなく、室温以下の転移温度
でも使用できる。
温度については、特に制限がなく、室温以下の転移温度
でも使用できる。
【0032】本発明の製造方法で得られる複合位相差フ
ィルムに用いる正の屈折率異方性を有する熱可塑性高分
子としては、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリア
リレート、ポリエーテルスルホン、2酢酸セルロース、
3酢酸セルロース、ポリビニルアルコール、ポリエチレ
ンビニルアルコール共重合体、ポリエチレンテレフタレ
ートなどが挙げられる。特にこれら正の屈折率異方性を
有する熱可塑性高分子を高分子液晶の基材として使用す
る場合には、高分子液晶の熱処理を行う温度領域でレタ
ーデーションの変化が起こらない、ガラス転移温度が1
00℃以上の熱可塑性エンジニアリング高分子が好まし
い。たとえば、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリ
エーテルスルホンが好ましい。
ィルムに用いる正の屈折率異方性を有する熱可塑性高分
子としては、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリア
リレート、ポリエーテルスルホン、2酢酸セルロース、
3酢酸セルロース、ポリビニルアルコール、ポリエチレ
ンビニルアルコール共重合体、ポリエチレンテレフタレ
ートなどが挙げられる。特にこれら正の屈折率異方性を
有する熱可塑性高分子を高分子液晶の基材として使用す
る場合には、高分子液晶の熱処理を行う温度領域でレタ
ーデーションの変化が起こらない、ガラス転移温度が1
00℃以上の熱可塑性エンジニアリング高分子が好まし
い。たとえば、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリ
エーテルスルホンが好ましい。
【0033】これらの熱可塑性高分子からなる原反フィ
ルムの製造方法としては、溶剤キャスト法、押出成形
法、プレス成形法などの成形方法を用いればよい。該原
反フィルムを、フィルム面内に光学軸を持つ一軸配向し
た位相差フィルムとする延伸方法としては、テンター延
伸法、ロール間延伸法、ロール間圧縮延伸法などが例示
される。均質な位相差フィルムを得るには、溶剤キャス
ト法により成膜したフィルムをテンター延伸法により延
伸することが好ましい。
ルムの製造方法としては、溶剤キャスト法、押出成形
法、プレス成形法などの成形方法を用いればよい。該原
反フィルムを、フィルム面内に光学軸を持つ一軸配向し
た位相差フィルムとする延伸方法としては、テンター延
伸法、ロール間延伸法、ロール間圧縮延伸法などが例示
される。均質な位相差フィルムを得るには、溶剤キャス
ト法により成膜したフィルムをテンター延伸法により延
伸することが好ましい。
【0034】本発明に用いられる高分子液晶をホメオト
ロピック配向させるための基材としては、用いる高分子
液晶の液晶相/等方相の転移温度以上のガラス転移温度
を有するものであり、光学的に透明であれば特に制限は
なく、用いる高分子液晶により適宜選択すればよい。そ
の形状は液晶ディスプレイセルに接して使用されること
から、板状、フィルム状のものが一般的である。また、
ホメオトロピック配向の容易さから、親水性もしくは疎
水性の基材が好ましい。親水性の基材としては、水との
接触角が60°以下、より好ましくは50°以下の基材
が好適に使用される。また疎水性の基材としては、水と
の接触角が85°以上、より好ましくは90°以上の基
材が好適に使用される。これらの中でも特に親水性の基
材がホメオトロピック配向を得やすいので好ましい。
ロピック配向させるための基材としては、用いる高分子
液晶の液晶相/等方相の転移温度以上のガラス転移温度
を有するものであり、光学的に透明であれば特に制限は
なく、用いる高分子液晶により適宜選択すればよい。そ
の形状は液晶ディスプレイセルに接して使用されること
から、板状、フィルム状のものが一般的である。また、
ホメオトロピック配向の容易さから、親水性もしくは疎
水性の基材が好ましい。親水性の基材としては、水との
接触角が60°以下、より好ましくは50°以下の基材
が好適に使用される。また疎水性の基材としては、水と
の接触角が85°以上、より好ましくは90°以上の基
材が好適に使用される。これらの中でも特に親水性の基
材がホメオトロピック配向を得やすいので好ましい。
【0035】より具体的には、親水性の基材としてはガ
ラス板;ボリビニルアルコールやエチレン- 酢酸ビニル
共重合体ケン化物などの親水性の高分子フィルム;3酢
酸セルロースや2酢酸セロースフィルムの表面をケン化
したもの;高分子フィルムを親水化したものなどが使用
できる。親水化する高分子フィルムとしてはポリカーボ
ネート、ポリスルホン、ポリアリレート、ポリエーテル
スルホン、3酢酸セルロース、2酢酸セルロース、ポリ
エチレンテレタレートなどが例示される。親水化処理と
しては、特に制限はないが、酸素プラズマによる処理や
親水性の高分子を表面に塗布する方法、界面活性剤を塗
布する方法などが例示される。
ラス板;ボリビニルアルコールやエチレン- 酢酸ビニル
共重合体ケン化物などの親水性の高分子フィルム;3酢
酸セルロースや2酢酸セロースフィルムの表面をケン化
したもの;高分子フィルムを親水化したものなどが使用
できる。親水化する高分子フィルムとしてはポリカーボ
ネート、ポリスルホン、ポリアリレート、ポリエーテル
スルホン、3酢酸セルロース、2酢酸セルロース、ポリ
エチレンテレタレートなどが例示される。親水化処理と
しては、特に制限はないが、酸素プラズマによる処理や
親水性の高分子を表面に塗布する方法、界面活性剤を塗
布する方法などが例示される。
【0036】疎水性の基材としてはポリテトラフルオロ
エチレン、ポリフッ化ビニリデンなどのフッ素系高分子
フィルム;ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリアリ
レート、ポリエーテルスルホン、3酢酸セルロース、2
酢酸セルロース、ポリエチレンテレフタレートなどの高
分子フイルム;ポリビニルアルコールやエチレン−酢酸
ビニル共重合体ケン化物などの親水性の高分子フィルム
を疎水化処理したものが例示される。疎水化処理として
はフッ素系高分子を塗布する方法、レシチンなどの界面
活性剤を塗布する方法、シランカップリング剤、チタン
カップリング剤などを反応させる方法が例示される。こ
れらは用いる高分子フィルムや高分子液晶により適宜選
択される。
エチレン、ポリフッ化ビニリデンなどのフッ素系高分子
フィルム;ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリアリ
レート、ポリエーテルスルホン、3酢酸セルロース、2
酢酸セルロース、ポリエチレンテレフタレートなどの高
分子フイルム;ポリビニルアルコールやエチレン−酢酸
ビニル共重合体ケン化物などの親水性の高分子フィルム
を疎水化処理したものが例示される。疎水化処理として
はフッ素系高分子を塗布する方法、レシチンなどの界面
活性剤を塗布する方法、シランカップリング剤、チタン
カップリング剤などを反応させる方法が例示される。こ
れらは用いる高分子フィルムや高分子液晶により適宜選
択される。
【0037】本発明の疎水化処理に利用されるシランカ
ップリング剤は炭化水素基、フッ化炭化水素基を有して
いるものであれば、特に制限はない。具体的にはトーレ
シリコーン社製商品名AY43−02l,SZ603
0,SH6040,SZ6070,SZ6072,SZ
6300や信越化学工業(株)商品名KBM403,K
BM508あるいは旭硝子(株)製商品名F−6などが
例示される。
ップリング剤は炭化水素基、フッ化炭化水素基を有して
いるものであれば、特に制限はない。具体的にはトーレ
シリコーン社製商品名AY43−02l,SZ603
0,SH6040,SZ6070,SZ6072,SZ
6300や信越化学工業(株)商品名KBM403,K
BM508あるいは旭硝子(株)製商品名F−6などが
例示される。
【0038】高分子液晶がホメオトロピック配向する基
板として、上述の材料以外に、液晶表示素子に使われる
透明電極つきガラス板や、熱可塑性高分子からなる位相
差フィルム、偏光フィルムやこれらの表面の保護フィル
ムなども利用できる。更に、上記透明電極つきガラス
板、位相差フィルム、偏光フィルム、及びこれらの保護
フィルム表面に親水化処理、疎水化処理などの改質処理
を施したものも、基材として例示される。これらの中
で、位相差フィルム、偏光フィルムを基材として用いる
場合は、積層する工程が減少できるので、より工業的に
有利であり好ましい。
板として、上述の材料以外に、液晶表示素子に使われる
透明電極つきガラス板や、熱可塑性高分子からなる位相
差フィルム、偏光フィルムやこれらの表面の保護フィル
ムなども利用できる。更に、上記透明電極つきガラス
板、位相差フィルム、偏光フィルム、及びこれらの保護
フィルム表面に親水化処理、疎水化処理などの改質処理
を施したものも、基材として例示される。これらの中
で、位相差フィルム、偏光フィルムを基材として用いる
場合は、積層する工程が減少できるので、より工業的に
有利であり好ましい。
【0039】次に、基材への高分子液晶の成膜方法につ
いて説明する。本発明の高分子液晶の成膜方法としては
特に限定はないが、例えば高分子液晶が溶解可能で、か
つ基材の溶解もしくは膨潤が少ない溶媒に高分子液晶を
溶解した後、スピンコート法、ロールコート法、スプレ
ーコート法、プリント法、デッピング法などの公知の方
法で塗布する方法や、高分子液晶を固体相/液晶相の転
移温度以上に加熱し高分子液晶の粘度を低減した後、ロ
ールコート法、スプレーコート法、デッピング法など公
知の方法で塗布する方法が例示される。これらの塗布法
の中でも製造が容易である観点から、高分子液晶溶液を
用いるスピンコート法、ロールコート法、スプレーコー
ト法、デッピング法などが好ましい。
いて説明する。本発明の高分子液晶の成膜方法としては
特に限定はないが、例えば高分子液晶が溶解可能で、か
つ基材の溶解もしくは膨潤が少ない溶媒に高分子液晶を
溶解した後、スピンコート法、ロールコート法、スプレ
ーコート法、プリント法、デッピング法などの公知の方
法で塗布する方法や、高分子液晶を固体相/液晶相の転
移温度以上に加熱し高分子液晶の粘度を低減した後、ロ
ールコート法、スプレーコート法、デッピング法など公
知の方法で塗布する方法が例示される。これらの塗布法
の中でも製造が容易である観点から、高分子液晶溶液を
用いるスピンコート法、ロールコート法、スプレーコー
ト法、デッピング法などが好ましい。
【0040】得られる高分子液晶相の厚みは特に制限は
ないが、良好なホメオトロピック配向や良好な視野角特
性を得るためには0.1μm 以上10μm 以下であり、
好ましくは0. 2μm 以上5μm 以下、更に好ましくは
0. 5μm 以上3μm 以下である。
ないが、良好なホメオトロピック配向や良好な視野角特
性を得るためには0.1μm 以上10μm 以下であり、
好ましくは0. 2μm 以上5μm 以下、更に好ましくは
0. 5μm 以上3μm 以下である。
【0041】基材上に成膜した高分子液晶相の熱処理温
度としては、用いる高分子液晶の液晶相/等方相の転移
温度以上が好ましい。さらに、基材のガラス転移温度未
満が好ましい。用いる基材のガラス転移温度以上では基
材の変形が生じるなど製法上問題となる。これらの温度
範囲は用いる高分子液晶の転移温度、基材のガラス転移
点を考慮して、適宜選択できる。
度としては、用いる高分子液晶の液晶相/等方相の転移
温度以上が好ましい。さらに、基材のガラス転移温度未
満が好ましい。用いる基材のガラス転移温度以上では基
材の変形が生じるなど製法上問題となる。これらの温度
範囲は用いる高分子液晶の転移温度、基材のガラス転移
点を考慮して、適宜選択できる。
【0042】熱処理時間は、1分以上、好ましくは10
分以上がよい。熱処理における昇温速度、冷却速度につ
いては特に制限はないが、均一なホメオトロピック配向
した高分子液晶膜を得るためには、20℃/分以下、好
ましくは15℃/分以下、さらに好ましくは10℃/分
以下で冷却することが好ましい。
分以上がよい。熱処理における昇温速度、冷却速度につ
いては特に制限はないが、均一なホメオトロピック配向
した高分子液晶膜を得るためには、20℃/分以下、好
ましくは15℃/分以下、さらに好ましくは10℃/分
以下で冷却することが好ましい。
【0043】得られたホメオトロピック配向した高分子
液晶膜はそのままでも使用できるが、複合位相差フィル
ムを得るための、一軸配向した正の屈折率異方性を有す
る熱可塑性高分子からなる位相差フィルムとの積層など
の工程を効果的に行うために配向を固定化することを行
ってもよい。固定化法は、高分子液晶に重合性の官能基
を導入し、高分子液晶を加熱して配向後、官能基を重合
させる方法が例示される。
液晶膜はそのままでも使用できるが、複合位相差フィル
ムを得るための、一軸配向した正の屈折率異方性を有す
る熱可塑性高分子からなる位相差フィルムとの積層など
の工程を効果的に行うために配向を固定化することを行
ってもよい。固定化法は、高分子液晶に重合性の官能基
を導入し、高分子液晶を加熱して配向後、官能基を重合
させる方法が例示される。
【0044】本発明において補償用の高分子液晶を置く
位置について特に限定はなく、液晶ディスプレーの2枚
の偏光板の間であればどこでもよい。例えば偏光板、偏
光板の保護フィルム、透明電極、透明電極の裏側、位相
差フィルム、位相差フィルムの保護膜などの表面を基材
として高分子液晶をホメオトロピック配向してもよい
し、別の基板をもうけ高分子液晶をホメオトロピック配
向し偏光板、偏光板の保護フィルム、透明電極の裏側、
位相差フィルム、位相差フィルムの保護膜などと積層し
てもよい。
位置について特に限定はなく、液晶ディスプレーの2枚
の偏光板の間であればどこでもよい。例えば偏光板、偏
光板の保護フィルム、透明電極、透明電極の裏側、位相
差フィルム、位相差フィルムの保護膜などの表面を基材
として高分子液晶をホメオトロピック配向してもよい
し、別の基板をもうけ高分子液晶をホメオトロピック配
向し偏光板、偏光板の保護フィルム、透明電極の裏側、
位相差フィルム、位相差フィルムの保護膜などと積層し
てもよい。
【0045】得られた複合位相差フィルムの視野角特性
を評価するには、グラムトムソンプリズムを装備した偏
光分光光度計において、位相差フィルムの透過スペクト
ルを測定し、レターデーションを求める。もしくは偏光
顕微鏡においてセナルモンコンペンセーターを用いセナ
ルモンの複屈折測定法によりレターデーションを求め
る。次に正の屈折率異方性を有する位相差フィルムの場
合には、遅相軸を回転軸として傾斜させた状態で測定し
たレターデーション(R)と、水平な状態で測定したレ
ターデーション(R0 )の比(R/R0 )が1. 10と
なるときの傾斜角(θ1.10)を用い、この値をその位相
差フィルムの視野角と称する。レターデーションの角度
変化が小さいほどこの傾斜角(θ1.10)が大きく、すな
わち視野角特性が良いということにる。
を評価するには、グラムトムソンプリズムを装備した偏
光分光光度計において、位相差フィルムの透過スペクト
ルを測定し、レターデーションを求める。もしくは偏光
顕微鏡においてセナルモンコンペンセーターを用いセナ
ルモンの複屈折測定法によりレターデーションを求め
る。次に正の屈折率異方性を有する位相差フィルムの場
合には、遅相軸を回転軸として傾斜させた状態で測定し
たレターデーション(R)と、水平な状態で測定したレ
ターデーション(R0 )の比(R/R0 )が1. 10と
なるときの傾斜角(θ1.10)を用い、この値をその位相
差フィルムの視野角と称する。レターデーションの角度
変化が小さいほどこの傾斜角(θ1.10)が大きく、すな
わち視野角特性が良いということにる。
【0046】本発明によりホメオトロピック配向された
高分子液晶膜と、フィルム面内に光学軸を持つ一軸配向
した正の屈折率異方性を有する熱可塑性高分子からなる
位相差フィルムとを同時に用いることにより、視野角θ
1.10を改善することができる。
高分子液晶膜と、フィルム面内に光学軸を持つ一軸配向
した正の屈折率異方性を有する熱可塑性高分子からなる
位相差フィルムとを同時に用いることにより、視野角θ
1.10を改善することができる。
【0047】
【実施例】以下実施例により本発明を詳細に説明する
が、本発明はこれに限定されるものではない。 実施例1 下記化15で示されるユニットが5ユニット環状につな
がった高分子液晶を用いた。この高分子液晶の液晶相/
等方相転移温度は97℃であった。この高分子液晶をア
セトンに15wt% になるよう溶解した。ガラス基板を洗
剤(昭光通商(株)製クリンエース)で超音波洗浄した
ところ水に対する接触角は30. 3°であった。高分子
液晶溶液をガラス基板上にスピンコータ−(ミカサ
(株)製1H−DX)で塗布し、乾燥させた。得られた
高分子液晶薄膜は白濁していた。その後ガラス基板を1
30℃にしたホットプレート上で、10分間加熱した。
つぎにガラス基板をホットプレートにおいたままホット
プレートのスイッチを切り、ガラス基板を室温まで徐々
に4時間かけて冷却した。冷却後の高分子液晶はクロス
ニコル下で透明でレターデーションは0nmであった
が、高分子液晶膜を水平面から傾斜させるとレターデー
ションが現われたことから垂直配向したことがわかっ
た。このとき接針式の膜厚計(テンコール社製アルファ
ーステップAS−200)で高分子液晶層の厚みを測定
したところ2. 1μmであった。
が、本発明はこれに限定されるものではない。 実施例1 下記化15で示されるユニットが5ユニット環状につな
がった高分子液晶を用いた。この高分子液晶の液晶相/
等方相転移温度は97℃であった。この高分子液晶をア
セトンに15wt% になるよう溶解した。ガラス基板を洗
剤(昭光通商(株)製クリンエース)で超音波洗浄した
ところ水に対する接触角は30. 3°であった。高分子
液晶溶液をガラス基板上にスピンコータ−(ミカサ
(株)製1H−DX)で塗布し、乾燥させた。得られた
高分子液晶薄膜は白濁していた。その後ガラス基板を1
30℃にしたホットプレート上で、10分間加熱した。
つぎにガラス基板をホットプレートにおいたままホット
プレートのスイッチを切り、ガラス基板を室温まで徐々
に4時間かけて冷却した。冷却後の高分子液晶はクロス
ニコル下で透明でレターデーションは0nmであった
が、高分子液晶膜を水平面から傾斜させるとレターデー
ションが現われたことから垂直配向したことがわかっ
た。このとき接針式の膜厚計(テンコール社製アルファ
ーステップAS−200)で高分子液晶層の厚みを測定
したところ2. 1μmであった。
【0048】溶剤キャスト法により厚さ185μmのボ
リカーボネート原反フィルムを得た、ポリカーボネート
原反を縦一軸延伸法により184℃で2. 1倍に延伸し
た、得られたポリカーボネート位相差フィルムは、厚さ
98μm、R0 =572nm、視野角θ1.10=32. 2
°であった。
リカーボネート原反フィルムを得た、ポリカーボネート
原反を縦一軸延伸法により184℃で2. 1倍に延伸し
た、得られたポリカーボネート位相差フィルムは、厚さ
98μm、R0 =572nm、視野角θ1.10=32. 2
°であった。
【0049】ポリカーボネート位相差フィルムと、ガラ
ス基板上の高分子液晶膜を積層し、視野角を測定したと
ころ、45°以上であり、ポリカーボネート位相差フィ
ルム単独の場合に比べ、より視野角に優れた複合位相差
フィルムが得られた。このような視野角の拡大は高分子
液晶膜がホメオトロピック配向したことによることを示
している。
ス基板上の高分子液晶膜を積層し、視野角を測定したと
ころ、45°以上であり、ポリカーボネート位相差フィ
ルム単独の場合に比べ、より視野角に優れた複合位相差
フィルムが得られた。このような視野角の拡大は高分子
液晶膜がホメオトロピック配向したことによることを示
している。
【0050】
【化15】
【0051】比較例1 高分子液晶が塗布されたガラス基板を加熱しない以外は
実施例1と同様の方法により高分子液晶膜を得た。得ら
れた高分子液晶膜はクロスニコル下で観測すると微小な
シュリーレンテクスチャーが観測された。実施例1に示
した位相差フィルムと得られた高分子液晶膜とを積層し
複合位相差フィルムを得た。この複合位相差フィルムは
目視で観察すると白濁していた。視野角を測定すると3
2. 7°とほとんど変化しなかった。
実施例1と同様の方法により高分子液晶膜を得た。得ら
れた高分子液晶膜はクロスニコル下で観測すると微小な
シュリーレンテクスチャーが観測された。実施例1に示
した位相差フィルムと得られた高分子液晶膜とを積層し
複合位相差フィルムを得た。この複合位相差フィルムは
目視で観察すると白濁していた。視野角を測定すると3
2. 7°とほとんど変化しなかった。
【0052】実施例2 ガラス基板を酸素プラズマで処理したところ水に対する
接触角が5. 2°になった。親水化した以外は実施例1
と同様の方法で1. 1μmの厚みの高分子液晶膜を得
た。この高分子液晶膜と実施例1に示した位相差フィル
ムとを積層し複合位相差フィルムを得た。この複合位相
差フィルムの視野角を測定したところ45°以上と元の
位相差フィルムより視野角に優れた複合位相差フィルム
が得られた。
接触角が5. 2°になった。親水化した以外は実施例1
と同様の方法で1. 1μmの厚みの高分子液晶膜を得
た。この高分子液晶膜と実施例1に示した位相差フィル
ムとを積層し複合位相差フィルムを得た。この複合位相
差フィルムの視野角を測定したところ45°以上と元の
位相差フィルムより視野角に優れた複合位相差フィルム
が得られた。
【0053】実施例3 ガラス基板をシランカップリング剤(トーレシリコーン
社製AY43−021)で処理して疎水化したところ水
に対する接触角が87. 4°になった。加熱後ガラス基
板を20℃のステンレス板上に置き急冷した以外は実施
例1と同様な方法で1. 5μmの厚みの高分子液晶膜を
得た。この高分子液晶膜と実施例1に示した位相差フィ
ルムとを積層し複合位相差フィルムを得た。この複合位
相差フィルムの視野角を測定したところ45°以上とも
との位相差フィルムより視野角に優れた複合位相差フィ
ルムが得られた。
社製AY43−021)で処理して疎水化したところ水
に対する接触角が87. 4°になった。加熱後ガラス基
板を20℃のステンレス板上に置き急冷した以外は実施
例1と同様な方法で1. 5μmの厚みの高分子液晶膜を
得た。この高分子液晶膜と実施例1に示した位相差フィ
ルムとを積層し複合位相差フィルムを得た。この複合位
相差フィルムの視野角を測定したところ45°以上とも
との位相差フィルムより視野角に優れた複合位相差フィ
ルムが得られた。
【0054】実施例4 ガラス基板上にポリビニルアルコール(EHC社製液晶
配向膜用)をスピンコートしポリビニルアルコール基板
を得た。該基板の水に対する接触角は45. 2°であっ
た。このポリビニルアルコール基板に実施例1と同じ高
分子液晶のアセトン溶液をスピンコートした。その後実
施例1と同様に熱処理することにより0. 7μm厚の高
分子液晶膜を得た。この高分子液晶膜と実施例1に示し
た位相差フィルムと積層し複合位相差フィルムを得た。
この複合位相差フィルムの視野角を測定したところ3
7. 5°と元の位相差フィルムより視野角に優れた複合
位相差フィルムが得られた。
配向膜用)をスピンコートしポリビニルアルコール基板
を得た。該基板の水に対する接触角は45. 2°であっ
た。このポリビニルアルコール基板に実施例1と同じ高
分子液晶のアセトン溶液をスピンコートした。その後実
施例1と同様に熱処理することにより0. 7μm厚の高
分子液晶膜を得た。この高分子液晶膜と実施例1に示し
た位相差フィルムと積層し複合位相差フィルムを得た。
この複合位相差フィルムの視野角を測定したところ3
7. 5°と元の位相差フィルムより視野角に優れた複合
位相差フィルムが得られた。
【0055】実施例5 実施例1に示したポリカーボネート原反をガラス基板に
貼り付け洗剤で超音波洗浄した、その上に実施例4と同
様にポリビニルアルコールを塗布した、このとき水に対
する接触角は45. 2°であった。この基板上に実施例
4と同様に高分子液晶膜を成膜し、実施例1と同様に熱
処理することによって1. 6μm厚の高分子液晶膜を得
た。この高分子液晶膜と実施例1に示したポリカーボネ
ート位相差フィルムとをそれぞれの遅相軸が一致するよ
うに積層し複合位相差フィルムを得た。この複合位相差
フィルムの視野角を測定したところ32. 0°と比較例
2に示した複合位相差フィルムより視野角に優れた複合
位相差フィルムが得られた。
貼り付け洗剤で超音波洗浄した、その上に実施例4と同
様にポリビニルアルコールを塗布した、このとき水に対
する接触角は45. 2°であった。この基板上に実施例
4と同様に高分子液晶膜を成膜し、実施例1と同様に熱
処理することによって1. 6μm厚の高分子液晶膜を得
た。この高分子液晶膜と実施例1に示したポリカーボネ
ート位相差フィルムとをそれぞれの遅相軸が一致するよ
うに積層し複合位相差フィルムを得た。この複合位相差
フィルムの視野角を測定したところ32. 0°と比較例
2に示した複合位相差フィルムより視野角に優れた複合
位相差フィルムが得られた。
【0056】比較例2 実施例1に示したポリカーボネート原反をガラス基板に
貼り付けた。このポリカーボネート原反と実施例1と同
様に作製したR=512nmのポリカーボネート位相差
フィルムとをそれぞれのフィルムの遅相軸が一致するよ
うに積層し複合位相差フィルムを得た。この複合位相差
フィルムの視野角を測定したところ29. 0°であり、
2枚のポリカーボネートフィルムの遅相軸が一致するよ
うに積層することにより視野角が悪くなった。
貼り付けた。このポリカーボネート原反と実施例1と同
様に作製したR=512nmのポリカーボネート位相差
フィルムとをそれぞれのフィルムの遅相軸が一致するよ
うに積層し複合位相差フィルムを得た。この複合位相差
フィルムの視野角を測定したところ29. 0°であり、
2枚のポリカーボネートフィルムの遅相軸が一致するよ
うに積層することにより視野角が悪くなった。
【0057】比較例3 ポリビニルアルコールを塗布しなかった以外は、実施例
5に準じてポリカーボネート原反を処理した。このとき
水に対する接触角は80. 5°であった。この基板上に
実施例1と同じ高分子液晶のアセトン溶液をスピンコー
トし高分子液晶膜を得た。その後実施例1や実施例3と
同様に熱処理したがクロスニコル下で観察した高分子液
晶膜はシュリーレンテクスチャーを示し垂直配向してい
なかった。このポリカーボネート上の高分子液晶と実施
例1に示した位相差フィルムをそれぞれの遅相軸が一致
するように積層し複合位相差フィルムを得た。得られた
複合位相差フィルムは白濁しており、視野角を測定した
ところ場所により異なる値が得られ、実用的でないこと
がわかった。
5に準じてポリカーボネート原反を処理した。このとき
水に対する接触角は80. 5°であった。この基板上に
実施例1と同じ高分子液晶のアセトン溶液をスピンコー
トし高分子液晶膜を得た。その後実施例1や実施例3と
同様に熱処理したがクロスニコル下で観察した高分子液
晶膜はシュリーレンテクスチャーを示し垂直配向してい
なかった。このポリカーボネート上の高分子液晶と実施
例1に示した位相差フィルムをそれぞれの遅相軸が一致
するように積層し複合位相差フィルムを得た。得られた
複合位相差フィルムは白濁しており、視野角を測定した
ところ場所により異なる値が得られ、実用的でないこと
がわかった。
【0058】
【発明の効果】本発明においては、塗布法により高分子
液晶を基材上に成膜し、それに引き続く熱処理で高分子
液晶をホメオトロピック配向することができる。したが
って、本発明により、配向特性および操作性に優れ、か
つ視野角特性に優れた複合位相差フィルムを簡便に得る
ことができる。また、これらをSTN型液晶表示装置に
適用することにより、液晶表示装置の表示特性、特に視
野角特性を著しく向上させることができる。
液晶を基材上に成膜し、それに引き続く熱処理で高分子
液晶をホメオトロピック配向することができる。したが
って、本発明により、配向特性および操作性に優れ、か
つ視野角特性に優れた複合位相差フィルムを簡便に得る
ことができる。また、これらをSTN型液晶表示装置に
適用することにより、液晶表示装置の表示特性、特に視
野角特性を著しく向上させることができる。
Claims (3)
- 【請求項1】フィルム面内に光学軸を有し、かつ正の屈
折率異方性を有する、熱可塑性高分子からなる一軸配向
した位相差フィルム上に、ネマチック相またはスメクチ
ック相を示す高分子液晶を成膜し、該高分子液晶の液晶
相/等方相の転移温度以上の温度で熱処理することを特
徴とする複合位相差フィルムの製造方法。 - 【請求項2】ネマチック相またはスメクチック相を示す
高分子液晶を、該高分子液晶の液晶相/等方相の転移温
度以上のガラス転移温度を有する基材上に成膜し、該液
晶相/等方相の転移温度以上の温度で熱処理し、該高分
子液晶が成膜された基材と、フィルム面内に光学軸を有
し、かつ正の屈折率異方性を有する、熱可塑性高分子か
らなる一軸配向した位相差フィルムとを積層することを
特徴とする複合位相差フィルムの製造方法。 - 【請求項3】基材が偏光フィルムであることを特徴とす
る請求項2記載の複合位相差フィルムの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4295114A JPH06148429A (ja) | 1992-11-04 | 1992-11-04 | 複合位相差フィルムの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4295114A JPH06148429A (ja) | 1992-11-04 | 1992-11-04 | 複合位相差フィルムの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06148429A true JPH06148429A (ja) | 1994-05-27 |
Family
ID=17816476
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4295114A Pending JPH06148429A (ja) | 1992-11-04 | 1992-11-04 | 複合位相差フィルムの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06148429A (ja) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07333433A (ja) * | 1994-06-08 | 1995-12-22 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光学補償シート及びそれを用いた液晶表示素子 |
| US5699137A (en) * | 1995-10-06 | 1997-12-16 | Sharp Kabushiki Kaisha | Liquid crystal display device having compensator with particular retardation in the inclined direction |
| JP2002328371A (ja) * | 2000-04-24 | 2002-11-15 | Nippon Kayaku Co Ltd | 液晶性化合物の配向方法 |
| JP2006220770A (ja) * | 2005-02-08 | 2006-08-24 | Nippon Oil Corp | 液晶フィルムおよび液晶表示素子 |
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| EP2130855A1 (en) | 2008-05-15 | 2009-12-09 | Fujifilm Corporation | Cellulose ester film, retardation film, polarizing plate and liquid crystal display device |
| JP2010266883A (ja) * | 2010-06-28 | 2010-11-25 | Konica Minolta Holdings Inc | 光学補償フィルムの製造方法 |
| CN108873137A (zh) * | 2011-07-12 | 2018-11-23 | 住友化学株式会社 | 起偏器及其制造方法 |
-
1992
- 1992-11-04 JP JP4295114A patent/JPH06148429A/ja active Pending
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