JPH06150313A - ディスク媒体用基板の乾燥ジグ及び乾燥装置とその乾燥方法 - Google Patents
ディスク媒体用基板の乾燥ジグ及び乾燥装置とその乾燥方法Info
- Publication number
- JPH06150313A JPH06150313A JP30273992A JP30273992A JPH06150313A JP H06150313 A JPH06150313 A JP H06150313A JP 30273992 A JP30273992 A JP 30273992A JP 30273992 A JP30273992 A JP 30273992A JP H06150313 A JPH06150313 A JP H06150313A
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- JP
- Japan
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- drying
- jig
- substrate
- pure water
- pulling
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- Pending
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- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】ディスク媒体に用いる基板を洗浄した後、温純
水引き上げ方式で乾燥する場合発生する、しみ・汚れの
発生を防止し歩留りを向上させる。 【構成】しみ・汚れの発生原因は前工程ジグと基板の接
触面に水分が残っていることと、前工程ジグを引き上げ
るとき温純水液面が揺れ均一な乾燥が出来ないことによ
る。この対策として支持板１に剣先部５スリット部６空
洞部７を構成し、かつ乾燥ジグ本体と基板下部とのあい
だにギャプＬを有する乾燥ジグを製作し、温純水中より
乾燥ジグを先に引き上げ基板が乾燥したあとで、前工程
ジグを引き上げ基板をセットし次工程に送る乾燥方法を
考案する。
水引き上げ方式で乾燥する場合発生する、しみ・汚れの
発生を防止し歩留りを向上させる。 【構成】しみ・汚れの発生原因は前工程ジグと基板の接
触面に水分が残っていることと、前工程ジグを引き上げ
るとき温純水液面が揺れ均一な乾燥が出来ないことによ
る。この対策として支持板１に剣先部５スリット部６空
洞部７を構成し、かつ乾燥ジグ本体と基板下部とのあい
だにギャプＬを有する乾燥ジグを製作し、温純水中より
乾燥ジグを先に引き上げ基板が乾燥したあとで、前工程
ジグを引き上げ基板をセットし次工程に送る乾燥方法を
考案する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はディスク媒体用基板洗浄
後の温純水乾燥工程に関する。
後の温純水乾燥工程に関する。
【０００２】
【従来の技術】前工程で加工の時基板に付着した異物を
取るため洗浄乾燥の工程を経るが、基板洗浄後の乾燥方
法としてＩＰＡ（イソプロピルアルコール）置換による
乾燥、７０℃〜８０℃に加熱された純水中に基板を入れ
基板が得た熱量を利用し乾燥する、温純水引き上げ方式
による乾燥が一般的であるが、爆発の危険性・環境保護
対策などより脱溶剤が進み、全体的に温純水引き上げ方
式による乾燥方式が主流になりつつある。
取るため洗浄乾燥の工程を経るが、基板洗浄後の乾燥方
法としてＩＰＡ（イソプロピルアルコール）置換による
乾燥、７０℃〜８０℃に加熱された純水中に基板を入れ
基板が得た熱量を利用し乾燥する、温純水引き上げ方式
による乾燥が一般的であるが、爆発の危険性・環境保護
対策などより脱溶剤が進み、全体的に温純水引き上げ方
式による乾燥方式が主流になりつつある。
【０００３】今回温純水引き上げ方式を採用するに当た
り、ＩＰＡ置換による乾燥技術を延長した図４本発明前
に使用した前工程ジグ正面図、図５前工程ジグ側面図に
示す前工程ジグを流用する。このジグは４本のミゾ付き
基板支持棒８を有し、ミゾ部に基板４が多数枚セットさ
れるようになっている。基板４がセットされたジグは支
柱10によりハンガーで引き上げ又は引き下げられる。基
板４との接触部分は図６基板とミゾ付き基板支持棒との
接触部拡大図に示される基板４とミゾ付き基板支持棒８
の状態になっている。
り、ＩＰＡ置換による乾燥技術を延長した図４本発明前
に使用した前工程ジグ正面図、図５前工程ジグ側面図に
示す前工程ジグを流用する。このジグは４本のミゾ付き
基板支持棒８を有し、ミゾ部に基板４が多数枚セットさ
れるようになっている。基板４がセットされたジグは支
柱10によりハンガーで引き上げ又は引き下げられる。基
板４との接触部分は図６基板とミゾ付き基板支持棒との
接触部拡大図に示される基板４とミゾ付き基板支持棒８
の状態になっている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】温純水引き上げ方式に
図４、図５に示す前工程ジグを流用したことにより、基
板面及び基板・前工程ジグ接触部に、しみ・汚れ不良が
発生し歩留りを低下させる問題が発生した。前工程ジグ
使用による、しみ・汚れ発生の原因は図４、図５に示す
ミゾ付き基板支持棒８と基板４との接触部分に水分（図
５・９部４か所）が取れきれずに残っていること、及び
前工程ジグが引き上げられるとき温純水液面の水分を汲
み上げ液面が揺れて、均一な乾燥が出来ないことにあ
る。
図４、図５に示す前工程ジグを流用したことにより、基
板面及び基板・前工程ジグ接触部に、しみ・汚れ不良が
発生し歩留りを低下させる問題が発生した。前工程ジグ
使用による、しみ・汚れ発生の原因は図４、図５に示す
ミゾ付き基板支持棒８と基板４との接触部分に水分（図
５・９部４か所）が取れきれずに残っていること、及び
前工程ジグが引き上げられるとき温純水液面の水分を汲
み上げ液面が揺れて、均一な乾燥が出来ないことにあ
る。
【０００５】本発明は、基板乾燥の歩留りを低下せずに
温純水引き上げ乾燥が可能な乾燥ジグ及び乾燥装置とそ
の乾燥方法を提供することを目的としている。
温純水引き上げ乾燥が可能な乾燥ジグ及び乾燥装置とそ
の乾燥方法を提供することを目的としている。
【０００６】
【課題を解決するための手段】この課題を解決するため
図３乾燥ジグ正面図Ａ部拡大図に示す基板４を受ける支
持板１の先端に剣先加工部５をもうけ点接触になるよう
にすると同時に、接触部の下部にスリット部６（すきま
０．３〜０．５ｍｍ）と水を溜める空洞部７を構成する
水切性がよく、かつ基板下部と乾燥ジグ本体との間にギ
ャプＬを設けた、図１この発明の実施例の正面図、図２
乾燥ジグ拡大側面図に示す乾燥ジグを製作する。また液
面揺れ対策として図８乾燥装置の概念図に示す基板４を
セットした乾燥ジグ12を先に引き上げ、基板４が乾燥し
たのちに前工程ジグ11を引き上げ、乾燥ジグ12より前工
程ジグ11に基板４を移し替え均一な乾燥が出来る乾燥方
法を採用する。
図３乾燥ジグ正面図Ａ部拡大図に示す基板４を受ける支
持板１の先端に剣先加工部５をもうけ点接触になるよう
にすると同時に、接触部の下部にスリット部６（すきま
０．３〜０．５ｍｍ）と水を溜める空洞部７を構成する
水切性がよく、かつ基板下部と乾燥ジグ本体との間にギ
ャプＬを設けた、図１この発明の実施例の正面図、図２
乾燥ジグ拡大側面図に示す乾燥ジグを製作する。また液
面揺れ対策として図８乾燥装置の概念図に示す基板４を
セットした乾燥ジグ12を先に引き上げ、基板４が乾燥し
たのちに前工程ジグ11を引き上げ、乾燥ジグ12より前工
程ジグ11に基板４を移し替え均一な乾燥が出来る乾燥方
法を採用する。
【０００７】また図２に示すように基板下部と乾燥ジグ
本体５との間にギャプＬを設け、基板４が液面上にでた
のち乾燥ジグ本体５が引き上げられ、液面が揺れても基
板に影響を与えないようにする。
本体５との間にギャプＬを設け、基板４が液面上にでた
のち乾燥ジグ本体５が引き上げられ、液面が揺れても基
板に影響を与えないようにする。
【０００８】
【作用】乾燥ジグ12に使用する材料は少なからず親水性
があるためある程度強制的に水分を取る必要がある。支
持板１のスリットは毛細管現象を利用したものであり、
スリト部６を通過した水は下部の空洞部７に溜まり，か
つ基板接触面が剣先加工部５に点接触しているため、基
板４が水の影響を受けなくなる。
があるためある程度強制的に水分を取る必要がある。支
持板１のスリットは毛細管現象を利用したものであり、
スリト部６を通過した水は下部の空洞部７に溜まり，か
つ基板接触面が剣先加工部５に点接触しているため、基
板４が水の影響を受けなくなる。
【０００９】また図７基板と前工程ジグ・乾燥ジグ間の
移し替え関係参考図に示すように乾燥ジグ12にセットさ
れた基板４がハンガー13により液中から乾燥ジグ本体が
液面にでるまで移動し基板４が液面上で停止する。この
移動中はギャプＬの効果で液面の揺れの影響を受けな
く、かつ基板４が乾燥された後ハンガー15により引き上
げられた前工程ジグ11に液面上で、移し替えられるため
基板４が液面の揺れの影響を受けなくなる。
移し替え関係参考図に示すように乾燥ジグ12にセットさ
れた基板４がハンガー13により液中から乾燥ジグ本体が
液面にでるまで移動し基板４が液面上で停止する。この
移動中はギャプＬの効果で液面の揺れの影響を受けな
く、かつ基板４が乾燥された後ハンガー15により引き上
げられた前工程ジグ11に液面上で、移し替えられるため
基板４が液面の揺れの影響を受けなくなる。
【００１０】
【実施例】実施例について図７、図８を参考にしながら
説明すると、本発明の乾燥装置は図８に示す駆動部14駆
動部16を持ち、かつそれら駆動部14、16に接続されて作
動するハンガー13、15とハンガー13に固着された、図
１、図２における乾燥ジグ本体２に支持板１を４枚ねじ
３で固定して作られた乾燥ジグ12、及びハンガー15に乗
せられた前工程ジグ11とからなる。図１、図２に示す乾
燥ジグについて詳述すると、支持板１の材料選定につい
ては耐熱塩化ビニール板、ステンレス鋼板などさびの発
生しない材料から自由に選定できる。また耐熱塩化ビニ
ール板など樹脂材を使用することにより基板に対する、
きず・削れ発生防止対策も可能である。
説明すると、本発明の乾燥装置は図８に示す駆動部14駆
動部16を持ち、かつそれら駆動部14、16に接続されて作
動するハンガー13、15とハンガー13に固着された、図
１、図２における乾燥ジグ本体２に支持板１を４枚ねじ
３で固定して作られた乾燥ジグ12、及びハンガー15に乗
せられた前工程ジグ11とからなる。図１、図２に示す乾
燥ジグについて詳述すると、支持板１の材料選定につい
ては耐熱塩化ビニール板、ステンレス鋼板などさびの発
生しない材料から自由に選定できる。また耐熱塩化ビニ
ール板など樹脂材を使用することにより基板に対する、
きず・削れ発生防止対策も可能である。
【００１１】剣先加工部の角度は６０〜１５０°位が望
ましいが、フラットでなければ効果が生じる。なおこの
乾燥ジグ12は１０〜２５枚の基板を同時に処理すること
も可能である。また図３に示すように空洞部７の形状は
被洗浄物の材質・大きさ等により例えば図３の（ａ）
（ｂ）（ｃ）等のごとくスリット部６と空洞部７を持つ
ものから自由に選定される。さらにギャプＬは乾燥ジグ
12の引き上げ時に発生する液面の揺れの大きさを考慮し
て決められる。通常１０〜２０ｍｍ位が適切なギャプの
大きさであることを確認している。
ましいが、フラットでなければ効果が生じる。なおこの
乾燥ジグ12は１０〜２５枚の基板を同時に処理すること
も可能である。また図３に示すように空洞部７の形状は
被洗浄物の材質・大きさ等により例えば図３の（ａ）
（ｂ）（ｃ）等のごとくスリット部６と空洞部７を持つ
ものから自由に選定される。さらにギャプＬは乾燥ジグ
12の引き上げ時に発生する液面の揺れの大きさを考慮し
て決められる。通常１０〜２０ｍｍ位が適切なギャプの
大きさであることを確認している。
【００１２】次に装置の動作を説明すると、図８におい
て駆動部16に連結されたハンガー15が液面上部に待機
し、基板４をセットした前工程ジグ11を受けとる。その
後駆動部16が下降し基板４と前工程ジグ11が温純水中に
移動し、温純水中に待機している乾燥ジグ12に基板４を
移し替えハンガー15はさらに所定位置まで下降する、図
７は引き上げ時の状態を示しているがこの逆の動作をす
ることになる。
て駆動部16に連結されたハンガー15が液面上部に待機
し、基板４をセットした前工程ジグ11を受けとる。その
後駆動部16が下降し基板４と前工程ジグ11が温純水中に
移動し、温純水中に待機している乾燥ジグ12に基板４を
移し替えハンガー15はさらに所定位置まで下降する、図
７は引き上げ時の状態を示しているがこの逆の動作をす
ることになる。
【００１３】基板４が加熱された後、基板４がセットさ
れている乾燥ジグ12を固着したハンガー13が駆動部14に
より低速（２〜３ｍｍ／ｓ）で引き上げられ、図７に示
すように乾燥ジグ12が液面上部空間で基板４の乾燥のた
め停止する。基板４乾燥後前工程ジグ11を乗せたハンガ
ー15が駆動部16により引き上げられる、乾燥ジグ12が停
止している位置で４本のミゾ付き基板支持棒８により、
基板４が前工程ジグ11に移し替えられ次工程に移動す
る。この時図２に示す乾燥ジグ本体２の巾が図５に示す
前工程ジグ下部にある２本のミゾ付き基板支持棒８の間
隔より狭く容易にすり抜けられる構造であることが条件
となる。
れている乾燥ジグ12を固着したハンガー13が駆動部14に
より低速（２〜３ｍｍ／ｓ）で引き上げられ、図７に示
すように乾燥ジグ12が液面上部空間で基板４の乾燥のた
め停止する。基板４乾燥後前工程ジグ11を乗せたハンガ
ー15が駆動部16により引き上げられる、乾燥ジグ12が停
止している位置で４本のミゾ付き基板支持棒８により、
基板４が前工程ジグ11に移し替えられ次工程に移動す
る。この時図２に示す乾燥ジグ本体２の巾が図５に示す
前工程ジグ下部にある２本のミゾ付き基板支持棒８の間
隔より狭く容易にすり抜けられる構造であることが条件
となる。
【００１４】
【発明の効果】以上述べたように、本発明によるディス
ク媒体用基板乾燥ジグ及び乾燥装置とその乾燥方法をも
ちいれば、温純水引き上げ乾燥工程で問題となっていた
基板と前工程ジグ間の、しみ・汚れ、温純水液面の揺れ
に起因する基板面の、しみ・汚れの発生を良好に防止す
ることができ、品質向上が図れる。
ク媒体用基板乾燥ジグ及び乾燥装置とその乾燥方法をも
ちいれば、温純水引き上げ乾燥工程で問題となっていた
基板と前工程ジグ間の、しみ・汚れ、温純水液面の揺れ
に起因する基板面の、しみ・汚れの発生を良好に防止す
ることができ、品質向上が図れる。
【図１】この発明の実施例の乾燥ジグ正面図
【図２】図１の乾燥ジグ拡大側面図
【図３】図１の乾燥ジグ正面図Ａ部拡大図で、（ａ）〜
（ｃ）はそれぞれ異なる実施例を示す。
（ｃ）はそれぞれ異なる実施例を示す。
【図４】本発明前に使用した前工程ジグ正面図
【図５】図４の前工程ジグ側面図
【図６】基板とミゾ付き基板支持棒との接触部拡大図
【図７】基板と前工程ジグ・乾燥ジグ間の移し替え関係
参考図
参考図
【図８】乾燥装置の概念図
１…支持板（４枚）、２…乾燥ジグ本体、３…ねじ、４
…基板、５…剣先加工部、６…スリット部、７…空洞
部、８…ミゾ付き基板支持棒（４本）、９…水分溜まり
部（４か所）、10…支柱、11…前工程ジグ、12…乾燥ジ
グ、13…ハンガー１、14…駆動部１、15…ハンガー２、
16…駆動部２。
…基板、５…剣先加工部、６…スリット部、７…空洞
部、８…ミゾ付き基板支持棒（４本）、９…水分溜まり
部（４か所）、10…支柱、11…前工程ジグ、12…乾燥ジ
グ、13…ハンガー１、14…駆動部１、15…ハンガー２、
16…駆動部２。
Claims (5)
- 【請求項１】ディスク媒体用基板洗浄後の温純水引き上
げ乾燥方式において、乾燥装置の引き上げ用ハンガーに
固定される機能を持った乾燥ジグ本体に、複数枚の支持
板が固定され、その支持板に基板を保持し、かつ支持板
接触部分に剣先加工部を形成し基板と点接触させること
を特徴とする乾燥ジグ。 - 【請求項２】請求項１記載の接触部分下部にスリット部
・空洞部を設計し水分を強制的に空洞部に溜める構造と
した支持板をそなえたことを特徴とする乾燥ジグ。 - 【請求項３】請求項１記載の乾燥ジグ本体と基板下部と
の間にギャプを設けたことを特徴とする乾燥ジグ。 - 【請求項４】請求項３記載の乾燥ジグをもちい、基板を
引き上げ乾燥後に基板をセットする前工程ジグを引き上
げることを特徴とする乾燥方法。 - 【請求項５】請求項１〜３記載の乾燥ジグと請求項４記
載の乾燥方法を採用した乾燥装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30273992A JPH06150313A (ja) | 1992-11-13 | 1992-11-13 | ディスク媒体用基板の乾燥ジグ及び乾燥装置とその乾燥方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30273992A JPH06150313A (ja) | 1992-11-13 | 1992-11-13 | ディスク媒体用基板の乾燥ジグ及び乾燥装置とその乾燥方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06150313A true JPH06150313A (ja) | 1994-05-31 |
Family
ID=17912576
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30273992A Pending JPH06150313A (ja) | 1992-11-13 | 1992-11-13 | ディスク媒体用基板の乾燥ジグ及び乾燥装置とその乾燥方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06150313A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009295672A (ja) * | 2008-06-03 | 2009-12-17 | Fuji Electric Device Technology Co Ltd | 乾燥ジグ、乾燥装置、乾燥方式及び磁気記録媒体の製造方法 |
-
1992
- 1992-11-13 JP JP30273992A patent/JPH06150313A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009295672A (ja) * | 2008-06-03 | 2009-12-17 | Fuji Electric Device Technology Co Ltd | 乾燥ジグ、乾燥装置、乾燥方式及び磁気記録媒体の製造方法 |
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