JPH06150697A - 半導体集積回路 - Google Patents

半導体集積回路

Info

Publication number
JPH06150697A
JPH06150697A JP4302001A JP30200192A JPH06150697A JP H06150697 A JPH06150697 A JP H06150697A JP 4302001 A JP4302001 A JP 4302001A JP 30200192 A JP30200192 A JP 30200192A JP H06150697 A JPH06150697 A JP H06150697A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
power supply
word line
circuit
short
potential
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP4302001A
Other languages
English (en)
Inventor
Toshiaki Tsuji
敏明 辻
Hironori Akamatsu
寛範 赤松
Hiroyuki Yamauchi
寛行 山内
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP4302001A priority Critical patent/JPH06150697A/ja
Publication of JPH06150697A publication Critical patent/JPH06150697A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • For Increasing The Reliability Of Semiconductor Memories (AREA)
  • Design And Manufacture Of Integrated Circuits (AREA)
  • Semiconductor Memories (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 フェイルビットアドレス判定試験時にワード
線の短絡を確実に検出する。 【構成】 チップ内部で昇圧電源を発生する昇圧電源発
生回路2と、昇圧電源と同等の電圧を供給する第1の外
部電源7と、第1の外部電源7が接続可能な昇圧電源プ
ローブ検査用パッド1とを有し、昇圧電源プローブ検査
用パッド1を、昇圧電源用配線6に電圧降下用の抵抗8
を介して接続したことを特徴とする半導体集積回路であ
る。 【効果】 フェイルビットアドレス判定試験時に、短絡
したワード線電位を回路が検出可能な電位まで低下さ
せ、短絡したワード線を確実に検出する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は負荷を高速に充電するた
めの昇圧電源発生回路を有する半導体集積回路に関し、
特にメモリー用半導体集積回路において不良メモリーセ
ルの冗長救済のためのフェイルビットアドレス判定試験
を確実に実施することを可能にする半導体集積回路に関
する。
【0002】
【従来の技術】メモリー用半導体集積回路では歩留り向
上のために、微細化に伴うメモリーセル欠陥部を正常な
セルで置き換えて救済する冗長救済の手法が一般的に使
用され、救済すべきメモリーセルのアドレス特定のため
にフェイルビットアドレス判定試験が行われている。
【0003】以下図面を参照しながら、従来の半導体集
積回路の一例について説明する。図6に従来の半導体集
積回路の昇圧電源プローブ検査用パッドの接続図の一例
を示す。図6において、ワード線駆動回路3は、図示さ
れていないが、アドレスをデコードすることにより決定
されるワード線ドライバーを用いてワード線を昇圧電位
まで充電し、選択されたメモリーセルのトランスファー
ゲートをオンにする。昇圧電源プローブ検査用パッド1
はワード線駆動回路3に昇圧電圧を供給する昇圧電源発
生回路2とワード線駆動回路3の間の昇圧電源配線6に
接続されている。
【0004】以上のように構成された従来の半導体集積
回路について、以下、開発初期段階におけるその使用方
法と動作について説明する。
【0005】まずプロービング検査時に昇圧電源発生回
路2が設計通りの能力を実現しているかどうかを、昇圧
電源プローブ検査用パッド1に針5をおとし、昇圧電圧
(VPP)及び昇圧電源発生回路2の消費電流を測定す
ることが可能である。また、昇圧電源発生回路2は本来
チップ内部のワード線等で消費された電荷を補充する為
の回路であり電流供給能力が低いため、選択されたワー
ド線が他電源と短絡している場合には、電流が前記昇圧
電源発生回路2の能力以上に流れる。
【0006】従って、選択されたワード線が短絡してい
る時、昇圧電圧(VPP)の電位が降下し、次に正常な
ワード線が選択された時に昇圧電圧が完全な電位に回復
していないために誤動作が起こることがあった。昇圧電
源プローブ検査用パッド1に電流供給能力のある昇圧電
源電圧と同等の電圧の第1の外部電源7を接続すること
により、上記誤動作を防止することができた。フェイル
ビットアドレス判定試験後の冗長救済を行ったチップで
は、昇圧電源発生回路2の電流供給能力で充分である。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記の従
来の構成では、以下に説明するように、フェイルビット
アドレス判定試験時にワード線の短絡を見逃してしまう
ことがあった。
【0008】図7は選択されたワード線と非選択ワード
線が短絡している想定図で、図3に図7中の回路の1部
分の拡大図を示す。
【0009】図7、図3において選択ワード線34が非
選択ワード線35と短絡している場合、昇圧電源発生回
路2とワード線駆動回路3間の抵抗17の抵抗値R2、
ワード線駆動回路3と接地電源パッド(以下VSSパッ
ド)4間の抵抗18の抵抗値R3、ショート箇所14の
抵抗33の抵抗値R4、選択されたワード線34の抵抗
15の抵抗値R5、選択されたワード線34と短絡して
いる非選択ワード線35の抵抗16の抵抗値R6、ワー
ド線ドライブ信号ドライブ用トランジスター30のオン
抵抗Rtr1、ワード線充電用トランジスター31のオ
ン抵抗Rtr2、ワード線接地用トランジスター32の
オン抵抗Rtr3の抵抗の比により昇圧電圧(VPP)
が分配され、フェイルビットアドレス判定試験時におい
て、短絡によるワード線電位の低下(数1)は、パッド
の配置、ショート箇所の位置に依存するため、場合によ
っては上記ワード線の電位低下を回路が感知できず、短
絡している救済すべきワード線を、正常なワード線と見
なしてしまう恐れがあるという課題を有していた。
【0010】
【数1】
【0011】本発明は上記従来の課題を解決するもの
で、フェイルビットアドレス判定試験時において、ワー
ド線短絡によるワード線電位の低下をパッドの配置、シ
ョート箇所の位置によらず確実に回路が感知できる電位
に制御することが可能な半導体集積回路を提供すること
を目的とする。
【0012】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に本発明の半導体集積回路は、昇圧電源と同等の電圧を
供給する第1の外部電源が接続可能な昇圧電源プローブ
検査用パッドを、電圧降下用の抵抗を介して昇圧電源用
配線に接続した構成、もしくは、昇圧電源の電圧より低
い最適化された電圧を供給する第2の外部電源が接続可
能な昇圧電源プローブ検査用パッドを、昇圧電源用配線
に接続した構成を有している。
【0013】
【作用】本発明は上記した構成により、チップ開発段階
のフェイルビットアドレス判定試験時に、選択ワード線
と他電源の短絡による昇圧電圧の降下を原因として生じ
る誤動作を昇圧電源プローブ検査用パッドに昇圧電源と
同等の電圧の第1の電源を接続することにより防止す
る。更に、ワード線短絡時のワード線電位の降下を昇圧
電源発生回路と昇圧電源プローブ検査用パッド間に挿入
された最適な抵抗値を持つ抵抗によって制御、もしくは
抵抗を挿入する代わりに昇圧電源プローブ検査用パッド
に昇圧電位より低い最適化された第2の外部電源によっ
て制御し、チップの冗長救済アドレスを確実に把握する
ことを可能にする。
【0014】
【実施例】
(実施例1)以下本発明の一実施例の半導体集積回路に
ついて、図面を参照しながら説明する。図1は本発明の
実施例における半導体集積回路の構成を示すものであ
る。
【0015】図1において、昇圧電源発生回路2は、図
1には示されていないが、ワード線駆動回路3内のワー
ド線ドライバーのゲートとソースに電圧を供給し、ワー
ド線駆動回路3はロウアドレスのデコード信号によりワ
ード線を選択し、ワード線を高速に充電しメモリーセル
内のトランスファーゲートをオンにする。昇圧電源プロ
ーブ検査用パッド1はワード線駆動回路3と昇圧電源発
生回路2間の昇圧電源用配線6に、パッドの配置とワー
ストケースのワード線ショート箇所の位置から計算され
た抵抗8を介して接続されている。
【0016】以上のように構成された半導体集積回路に
ついて、フェイルビットアドレス判定試験時において、
選択ワード線と非選択ワード線が短絡している場合の動
作を説明する。図2は選択されたワード線と非選択ワー
ド線が短絡しているときの想定図で、図3は図2中の回
路の1部を拡大したものである。
【0017】図2、図3において、フェイルビットアド
レス判定試験時、1本の選択ワード線34と1本の非選
択ワード線35がショートしているとする。ショートし
ている非選択ワード線の数を1本としたのは、その場合
が最もワード線電位が高いからである。このとき、昇圧
電源発生回路2と昇圧電源プローブ検査用パッド1間に
挿入された抵抗8の抵抗値をR1、昇圧電源発生回路2
とワード線駆動回路3間の配線抵抗17の抵抗値をR
2、ワード線駆動回路3とVSSパッド4間の配線抵抗
18の抵抗値をR3、選択ワード線34の配線抵抗15
の抵抗値をR5、非選択ワード線35の配線抵抗16の
抵抗値をR6とし、ショート箇所抵抗33の抵抗値をR
4、ワード線ドライブ信号ドライブ用トランジスター3
0のオン抵抗をRtr1、ワード線充電用トランジスタ
ー31のオン抵抗をRtr2、ワード線接地用トランジ
スター32のオン抵抗をRtr3とする。このとき昇圧
電源の電位をVPPとすると、選択されたワード線34
の電位は(数2)となり、昇圧電源プローブ検査用パッ
ド1と昇圧電源発生回路2間の抵抗8の抵抗値R1を最
適化することにより、選択ワード線の電位を確実に低下
させることができるため、ワード線の短絡を確実に検出
することが可能である。
【0018】
【数2】
【0019】次に、図2、3のようなパッド配置を例に
とり、昇圧電源発生回路2と昇圧電源プローブ検査用パ
ッド1間に付加する抵抗8の抵抗値R1の最適値を実際
に求めてみる。最適値の条件として、(1)選択された
ワード線が非選択ワード線とショートしている時、選択
されたワード線の電位が十分に落ちること、(2)アド
レスを変化させて選択ワード線をショートしているワー
ド線からショートしていないワード線に変更したとき、
ワード線ドライブ信号の電位が昇圧電位まで回復する時
間がアドレス変化後の正常なワード線が立ち上がるまで
の時間に比べ短いことを課す。
【0020】初めに最適値の(1)の条件を課し、付加
する抵抗の抵抗値の下限について考える。このようなパ
ッド配置の時、ショートしたワード線の電位が1番高く
なるのは、パッドに1番近いワード線がショートした時
である。ワード線ドライブ信号ドライブ用pチャンネル
トランジスタ30のオン抵抗Rtr1を200Ω、ワー
ド線ドライブ用のnチャンネルトランジスタ31のオン
抵抗Rtr2を200Ω、ワード線プリチャージ用のn
チャンネルトランジスタ32のオン抵抗Rtr3を45
0Ωとし、選択ワード線34の配線抵抗値R5と非選択
ワード線の配線抵抗値R6が等しいとしR5=R6=2
KΩとする。1層アルミのシート抵抗を55mΩ、2層
アルミのシート抵抗を35mΩ、昇圧電源用配線の配線
幅を10μm、配線長を4mm、VSS電源用配線の配
線幅を50μm、配線長を4mmとしチップ長辺方向の
配線は2層アルミ、チップ短辺方向の配線は1層アルミ
とすると、昇圧電源用配線抵抗17の抵抗値R2は22
Ω、VSS電源用配線抵抗18の抵抗値R3は4Ωとな
り、ワード線ショート箇所抵抗33の抵抗値R4を68
Ωとし、昇圧電源の電位をVPPとすると付加抵抗8を
挿入しない時、短絡したワード線電位Vwlは0.51
VPPとなる。
【0021】フェイルビット判定試験でワード線電位が
1番必要になる時は図4においてメモリーセル40にH
(VDD)を書き込み、引き続きHを読み出す場合で、
ビット線46、47のプリチャージ電位を1.5V、メ
モリーセル内トランスファーゲート42のしきい値電圧
を1Vとすると、センスアンプ41の感度を考慮にいれ
なくてもワード線の電位は単純に2.5V以上、昇圧電
源の昇圧電圧VPPを5Vとすると0.5VPP以上は
必要となってくる。センスアンプの感度を考慮にいれれ
ばさらに高いワード線電位が必要になる。そこでショー
トしたワード線電位を0.5VPP以下にするためには
付加抵抗8の抵抗値R1を100Ω以上にしなければな
らないということになる。
【0022】次に最適値の(2)の条件を課し付加する
抵抗の抵抗値の上限について考える。フェイルビットア
ドレス判定試験においてチップのプリチャージ期間を
1.5μS確保することにする。本来の評価においては
1チップ当りの判定時間は数十nSであるが、より確実
にフェイルビットを判定する為には高い抵抗値の方が望
ましい。抵抗が高い場合には、(2)の条件を満たすの
が厳しくなる。付加抵抗はフェイルビットアドレス判定
試験時のみ使用するので、前記試験時はサイクルタイム
を長くして試験を行う。実デバイスに適用した場合、上
記の試験を行うことによる試験時間の増加も、トータル
の試験時間から見ればわずかなものである。1.5μS
の間に0.5VPPの電位からVPPの電位まで回復す
る必要があり、昇圧電源発生回路のワード線駆動回路ま
での寄生容量を300pFとすると、付加抵抗8の抵抗
値R1の値は5KΩ以下でなければならないことにな
る。
【0023】以上の条件(1)、(2)を課した考察か
ら付加抵抗8の抵抗値R1は100Ωから5KΩの範囲
であればよいことがわかる。評価時間を短くしたい場合
は付加する抵抗の値を小さめに数百Ωにすれば良く、シ
ョートの抵抗のばらつきを考慮して確実に判定する場合
には大きめの抵抗を付加すれば良い。
【0024】(実施例2)図5は第2の実施例における
半導体集積回路の構成図である。図1と比較して図5に
示す様に、昇圧電源発生回路2と昇圧電源プローブ検査
用パッド1間に最適化された抵抗を挿入する代わりに、
昇圧電源プローブ検査用パッド1に昇圧電源の電圧以下
の最適化された第2の外部電源8を接続可能な構成を持
っている。
【0025】以下、フェイルビットアドレス判定試験時
のその動作を、上記と同じ例を用いて考える。選択され
たワード線が非選択ワード線短絡している時に、十分に
ワード線の電位が低下する条件から考える。先の例の結
果より、R1=0のとき、ショートしたワード線の電位
が0.51VPPであったことより、第2の外部電源の
電圧をV2とするとショートしたワード線の電位は0.
51V2となる。
【0026】よって、ワード線の短絡を確実に把握する
ためには、第2の外部電源の電圧V2の値をV2<0.
5VPP/0.51とすればよいことがわかる。今の場
合では、抵抗成分が20Ω程度で遅延時間が約10nS
になることより、短絡した選択ワード線から正常なワー
ド線へアドレスを切り替えて後、測定を開始するまでに
昇圧電源の電位が回復する条件は満足されている。
【0027】
【発明の効果】以上のように本発明は、最適化した付加
抵抗を介して昇圧電源プローブ検査用パッドを昇圧電源
配線に接続すること、または、昇圧電源より低い電圧の
第2の外部電源が接続可能な昇圧電源プローブ検査用パ
ッドを昇圧電源配線に接続することにより、ワード線短
絡時のワード線電位を十分降下させ、フェイルビットア
ドレス判定試験時においてワード線の短絡を確実に検出
することが可能になる。
【0028】更に、昇圧電源発生回路の電流供給能力を
昇圧電源と他の電源の短絡を考慮にいれて特に大きく設
計する必要がないため、昇圧電源発生回路の消費電力を
押さえる事を可能にし、複雑な制御を必要とする昇圧電
源を設計する必要がなくなり設計期間を短縮することが
できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例1における昇圧電源プローブ検
査用パッドの構成図
【図2】ワード線短絡の想定図
【図3】ワード線短絡の想定図の部分拡大図
【図4】DRAMのメモリーセル構成図
【図5】本発明の実施例2における昇圧電源プローブ検
査用パッドの構成図
【図6】従来のチップの昇圧電源プローブ検査用パッド
の構成図
【図7】従来のチップにおけるワード線短絡の想定図
【符号の説明】
1 昇圧電源プローブ検査用パッド 2 昇圧電源発生回路 3 ワード線駆動回路 4 接地電源(VSS)パッド 7 第1の外部電源 8 最適化された付加抵抗 9 最適化された第2の電源 14,33 ショート箇所 15 選択されたワード線の抵抗 16 非選択ワード線の抵抗 17 昇圧電源発生回路、ワード線駆動回路間の配線抵
抗 18 ワード線駆動回路、VSSパッド間の配線抵抗 19 昇圧電源発生回路からワード線駆動回路間の対V
SS容量 34 選択されたワード線 35 非選択ワード線
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 27/108

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】チップ内部で昇圧電源を発生する昇圧電源
    発生回路と、 前記昇圧電源と同等の電圧を供給する第1の外部電源
    と、 前記第1の外部電源が接続可能な昇圧電源プローブ検査
    用パッドとを有し、 前記昇圧電源プローブ検査用パッドを、昇圧電源用配線
    に電圧降下用の抵抗を介して接続したことを特徴とする
    半導体集積回路。
  2. 【請求項2】請求項1記載の抵抗は、フェイルビットア
    ドレス判定試験時に、非選択のワード線と短絡した選択
    ワード線の電位が十分に低下し、かつ、短絡したワード
    線から正常なワード線を選択するアドレスに切り換えた
    時、正常なワード線が立ち上がるまでに昇圧電源の電位
    が所望の値まで回復する抵抗値を有することを特徴とす
    る半導体集積回路。
  3. 【請求項3】請求項1記載の抵抗の値が100Ωから5
    KΩの抵抗値であることを特徴とする半導体集積回路。
  4. 【請求項4】チップ内部で昇圧電源を発生する昇圧電源
    発生回路と、 前記昇圧電源の電圧より低い電圧を供給する第2の外部
    電源と、 前記第2の外部電源が接続可能な昇圧電源プローブ検査
    用パッドとを有し、 前記昇圧電源プローブ検査用パッドを、昇圧電源用配線
    に接続したことを特徴とする半導体集積回路。
JP4302001A 1992-11-12 1992-11-12 半導体集積回路 Pending JPH06150697A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4302001A JPH06150697A (ja) 1992-11-12 1992-11-12 半導体集積回路

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4302001A JPH06150697A (ja) 1992-11-12 1992-11-12 半導体集積回路

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH06150697A true JPH06150697A (ja) 1994-05-31

Family

ID=17903692

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP4302001A Pending JPH06150697A (ja) 1992-11-12 1992-11-12 半導体集積回路

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH06150697A (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0968558A (ja) * 1995-08-30 1997-03-11 Nec Ic Microcomput Syst Ltd 半導体装置及びその検査方法
US5657284A (en) * 1995-09-19 1997-08-12 Micron Technology, Inc. Apparatus and method for testing for defects between memory cells in packaged semiconductor memory devices
US5885846A (en) * 1995-09-19 1999-03-23 Micron Technology, Inc. Method and apparatus for testing of dielectric defects in a packaged semiconductor memory device
KR100394574B1 (ko) * 2001-04-10 2003-08-14 삼성전자주식회사 워드라인 결함 체크회로를 구비한 불휘발성 반도체메모리장치

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0968558A (ja) * 1995-08-30 1997-03-11 Nec Ic Microcomput Syst Ltd 半導体装置及びその検査方法
US5657284A (en) * 1995-09-19 1997-08-12 Micron Technology, Inc. Apparatus and method for testing for defects between memory cells in packaged semiconductor memory devices
US5885846A (en) * 1995-09-19 1999-03-23 Micron Technology, Inc. Method and apparatus for testing of dielectric defects in a packaged semiconductor memory device
US5965902A (en) * 1995-09-19 1999-10-12 Micron Technology Method and apparatus for testing of dielectric defects in a packaged semiconductor memory device
US6181154B1 (en) * 1995-09-19 2001-01-30 Micron Technology, Inc. Method and apparatus for testing of dielectric defects in a packaged semiconductor memory device
US6625073B1 (en) 1995-09-19 2003-09-23 Micron Technology, Inc. Apparatus and method for testing for defects between memory cells in packaged semiconductor memory devices
KR100394574B1 (ko) * 2001-04-10 2003-08-14 삼성전자주식회사 워드라인 결함 체크회로를 구비한 불휘발성 반도체메모리장치

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6667928B2 (en) Semiconductor device in which a chip is supplied either a first voltage or a second voltage
JP3236105B2 (ja) 不揮発性半導体記憶装置及びその動作試験方法
JP4088143B2 (ja) 不揮発性半導体記憶装置及び行線短絡不良検出方法
TW399277B (en) Semiconductor device and its testing method
US6680873B2 (en) Semiconductor device having electric fuse element
US20120243354A1 (en) Repairing Soft Failures in Memory Cells in SRAM Arrays
KR0162032B1 (ko) 반도체 장치의 내부상태를 외부에서 식별하기 위한 구조
EP0766258B1 (en) Dram signal margin test method
EP0740308A2 (en) Dynamic semiconductor memory device
US7692941B2 (en) Separate CAM core power supply for power saving
JPH06150697A (ja) 半導体集積回路
TW440854B (en) Wafer burn-in design for DRAM and FeRAM devices
EP1024500B1 (en) Test circuit for boost circuit output node potential measurement of a semiconductor ic device
US20030076724A1 (en) Semiconductor memory device and test method therof
JP4425301B2 (ja) 半導体検査装置及び半導体検査方法
US7266027B2 (en) Integrated semiconduct memory with test circuit
JP3222345B2 (ja) 半導体記憶装置
JP2005302809A (ja) 半導体装置
US20080049523A1 (en) Line defect detection circuit for detecting weak line
JP3468730B2 (ja) 不揮発性半導体記憶装置の試験方法
JPH05128858A (ja) 半導体記憶装置
JP3490034B2 (ja) 半導体記憶装置
JPH05144294A (ja) 半導体集積回路
JPH07201199A (ja) 半導体集積回路
CN118155695A (zh) 存储器及其测试方法、存储器系统