JPH061560B2 - 光学的記録担体 - Google Patents
光学的記録担体Info
- Publication number
- JPH061560B2 JPH061560B2 JP60283085A JP28308585A JPH061560B2 JP H061560 B2 JPH061560 B2 JP H061560B2 JP 60283085 A JP60283085 A JP 60283085A JP 28308585 A JP28308585 A JP 28308585A JP H061560 B2 JPH061560 B2 JP H061560B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- resin
- record carrier
- acrylic acid
- optical record
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は光学的記録担体に関し、特に光ビームにより記
録、再生を行うことが可能な光学的記録媒体の基板を２
Ｐ（フォトポリメリゼイションPhotopolymerization）
法と呼ばれる方法によって製造する際に使用する２Ｐ樹
脂材料に関する。
録、再生を行うことが可能な光学的記録媒体の基板を２
Ｐ（フォトポリメリゼイションPhotopolymerization）
法と呼ばれる方法によって製造する際に使用する２Ｐ樹
脂材料に関する。
［従来の技術］ 従来より、光学的記録媒体の基板材料としては、ガラ
ス、アクリル樹脂、ポリカーボネイト樹脂等が用いられ
ている。光学的記録媒体に、高密度な記録をするために
は、その基板上に光学的案内溝を形成する必要があり、
その方法として従来から２通りの方法が知られている。
その一つの方法は、案内溝の形状に対応する凹凸が刻設
された金型を用いて射出成形することにより、基板の成
形と同時に案内溝を転写する方法である。
ス、アクリル樹脂、ポリカーボネイト樹脂等が用いられ
ている。光学的記録媒体に、高密度な記録をするために
は、その基板上に光学的案内溝を形成する必要があり、
その方法として従来から２通りの方法が知られている。
その一つの方法は、案内溝の形状に対応する凹凸が刻設
された金型を用いて射出成形することにより、基板の成
形と同時に案内溝を転写する方法である。
もう一つの方法は、まず、案内溝の形状に対応する凹凸
が刻設された型の上に紫外線硬化型樹脂等を塗布し、更
に、この樹脂上に基板を載置し、次いで、紫外線等を照
射するとにより、樹脂を硬化させると共に、この樹脂を
基板に固着させて硬化型樹脂製の案内溝を形成する２Ｐ
法と呼ばれる方法である。
が刻設された型の上に紫外線硬化型樹脂等を塗布し、更
に、この樹脂上に基板を載置し、次いで、紫外線等を照
射するとにより、樹脂を硬化させると共に、この樹脂を
基板に固着させて硬化型樹脂製の案内溝を形成する２Ｐ
法と呼ばれる方法である。
前者の方法は量産性に優れているが、案内溝形状の転写
性が悪いという欠点がある上に、使用する基板材料とし
てプラスチック、例えば、アクリル樹脂やポリカーボネ
イト樹脂しか使えない点に問題がある。即ち、プラスチ
ック基板を用いた記録媒体では、プラスチック基板が通
気性を有する為に、水分や酸素等によって記録層が腐食
され、その記録特性が徐々に劣化する。従って、基板材
料としてプラスチックしか使用できないこの方法を採用
すると、長期間記録特性を維持し続けることが可能な記
録媒体を製造できないという問題が生じる。
性が悪いという欠点がある上に、使用する基板材料とし
てプラスチック、例えば、アクリル樹脂やポリカーボネ
イト樹脂しか使えない点に問題がある。即ち、プラスチ
ック基板を用いた記録媒体では、プラスチック基板が通
気性を有する為に、水分や酸素等によって記録層が腐食
され、その記録特性が徐々に劣化する。従って、基板材
料としてプラスチックしか使用できないこの方法を採用
すると、長期間記録特性を維持し続けることが可能な記
録媒体を製造できないという問題が生じる。
一方、後者の方法は、案内溝形状の転写性が良いばかり
でなく、基板材料としてプラスチック以外にもガラスを
使用できる。従って、この方法によって案内溝を設けた
ガラス基板を使用すれば、長期間高い信頼性を維持でき
る記録媒体を製造できる。
でなく、基板材料としてプラスチック以外にもガラスを
使用できる。従って、この方法によって案内溝を設けた
ガラス基板を使用すれば、長期間高い信頼性を維持でき
る記録媒体を製造できる。
［発明が解決しようとする問題点］ ２Ｐ法で用いる紫外線硬化型樹脂には、型からはがれや
すいこと、また基板との密着性が良いこと、と言う相反
する性能が要求されている。しかし、この両者の性能を
同時に満足することは一般にはむずかしいため、型の表
面処理をして密着性の良い樹脂を用いても離型できる様
にする方法、基板と樹脂との密着性を良好にするため
に、２Ｐ層の間に密着性を向上させる層をもう一層設け
る方法等が考えられている。
すいこと、また基板との密着性が良いこと、と言う相反
する性能が要求されている。しかし、この両者の性能を
同時に満足することは一般にはむずかしいため、型の表
面処理をして密着性の良い樹脂を用いても離型できる様
にする方法、基板と樹脂との密着性を良好にするため
に、２Ｐ層の間に密着性を向上させる層をもう一層設け
る方法等が考えられている。
ところが前者の方法では表面処理によって型表面に欠陥
をふやしたり、成形時に基板表面を汚染する欠点があ
る。また、処理効果の寿命もあるため型の交換頻度が増
加するといった問題点もある。
をふやしたり、成形時に基板表面を汚染する欠点があ
る。また、処理効果の寿命もあるため型の交換頻度が増
加するといった問題点もある。
他方、後者の方法では、樹脂と基板との密着力を向上さ
せる為に設ける層の塗布ムラ等が生ずるためにノイズが
増加することもあり、また層を設けるために基板一枚ご
とに塗布処理を行うため量産性が低下する等の問題点も
ある。
せる為に設ける層の塗布ムラ等が生ずるためにノイズが
増加することもあり、また層を設けるために基板一枚ご
とに塗布処理を行うため量産性が低下する等の問題点も
ある。
また、２Ｐ層上への記録層の成膜性を考慮すると、真空
プロセスで無機膜や金属膜を形成する場合、成膜時に基
板の温度が上昇したり、膜の応力が大きいことがある。
従って２Ｐ層は耐熱性があり、硬いことが要求される。
しかし、一般に硬化型の樹脂は硬化時の残留応力が大き
く密着力が低下する傾向がある。したがって、密着力を
向上させるために極性基をふやすと、吸水性が増して耐
久性上問題を生じる。
プロセスで無機膜や金属膜を形成する場合、成膜時に基
板の温度が上昇したり、膜の応力が大きいことがある。
従って２Ｐ層は耐熱性があり、硬いことが要求される。
しかし、一般に硬化型の樹脂は硬化時の残留応力が大き
く密着力が低下する傾向がある。したがって、密着力を
向上させるために極性基をふやすと、吸水性が増して耐
久性上問題を生じる。
本発明の目的は、これらの従来の問題点を解決し、基板
との密着性にすぐれ、また離型性のよい２Ｐ樹脂を用い
ることにより、生産性が高く、長期間高い信頼性を維持
できる光学的記録担体を供給することにある。
との密着性にすぐれ、また離型性のよい２Ｐ樹脂を用い
ることにより、生産性が高く、長期間高い信頼性を維持
できる光学的記録担体を供給することにある。
［問題点を解決するための手段］及び［作用］ 即ち、本発明は、基板及び記録層の間に樹脂層を具備
し、該樹脂層は該基板と一体化してなり、且つ該基板と
対向しない側の表面に案内溝を有してなる光学的記録担
体において、該樹脂層が （Ａ）ペンタエリスリトールのアクリル酸エステル及び
その誘導体の混合物 （Ｂ）２官能のアクリル酸エステル （Ｃ）柔軟性付与剤 （Ｄ）光重合開始剤 を含有し、且つ該柔軟性付与剤としてジ（２−エチルヘ
キシル）フタレート又はベンゼン環を含むアクリル酸エ
ステルを含有してなる紫外線硬化型樹脂の硬化物である
ことを特徴とする光学的記録担体である。
し、該樹脂層は該基板と一体化してなり、且つ該基板と
対向しない側の表面に案内溝を有してなる光学的記録担
体において、該樹脂層が （Ａ）ペンタエリスリトールのアクリル酸エステル及び
その誘導体の混合物 （Ｂ）２官能のアクリル酸エステル （Ｃ）柔軟性付与剤 （Ｄ）光重合開始剤 を含有し、且つ該柔軟性付与剤としてジ（２−エチルヘ
キシル）フタレート又はベンゼン環を含むアクリル酸エ
ステルを含有してなる紫外線硬化型樹脂の硬化物である
ことを特徴とする光学的記録担体である。
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明において、ペンタエリスリトールのアクリル酸エ
ステル及びその誘導体の混合物は本発明に係わる光学的
記録担体の２Ｐ層に用いられる紫外線硬化型樹脂のベー
スレジンとして使用される。
ステル及びその誘導体の混合物は本発明に係わる光学的
記録担体の２Ｐ層に用いられる紫外線硬化型樹脂のベー
スレジンとして使用される。
ペンタエリスリトールのアクリル酸エステル及びその誘
導体の具体例を示すとペンタエリスリトールトリアクリ
レート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジ
ペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエ
リスリトールモノヒドロキシペンタアクリレート等が挙
げられる。
導体の具体例を示すとペンタエリスリトールトリアクリ
レート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジ
ペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエ
リスリトールモノヒドロキシペンタアクリレート等が挙
げられる。
それ等の中でジペンタエリスリトールヘキサアクリレー
トとジペンタエリスリトールモノヒドロキシペンタアク
リレートを合せて５０重量％以上含有する混合物が好ま
しい。
トとジペンタエリスリトールモノヒドロキシペンタアク
リレートを合せて５０重量％以上含有する混合物が好ま
しい。
また、紫外線硬化型樹脂におけるペンタエリスリトール
のアクリル酸エステル及びその誘導体の混合物の含有量
は10〜80重量％、好ましくは20〜40重量％が望ましく、
10重量％未満では樹脂と基板との密着性が低下し、80重
量％をこえると逆に密着性が良すぎて離型が困難にな
る。
のアクリル酸エステル及びその誘導体の混合物の含有量
は10〜80重量％、好ましくは20〜40重量％が望ましく、
10重量％未満では樹脂と基板との密着性が低下し、80重
量％をこえると逆に密着性が良すぎて離型が困難にな
る。
本発明において、前記ペンタエリスリトールのアクリル
酸エステル及びその誘導体の混合物は粘度が高く作業上
単独では使用できないため、またその他の種々の特性を
付与する為に、比較的粘度の低い２官能のアクリル酸エ
ステルを反応性希釈剤として使用する。該反応性希釈剤
の選択にあたっては、粘度、反応速度、硬化時の体積収
縮、柔軟性、基板との密着性、型との離型性、安全性等
を考慮しなければならない。反応速度、体積収縮の点か
ら２官能の反応性希釈剤を用いるのが好適である。反応
速度は生産性に影響を与え、体積収縮は出来上がったデ
ィスクにソリを発生させ平面度を悪くさせる。
酸エステル及びその誘導体の混合物は粘度が高く作業上
単独では使用できないため、またその他の種々の特性を
付与する為に、比較的粘度の低い２官能のアクリル酸エ
ステルを反応性希釈剤として使用する。該反応性希釈剤
の選択にあたっては、粘度、反応速度、硬化時の体積収
縮、柔軟性、基板との密着性、型との離型性、安全性等
を考慮しなければならない。反応速度、体積収縮の点か
ら２官能の反応性希釈剤を用いるのが好適である。反応
速度は生産性に影響を与え、体積収縮は出来上がったデ
ィスクにソリを発生させ平面度を悪くさせる。
２官能反応性希釈剤としては２官能のアクリル酸エステ
ルが用いられ、その具体例を示すとブタンジオールジア
クリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、ヒドロ
キシピバリン酸エステルネオペンチルグリコールジアク
リレート、ジエチレングリコールジアクリレート、トリ
エチレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリ
コールジアクリレート等があげられる。
ルが用いられ、その具体例を示すとブタンジオールジア
クリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、ヒドロ
キシピバリン酸エステルネオペンチルグリコールジアク
リレート、ジエチレングリコールジアクリレート、トリ
エチレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリ
コールジアクリレート等があげられる。
また、紫外線硬化型樹脂中における２官能のアクリル酸
エステルの含有量は10〜80重量％、好ましくは20〜70重
量％が望ましく、10重量％未満では樹脂がやわらかくな
り、耐熱性が低下したり、添加量が少ないために前記の
効果が得られず、80重量％をこえると樹脂と基板との密
着性が低下する。
エステルの含有量は10〜80重量％、好ましくは20〜70重
量％が望ましく、10重量％未満では樹脂がやわらかくな
り、耐熱性が低下したり、添加量が少ないために前記の
効果が得られず、80重量％をこえると樹脂と基板との密
着性が低下する。
本発明において、前記のペンタエリスリトールのアクリ
ル酸エステル及びその誘導体の混合物と２官能のアクリ
ル酸エステルを配合した樹脂だけでは硬く耐熱性のある
樹脂にはなるが硬化時の残留応力が大きく基板との密着
力はかせげないため、応力低減のために柔軟性付与剤と
して柔軟性を与える化合物を添加する。
ル酸エステル及びその誘導体の混合物と２官能のアクリ
ル酸エステルを配合した樹脂だけでは硬く耐熱性のある
樹脂にはなるが硬化時の残留応力が大きく基板との密着
力はかせげないため、応力低減のために柔軟性付与剤と
して柔軟性を与える化合物を添加する。
柔軟性を与えるにしても、単にやわらかくしたのでは成
膜する上で熱がかかってシワになったり、応力の強い膜
をつけると耐久試験を行うとシワやクラックが発生して
使用することができない。したがって、ガラス基板への
密着力が十分となる所まで応力を低減させ、硬度、耐熱
性は十分にある樹脂でなければならない。
膜する上で熱がかかってシワになったり、応力の強い膜
をつけると耐久試験を行うとシワやクラックが発生して
使用することができない。したがって、ガラス基板への
密着力が十分となる所まで応力を低減させ、硬度、耐熱
性は十分にある樹脂でなければならない。
柔軟性付与剤としては可塑剤、ベンゼン環を含むアクリ
ル酸エステル等が適している。可塑剤としては、ジ（２
−エチルヘキシル）フタレートが最適である。ベンゼン
環を含むアクリル酸エステルとしてはフェニルカルビト
ールアクリレート、ノニルフェノキシエチルアクリレー
ト、ジアクリロイル−（ビスエチレングリコール）−フ
タレート等があげられる。
ル酸エステル等が適している。可塑剤としては、ジ（２
−エチルヘキシル）フタレートが最適である。ベンゼン
環を含むアクリル酸エステルとしてはフェニルカルビト
ールアクリレート、ノニルフェノキシエチルアクリレー
ト、ジアクリロイル−（ビスエチレングリコール）−フ
タレート等があげられる。
また、紫外線硬化型樹脂中における柔軟性付与剤の含有
量は２〜40重量％、好ましくは５〜30重量％が望まし
く、２重量％未満では残留反応力が大きくなり、樹脂と
基板との密着性が低下し、40重量％をこえると樹脂がや
わらかくなり、耐熱性が低下する。
量は２〜40重量％、好ましくは５〜30重量％が望まし
く、２重量％未満では残留反応力が大きくなり、樹脂と
基板との密着性が低下し、40重量％をこえると樹脂がや
わらかくなり、耐熱性が低下する。
本発明においては、紫外線照射によって反応を効率良く
開始させる為に光重合開始剤を使用する。
開始させる為に光重合開始剤を使用する。
光重合開始剤としては、吸収波長、吸収係数、反応速
度、酸素阻害等より考えて、ベンゾインメチルエーテ
ル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインブチルエー
テル、ベンゾインイソプロピルエーテルまたは２−ビド
ロキシ−２−メチル−プロピオフェノンから選ばれた一
種または二種以上のものが好ましい。
度、酸素阻害等より考えて、ベンゾインメチルエーテ
ル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインブチルエー
テル、ベンゾインイソプロピルエーテルまたは２−ビド
ロキシ−２−メチル−プロピオフェノンから選ばれた一
種または二種以上のものが好ましい。
また、紫外線硬化型樹脂中における光重合開始剤の含有
量は0.5〜10重量％、好ましくは１〜５重量％が望まし
く、0.5重量％未満では光重合反応が遅く硬化しなくな
り、10重量％をこえとこれ以上添加しても硬化速度は変
らない。
量は0.5〜10重量％、好ましくは１〜５重量％が望まし
く、0.5重量％未満では光重合反応が遅く硬化しなくな
り、10重量％をこえとこれ以上添加しても硬化速度は変
らない。
本発明における紫外線硬化型樹脂には、上記の各成分の
他に、必要に応じて着色剤、充填剤、酸化防止剤、防錆
剤等を配合することができる。
他に、必要に応じて着色剤、充填剤、酸化防止剤、防錆
剤等を配合することができる。
本発明における基板としては、従来一般に使用されてい
る材料、例えばガラス、アクリル樹脂、ポリカーボネイ
ト樹脂等の合成樹脂材料からなるものであればどのよう
なものでも用いることができる。
る材料、例えばガラス、アクリル樹脂、ポリカーボネイ
ト樹脂等の合成樹脂材料からなるものであればどのよう
なものでも用いることができる。
本発明に係わる光学的記録担体は案内溝の形状に対応し
た凹凸を有する型の上に、前記のペンタエリスリトール
のアクリル酸エステル及びその誘導体の混合物、２官能
のアクリル酸エステル、柔軟性付与剤、光重合開始剤を
所定量混合して生成した紫外線硬化型樹脂を塗布した後
に、該樹脂上に基板を載置し、次いで紫外線等を照射し
て樹脂を硬化させ、樹脂を基板に固着して一体化し、型
より剥離することにより容易に得ることができる。
た凹凸を有する型の上に、前記のペンタエリスリトール
のアクリル酸エステル及びその誘導体の混合物、２官能
のアクリル酸エステル、柔軟性付与剤、光重合開始剤を
所定量混合して生成した紫外線硬化型樹脂を塗布した後
に、該樹脂上に基板を載置し、次いで紫外線等を照射し
て樹脂を硬化させ、樹脂を基板に固着して一体化し、型
より剥離することにより容易に得ることができる。
本発明は、上記の各成分を配合した紫外線硬化型樹脂を
用いて基板と一体化して光学的記録担体を形成している
ので、該樹脂の各成分が相剰的に作用して基板との密着
性にすぐれ、離型性が良好になり、また光学的記録担体
に耐久性に優れた特性を付与するものと推定される。
用いて基板と一体化して光学的記録担体を形成している
ので、該樹脂の各成分が相剰的に作用して基板との密着
性にすぐれ、離型性が良好になり、また光学的記録担体
に耐久性に優れた特性を付与するものと推定される。
［実施例］ 以下、実施例および比較例を示し、本発明をさらに具体
的に説明する。
的に説明する。
実施例１ ベースレジンとしては日本化薬（株）製、KAYARADDPHA
（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートとジペン
タエリスリトールモノヒドロキシペンタアクリレートの
混合物）16重量％と大阪有機化学工業（株）製、PETA
（ペンタエリスリトールトリアクリレートとペンタエリ
スリトールテトラアクリレートの混合物）16重量％、２
官能アクリル酸エステルとして日本化薬（株）製、KAYA
RAD HDDA（ヘキサンジオールジアクリレート）55重量
％、硬化物に柔軟性を与える化合物としてジ−（２−エ
チルヘキシル）フタレート８重量％、光重合開始剤とし
てメルク社製、ダルキュア1173（２−ヒドロキシ−２−
メチル−プロピオフェノオン）５重量％を混合した樹脂
を用いてガラス基板に２Ｐ成形を行った。
（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートとジペン
タエリスリトールモノヒドロキシペンタアクリレートの
混合物）16重量％と大阪有機化学工業（株）製、PETA
（ペンタエリスリトールトリアクリレートとペンタエリ
スリトールテトラアクリレートの混合物）16重量％、２
官能アクリル酸エステルとして日本化薬（株）製、KAYA
RAD HDDA（ヘキサンジオールジアクリレート）55重量
％、硬化物に柔軟性を与える化合物としてジ−（２−エ
チルヘキシル）フタレート８重量％、光重合開始剤とし
てメルク社製、ダルキュア1173（２−ヒドロキシ−２−
メチル−プロピオフェノオン）５重量％を混合した樹脂
を用いてガラス基板に２Ｐ成形を行った。
これを、相対湿度10％以下のデシケーター中で24時間放
置した。放置後にJIS K5400によるゴバン目試験を行っ
たところ結果は100/100であり非常に良好な密着性を示
した。
置した。放置後にJIS K5400によるゴバン目試験を行っ
たところ結果は100/100であり非常に良好な密着性を示
した。
次に、前述の方法で作った２Ｐ基板に、真空蒸着法によ
り層厚1200ÅのSiO2の保護層を成膜し、更に、スパッタ
リング法により層厚1000Åの非晶質Gd・Tb・Fe・Coの磁気
記録層を成膜した。次に、前記の保護膜と同様にして層
厚2000ÅのSiO2の保護層を成膜した。
り層厚1200ÅのSiO2の保護層を成膜し、更に、スパッタ
リング法により層厚1000Åの非晶質Gd・Tb・Fe・Coの磁気
記録層を成膜した。次に、前記の保護膜と同様にして層
厚2000ÅのSiO2の保護層を成膜した。
次に、ホットメルト系の接着剤からなる接着層を介して
前記の基板と同様なガラス製の基板を貼り合わせ、光学
的記録媒体を作製した。
前記の基板と同様なガラス製の基板を貼り合わせ、光学
的記録媒体を作製した。
この光学的記録媒体を45℃、相対湿度95％の条件下で10
00hr放置して外観上の変化（シワ、クラック、フクレ）
を見た、結果を表１に示す。
00hr放置して外観上の変化（シワ、クラック、フクレ）
を見た、結果を表１に示す。
実施例２ ジ（２−エチルヘキシル）フタレートの代りに東亜合成
化学工業（株）製のM-5700（２−ヒドロキシ−３−フェ
ノキシプロピルアクリレート、 ）を８重量％含有した樹脂を用いた以外は実施例１と同
様にして光学的記録媒体を作製し外観上の変化を見た。
結果は実施例１と同じであった。
化学工業（株）製のM-5700（２−ヒドロキシ−３−フェ
ノキシプロピルアクリレート、 ）を８重量％含有した樹脂を用いた以外は実施例１と同
様にして光学的記録媒体を作製し外観上の変化を見た。
結果は実施例１と同じであった。
なお、実施例１と同様にゴバン目試験を行ったところ結
果は100/100で実施例１と同じく非常に良好な密着性を
示した。
果は100/100で実施例１と同じく非常に良好な密着性を
示した。
比較例１ 硬化物に柔軟性を与える化合物であるジ（２−エチルヘ
キシル）フタレートを取り除いた組合せの樹脂を用いた
以外は実施例１と同様にして光学的記録媒体を作製し外
観上の変化を見た。結果は実施例１と同じであった。
キシル）フタレートを取り除いた組合せの樹脂を用いた
以外は実施例１と同様にして光学的記録媒体を作製し外
観上の変化を見た。結果は実施例１と同じであった。
なお、実施例１と同様にゴバン目試験を行ったところ結
果は0/100であり密着性は悪かった。
果は0/100であり密着性は悪かった。
比較例２ ベースレジンを取り除きEA-800（エポキシアクリレー
ト）の量を30重量％、HDDA（ヘキサンジオールジアクリ
レート）の量を65重量％にふやした樹脂を用いた以外は
実施例３と同様にして光学的記録媒体を作製し外観上の
変化を見た。結果は表１に示す。
ト）の量を30重量％、HDDA（ヘキサンジオールジアクリ
レート）の量を65重量％にふやした樹脂を用いた以外は
実施例３と同様にして光学的記録媒体を作製し外観上の
変化を見た。結果は表１に示す。
なお、実施例１と同様にゴバン目試験を行ったところ結
果は0/100であり密着性は悪かった。
果は0/100であり密着性は悪かった。
上記の表１の結果から実施例１〜２と比較例１，２を比
べると明らかなように本発明の樹脂が密着性に優れてい
ることがわかる。
べると明らかなように本発明の樹脂が密着性に優れてい
ることがわかる。
また、各樹脂について熱特性を調べるとTg（２次転移
点）が100℃以上あり剛性率も充分高いものは、シワ、
クラックが成膜時、耐久時共に発生していなかった（表
１参照）。Tgが低い比較例２においては成膜時の熱です
ぐにシワ、クラックが発生してしまうため基板を冷却し
ながら成膜し、シワ、クラックが発生しない様にした。
しかし、耐久試験（45℃、95％RH）をすると全てシラ、
クラックが発生してしまった。
点）が100℃以上あり剛性率も充分高いものは、シワ、
クラックが成膜時、耐久時共に発生していなかった（表
１参照）。Tgが低い比較例２においては成膜時の熱です
ぐにシワ、クラックが発生してしまうため基板を冷却し
ながら成膜し、シワ、クラックが発生しない様にした。
しかし、耐久試験（45℃、95％RH）をすると全てシラ、
クラックが発生してしまった。
これらのことから明らかな様に本発明の樹脂が密着性に
優れ、長期間高い信頼性を維持できる光学的記録担体を
作るのに適していることが認められる。
優れ、長期間高い信頼性を維持できる光学的記録担体を
作るのに適していることが認められる。
［発明の効果］ 以上の説明から明らかな様に、本発明に係わる光学的記
録担体は特定の組成からなる紫外線硬化型樹脂を使用し
ているために、樹脂と基板との密着性に優れ、離型性が
よいために生産性が高く、また長期間高い信頼性を維持
することができ、極めて利用価値の高いものである。
録担体は特定の組成からなる紫外線硬化型樹脂を使用し
ているために、樹脂と基板との密着性に優れ、離型性が
よいために生産性が高く、また長期間高い信頼性を維持
することができ、極めて利用価値の高いものである。
Claims (4)
- 【請求項１】基板及び記録層の間に樹脂層を具備し、該
樹脂層は該基板と一体化してなり、且つ該基板と対向し
ない側の表面に案内溝を有してなる光学的記録担体にお
いて、該樹脂層が （Ａ）ペンタエリスリトールのアクリル酸エステル及び
その誘導体の混合物 （Ｂ）２官能のアクリル酸エステル （Ｃ）柔軟性付与剤 （Ｄ）光重合開始剤 を含有し、且つ該柔軟性付与剤としてジ（２−エチルヘ
キシル）フタレート又はベンゼン環を含むアクリル酸エ
ステルを含有してなる紫外線硬化型樹脂の硬化物である
ことを特徴とする光学的記録担体。 - 【請求項２】ペンタエリスリトールのアクリル酸エステ
ル及びその誘導体の混合物がジペンタエリスリトールヘ
キサアクリレートとジペンタエリスリトールモノヒドロ
キシペンタアクリレートを合せて（Ａ）成分の５０重量
％以上含有する特許請求の範囲第１項記載の光学的記録
担体。 - 【請求項３】２官能のアクリル酸エステルがヘキサンジ
オールジアクリレートである特許請求の範囲第１項記載
の光学的記録担体。 - 【請求項４】光重合開始剤がベンゾインメチルエーテ
ル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインブチルエー
テル、ベンゾインイソプロピルエーテルまたは２−ヒド
ロキシ−２−メチル−プロピオフェノンから選ばれた一
種または二種以上の物質である特許請求の範囲第１項記
載の光学的記録担体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60283085A JPH061560B2 (ja) | 1985-12-18 | 1985-12-18 | 光学的記録担体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60283085A JPH061560B2 (ja) | 1985-12-18 | 1985-12-18 | 光学的記録担体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62143242A JPS62143242A (ja) | 1987-06-26 |
| JPH061560B2 true JPH061560B2 (ja) | 1994-01-05 |
Family
ID=17661022
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60283085A Expired - Lifetime JPH061560B2 (ja) | 1985-12-18 | 1985-12-18 | 光学的記録担体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH061560B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02157904A (ja) * | 1988-12-09 | 1990-06-18 | Toshiba Mach Co Ltd | サーボ制御システム |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6284446A (ja) * | 1985-10-09 | 1987-04-17 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | 光デイスク基板 |
| JPS62125551A (ja) * | 1985-11-27 | 1987-06-06 | Canon Inc | 光学的記録担体 |
-
1985
- 1985-12-18 JP JP60283085A patent/JPH061560B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62143242A (ja) | 1987-06-26 |
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