JPH06148914A - 電子写真感光体 - Google Patents
電子写真感光体Info
- Publication number
- JPH06148914A JPH06148914A JP29979392A JP29979392A JPH06148914A JP H06148914 A JPH06148914 A JP H06148914A JP 29979392 A JP29979392 A JP 29979392A JP 29979392 A JP29979392 A JP 29979392A JP H06148914 A JPH06148914 A JP H06148914A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- derivative
- photosensitive layer
- substituted
- layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 感光層塗膜中の残留応力が少なく、感光体の
カールや感光層の剥離の発生が小さく、かつ静電的に高
耐久性の電子写真感光体を提供すること。 【構成】 導電性支持体上に少なくとも電荷発生物質と
電荷輸送物質及び結着樹脂を含有する感光層を有する電
子写真感光体において、前記感光層中にビフェニル誘導
体及びハイドロキノン誘導体が含有されることを特徴と
する電子写真感光体。
カールや感光層の剥離の発生が小さく、かつ静電的に高
耐久性の電子写真感光体を提供すること。 【構成】 導電性支持体上に少なくとも電荷発生物質と
電荷輸送物質及び結着樹脂を含有する感光層を有する電
子写真感光体において、前記感光層中にビフェニル誘導
体及びハイドロキノン誘導体が含有されることを特徴と
する電子写真感光体。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、アナログ、デジタル複
写機、レーザープリンター、レーザーファクシミリ等に
利用される電子写真感光体に関する。
写機、レーザープリンター、レーザーファクシミリ等に
利用される電子写真感光体に関する。
【0002】
【従来の技術】従来の電子写真感光体の光導電素材とし
てはセレン、硫化カドミウム、酸化亜鉛等の無機物質が
知られているが、これらは毒性、耐熱性、コスト等の問
題があり、このため有機光導電物質を用いた電子写真感
光体が安価、大量生産性、無公害性をメリットとしてさ
かんに研究されるようになった。さらに近年では高感
度、高耐久を目的として、電荷発生層と電荷輸送層を分
離した機能分離型の感光体が提案され使用されはじめて
いる。これら有機感光体は、通常、有機溶媒に電荷発生
物質、電荷輸送物質、結着樹脂等を溶解、分散した塗料
を導電性支持体上に塗布し加熱乾燥することにより製造
されるが、このとき感光層塗膜中に残留応力が生じ、感
光体のカールや剥離が発生するといった問題が生じた。
これに対し従来、残留応力を低下させるために市販の可
塑剤、例えばフタル酸アルキルエステルなどを添加する
こと(特開平1−134364)、ビフェニル、フタル
酸ジフェニル等を添加すること(特開平3−13467
0)などが行われてきたが、光導電特性を損なわれると
いう問題が生じ、感光体の可塑性と光導電特性の両方を
満足させることは困難であった。
てはセレン、硫化カドミウム、酸化亜鉛等の無機物質が
知られているが、これらは毒性、耐熱性、コスト等の問
題があり、このため有機光導電物質を用いた電子写真感
光体が安価、大量生産性、無公害性をメリットとしてさ
かんに研究されるようになった。さらに近年では高感
度、高耐久を目的として、電荷発生層と電荷輸送層を分
離した機能分離型の感光体が提案され使用されはじめて
いる。これら有機感光体は、通常、有機溶媒に電荷発生
物質、電荷輸送物質、結着樹脂等を溶解、分散した塗料
を導電性支持体上に塗布し加熱乾燥することにより製造
されるが、このとき感光層塗膜中に残留応力が生じ、感
光体のカールや剥離が発生するといった問題が生じた。
これに対し従来、残留応力を低下させるために市販の可
塑剤、例えばフタル酸アルキルエステルなどを添加する
こと(特開平1−134364)、ビフェニル、フタル
酸ジフェニル等を添加すること(特開平3−13467
0)などが行われてきたが、光導電特性を損なわれると
いう問題が生じ、感光体の可塑性と光導電特性の両方を
満足させることは困難であった。
【0003】またこれら可塑剤を添加した感光体におい
ても複写機中で発生するオゾン等の反応性ガスにより帯
電性の劣化が生じるという問題があり、なお満足な感光
体は得られていない。
ても複写機中で発生するオゾン等の反応性ガスにより帯
電性の劣化が生じるという問題があり、なお満足な感光
体は得られていない。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は感光層
塗膜中の残留応力が少なく、したがって感光体のカール
や感光層の剥離の発生が小さく、かつ静電的に高耐久性
の電子写真感光体を提供することである。
塗膜中の残留応力が少なく、したがって感光体のカール
や感光層の剥離の発生が小さく、かつ静電的に高耐久性
の電子写真感光体を提供することである。
【0005】他の目的はオゾン等の反応性ガスに対する
耐ガス性に優れた電子写真感光体を提供することであ
る。
耐ガス性に優れた電子写真感光体を提供することであ
る。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、この問題
を解決するための鋭意検討したところ、ビフェニル誘導
体を含有する感光層中にハイドロキノン誘導体をあわせ
て添加することで上記問題点を解決できることを見出し
本発明を完成するに至った。
を解決するための鋭意検討したところ、ビフェニル誘導
体を含有する感光層中にハイドロキノン誘導体をあわせ
て添加することで上記問題点を解決できることを見出し
本発明を完成するに至った。
【0007】すなわち、本発明は導電性支持体上に少な
くとも電荷発生物質と電荷輸送物質及び結着樹脂を含有
する感光層を有する電子写真感光体において、前記感光
層中にビフェニル誘導体及びハイドロキノン誘導体が含
有されることを特徴とする電子写真感光体である。
くとも電荷発生物質と電荷輸送物質及び結着樹脂を含有
する感光層を有する電子写真感光体において、前記感光
層中にビフェニル誘導体及びハイドロキノン誘導体が含
有されることを特徴とする電子写真感光体である。
【0008】本発明の電子写真感光体は感光層中にビフ
ェニル誘導体を含有し、かつハイドロキノン誘導体を含
有することにより感光層塗膜中の残留応力を低下させ、
感光体のカールや感光層剥離の発生が防げかつオゾン等
の反応性ガスに対する耐ガス性に優れたものとなる。さ
らに帯電安定性も極めて優れたものとなる。
ェニル誘導体を含有し、かつハイドロキノン誘導体を含
有することにより感光層塗膜中の残留応力を低下させ、
感光体のカールや感光層剥離の発生が防げかつオゾン等
の反応性ガスに対する耐ガス性に優れたものとなる。さ
らに帯電安定性も極めて優れたものとなる。
【0009】本発明に用いることができるビフェニル誘
導体としては、ビフェニル、m−ターフェニル、o−タ
ーフェニル、水素化ターフェニル、パラベンジルビフェ
ニル、3−メチルビフェニル、2,2′−ジメチルビフ
ェニル、3,3′−ジメチルビフェニル等が挙げられる
が本発明はもちろんこれらに限定されるものではない。
導体としては、ビフェニル、m−ターフェニル、o−タ
ーフェニル、水素化ターフェニル、パラベンジルビフェ
ニル、3−メチルビフェニル、2,2′−ジメチルビフ
ェニル、3,3′−ジメチルビフェニル等が挙げられる
が本発明はもちろんこれらに限定されるものではない。
【0010】本発明に用いることができるハイドロキノ
ン誘導体としてはハイドロキノン、メチルハイドロキノ
ン、ジメチルハイドロキノン、tert−ブチルハイド
ロキノン、2,5−ジ−tert−ブチルハイドロキノ
ンを用いることができるが感光層中における相溶性に優
れ、また電子写真感光体乾燥時又は保存時において昇華
等することなく安定に感光層中に保持されるという点で
下記一般式(I)に示すハイドロキノン誘導体を用いる
ことが好ましい。
ン誘導体としてはハイドロキノン、メチルハイドロキノ
ン、ジメチルハイドロキノン、tert−ブチルハイド
ロキノン、2,5−ジ−tert−ブチルハイドロキノ
ンを用いることができるが感光層中における相溶性に優
れ、また電子写真感光体乾燥時又は保存時において昇華
等することなく安定に感光層中に保持されるという点で
下記一般式(I)に示すハイドロキノン誘導体を用いる
ことが好ましい。
【0011】一般式(I)
【0012】
【化2】
【0013】(式中、R1、R2、R3およびR4は、それ
ぞれ水素原子、ハロゲン原子、置換または無置換のアル
キル基、置換または無置換のアルケニル基、置換または
無置換のアリール基、置換または無置換のシクロアルキ
ル基、置換または無置換のアルコキシ基、置換または無
置換のアリーロキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ
基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、アシル基、
アルキルアシルアミノ基、アリールアシルアミノ基、ア
ルキルカルバモイル基、アリールカルバモイル基、アル
キルスルホンアミド基、アリールスルホンアミド基、ア
ルキルスルファモイル基、アリールスルファモイル基、
アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アルキ
ルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、
アルキルアシルオキシ基、アリールアシルオキシ基、シ
リル基又は複素環基を表わす。
ぞれ水素原子、ハロゲン原子、置換または無置換のアル
キル基、置換または無置換のアルケニル基、置換または
無置換のアリール基、置換または無置換のシクロアルキ
ル基、置換または無置換のアルコキシ基、置換または無
置換のアリーロキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ
基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、アシル基、
アルキルアシルアミノ基、アリールアシルアミノ基、ア
ルキルカルバモイル基、アリールカルバモイル基、アル
キルスルホンアミド基、アリールスルホンアミド基、ア
ルキルスルファモイル基、アリールスルファモイル基、
アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アルキ
ルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、
アルキルアシルオキシ基、アリールアシルオキシ基、シ
リル基又は複素環基を表わす。
【0014】但し、R1、R2、R3、R4のうち少なくと
も1つは炭素原子数の総和が4以上の基である。)一般
式[I]で表わされる化合物の具体例としては次のもの
が挙げられるが本発明はこれに限定されるものではな
い。
も1つは炭素原子数の総和が4以上の基である。)一般
式[I]で表わされる化合物の具体例としては次のもの
が挙げられるが本発明はこれに限定されるものではな
い。
【0015】
【化3】
【0016】
【化4】
【0017】
【化5】
【0018】
【化6】
【0019】
【化7】
【0020】
【化8】
【0021】
【化9】
【0022】
【化10】
【0023】
【化11】
【0024】
【化12】
【0025】
【化13】
【0026】
【化14】
【0027】
【化15】
【0028】
【化16】
【0029】
【化17】
【0030】
【化18】
【0031】
【化19】
【0032】
【化20】
【0033】
【化21】
【0034】
【化22】
【0035】
【化23】
【0036】
【化24】
【0037】
【化25】
【0038】
【化26】
【0039】
【化27】
【0040】
【化28】
【0041】
【化29】
【0042】
【化30】
【0043】
【化31】
【0044】
【化32】
【0045】
【化33】
【0046】
【化34】
【0047】
【化35】
【0048】
【化36】
【0049】
【化37】
【0050】
【化38】
【0051】
【化39】
【0052】
【化40】
【0053】以下図面にそって本発明を説明する。
【0054】図1は本発明の電子写真感光体の構成例を
示す断面図であり、導電性基体11上にビフェニル誘導
体及びハイドロキノン誘導体を含有した感光層15が設
けられた構成をとっている。
示す断面図であり、導電性基体11上にビフェニル誘導
体及びハイドロキノン誘導体を含有した感光層15が設
けられた構成をとっている。
【0055】図2,図3は本発明の別の構成例を示す断
面図であり、感光層15がビフェニル誘導体、ハイドロ
キノン誘導体を含有した電荷発生層17と電荷輸送層1
9の積層で構成されている。
面図であり、感光層15がビフェニル誘導体、ハイドロ
キノン誘導体を含有した電荷発生層17と電荷輸送層1
9の積層で構成されている。
【0056】図4は本発明の更に別の構成例を示す断面
図であり、導電性基体11とビフェニル誘導体及びハイ
ドロキノン誘導体を含有した感光層15の間に下引き層
13が設けられている。
図であり、導電性基体11とビフェニル誘導体及びハイ
ドロキノン誘導体を含有した感光層15の間に下引き層
13が設けられている。
【0057】図5は本発明の更に別の構成例を示す断面
図であり、ビフェニル誘導体及びハイドロキノン誘導体
を含有した感光層15の上に保護層21を設けたもので
ある。
図であり、ビフェニル誘導体及びハイドロキノン誘導体
を含有した感光層15の上に保護層21を設けたもので
ある。
【0058】本発明におけるビフェニル誘導体は感光層
15中に添加することにより効果が発現されるが感光層
が積層構造をとる場合(図2,図3)は電荷輸送層19
中に添加することが効果の点から好ましい。一方ハイド
ロキノン誘導体は図に示される感光層(15,17,1
9)いずれの部位に含有してもその効果は発現される。
15中に添加することにより効果が発現されるが感光層
が積層構造をとる場合(図2,図3)は電荷輸送層19
中に添加することが効果の点から好ましい。一方ハイド
ロキノン誘導体は図に示される感光層(15,17,1
9)いずれの部位に含有してもその効果は発現される。
【0059】導電性基体11としては、体積抵抗1010
Ωcm以下の導電性を示すもの、例えば、アルミニウ
ム、ニッケル、クロム、ニクロム、銅、銀、金、白金な
どの金属、酸化スズ、酸化インジウムなどの金属酸化物
を、蒸着又はスパッタリングにより、フィルム状もしく
は円筒状のプラスチック、紙に被覆したもの、あるい
は、アルミニウム、アルミニウム合金、ニッケル、ステ
ンレスなどの板およびそれらを押出し、引抜きなどの工
法で素管化後、切削、超仕上げ、研摩などで表面処理し
た管などを使用することができる。
Ωcm以下の導電性を示すもの、例えば、アルミニウ
ム、ニッケル、クロム、ニクロム、銅、銀、金、白金な
どの金属、酸化スズ、酸化インジウムなどの金属酸化物
を、蒸着又はスパッタリングにより、フィルム状もしく
は円筒状のプラスチック、紙に被覆したもの、あるい
は、アルミニウム、アルミニウム合金、ニッケル、ステ
ンレスなどの板およびそれらを押出し、引抜きなどの工
法で素管化後、切削、超仕上げ、研摩などで表面処理し
た管などを使用することができる。
【0060】この他、上記支持体上に導電性粉体を適当
なバインダー樹脂に分散して塗工したものも、本発明の
導電性基体11として用いることができる。ここで導電
性粉体としてカーボンブラック、アセチレンブラックま
たアルミ、ニッケル、鉄、ニクロム、銅、亜鉛、銀など
の金属粉、あるいは、チタンブラック、導電性酸化ス
ズ、ITOなどの金属酸化物粉などが挙げられる。ま
た、同時に用いられるバインダー樹脂には、ポリスチレ
ン、スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−
ブタジエン共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合
体、ポリエステル、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸
ビニル共重合体、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニリデ
ン、ポリアリレート樹脂、フェノキシ樹脂、ポリカーボ
ネート、酢酸セルロース樹脂、エチルセルロース樹脂、
ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリビ
ニルトルエン、ポリ−N−ビニルカルバゾール、アクリ
ル樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹
脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド樹脂な
どの熱可塑性、熱硬化性樹脂または光硬化性樹脂が挙げ
られる。このような導電性層はこれらの導電性粉体とバ
インダー樹脂を適当な溶剤例えばTHF、MDC、ME
K、トルエンなどに分散して塗布することにより設ける
ことができる。
なバインダー樹脂に分散して塗工したものも、本発明の
導電性基体11として用いることができる。ここで導電
性粉体としてカーボンブラック、アセチレンブラックま
たアルミ、ニッケル、鉄、ニクロム、銅、亜鉛、銀など
の金属粉、あるいは、チタンブラック、導電性酸化ス
ズ、ITOなどの金属酸化物粉などが挙げられる。ま
た、同時に用いられるバインダー樹脂には、ポリスチレ
ン、スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−
ブタジエン共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合
体、ポリエステル、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸
ビニル共重合体、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニリデ
ン、ポリアリレート樹脂、フェノキシ樹脂、ポリカーボ
ネート、酢酸セルロース樹脂、エチルセルロース樹脂、
ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリビ
ニルトルエン、ポリ−N−ビニルカルバゾール、アクリ
ル樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹
脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド樹脂な
どの熱可塑性、熱硬化性樹脂または光硬化性樹脂が挙げ
られる。このような導電性層はこれらの導電性粉体とバ
インダー樹脂を適当な溶剤例えばTHF、MDC、ME
K、トルエンなどに分散して塗布することにより設ける
ことができる。
【0061】更に、適当な円筒基体上にポリ塩化ビニ
ル、ポリプロピレン、ポリエステル、ポリスチレン、ポ
リ塩化ビニリデン、ポリエチレン、塩化ゴム、テフロン
などの素材に前記導電性粉体を含有させた熱収縮チュー
ブによって導電性層を設けてなるものも、本発明の導電
性基体11として良好に用いることができる。
ル、ポリプロピレン、ポリエステル、ポリスチレン、ポ
リ塩化ビニリデン、ポリエチレン、塩化ゴム、テフロン
などの素材に前記導電性粉体を含有させた熱収縮チュー
ブによって導電性層を設けてなるものも、本発明の導電
性基体11として良好に用いることができる。
【0062】電荷発生層17は電荷発生物質のみから形
成されていても、あるいは電荷発生物質がバインダー中
に均一に分散されて形成されていてもよい。電荷発生物
質は、従って、これら成分を適当な溶剤中にボールミ
ル、アトライター、サンドミル、超音波などを用いて分
散し、これを導電性支持体上に塗布し、乾燥することに
より形成される。
成されていても、あるいは電荷発生物質がバインダー中
に均一に分散されて形成されていてもよい。電荷発生物
質は、従って、これら成分を適当な溶剤中にボールミ
ル、アトライター、サンドミル、超音波などを用いて分
散し、これを導電性支持体上に塗布し、乾燥することに
より形成される。
【0063】電荷発生物質として例えばシーアイピグメ
ントブルー25[カラーインデックス(Cl)2118
0]、シーアイピグメントレッド41(Cl 2120
0)、シーアイアシッドレッド52(Cl 4510
0)、シーアイベーシックレッド3(Cl 4521
0)等の他に、フタロシアニン系顔料、カルバゾール骨
格を有するアゾ顔料(特開昭53−95033号公報に
記載)、スチルベン骨格を有するアゾ顔料(特開昭53
−138229号公報に記載)、ジスチリルベンゼン骨
格を有するアゾ顔料(特開昭53−133455号公報
に記載)、トリフェニルアミン骨格を有するアゾ顔料
(特開昭53−132547号公報に記載)、ジベンゾ
チオフェン骨格を有するアゾ顔料(特開昭54−217
28号公報に記載)、オキサジアゾール骨格を有するア
ゾ顔料(特開昭54−12742号公報に記載)、フル
オレノン骨格を有するアゾ顔料(特開昭54−2283
4号公報に記載)、ビススチルベン骨格を有するアゾ顔
料(特開昭54−17733号公報に記載)、ジスチリ
ルオキサジアゾール骨格を有するアゾ顔料(特開昭54
−2129号公報に記載)、ジスチリルカルバゾール骨
格を有するアゾ顔料(特開昭54−17734号公報に
記載)、カルバゾール骨格を有するトリスアゾ顔料(特
開昭57−195767号公報、同57−195758
号公報に記載)、オキサゾール骨格を有するアゾ顔料
等、更にはシーアイピグメントブルー16(Cl 74
100)等のフタロシアニン系顔料、シーアイバットブ
ラウン5(Cl73410)、シーアイバットダイ(C
l 73030)等のインジゴ系顔料、アルゴスカーレ
ッドB(バイオレット社製)、インダンスレンスカーレ
ットR(バイエル社製)等のペリレン系顔料、スクエア
リック系顔料、4,10−ジブロモアントアントロン等
の多環キノン顔料等の有機顔料:Se、Se合金、Cd
S、アモルファスSi等の無機顔料を使用する事ができ
る。
ントブルー25[カラーインデックス(Cl)2118
0]、シーアイピグメントレッド41(Cl 2120
0)、シーアイアシッドレッド52(Cl 4510
0)、シーアイベーシックレッド3(Cl 4521
0)等の他に、フタロシアニン系顔料、カルバゾール骨
格を有するアゾ顔料(特開昭53−95033号公報に
記載)、スチルベン骨格を有するアゾ顔料(特開昭53
−138229号公報に記載)、ジスチリルベンゼン骨
格を有するアゾ顔料(特開昭53−133455号公報
に記載)、トリフェニルアミン骨格を有するアゾ顔料
(特開昭53−132547号公報に記載)、ジベンゾ
チオフェン骨格を有するアゾ顔料(特開昭54−217
28号公報に記載)、オキサジアゾール骨格を有するア
ゾ顔料(特開昭54−12742号公報に記載)、フル
オレノン骨格を有するアゾ顔料(特開昭54−2283
4号公報に記載)、ビススチルベン骨格を有するアゾ顔
料(特開昭54−17733号公報に記載)、ジスチリ
ルオキサジアゾール骨格を有するアゾ顔料(特開昭54
−2129号公報に記載)、ジスチリルカルバゾール骨
格を有するアゾ顔料(特開昭54−17734号公報に
記載)、カルバゾール骨格を有するトリスアゾ顔料(特
開昭57−195767号公報、同57−195758
号公報に記載)、オキサゾール骨格を有するアゾ顔料
等、更にはシーアイピグメントブルー16(Cl 74
100)等のフタロシアニン系顔料、シーアイバットブ
ラウン5(Cl73410)、シーアイバットダイ(C
l 73030)等のインジゴ系顔料、アルゴスカーレ
ッドB(バイオレット社製)、インダンスレンスカーレ
ットR(バイエル社製)等のペリレン系顔料、スクエア
リック系顔料、4,10−ジブロモアントアントロン等
の多環キノン顔料等の有機顔料:Se、Se合金、Cd
S、アモルファスSi等の無機顔料を使用する事ができ
る。
【0064】バインダー樹脂としては、ポリアミド、ポ
リウレタン、エポキシ樹脂、ポリケトン、ポリカーボネ
ート、シリコン樹脂、アクリル樹脂、ポリビニルブチラ
ール、ポリビニルホルマール、ポリビニルケトン、ポリ
スチレン、ポリ−N−ビニルカルバゾール、ポリアクリ
ルアミド等が用いられる。
リウレタン、エポキシ樹脂、ポリケトン、ポリカーボネ
ート、シリコン樹脂、アクリル樹脂、ポリビニルブチラ
ール、ポリビニルホルマール、ポリビニルケトン、ポリ
スチレン、ポリ−N−ビニルカルバゾール、ポリアクリ
ルアミド等が用いられる。
【0065】バインダー樹脂の量は電荷発生物質100
重量部に対し0〜500重量部好ましくは10〜200
重量部が適当である。また電荷発生層の膜厚は0.01
〜5μm程度がよく、好ましくは0.1〜2μmであ
る。
重量部に対し0〜500重量部好ましくは10〜200
重量部が適当である。また電荷発生層の膜厚は0.01
〜5μm程度がよく、好ましくは0.1〜2μmであ
る。
【0066】ここで用いられる溶媒としてはテトラヒド
ラフラン、シクロヘキサノン、ジオキサン、ジクロロエ
タン、シクロヘキサン、メチルエチルケトン、エチルセ
ロソルブ等が好ましい。
ラフラン、シクロヘキサノン、ジオキサン、ジクロロエ
タン、シクロヘキサン、メチルエチルケトン、エチルセ
ロソルブ等が好ましい。
【0067】電荷発生層の平均膜厚は0.01〜5μ
m、好ましくは0.1〜2μm程度である。
m、好ましくは0.1〜2μm程度である。
【0068】ここで用いられる塗工法としては浸漬塗工
法やスプレーコート、ビードコート、ノズルコート法な
どが挙げられる。
法やスプレーコート、ビードコート、ノズルコート法な
どが挙げられる。
【0069】電荷発生層17にハイドロキノン誘導体を
用いることができるがその添加量は電荷発生物質100
重量部に対して0.01〜20重量部であり好ましくは
0.1〜10重量部である。
用いることができるがその添加量は電荷発生物質100
重量部に対して0.01〜20重量部であり好ましくは
0.1〜10重量部である。
【0070】電荷輸送層19は、電荷輸送物質およびバ
インダー樹脂を適当な溶剤に溶解ないし分散し、これを
電荷発生層上に塗布し、乾燥することにより形成でき
る。また、必要により、レベリング剤等を添加すること
もできる。
インダー樹脂を適当な溶剤に溶解ないし分散し、これを
電荷発生層上に塗布し、乾燥することにより形成でき
る。また、必要により、レベリング剤等を添加すること
もできる。
【0071】電荷輸送物質には、正孔輸送物質と電子輸
送物質とがある。
送物質とがある。
【0072】電子輸送物質としては、例えばクロルアニ
ル、ブロムアニル、トテラシアノエチレン、テトラシア
ノキノンジメタン、2,4,7−トリニトロ−9−フル
オレノン、2,4,5,7−テトラニトロ−9−フルオ
レノン、2,4,5,7−テトラニトロキサントン、
2,4,8−トリニトロチオキサントン、2,6,8−
トリニトロ−4H−インデノ[1,2−b]チオフェン
−4−オン、1,3,7−トリニトロジベンゾチオフェ
ン−5,5−ジオキサイドなどの電子受容性物質が挙げ
られる。
ル、ブロムアニル、トテラシアノエチレン、テトラシア
ノキノンジメタン、2,4,7−トリニトロ−9−フル
オレノン、2,4,5,7−テトラニトロ−9−フルオ
レノン、2,4,5,7−テトラニトロキサントン、
2,4,8−トリニトロチオキサントン、2,6,8−
トリニトロ−4H−インデノ[1,2−b]チオフェン
−4−オン、1,3,7−トリニトロジベンゾチオフェ
ン−5,5−ジオキサイドなどの電子受容性物質が挙げ
られる。
【0073】正孔輸送物質としては、ポリ−N−ビニル
カルバゾールおよびその誘導体、ポリ−γ−カルバゾリ
ルエチルグルタメートおよびその誘導体、ピレン−ホル
ムアルデヒド縮合物およびその誘導体、ポリビニルピレ
ン、ポリビニルフェナントレン、オキサゾール誘導体、
オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、モノア
リールアミン誘導体、ジアリールアミン誘導体、トリア
リールアミン誘導体、スチルベン誘導体、α−フェニル
スチルベン誘導体、ベンジジン誘導体、ジアリールメタ
ン誘導体、トリアリールメタン誘導体、9−スチリルア
ントラセン誘導体、ピラゾリン誘導体、ジビニルベンゼ
ン誘導体、ヒドラゾン誘導体、インデン誘導体、ブタジ
エン誘導体などその他公知の材料が挙げられ用いられ
る。
カルバゾールおよびその誘導体、ポリ−γ−カルバゾリ
ルエチルグルタメートおよびその誘導体、ピレン−ホル
ムアルデヒド縮合物およびその誘導体、ポリビニルピレ
ン、ポリビニルフェナントレン、オキサゾール誘導体、
オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、モノア
リールアミン誘導体、ジアリールアミン誘導体、トリア
リールアミン誘導体、スチルベン誘導体、α−フェニル
スチルベン誘導体、ベンジジン誘導体、ジアリールメタ
ン誘導体、トリアリールメタン誘導体、9−スチリルア
ントラセン誘導体、ピラゾリン誘導体、ジビニルベンゼ
ン誘導体、ヒドラゾン誘導体、インデン誘導体、ブタジ
エン誘導体などその他公知の材料が挙げられ用いられ
る。
【0074】これらの電荷輸送物質は単独又は、2種以
上混合して用いられる。
上混合して用いられる。
【0075】バインダー樹脂としてはポリスチレン、ス
チレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−ブタジ
エン共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ポ
リエステル、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル
共重合体、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ
アクリレート、フェノキシ樹脂、ポリカーボネート、酢
酸セルローズ樹脂、エチルセルローズ樹脂、ポリビニル
ブチラール、ポリビニルホリマール、ポリビニルトルエ
ン、ポリ−N−ビニルカルバゾール、アクリル樹脂、シ
リコーン樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ウレタン
樹脂、フェノール樹脂、アルキッド樹脂等の熱可塑性ま
たは熱硬化性樹脂が挙げられる。
チレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−ブタジ
エン共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ポ
リエステル、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル
共重合体、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ
アクリレート、フェノキシ樹脂、ポリカーボネート、酢
酸セルローズ樹脂、エチルセルローズ樹脂、ポリビニル
ブチラール、ポリビニルホリマール、ポリビニルトルエ
ン、ポリ−N−ビニルカルバゾール、アクリル樹脂、シ
リコーン樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ウレタン
樹脂、フェノール樹脂、アルキッド樹脂等の熱可塑性ま
たは熱硬化性樹脂が挙げられる。
【0076】電荷輸送層19にハイドロキノン誘導体及
び/又はビフェニル誘導体を用いることができるが、そ
の添加量はハイドロキノン誘導体は電荷輸送材料100
重量部に対して0.005〜10重量部であり好ましく
は0.01〜5重量部である。ビフェニル誘導体はバイ
ンダー樹脂100重量部に対し5〜50重量部添加する
ことが好ましい。
び/又はビフェニル誘導体を用いることができるが、そ
の添加量はハイドロキノン誘導体は電荷輸送材料100
重量部に対して0.005〜10重量部であり好ましく
は0.01〜5重量部である。ビフェニル誘導体はバイ
ンダー樹脂100重量部に対し5〜50重量部添加する
ことが好ましい。
【0077】溶剤としては、テトラヒドロフラン、ジオ
キサン、トルエン、モノクロルベンゼン、ジクロルエタ
ン、塩化メチレンなどが用いられる。
キサン、トルエン、モノクロルベンゼン、ジクロルエタ
ン、塩化メチレンなどが用いられる。
【0078】電荷輸送19の厚さは、5〜50μm程度
が適当である。
が適当である。
【0079】本発明において電荷輸送層19中にレベリ
ング剤を添加してもよい。レベリング剤としては、ジメ
チルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイ
ルなどのシリコーンオイル類や、側鎖にパーフルオロア
ルキル基を有するポリマーあるいは、オリゴマーが使用
され、その使用量はバインダー樹脂に対して、0〜1重
量%が適当である。
ング剤を添加してもよい。レベリング剤としては、ジメ
チルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイ
ルなどのシリコーンオイル類や、側鎖にパーフルオロア
ルキル基を有するポリマーあるいは、オリゴマーが使用
され、その使用量はバインダー樹脂に対して、0〜1重
量%が適当である。
【0080】次に感光層15が単層構成の場合について
述べる。この場合も多くは電荷発生物質と電荷輸送物質
よりなる機能分離型のものがあげられる。
述べる。この場合も多くは電荷発生物質と電荷輸送物質
よりなる機能分離型のものがあげられる。
【0081】即ち、電荷発生物および電荷輸送物質には
先に示した化合物を用いることができる。
先に示した化合物を用いることができる。
【0082】単層感光層は、電荷発生物質および電荷輸
送物質およびバインダー樹脂を適当な溶剤に溶解ないし
分散し、これを塗布、乾燥することによって形成でき
る。また、必要により、レベリング剤等を添加すること
もできる。
送物質およびバインダー樹脂を適当な溶剤に溶解ないし
分散し、これを塗布、乾燥することによって形成でき
る。また、必要により、レベリング剤等を添加すること
もできる。
【0083】バインダー樹脂としては、先に電荷輸送層
19で挙げたバインダー樹脂をそのまま用いるほかに、
電荷発生層17で挙げたバインター樹脂を混合して用い
てもよい。
19で挙げたバインダー樹脂をそのまま用いるほかに、
電荷発生層17で挙げたバインター樹脂を混合して用い
てもよい。
【0084】ピリリウム系染料、ビスフェノール系、ポ
リカーボネートから形成される共晶錯体に正孔輸送物質
を添加した感光体も単層感光体として用いることができ
る。
リカーボネートから形成される共晶錯体に正孔輸送物質
を添加した感光体も単層感光体として用いることができ
る。
【0085】単層感光層にハイドロキノン誘導体及びビ
フェニル誘導体を用いることができるがこのうちハイド
ロキノン誘導体の添加量は電荷輸送物質100重量部に
対して0.005〜10重量部であり、好ましくは0.
01〜5重量部である。
フェニル誘導体を用いることができるがこのうちハイド
ロキノン誘導体の添加量は電荷輸送物質100重量部に
対して0.005〜10重量部であり、好ましくは0.
01〜5重量部である。
【0086】またビフェニル誘導体は結着樹脂に対し5
〜50重量部添加することが好ましい。
〜50重量部添加することが好ましい。
【0087】単層感光層は、電荷発生物質、電荷輸送物
質、バインダー樹脂、ビフェニル誘導体及びハイドロキ
ノン誘導体をテトラヒドロフラン、ジオキサン、ジクロ
ロエタン、シクロヘキサン等の溶媒を用いて分散機等で
分散した塗工液を、浸漬塗工法やスプレーコート、ビー
ドコートなどで塗工して形成できる。
質、バインダー樹脂、ビフェニル誘導体及びハイドロキ
ノン誘導体をテトラヒドロフラン、ジオキサン、ジクロ
ロエタン、シクロヘキサン等の溶媒を用いて分散機等で
分散した塗工液を、浸漬塗工法やスプレーコート、ビー
ドコートなどで塗工して形成できる。
【0088】単層感光層の膜厚は、5〜50μm程度が
適当である。
適当である。
【0089】本発明において図4に示されるように、導
電性支持体は、感光層15との間に下引層13を設ける
ことができる。下引層13は一般には樹脂を主成分とす
るが、これらの樹脂はその上に感光層を溶剤で塗布する
ことを考えると、一般に有機溶剤に対して耐溶剤性の高
い樹脂であることが望ましい。このような樹脂として
は、ポリビニルアルコール、カゼイン、ポリアクリル酸
ナトリウム等の水溶性樹脂、共重合ナイロン、メトキシ
メチル化ナイロン等のアルコール可溶性樹脂、ポリウレ
タン、メラミン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド−メ
ラミン樹脂、エポキシ樹脂等、三次元網目構造を形成す
る硬化型樹脂などが挙げられる。
電性支持体は、感光層15との間に下引層13を設ける
ことができる。下引層13は一般には樹脂を主成分とす
るが、これらの樹脂はその上に感光層を溶剤で塗布する
ことを考えると、一般に有機溶剤に対して耐溶剤性の高
い樹脂であることが望ましい。このような樹脂として
は、ポリビニルアルコール、カゼイン、ポリアクリル酸
ナトリウム等の水溶性樹脂、共重合ナイロン、メトキシ
メチル化ナイロン等のアルコール可溶性樹脂、ポリウレ
タン、メラミン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド−メ
ラミン樹脂、エポキシ樹脂等、三次元網目構造を形成す
る硬化型樹脂などが挙げられる。
【0090】また下引層13にはモアレ防止、残留電位
の低減等のために酸化チタン、シリカ、アルミナ、酸化
ジルコニウム、酸化スズ、酸化インジウム等で例示でき
る金属酸化物の微粉末顔料を加えてもよい。
の低減等のために酸化チタン、シリカ、アルミナ、酸化
ジルコニウム、酸化スズ、酸化インジウム等で例示でき
る金属酸化物の微粉末顔料を加えてもよい。
【0091】これらの下引き層は前述の感光層の如く適
当な溶媒、塗工法を用いて形成することができる。
当な溶媒、塗工法を用いて形成することができる。
【0092】更に本発明の下引き層13として、シラン
カップリング剤、チタンカップリング剤、クロムカップ
リング剤等を使用することもできる。
カップリング剤、チタンカップリング剤、クロムカップ
リング剤等を使用することもできる。
【0093】この他、本発明の下引き層13には、Al
2O3を陽極酸化にて設けたものや、ポリパラキシリレン
(パリレン)等の有機物やSiO2、SnO2、Ti
O2、ITO、CeO2等の無機物を真空薄膜作成法にて
設けたものも良好に使用できる。
2O3を陽極酸化にて設けたものや、ポリパラキシリレン
(パリレン)等の有機物やSiO2、SnO2、Ti
O2、ITO、CeO2等の無機物を真空薄膜作成法にて
設けたものも良好に使用できる。
【0094】下引き層13の膜厚は0〜5μmが適当で
ある。
ある。
【0095】保護層21は感光体の表面保護の目的で設
けられ、これに使用される材料としてはABS樹脂、A
CS樹脂、オレフィン−ビニルモノマー共重合体、塩素
化ポリエーテル、アリル樹脂、フェノール樹脂、ポリア
セタール、ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリアクリ
レート、ポリアリルスルホン、ポリブチレン、ポリブチ
レンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエーテル
スルホン、ポリエチレン、ポリエチレンテレフタレー
ト、ポリイミド、アクリル樹脂、ポリメチルペンテン、
ポリプロピレン、ポリフェニレンオキシド、ポリスルホ
ン、ポリスチレン、AS樹脂、ブタジエン−スチレン共
重合体、ポリウレタン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニ
リデン、エポキシ樹脂等の樹脂が挙げられる。保護層に
はその他、耐摩耗性を向上する目的でポリテトラフルオ
ロエチレンのような弗素樹脂、シリコーン樹脂、及びこ
れらの樹脂に酸化チタン、酸化錫、チタン酸カリウム等
の無機材料を分散したもの等を添加することもできる。
けられ、これに使用される材料としてはABS樹脂、A
CS樹脂、オレフィン−ビニルモノマー共重合体、塩素
化ポリエーテル、アリル樹脂、フェノール樹脂、ポリア
セタール、ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリアクリ
レート、ポリアリルスルホン、ポリブチレン、ポリブチ
レンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエーテル
スルホン、ポリエチレン、ポリエチレンテレフタレー
ト、ポリイミド、アクリル樹脂、ポリメチルペンテン、
ポリプロピレン、ポリフェニレンオキシド、ポリスルホ
ン、ポリスチレン、AS樹脂、ブタジエン−スチレン共
重合体、ポリウレタン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニ
リデン、エポキシ樹脂等の樹脂が挙げられる。保護層に
はその他、耐摩耗性を向上する目的でポリテトラフルオ
ロエチレンのような弗素樹脂、シリコーン樹脂、及びこ
れらの樹脂に酸化チタン、酸化錫、チタン酸カリウム等
の無機材料を分散したもの等を添加することもできる。
【0096】保護層の形成法としては通常の塗布法が採
用される。なみ保護層の厚さは0.1〜10μm程度が
適当である。
用される。なみ保護層の厚さは0.1〜10μm程度が
適当である。
【0097】また、以上のほかに真空薄膜作成法にて形
成したa−C、a−SiCなど公知の材料を保護層とし
て用いることができる。
成したa−C、a−SiCなど公知の材料を保護層とし
て用いることができる。
【0098】本発明においては感光層と保護層との間に
別の中間層(図示せず)を設けることも可能である。
別の中間層(図示せず)を設けることも可能である。
【0099】中間層には一般にバインダー樹脂を主成分
として用いる。これら樹脂としてはポリアミド、アルコ
ール可溶性ナイロン樹脂、水溶性ビニルブチラール樹
脂、ポリビニルブチラール、ポリビニルアルコールなど
が挙げられる。
として用いる。これら樹脂としてはポリアミド、アルコ
ール可溶性ナイロン樹脂、水溶性ビニルブチラール樹
脂、ポリビニルブチラール、ポリビニルアルコールなど
が挙げられる。
【0100】中間層の形成法としては、前述のごとく通
常の塗布法が採用される。なお中間層の厚さは0.05
〜2μm程度が適当である。
常の塗布法が採用される。なお中間層の厚さは0.05
〜2μm程度が適当である。
【0101】本発明のビフェニル誘導体の感光層への添
加量としては、バインダー樹脂100重量部に対して5
〜50重量部が好ましいが添加量がこれより少ないと十
分な可塑効果が得られず、感光層塗膜中に残留応力が生
じ、感光体のカールや感光層剥離が発生する。これより
多いと感度低下、残留電位上昇などを起こし光導電特性
を損なってしまう。
加量としては、バインダー樹脂100重量部に対して5
〜50重量部が好ましいが添加量がこれより少ないと十
分な可塑効果が得られず、感光層塗膜中に残留応力が生
じ、感光体のカールや感光層剥離が発生する。これより
多いと感度低下、残留電位上昇などを起こし光導電特性
を損なってしまう。
【0102】また本発明ハイドロキノン誘導体の感光層
への添加量としては積層構造中電荷発生層に添加する場
合は電荷発生物質100重量部に対し好ましくは0.1
〜10重量部であり電荷輸送層中、単層感光層中に添加
する場合は電荷輸送物質100重量部に対し好ましくは
0.01〜5重量部であるが添加量がこれより少ないと
耐反応ガス性、電位安定性に対し十分な効果が得られ
ず、これより多い場合は残電が上昇する等の悪影響が生
ずるようになる。
への添加量としては積層構造中電荷発生層に添加する場
合は電荷発生物質100重量部に対し好ましくは0.1
〜10重量部であり電荷輸送層中、単層感光層中に添加
する場合は電荷輸送物質100重量部に対し好ましくは
0.01〜5重量部であるが添加量がこれより少ないと
耐反応ガス性、電位安定性に対し十分な効果が得られ
ず、これより多い場合は残電が上昇する等の悪影響が生
ずるようになる。
【0103】
【実施例】次に、本発明を実施例を挙げて説明する。
【0104】実施例1 ブチラール樹脂[XYHL(UCC製)]5重量部をシ
クロヘキサノン150重量部に溶解し、これに下記構造
式(II)のトリスアゾ顔料10重量部を加えボールミル
により48時間分散した。更にシクロヘキサノン210
重量部を加え3時間分散を行った。これを固形分濃度が
0.9重量%になるように、撹拌しながらシクロヘキサ
ノンで希釈した。こうして得られた電荷発生層用塗布液
を75μm厚のアルミ蒸着ポリエチレンテレフタレート
フィルム上にドクターブレードで塗布し、80℃で2分
間乾燥し、膜厚0.2μmの電荷発生層を形成した。次
に、下記構造式(III) の電荷輸送物質8重量部、ポリカ
ーボネート樹脂[K−1300(帝人化成社製)]10
重量部、m−ターフェニル2重量部、メチルハイドロキ
ノン0.005重量部、シリコンオイル[KF−50
(信越化学工業製)]0.002重量部を85重量部の
テトラヒドロフランに溶解した。こうして得られた電荷
輸送層用塗布液を前記電荷発生層上にドクターブレード
で塗布し、130℃で10分間乾燥し膜厚20μmの電
荷輸送層を形成し、電子写真感光体を作成した。
クロヘキサノン150重量部に溶解し、これに下記構造
式(II)のトリスアゾ顔料10重量部を加えボールミル
により48時間分散した。更にシクロヘキサノン210
重量部を加え3時間分散を行った。これを固形分濃度が
0.9重量%になるように、撹拌しながらシクロヘキサ
ノンで希釈した。こうして得られた電荷発生層用塗布液
を75μm厚のアルミ蒸着ポリエチレンテレフタレート
フィルム上にドクターブレードで塗布し、80℃で2分
間乾燥し、膜厚0.2μmの電荷発生層を形成した。次
に、下記構造式(III) の電荷輸送物質8重量部、ポリカ
ーボネート樹脂[K−1300(帝人化成社製)]10
重量部、m−ターフェニル2重量部、メチルハイドロキ
ノン0.005重量部、シリコンオイル[KF−50
(信越化学工業製)]0.002重量部を85重量部の
テトラヒドロフランに溶解した。こうして得られた電荷
輸送層用塗布液を前記電荷発生層上にドクターブレード
で塗布し、130℃で10分間乾燥し膜厚20μmの電
荷輸送層を形成し、電子写真感光体を作成した。
【0105】構造式(II)
【0106】
【化41】
【0107】構造式(III)
【0108】
【化42】
【0109】実施例2,3 実施例1においてメチルハイドロキノンのかわりに例示
化合物I−54、I−268のハイドロキノン誘導体を
用いたほかは実施例1と同様にして実施例2,3の電子
写真感光体を作成した。
化合物I−54、I−268のハイドロキノン誘導体を
用いたほかは実施例1と同様にして実施例2,3の電子
写真感光体を作成した。
【0110】実施例4〜12 実施例1においてメチルハイドロキノン、m−ターフェ
ニルのかわりに表1に示すようにハイドロキノン誘導
体、ビフェニル誘導体を添加したほかは実施例1と同様
にして実施例4〜12の電子写真感光体を作成した。
ニルのかわりに表1に示すようにハイドロキノン誘導
体、ビフェニル誘導体を添加したほかは実施例1と同様
にして実施例4〜12の電子写真感光体を作成した。
【0111】
【表1】
【0112】比較例1 実施例1においてメチルハイドロキノンおよびm−ター
フェニルを添加しないほかは実施例1と同様にして比較
例1の電子写真感光体を作成した。
フェニルを添加しないほかは実施例1と同様にして比較
例1の電子写真感光体を作成した。
【0113】比較例2〜6 実施例1においてメチルハイドロキノンは添加せず表2
に示すように可塑剤のみを添加したほかは実施例1と同
様にして比較例2〜6の電子写真感光体を作成した。
に示すように可塑剤のみを添加したほかは実施例1と同
様にして比較例2〜6の電子写真感光体を作成した。
【0114】
【表2】
【0115】比較例7〜11 実施例1においてm−ターフェニルを添加せず表2に示
すようにハイドロキノン誘導体のみを添加したほかは実
施例1と同様にして比較例7〜11の電子写真感光体を
作成した。
すようにハイドロキノン誘導体のみを添加したほかは実
施例1と同様にして比較例7〜11の電子写真感光体を
作成した。
【0116】以上のようにして得られた電子写真感光体
を、EPA−8100(川口電気製作所)を用い、ダイ
ナミックモードにて測定した。まず感光体に−6kVの
コロナ放電を5秒間行い、2秒後の表面電位V2(−
V)を測定、その後暗減衰させ、表面電位が−800V
になった時に6luxのタングステンランプを照射し
て、表面電位が−80Vに光減衰するのに必要な露光量
E1/10(lux・sec)、露光30秒後の表面電
位V30(−V)を測定した。また、色温度2856°
Kのタングステンランプ5luxの照射、−6kVでの
帯電の繰り返しを60000回繰り返した後(疲労後)
の前記と同様の特性を測定した。表3に疲労前と疲労後
の結果を示す。また、オゾン濃度5ppm雰囲気中にこ
れらの感光体を5日間暴露したあとのV2(−V)、E
1/10(lux・sec)を測定した結果と、これら
の感光体を50mm×50mmの正方形に切り取り、平
坦な面上に置きカール量すなわち端部のそり上がった高
さを測定した結果を表4に示す。
を、EPA−8100(川口電気製作所)を用い、ダイ
ナミックモードにて測定した。まず感光体に−6kVの
コロナ放電を5秒間行い、2秒後の表面電位V2(−
V)を測定、その後暗減衰させ、表面電位が−800V
になった時に6luxのタングステンランプを照射し
て、表面電位が−80Vに光減衰するのに必要な露光量
E1/10(lux・sec)、露光30秒後の表面電
位V30(−V)を測定した。また、色温度2856°
Kのタングステンランプ5luxの照射、−6kVでの
帯電の繰り返しを60000回繰り返した後(疲労後)
の前記と同様の特性を測定した。表3に疲労前と疲労後
の結果を示す。また、オゾン濃度5ppm雰囲気中にこ
れらの感光体を5日間暴露したあとのV2(−V)、E
1/10(lux・sec)を測定した結果と、これら
の感光体を50mm×50mmの正方形に切り取り、平
坦な面上に置きカール量すなわち端部のそり上がった高
さを測定した結果を表4に示す。
【0117】
【表3】
【0118】
【表4】
【0119】
【発明の効果】以上、説明したように本発明の電子写真
感光体によれば感光体のカール量が少なく(したがって
剥離等の問題が発生しない)、帯電安定性、感度変動等
の耐久性に優れかつ複写機中で発生するオゾンのような
反応性ガスに対する耐久性にも優れる高性能な電子写真
感光体が提供される。
感光体によれば感光体のカール量が少なく(したがって
剥離等の問題が発生しない)、帯電安定性、感度変動等
の耐久性に優れかつ複写機中で発生するオゾンのような
反応性ガスに対する耐久性にも優れる高性能な電子写真
感光体が提供される。
【図1】本発明の電子写真感光体の構成例を示す図。
【図2】同別の構成例を示す図。
【図3】同別の構成例を示す図。
【図4】同別の構成例を示す図。
【図5】同別の構成例を示す図。
11 導電性基体 13 下引き層 15 感光層 17 電荷発生層 18 電荷輸送層 21 保護層
Claims (2)
- 【請求項1】 導電性支持体上に少なくとも電荷発生物
質と電子輸送物質及び結着樹脂を含有する感光層を有す
る電子写真感光体において、前記感光層中にビフェニル
誘導体及びハイドロキノン誘導体が含有されることを特
徴とする電子写真感光体。 - 【請求項2】 ハイドロキノン誘導体が下記一般式
[I]で表わされる化合物であることを特徴とする請求
項1記載の電子写真感光体。一般式[I] 【化1】 (式中、R1、R2、R3およびR4は、それぞれ水素原
子、ハロゲン原子、置換または無置換のアルキル基、置
換または無置換のアルケニル基、置換または無置換のア
リール基、置換または無置換のシクロアルキル基、置換
または無置換のアルコキシ基、置換または無置換のアリ
ーロキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキ
ルアミノ基、アリールアミノ基、アシル基、アルキルア
シルアミノ基、アリールアシルアミノ基、アルキルカル
バモイル基、アリールカルバモイル基、アルキルスルホ
ンアミド基、アリールスルホンアミド基、アルキルスル
ファモイル基、アリールスルファモイル基、アルキルス
ルホニル基、アリールスルホニル基、アルキルオキシカ
ルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルキルア
シルオキシ基、アリールアシルオキシ基、シリル基又は
複素環基を表わす。但し、R1、R2、R3、R4のうち少
なくとも1つは炭素原子数の総和が4以上の基であ
る。)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29979392A JPH06148914A (ja) | 1992-11-10 | 1992-11-10 | 電子写真感光体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29979392A JPH06148914A (ja) | 1992-11-10 | 1992-11-10 | 電子写真感光体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06148914A true JPH06148914A (ja) | 1994-05-27 |
Family
ID=17877010
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29979392A Pending JPH06148914A (ja) | 1992-11-10 | 1992-11-10 | 電子写真感光体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06148914A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6485873B1 (en) * | 1999-04-30 | 2002-11-26 | Fuji Electric Imaging Device Co., Ltd. | Electrophotographic photoconductor and electrophotographic apparatus |
| JP2007232983A (ja) * | 2006-02-28 | 2007-09-13 | Kyocera Mita Corp | 電子写真感光体及びこれを備えた画像形成装置 |
| JP5559036B2 (ja) * | 2008-04-04 | 2014-07-23 | 株式会社ダイセル | フォトレジスト用ポリオール化合物 |
| WO2016084901A1 (ja) * | 2014-11-28 | 2016-06-02 | 三菱化学株式会社 | 電子写真感光体 |
-
1992
- 1992-11-10 JP JP29979392A patent/JPH06148914A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6485873B1 (en) * | 1999-04-30 | 2002-11-26 | Fuji Electric Imaging Device Co., Ltd. | Electrophotographic photoconductor and electrophotographic apparatus |
| JP2007232983A (ja) * | 2006-02-28 | 2007-09-13 | Kyocera Mita Corp | 電子写真感光体及びこれを備えた画像形成装置 |
| JP5559036B2 (ja) * | 2008-04-04 | 2014-07-23 | 株式会社ダイセル | フォトレジスト用ポリオール化合物 |
| WO2016084901A1 (ja) * | 2014-11-28 | 2016-06-02 | 三菱化学株式会社 | 電子写真感光体 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3444911B2 (ja) | 電子写真用感光体 | |
| JPH0580572A (ja) | 電子写真感光体 | |
| JPH06148914A (ja) | 電子写真感光体 | |
| JP3398765B2 (ja) | 電子写真感光体 | |
| JP2001154386A (ja) | 電子写真感光体 | |
| JPH07261419A (ja) | 電子写真感光体 | |
| JP3184741B2 (ja) | 電子写真感光体 | |
| JPH05204180A (ja) | 電子写真感光体 | |
| JP3326706B2 (ja) | 電子写真感光体 | |
| JPH0675395A (ja) | 電子写真感光体 | |
| JPH0566577A (ja) | 電子写真感光体 | |
| JP2595574B2 (ja) | 感光体 | |
| JPS6318366A (ja) | 画像形成方法 | |
| JP2580162B2 (ja) | 電子写真用感光体 | |
| JP3458164B2 (ja) | 電子写真感光体 | |
| JP2610861B2 (ja) | 電子写真用感光体 | |
| JP2583420B2 (ja) | 電子写真用感光体 | |
| JP2990981B2 (ja) | 電子写真感光体 | |
| JPS6358455A (ja) | 電子写真感光体 | |
| JPH06214416A (ja) | 電子写真感光体 | |
| JP3100394B2 (ja) | 電子写真感光体 | |
| JP2000242011A (ja) | 光導電体、有機顔料分散液およびそれを用いた光導電体の製造方法、電子写真方法、および電子写真装置 | |
| JP3454625B2 (ja) | 電子写真感光体 | |
| JP2651160B2 (ja) | 電子写真感光体 | |
| JP2540035B2 (ja) | 電子写真用感光体 |