JPH0693449B2 - 温純水引上方式に於ける乾燥装置 - Google Patents
温純水引上方式に於ける乾燥装置Info
- Publication number
- JPH0693449B2 JPH0693449B2 JP1335938A JP33593889A JPH0693449B2 JP H0693449 B2 JPH0693449 B2 JP H0693449B2 JP 1335938 A JP1335938 A JP 1335938A JP 33593889 A JP33593889 A JP 33593889A JP H0693449 B2 JPH0693449 B2 JP H0693449B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- drying
- pure water
- dried
- cleaning
- suction
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- Expired - Lifetime
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29D—PRODUCING PARTICULAR ARTICLES FROM PLASTICS OR FROM SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE
- B29D11/00—Producing optical elements, e.g. lenses or prisms
- B29D11/00009—Production of simple or compound lenses
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29D—PRODUCING PARTICULAR ARTICLES FROM PLASTICS OR FROM SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE
- B29D11/00—Producing optical elements, e.g. lenses or prisms
- B29D11/00865—Applying coatings; tinting; colouring
- B29D11/00894—Applying coatings; tinting; colouring colouring or tinting
- B29D11/00903—Applying coatings; tinting; colouring colouring or tinting on the surface
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Ophthalmology & Optometry (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
- Drying Of Solid Materials (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、温純水引上方式に於ける乾燥装置に関する。
（従来の技術） 平板状であるレンズ、光ディスク、液晶パネル、太陽電
池等は、洗浄工程で洗浄された後に乾燥工程で乾燥され
る。乾燥させる方法としては、従来、フロン113等の蒸
気によって乾燥させていた。しかし、フロンはオゾン層
保護のために使用禁止の方向にあり、このため、フロン
を用いない乾燥方法が要望されていた。
池等は、洗浄工程で洗浄された後に乾燥工程で乾燥され
る。乾燥させる方法としては、従来、フロン113等の蒸
気によって乾燥させていた。しかし、フロンはオゾン層
保護のために使用禁止の方向にあり、このため、フロン
を用いない乾燥方法が要望されていた。
そこで、かかる要望に応えて、次に示す乾燥装置が提案
されている。この乾燥装置は、温純水を利用したもの
で、第３図に示すように、洗浄後の洗浄乾燥対象物１を
昇降治具３′に設けられた保持具４′上にセットして温
純水に浸漬し、その後、昇降治具３′をゆっくりとほぼ
垂直に引き上げるものである。この場合、浸漬中は洗浄
乾燥対象物１の表面に付着した洗浄液等の水分は温純水
中に拡散され、一方、引き上げ後においては温純水は表
面張力が弱いために洗浄乾燥対象物１の表面に付着しに
くくなるとともに、温純水の熱によって洗浄乾燥対象物
１の表面が加熱され、これにより、洗浄乾燥対象物１を
乾燥させている。
されている。この乾燥装置は、温純水を利用したもの
で、第３図に示すように、洗浄後の洗浄乾燥対象物１を
昇降治具３′に設けられた保持具４′上にセットして温
純水に浸漬し、その後、昇降治具３′をゆっくりとほぼ
垂直に引き上げるものである。この場合、浸漬中は洗浄
乾燥対象物１の表面に付着した洗浄液等の水分は温純水
中に拡散され、一方、引き上げ後においては温純水は表
面張力が弱いために洗浄乾燥対象物１の表面に付着しに
くくなるとともに、温純水の熱によって洗浄乾燥対象物
１の表面が加熱され、これにより、洗浄乾燥対象物１を
乾燥させている。
また、保持具４′に洗浄乾燥対象物１を保持するに際し
ては、保持具４′に略Ｖ字形状の保持溝５を形成し、該
保持溝５の互いに対向する各斜面部６に洗浄乾燥対象物
１の両面部各周縁を接地させることにより、該洗浄乾燥
対象物１の保持を良好なものとしている。
ては、保持具４′に略Ｖ字形状の保持溝５を形成し、該
保持溝５の互いに対向する各斜面部６に洗浄乾燥対象物
１の両面部各周縁を接地させることにより、該洗浄乾燥
対象物１の保持を良好なものとしている。
しかしながら、かかる乾燥装置においては、該洗浄乾燥
対象物１を保持溝５で保持しているため、洗浄乾燥対象
物１の接地部近傍に水滴Ｂが溜まり易くなり、しかも、
保持溝５は外部への露出面積が少なく乾燥効率が他に比
べて悪いため、該接地部近傍で洗浄乾燥対象物１が乾燥
しにくくなってしみ等が残ってしまうという問題点があ
った。
対象物１を保持溝５で保持しているため、洗浄乾燥対象
物１の接地部近傍に水滴Ｂが溜まり易くなり、しかも、
保持溝５は外部への露出面積が少なく乾燥効率が他に比
べて悪いため、該接地部近傍で洗浄乾燥対象物１が乾燥
しにくくなってしみ等が残ってしまうという問題点があ
った。
（発明が解決しようとする課題） 本発明はかかる不都合を解消するためになされたもので
あり、洗浄乾燥対象物を良好に保持できるのは勿論のこ
と、洗浄乾燥対象物の接地部近傍に溜まった水滴を確実
かつ素早く乾燥させて、しみ等を発生させない温純水引
上方式に於ける乾燥装置を提供することを目的とする。
あり、洗浄乾燥対象物を良好に保持できるのは勿論のこ
と、洗浄乾燥対象物の接地部近傍に溜まった水滴を確実
かつ素早く乾燥させて、しみ等を発生させない温純水引
上方式に於ける乾燥装置を提供することを目的とする。
（課題を解決するための手段） 本発明は、かかる目的を達成するために、洗浄後の平板
状の洗浄乾燥対象物を昇降治具に設けられた保持具上に
セットして温純水に浸漬し、その後、前記昇降治具をゆ
っくりとほぼ垂直に引き上げ、温純水の表面張力を利用
して前記洗浄乾燥対象物を乾燥させる温純水引上方式に
於ける乾燥装置において、前記保持具には、前記洗浄乾
燥対象物の両面部の各周縁が互いに対向する斜面部にそ
れぞれ接地されて該洗浄乾燥対象物を保持する断面略Ｖ
字形状の保持溝が形成され、前記保持具の内部には、一
端が前記洗浄乾燥対象物の接地部の上方及び下方の各斜
面部にそれぞれれ開口する複数の第１吸引通路が形成さ
れ、前記昇降治具の内部には、その一端が各第１吸引通
路の他端に連通する第２吸引通路が形成され、該第２吸
引通路の他端には、前記第１及び第２吸引通路を介して
前記接地部近傍に溜まった水滴を外部に真空吸引する真
空吸引手段が接続されていることを特徴とするものであ
る。
状の洗浄乾燥対象物を昇降治具に設けられた保持具上に
セットして温純水に浸漬し、その後、前記昇降治具をゆ
っくりとほぼ垂直に引き上げ、温純水の表面張力を利用
して前記洗浄乾燥対象物を乾燥させる温純水引上方式に
於ける乾燥装置において、前記保持具には、前記洗浄乾
燥対象物の両面部の各周縁が互いに対向する斜面部にそ
れぞれ接地されて該洗浄乾燥対象物を保持する断面略Ｖ
字形状の保持溝が形成され、前記保持具の内部には、一
端が前記洗浄乾燥対象物の接地部の上方及び下方の各斜
面部にそれぞれれ開口する複数の第１吸引通路が形成さ
れ、前記昇降治具の内部には、その一端が各第１吸引通
路の他端に連通する第２吸引通路が形成され、該第２吸
引通路の他端には、前記第１及び第２吸引通路を介して
前記接地部近傍に溜まった水滴を外部に真空吸引する真
空吸引手段が接続されていることを特徴とするものであ
る。
（作用） 本発明によれば、真空吸引手段を駆動させることによ
り、洗浄乾燥対象物の接地部の上方及び下方に溜まった
水滴が第１及び第２吸引通路を介して素早く外部に吸引
除去される。
り、洗浄乾燥対象物の接地部の上方及び下方に溜まった
水滴が第１及び第２吸引通路を介して素早く外部に吸引
除去される。
（実施例） 以下、本発明の一実施例を第１図、第２図及び第４図を
参照して説明する。第１図は本発明の実施の一例である
温純水引上方式における乾燥装置の正面図、図２は図１
のＸ−Ｘ′線断面図、図４は図１のＹ−Ｙ′線断面図で
ある。
参照して説明する。第１図は本発明の実施の一例である
温純水引上方式における乾燥装置の正面図、図２は図１
のＸ−Ｘ′線断面図、図４は図１のＹ−Ｙ′線断面図で
ある。
乾燥装置１は角パイプからなる昇降治具３を備えてお
り、該昇降治具３は円形であるる光ディスク１を保持す
るために下部が湾曲形成され、該湾曲部からは把手が上
方に延びている。また、湾曲面には、光ディスク１をよ
り確実に保持し、かつ、接触面積をできるだけ小さくす
るために三個の保持具４が周方向に等間隔で配設されて
いる。
り、該昇降治具３は円形であるる光ディスク１を保持す
るために下部が湾曲形成され、該湾曲部からは把手が上
方に延びている。また、湾曲面には、光ディスク１をよ
り確実に保持し、かつ、接触面積をできるだけ小さくす
るために三個の保持具４が周方向に等間隔で配設されて
いる。
保持具４は、耐薬品性及び撥水性を有するテフロン製の
もので、その上端面には互いに対向する斜面部６と底面
部７とを有する断面路Ｖ字状の保持溝５が形成されてい
る。保持溝５の各斜面部６には、光ディスク１の両面部
の各周縁が接地されて良好に保持される。
もので、その上端面には互いに対向する斜面部６と底面
部７とを有する断面路Ｖ字状の保持溝５が形成されてい
る。保持溝５の各斜面部６には、光ディスク１の両面部
の各周縁が接地されて良好に保持される。
保持具４の内部には、一端12が光ディスク１の接地部Ｃ
の上方及び下方の各斜面部６に開口する第１吸引通路13
がそれぞれ形成されている。各第１吸引通路13の他端は
昇降治具３の内部に連通されており、該昇降治具３の内
部は把手の先端に設けられた吸引ポンプ（図示せず。）
によって真空吸引できるように第２吸引通路14をなして
いる。
の上方及び下方の各斜面部６に開口する第１吸引通路13
がそれぞれ形成されている。各第１吸引通路13の他端は
昇降治具３の内部に連通されており、該昇降治具３の内
部は把手の先端に設けられた吸引ポンプ（図示せず。）
によって真空吸引できるように第２吸引通路14をなして
いる。
次に、光ディスク１の乾燥方法について説明する。
第１図に示すように、洗浄後の光ディスク１は保持具４
の保持溝５に保持され、この状態で昇降治具３を下降さ
せて温度が60〜70℃位に設定された温純水２の中に垂直
に投入される。投入後、昇降治具３を上下に揺動させて
光ディスク１を温純水２になじませる。これにより、光
ディスク１の表面に付着した洗浄液等の水分が温純水中
に拡散されて除去される。次に、昇降治具３をゆっくり
と垂直に引き上げると、温純水は表面張力が弱いために
光ディスク１の表面から離脱しやすくなるとともに、温
純水の熱によって洗浄乾燥対象物１の表面が加熱されて
乾燥される。
の保持溝５に保持され、この状態で昇降治具３を下降さ
せて温度が60〜70℃位に設定された温純水２の中に垂直
に投入される。投入後、昇降治具３を上下に揺動させて
光ディスク１を温純水２になじませる。これにより、光
ディスク１の表面に付着した洗浄液等の水分が温純水中
に拡散されて除去される。次に、昇降治具３をゆっくり
と垂直に引き上げると、温純水は表面張力が弱いために
光ディスク１の表面から離脱しやすくなるとともに、温
純水の熱によって洗浄乾燥対象物１の表面が加熱されて
乾燥される。
このとき、光ディスク１は保持溝５に保持されているた
め、保持溝５の接地部Ｃ近傍において水滴Ｂが溜まり易
くなる。しかしながら、本実施例では、引き上げ後にお
いて吸引ポンプを作動させることにより第１及び第２吸
引通路13,14を介して該第１吸引通路13の一端開口12か
ら接地部Ｃの上方及び下方に溜まった水滴が素早く外部
に吸引除去される。なお、吸引に際しては、保持具５が
テフロン製で撥水性を有しているため、接地部Ｃの上方
及び下方で水滴になりやすく、従って、拡散している場
合に比べて開口12から吸引されやすくなる。このよう
に、本実施例では、光ディスク１全体から水滴を確実に
除去することができ、従来のように光ディスク１にしみ
等が発生するのを良好に防止することができる。
め、保持溝５の接地部Ｃ近傍において水滴Ｂが溜まり易
くなる。しかしながら、本実施例では、引き上げ後にお
いて吸引ポンプを作動させることにより第１及び第２吸
引通路13,14を介して該第１吸引通路13の一端開口12か
ら接地部Ｃの上方及び下方に溜まった水滴が素早く外部
に吸引除去される。なお、吸引に際しては、保持具５が
テフロン製で撥水性を有しているため、接地部Ｃの上方
及び下方で水滴になりやすく、従って、拡散している場
合に比べて開口12から吸引されやすくなる。このよう
に、本実施例では、光ディスク１全体から水滴を確実に
除去することができ、従来のように光ディスク１にしみ
等が発生するのを良好に防止することができる。
（発明の効果） 本発明によれば、真空吸引手段を作動させることにより
洗浄乾燥対象物の接地部の上方及び下方に溜まる水滴を
水滴真空吸引通路を介して確実かつ素早く外部に吸引除
去することができるため、洗浄乾燥対象物全体を良好に
乾燥させることができ、しみ等の原因を作りにくくする
ことができる。
洗浄乾燥対象物の接地部の上方及び下方に溜まる水滴を
水滴真空吸引通路を介して確実かつ素早く外部に吸引除
去することができるため、洗浄乾燥対象物全体を良好に
乾燥させることができ、しみ等の原因を作りにくくする
ことができる。
【図面の簡単な説明】 第１図は本発明の実施の一例である乾燥装置の正面図、
第２図は第１図のＸ−Ｘ′線断面図、第３図は従来の乾
燥装置の縦断面図、第４図は図１のＹ−Ｙ′線断面図で
ある。 １……ウェハー、２……温純水、３……昇降治具、４…
…保持具、５……保持溝、６……斜面部、13……第１吸
引通路、14……第２吸引通路
第２図は第１図のＸ−Ｘ′線断面図、第３図は従来の乾
燥装置の縦断面図、第４図は図１のＹ−Ｙ′線断面図で
ある。 １……ウェハー、２……温純水、３……昇降治具、４…
…保持具、５……保持溝、６……斜面部、13……第１吸
引通路、14……第２吸引通路
Claims (1)
- 【請求項１】洗浄後の平板状の洗浄乾燥対象物を昇降治
具に設けられた保持具上にセットして温純水に浸漬し、
その後、前記昇降治具をゆっくりとほぼ垂直に引き上
げ、温純水の表面張力を利用して前記洗浄乾燥対象物を
乾燥させる温純水引上方式に於ける乾燥装置において、 前記保持具には、前記洗浄乾燥対象物の両面部の各周縁
が互いに対向する斜面部にそれぞれ接地されて該洗浄乾
燥対象物を保持する断面路Ｖ字形状の保持溝が形成さ
れ、前記保持具の内部には、一端が前記洗浄乾燥対象物
の接地部の上方及び下方の各斜面部にそれぞれ開口する
複数の第１吸引通路が形成され、前記昇降治具の内部に
は、その一端が各第１吸引通路の他端に連通する第２吸
引通路が形成され、該第２吸引通路の他端には、前記第
１及び第２吸引通路を介して前記接地部近傍に溜まった
水滴を外部に真空吸引する真空吸引手段が接続されてい
ることを特徴とする温純水引上方式に於ける乾燥装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1335938A JPH0693449B2 (ja) | 1989-12-25 | 1989-12-25 | 温純水引上方式に於ける乾燥装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1335938A JPH0693449B2 (ja) | 1989-12-25 | 1989-12-25 | 温純水引上方式に於ける乾燥装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03195021A JPH03195021A (ja) | 1991-08-26 |
| JPH0693449B2 true JPH0693449B2 (ja) | 1994-11-16 |
Family
ID=18294025
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1335938A Expired - Lifetime JPH0693449B2 (ja) | 1989-12-25 | 1989-12-25 | 温純水引上方式に於ける乾燥装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0693449B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2023074933A1 (ko) * | 2021-10-27 | 2023-05-04 | 주식회사 세정로봇 | 웨이퍼 진공 픽업장치 |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3838227B2 (ja) * | 2002-08-06 | 2006-10-25 | セイコーエプソン株式会社 | レンズ保持治具 |
| US7089687B2 (en) * | 2004-09-30 | 2006-08-15 | Lam Research Corporation | Wafer edge wheel with drying function |
| US7946303B2 (en) * | 2006-09-29 | 2011-05-24 | Lam Research Corporation | Carrier for reducing entrance and/or exit marks left by a substrate-processing meniscus |
| CN102341742B (zh) * | 2009-01-09 | 2013-05-29 | Hoya株式会社 | 透镜保持夹具和使用该透镜保持夹具制造透镜基材的方法 |
| EP3840022B1 (en) * | 2019-12-18 | 2022-10-05 | Siltronic AG | Improved device for drying semiconductor substrates |
-
1989
- 1989-12-25 JP JP1335938A patent/JPH0693449B2/ja not_active Expired - Lifetime
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| 発明協会公開技報公技番号８７−７１５５ |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2023074933A1 (ko) * | 2021-10-27 | 2023-05-04 | 주식회사 세정로봇 | 웨이퍼 진공 픽업장치 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH03195021A (ja) | 1991-08-26 |
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