JPH02292745A - 光ディスク - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 く産業上の利用分野〉 本発明は、光ディスク、特に光磁気記録ディスク、相変
化型の光記録ディスク、ビット形成型の光記録ディスク
や、再生専用の光ディスク等に関する。

く従来の技術〉 光ディスクのうち、特に光記録ディスクは、基板上に情
報担持部としての記録層を設層して構成され、その記録
・再生に際しては、通常、基板側からレーザビーム等を
照射することによって行われる。

このため用いる基板は透明なもの、例えば、ガラスや樹
脂から構成されている． この場合、ディスクの軽量化や、トラッキング用のグル
ープやビット形成の容易さの点から、従来光ディスクの
基板としては樹脂製の基板が用いられている． また、最近、高速転送レートを得るために、記録・再生
に際して高速回転が要求されている。

しかし、樹脂製の基板では、剛性が不十分であるため面
ブレが生じ、１８００ｒｐｍ以上、特に３　０　０　０
　ｒｐｍ以上の高速回転駆動時には、フォーカストラッ
キングエラーが増大してしまう。

このため、最近要求されるようになってきた高速回転駆
動、特に１８００ｒｐｍ以上、さらに３　０　０　０　
ｒｐｍ以上の高速回転駆動に対応するためには、機械的
強度の高いガラス製の基板を用いることを考えなければ
ならない。

しかし、ガラス製基板では誤って落としたりぶつけたり
した場合、破損する可能性がある。

また、特に強度の高い化学強化ガラスを用いたときには
、ガラス小片となって破損し、この小片が飛び敗るとい
う不都合もある． 一方記録層のヒッカキ等による機械的損傷を防ぐために
は、基板の記録層設層側に保護基板を設けるか、一対の
基板を記録層が内封されるように一体化する必要がある
． この場合、ガラス基板に、熱膨張率の違いによる剥離を
防止するため、ガラス製の保護基板等を接着すると、デ
ィスクの質量が限界値を超えてしまう。　このため必要
な回転速度，特に安定な高回転速度を得ることが困難と
なる。

また、破損の際の問題は解消しない。

なお、熱膨張率の違いによる剥離を防止するため、樹脂
製基板に、樹脂製の基板ないし保護基板を接着して記録
層の機械的損傷を防止することも可能である。

しかし、この場合も高速回転駆動によるフォーカストラ
ッキングエラーの問題は解消しない。

このような問題、特に高速回転駆動の際の問題を解決す
るには、一対の基版のうち、あるいは基板と保護基板の
うち一方をガラス製、他方を樹脂製とすればよい。

しかし、このように一対の基板のうち、あるいは基板と
保護基板のうち一方をガラス製、他方を樹脂製とする光
ディスクは従来知られていない。

これは、熱膨張率の異なるガラスと樹脂とを接着するこ
とは、過酷な保存条件下に置かれつる光ディスクでは得
策でないと考えられていたからであろうと思われる． ところで米国特許第４，５０３，５３１号には、樹脂製
の基板と樹脂製の基板とを、軟化点１４０℃以下、常態
引張り接着強度が２０℃でＩ　Ｋｇ／ｃｎ＋”以上，溶
融粘度が１６０゜Ｃで１０００Ｐ以下のホットメルト接
着剤によって接着する旨が提案されている。

しかしこのような接着剤は、熱膨張率のほぼ等しい樹脂
製基板と、樹脂製の基板ないし保護基板とを接着する場
合には接着効果を発揮するが、熱膨張率の異なるガラス
製基板と、樹脂製の基板ないし保護基板との接着には適
さない。

つまり、ガラス製基板と、樹脂製の基板ないし保護基板
とを接着剤で一体化した光ディスクには、高温あるいは
低温下、例えば−２０〜５５℃で温度が変化する苛酷な
条件下に保存する場合、熱膨張率の違いにより基板、保
護基板、あるいは記録層、保護コート、接着剤層等の構
成層に応力や歪が発生する。　このため従来の光ディス
クに用いられる接着剤で一体化しても基板と基板、基板
と保護基板、あるいはこれらと各構成層、さらには構成
層と構成層とが剥離してしまうのである． このように、従来の光ディスクに用いられる接着剤によ
りガラス製基板と，樹脂製の基板ないし保護基板とを一
体化して、信頼性の高い光ディスクを得ることは困難で
ある． く発明が解決しようとする課題〉 本発明の目的は、高温および低温下、例えば、−２０〜
５５℃で温度変化する苛酷な条件下に置かれる場合でも
基板と基板、基板と保護基板、これらと保護コート等の
各構成層、さらには構成層と構成層とが剥離することが
な《、しかも面ブレや変形を生じることがなく、安定し
た高速回転を行うことができ、良好な記録・再生特性を
有する光ディスクを提供することにある。

〈課題を解決するための手段〉 このような目的は下記の（１）〜（６）の本発明によっ
て達成される． （１）一対の基板を有し、少なくとも一方の基板に情報
担持部を形成し、この情報担持部が内封されるように、
前記一対の基板を接着剤により一体化した光ディスクで
あって、前記一対の基板のうち、一方がガラス製であり
、他方が樹脂製であり、前記接着剤のガラス転移温度Ｔ
ｇが、−６０〜−ｌＯ℃であることを特徴とする光ディ
スク （２）前記一対の基板のうち、ガラス製基板上に情報担
持部を形成し、これを樹脂製の保護基板と一体化した上
記（１）に記載の光ディスク． （３）前記情報担持部が記録層である上記（１）または
（２）に記載の光ディスク。

（４）前記記録層が希土類金属元素を含有し、この記録
層上に樹脂製の保護コートが設層されている上記（３）
に記載の光ディスク。

（５）前記接着剤のヤング率が、−２０℃、１０Ｈｚに
て１　０　０　Ｋｇｆ／ｍｍ”以下である上記（１）な
いし（４）のいずれかに記載の光ディスク。

（６）前紀接着剤の力学的損失係数ｔａｎδが、−２０
℃、ｌＯＨｚにて０，１以上である上記（１）ないし（
５）のいずれかに記載の光ディスク。

く作用〉 本発明の光ディスクは、少なくとも一方に記録層等の情
報担持部を有するガラス製の基板と樹脂製の保護基板と
が、−６０〜−１０℃のガラス転移諷度Ｔｇを有する接
着剤により一体化される。　このため高温あるいは低温
下、例えば−２０〜５５℃で温度変化する苛酷な条件下
に保存する場合であってもガラス製基板と樹脂製基板間
、あるいはこれらと保護コート等の各構成層間、さらに
は構成層と構成層間に生じる応力や歪み等が接着剤層に
より吸収あるいは緩和され、剥離を完全に防止すること
ができる。

従って、一対の基板のうち一方をガラス製、他方を樹脂
製とする軽量かつ剛性の光ディスクを実現することがで
きしかも十分な信頼性を得ることができる。

そして、本発明の光ディスクによれば、１　８　０　０
　ｒｐｍ以上、特に３　０　０　０　ｒｐｍ以上の安定
な高速回転駆動を容易に行うことができ、その際面ブレ
や変形も防止することができる。

また、一方の基板は樹脂製であるため、光ディスクを落
としたりしたときの破損や、破損したときのガラス飛散
も防止することができる。

特に、ガラス製の基板上に記録Ｍ等の情報担持部を形し
、これを樹脂製の保護基板と一体化した光ディスクによ
れば、記録・再生上の障害となる複屈折を防止すること
ができる。　そして記録・再生を行うガラス製基板側は
、耐熱性、耐湿性に優れるため、高温ないし低温および
高湿ないし低湿下での長期間の保存によっても変形や変
質等がほとんど生じない。

なお、本発明における情報担持部とは、再生専用ディス
クにおけるように、情報を予め担持しているもの、およ
び記録・再生ディスクにおけるように情報を担持させつ
る記録層の双方を指すものである。

〈具体的構成〉 以下、本発明の具体的構成を詳細に説明する。

第１図に、本発明の光ディスクの好適実施例として、光
磁気記録ディスクの１例を示す。

第１図に示される光磁気記録ディスク１は、基板２上に
、樹脂層３、保護層４、中間Ｈ５、情報担持部としての
記録層６、保護層７、保護コート８、接着剤層９、保護
基板１０を順次有する。

本発明において、基板２は、記録光および再生光に対し
て透明なものであり、樹脂製あるいはガラス製、好まし
《はガラス製とする。

基板２をガラスにより構成すれば、耐熱性、耐湿性が向
上し、複屈折もほとんど生じない。

基板２の形状は、ディスク状である。

基板２の直径は通常５０〜３　６　０　ｍｍ程度であり
、その厚さは、０．５〜２ｍｍ程度である。

基板２を樹脂製とする場合は、剛性の樹脂を用いる。

この場合、用いる樹脂に制限はないが、例λばアクリル
樹脂、ポリカーボネート、エボキシ樹脂、ポリメチルベ
ンテン、ポリオレフィン等が好適である。

基板２は、公知の方法に従い製造すればよい。　例えば
樹脂製基板の場合には、射出成形等を用い、基板表面に
、トラッキング用、アドレス用等のために、ビットある
いはグループ等の所定のパターンを同時に形成すればよ
い。

なお、この場合、｛酎脂層３は設店されない。

基板２をガラス製とする場合は、強化ガラスから構成す
ることが好ましい。　強化ガラスを用いることにより、
より高い剛性やより優れた耐候性、耐久性が得られる。

強化ガラスには、その強化法から物理強化ガラスと化学
強化ガラスとがあり、用途に応じて使用されている。

本発明で用いる強化ガラスに特に制限はなく、通常の強
化法を用いて強化したガラスが使用されるが、好ましく
は化学強化ガラスを使用する。

化学強化ガラスは、例えば、ガラス構成元素としてのア
ルカリ金属イオンの一部を外部から供粕される他種アル
カリ金属イオンと交換することにより、特にＬｉとＮａ
およびＮａとＫの交換によりガラス内に圧縮応力層を形
成し、機械的強度を高めたガラスである。

化学強化処理は、通常、硝酸塩、硫酸塩等のアルカリ塩
を加熱溶融し、溶融液中に被処理ガラスを数時間から数
十時間程度浸漬することにより行なわれる。

このような化学強化処理により作製されたガラスは，通
常、ガラス表面付近だけに圧縮応力層が形成された表面
強化ガラスとなる。　この場合、圧縮応力層の厚さは１
０〜２００μｍ、持に３０〜７５μｍ程度であることが
好ましい。

用いる化学強化ガラスとしては、ソーダ・石灰・ケイ酸
ガラス等に上記の化学強化処理を施したものであっても
よいが、特に機械的強度が高いことから、アルミナケイ
酸ガラスに化学強化処理を施したものを用いることが好
ましい。

アルミナケイ酸ガラスとしては、機械的強度が高いこと
から、ＡＪ２２　０３含有岱がｌｏｗｔ％以上であるこ
とが好まし《、特に、Ｉ５〜３０ｗｔ％のＡｆｆ２０３
を含有するものを用いることが好ましい。

本発明で好適に用いられるアルミナケイ酸ガラスの組成
範囲を、以下に示す。

？　ｉ　Ｏ　■　　　　　　　　　　　　５　０〜６　
０ｗｔ％Ａ４２　２　０　３　　　　　　　　　　１　
　５　〜３　　０ｗｔ％Ｂａ　　Ｏｓ　　　　　　　　
　　　　　　　１”−１　　０ｗｔ％Ｒ　　ａ０　　　
　　　　　　　　　　　１　　０〜２　　５ｗｔ％Ｒ”
Ｏ　　　　　　　　　　　　　　　ｌ　〜　ｌｏｗｔ％
（ただし、Ｒ１およびＲｌ＋は、それぞれｌ価および２
価の金属） Ｔ　ｉ　Ｏ　ａ等　　　　０〜５ｗｔ％そして、Ｋ゜置
換率は、０　．　０　１　〜ｌ　ｍｇ／ｃｍ’程度であ
ることが好ましい。

ガラス製の基板２を用いる場合は、基阪２上には、樹脂
層３が設層されることが好ましい。

樹脂層３は、その表面に、トラッキング用、アドレス用
等のために、ビットあるいはグループ等の所定のパター
ンを有する。　なお樹脂層３を設けず、化学エッチング
等により所定のパターンを形成してもよい。

樹脂層３を構成する樹脂材質に特に制限はな《、いわゆ
る２Ｐ法に用いられる公知の樹脂がら、適当に選択すれ
ばよい。　　２Ｐ法には、通常、放射線硬化型化合物が
用いられ、本発明では、例えば、多官能エステルアクリ
レート、多官能ウレタンアクリレート、多官能エボキシ
アクリレート等に属するモシマーを２〜３成分混合して
、あるいはこれらモノマーにポリエステルアクリレート
、オリゴエステルアクリレート，ポリウレタンアクリレ
ート、オリゴウレタンアクリレート等を混合し、光重合
開始剤Ｉｒｇ−９０７、６５１等を加えたもの等を好適
に用いることができる。

このような樹脂層３の設層は、公知の２Ｐ法により行な
うことが好ましい。

２Ｐ法では、まず、所定のパターンを有するスタンパ表
面に放射線硬化型化合物を展着し、この放射線硬化型化
合物層上にガラス基板を圧接する。　この圧接により、
スタンパ表面のパターンを層表面に転写する。　次いで
、ガラス基板を通して放射線を照射することにより硬化
させて、樹脂とガラス基板とを接着する。　この後、樹
脂とスタンパとを剥離する。

以上の工程により、スタンバのパターンが転写された樹
脂層を、ガラス基板の表面に形成する。

このようにして形成される樹脂層３の層厚は、好ましく
は５〜１００μｍ、より好まし《は１０〜３０−である
。

中間暦５は、Ｃ／Ｎ比を向上させるために設けられ、各
種誘電体物質から形成されることが好まし《、そのＭ厚
は３０〜１５０ｎｍ程度であることが好ましい。　また
、設層方法は、スパッタ法等の気相成膜法を用いること
が好ましい。

なお、このような中間層材質を後述する記録層６の上に
保護層７として設けて、前記中間層５と併用することも
できる。　併用する場合には、中間層５と保護層７の組
成は同一であっても異なっていてもよい。

保護Ｍ４および保護層７は５記録Ｎ６の耐食性向上のた
めに設けられるものであり、これらは少なくとも一方、
好ましくは両方が設けられることが好ましい。　これら
保護層は、各種酸化物，炭化物、窒化物、硫化物あるい
はこれらの混合物からなる無機薄膜から構成されること
が好ましい。　また、前述したように、上記の中間層材
質で形成してもよい。　保護層の層厚は３０〜３　０　
０　ｎｍ程度であることが耐食性向上の点から好ましい
。

このような保護層は、スバッタ法等の各種気相成膜法等
によって形成されることが好ましい。

記録層６は、変調された熱ビームあるいは変調された磁
界により、情報が磁気的に記録されるものであり、記録
情報は磁気一光変換して再生されるものである。

記録層６は、光磁気記録が行なえるものであればその材
質に特に制限はないが、希土類金属元素を含有する合金
、特に希土類金属と遷移金属との合金を、スバッタ，蒸
着法等により、非晶質膜として形成したものであること
が好ましい． 希土類金属としては、Ｔｂ，Ｄｙ，Ｎｄ、Ｇｄ．Ｓｍ，
Ｃｅのうちの１種以上を用いることが好ましい． 遷移金属としては、ＦｅおよびＣｏが好ましい． この場合、ＦｅとＣｏの総含有量は，６５〜８５ａｔ％
であることが好ましい． そして、残部は実質的に希土類金属である． 好適に用いられる記録層の組成として は、ＴｂＦｅＣｏ％ＤｙＴｂＦｅＣｏ，ＮｄＤｙＦｅＣ
ｏ％ＮｄＧｄＦｅＣｏ等がある． なお、記録層中には、ｌＯａｔ％以下の範囲でＣｒ１Ａ
Ａ、Ｔｆ．Ｐｔ％Ｓｉ、Ｍｏ，Ｍｎ、■、Ｎｉ．Ｃｕ％
Ｚｎ％Ｇｅ％Ａｕ等が含有されてもよい．“ また、ｌｏａｔ％以下の範囲で、Ｓｃ，Ｙ、Ｌａ．Ｃｅ
％Ｐｒ％Ｐｍ％Ｓｍ．Ｅｕ．Ｈｏ．Ｅｒ．Ｔｍ，Ｙｂ，
Ｌｕ等の他の希土類金属元素を含有してもよい。

このような記録層６の層厚は、通常、１０〜１０００ｎ
ｍ程度である． このような記録層は、蒸着法，スバッタ法、イオンプレ
ーティング法等のドライコーティング方式等を用いて設
層すればよい。　そしてその設層厚さは２　０　ｎｍ＝
　１μ程度とされる。

保護コート８は耐食性や、耐擦傷性の向上のために設け
られるものであり、種々の有機系の物質から構成される
ことが好ましいが、特に、電子線、紫外線等の放射線に
より硬化可能な放射線硬化型化合物を，放射線硬化させ
た物質から構成されることが好ましい． そしてこのような保護コート８の形成に用いる放射線硬
化型化合物には、オリゴエステルアクリレートが含まれ
ることが好ましい．オリゴエステルアクリレートは、ア
クリレート基またはメタクリレート基を複数有する才リ
ゴエステル化合物である。　そして好ましいオリゴステ
ルアクリレートとしては、分子量１　０００〜１　００
００、好まし《は２０００〜７０００であって、重合度
２〜ｌＯ、好ましくは、３〜５のものが挙げられる．　
また、これらのうちアクリレート基またはメタクリレー
ト基を２〜６個、好ましくは３〜６個有する多官能オリ
ゴエステルアクリレートが好まし，い，多官能オリゴエ
ステルアクリレートとしてはアロニックスＭ−７　１　
００、Ｍ−５４００、Ｍ−５５００．Ｍ−５７００．Ｍ
−６２５０、Ｍ−６５００．Ｍ−８０３０．Ｍ−８０６
０、Ｍ−８１００等（東亜合成化学社製）として市販さ
れているものを用いることができ、これらは下記式（Ａ
）、（Ｂ）で示されるものである。

（Ａ） （Ｂ） Ａ−＋Ｍ−Ｎ＋．−Ｍ−Ａ Ａ：アクリレート基またはメタクリレート基、　Ｍ：２
価アルコール（例えば、エチレングリコール、ジエチレ
ングリコール、１，６一ヘキサングリコール、ビスフェ
ノールＡ等）残基、Ｎ：２塩基＃（例えば、テレフタル
酸、イソフタル酸、アジビン酸、コハク酸等）残基、ｎ
：ｌ〜ｉｏ、好まし《は２〜５ これらのうちでは，（Ａ）で示されるものが好ましい． このようなオリゴエステルアクリレートは単独で使用し
てもよい． また、他の放射線硬化型化合物を併用してもよい．　そ
のような場合、オリゴエステルアクリレートは、放射線
硬化型化合物中２０ｉｖｔ％以上存在することが好まし
い． 上記のオリゴエステルアクリレートには、他の放射線硬
化型化合物を併用することができ、このようなものとし
ては、イオン化エネルギーに感応し、ラジカル重合性を
示す不飽和二重結合を有するアクリル酸、メタクリル酸
、あるいはそれらのエステル化合物のようなアクリル系
二重結合、ジアリルフタレートのようなアリル系二重結
合，マレイン酸、マレイン酸誘導体等の不飽和二重結合
等の放射線照射による架橋あるいは重合する基を分子中
に含有または導入したモノマー　オリゴマーおよびボリ
マー等を挙げることができる。　これらは多官能、特に
３官能以上であることが好ましい． 放射線硬化型七ノマーとしては、分子量２０００未満の
化合物が、オリゴマーとしては分子ｆｆｉ２０００〜１
　００００のものが用いられる。

これらはスチレン、エチルアクリレート，エチレングリ
コールジアクリレート、エチレングリコールジメタクリ
レート、ジエチレングリコールジアクリレート、ジエチ
レングリコールメタクリレート、１．６−ヘキサングリ
コールジアクリレート、１，６−ヘキサングリコールジ
メタクリレート等も挙げられるが、特に好ましいものと
しては、ペンタエリスリトールテトラアクリレート　（
メタクリレート）　ペンタエリスリトールアクリレート
（メタクリレート），トリメチロールプロパントリアク
リレート（メタクリレート）、トリメチロールプロパン
ジアクリレート（メタクリレート）、ウレタンエラスト
マー（ニッポラン４０４０）のアクリル変性体、あるい
はこれらのものにＣＯＯＨ等の官能基が導入されたもの
、フェノールエチレンオキシド付加物のアクリレート（
メタクリレート）、特願昭６２−０７２８８８号に示さ
れるペンタエリスリトール縮合環にアクリル基（メタク
リル基）またはε一カブロラクトンーアクリル基のつい
た化合物，および特願昭６２−０７２８８８号に示され
る特殊アクリレート類等が挙げられる． また，放射線硬化型オリゴマーとしては、ウレタンエラ
ストマーのアクリル変性体，あるいはこれらのものにＣ
ＯＯＨ等の官能基が導入されたもの等が挙げられる。

また、上記の化合物に加えて、あるいはこれにかえて熱
可塑性樹脂を放射線感応変性することによって得られる
放射線硬化型化合物を用いてもよい。

このような放射線硬化性樹脂の具体例としては、ラジカ
ル重合性を示す不飽和二重結合を有するアクリル酸，メ
タクリル酸、あるいはそれらのエステル化合物のような
アクリル系二重結合、ジアリルフタレートのようなアリ
ル系二重結合、マレイン酸、マレイン酸誘導体等の不飽
和結合等の，放射線照射による架橋あるいは重合する基
を熱可塑性樹脂の分子中に含有、または導入した樹脂で
ある． 放射線硬化性樹脂に変性できる熱可塑性樹脂の例として
は、塩化ビニル系共重合体，飽和ポリエスルテル樹脂、
ポリビニルアルコール系樹脂、エボキシ系樹脂，フエノ
キシ系樹脂、繊維素誘導体等を挙げることができる，そ
の他、放射線感応変性に用いることのできる樹脂として
は、多官能ポリエステル樹脂、ポリエーテルエステル樹
脂、ポリビニルビロリドン樹脂および誘導体（ＰＶＰオ
レフィン共重合体）、ボリアミド樹脂、ポリイミド樹脂
、フェノール樹脂、スビロアセクール樹脂、水酸基を含
有するアクリルエステルおよびメタクリルエステルを重
合成分として少くとも一種含むアクリル系樹脂等も有効
である． このような放射線硬化型化合物の保護コート８の膜厚は
０．１〜１００μｍ、より好ましくは５〜３０μｍ程度
とすることが好ましい。

この膜厚が０．１一未満になると、一様な膜を形成でき
ず、湿度が高い雰囲気中での防湿効果が十分でな《、記
録層６の耐久性が向上しない。　また、１００−をこえ
ると、樹脂膜の硬化の際に伴う収縮により記録媒体の反
りゃ保護膜中のクラックが生じることになる． このような塗膜は、通常、スビンナーコート、グラビア
塗布、スプレーコート、ディッピング等、種々の公知の
方法を組み合わせて設層すればよい。　この時の塗膜の
設層条件は、塗膜組成の混合物の粘度、目的とする塗膜
厚さ等を考慮して適宜決定すればよい。

本発明において塗膜に照射する放射線としては、紫外線
、電子線等が挙げられるが、紫外線が好ましい。

紫外線を用いる場合には、前述したような放射線硬化型
化合物の中には、通常、光重合増感剤を加えることが好
ましい。

本発明に用いる光重合増感剤としては、特願昭６２−０
７２８８８号等に記載されている化合物が好適である。

保護基板１０は、記録層６の損傷等を有効に防止するた
めに設けられるものである。

そして、ガラス製の基板２に用いる保護基板１０は樹脂
製とし、樹脂製の基板２に用いる保護基板ｌＯはガラス
製とする。

このように一対の基板２、１０のうち一方をガラス製、
他方を樹脂製とすることにより、軽量でしかも高い剛性
を有するディスクが得られる。　このため面ブレのない
安定した高速回転駆動、例えば３　０　０　０　ｒｐｍ
以上の回転駆動を行うことができる。

さらに、一方の基板が樹脂製であるため、ディスクヶ落
としたりしたときの破損の防止や、割れた場合のガラス
飛敗の防止も図ることができる。

本発明において特に好ましいものは、ガラス製の基板２
と樹脂製の保護基板１０とを一体化するディスクである
。

つまり、このディスクによれば前述した複屈折の防止や
耐候性耐久性の向上に加え、高速回転駆動時の面ブレを
一層低減することができる。

本発明の保護基板１０に用いるガラスや｛も｛脂に制限
はな《、例えば不透明なものであってもよい。

なお、記録・再生は通常基板２側から行われるが、保護
基板１０として、透明なガラスや樹脂を用いれば、保護
基板ｌＯ側から記録・再生を行うこともできる。

ガラス製保護基板１０には、例えば、前述のガラス製基
板２に用いることができるガラス等を用いることができ
る。　そして、この場合も強化ガラス、特に化学強化ガ
ラスが好ましい。

また、樹脂製保護基板ｌＯには、剛性の樹脂例えば、ボ
リカーボネート、アクリル樹脂、ポリオレフィン等が好
適である。

保護基板１０の厚さは、゛剛性を確保するために、０，
５〜２．０ｍｍ程度とする。

そして、保護基板ｌＯの形状は、基板２の形状に合わせ
ればよい。

本発明では保護基板ｌＯは、接着剤層９により基扱２と
一体化される。

接着剤層９にはガラス転移温度Ｔｇが−６０〜−１０℃
、好まし《は−４０〜−１５℃の接着剤を用いる。

前記範囲未満では、フローボイト（ＦＰ）が低《、高温
、例えば４５〜５０℃程度で接着剤が流出してしまう。

前記範囲をこえると、低，温、例えば−１０℃以下で接
着力が消失してしまう。

ここにフローポイント（ＦＰ）とは、接着剤が流動する
温度である。　これらガラス転移温度Ｔｇおよびフロー
ポイント（ＦＰ）の測定は、粘弾性測定装置を用い、強
制振動法により、加振周波数１０Ｈｚ（正弦波）で行う
。　この場合．Ｔｇは損失弾性率Ｅ　”のピークを生じ
る温度より求め、ＦＰは、Ｔｇ以上の高温側でのヤング
率Ｅ゛が急激に減少する温度より求める。

このようなガラス転移温度Ｔｇを有する接着剤のフロー
ポイント（ＦＰ）は、通常６０〜７０℃程度である。

また、本発明に用いる接着剤は、ヤング率が−２０℃、
１０Ｈｚにて１　０　０　Ｋｇｆ／ｍｍ”以下、特に３
〜ｌ　Ｏ　Ｏ　Ｋｇｆ／ｍｍ”のものが好ましい。

前記範囲をこえると、基板２と保護基板１０間、あるい
は、これらと保護コート８等の各構成層間、さらには構
成層と｛Ｍ成層間に生じる応力や歪を接着剤層９により
吸収あるいは緩和することが困難である。

例えば、−２０〜５５゜Ｃで温度が変化する苛酷な条件
下に置くと、保護コー１・８等の構成層が基板２あるい
は他の構成層から剥離してしまう。

またヤング率があまり低いと高温側でのヤング率がさら
に減少し、接着力が低下してしまう。

このためヤング率は、前記のとおり特に３〜１　０　０
　Ｋｇｆ／ｍｍ”であることが好ましい。

さらに接着剤は、力学的損失係数ｔａｎδが−２０℃、
１０Ｈｚにて０．１以上、特に０．２〜１．５のものが
好ましい。

前記範囲未満では粘着性が低《、十分な接着強度を得る
ことが困難である。　例えば、−２０〜５５℃で温度が
変化する苛酷な条件下に置くと、接着剤層９が、保護基
板１０、基板２あるいは保護コート８等の構成層から剥
雌してしまう。

また、　ｔａｎδがあまり高いと基板２０反り、あるい
は衝撃等の外部応力が働いた場合に、保護基板１０のず
れが起こる可能性がある。

このためｔａｎδは、前記のとおり特にＯ、２〜１．５
であることが好ましい。

この場合、ヤング率および力学的損失係数ｔａｎδは以
下のようにして測定される。

接着剤を例えば離型紙上にロールコータ等を用い、厚さ
１００〜５００戸となるように塗布する。　乾燥後、離
型紙から剥離し、粘弾性測定装置を用い、強制振動法に
より加振周ａｙＡ１０Ｈｚ（正弦波）にて，−５０　〜
８０℃間で測定する。

このような特性の接着剤としては、ホットメルト系接着
剤が好ましい． ホットメルト系接着剤は一般に、ベースボリマーを主体
とし、これに粘着付与剤、軟化剤、可塑剤、ワックス等
の添加剤を加えて構成される。

本発明に用いられる接着剤の各構成成分に制限はないが
、ペースボリマーとしては、ポリオレフィン系樹脂、例
えば、ポリエチレン、ボリプロビレン、ボリスチレンや
これらを含む共重合体等の１種または２種以上の混合物
等、さらに、これらに他のポリオレフイン、ポリオレフ
ィン系共重合体、合成ゴム等を加えたものを用いればよ
い。

これらのうち、ポリスチレンーボリブロビレン共重合体
、ポリスチレンーボリイソブレン共重合体、ポリスチレ
ンーポリブタジエン共重合体等、 特にポリスチレンーアタクチツクボリブロビレン共重合
体、ポリスチレンーボリイソブレン共重合体等が好適で
ある。

この場合、ペースボリマーの分子量は、１０万〜３０万
程度が好ましい。

本発明に用いる接着剤は、ベースボリマ−１００重量部
に対し、粘着付与剤を１００〜６００重量部程度添加し
たものが好ましい。

粘着付与剤としては、各種天然樹脂やその変成品あるい
は各種合成樹脂等が挙げられ、これらのうち、ロジン、
ロジン誘導体、ビネン系｛６｛脂、石油樹脂等が好適で
ある。

用いる接着剤は、さらに，ベースボリマー１００重量部
に対し、軟化剤を０〜１００重１部程度添加したものが
好ましい。

軟化剤としては、公知の各種軟化剤が用いられる。

また、可塑剤、ワックスは必要に応じ添加される。

可塑剤としてはフタル酸エステル系、リン酸エステル系
、脂肪酸エステル系、アジビン酸エステル系、多価アル
コールエステル系、エボキシ系等が挙げられる。

ワックスとしては、パラフィンワックス、低分子屋ポリ
エチレンワックス等を用いればよい。

そして、必要に応じて紫外線吸収剤、充填剤、考化防止
剤等が添加されてもよい。

接着に際しては、例えばホットメルト系接着剤を用いる
ときには、ロールコータ等を用いればよい。

接着剤層９の厚さは、ｌｏ〜１００４、特に５０〜８０
−とすることが好ましい． この場合、層厚が前記範囲未満であると接着力が不十分
であり、前記範囲をこえると耐久性が低下する。

本発明ではこのような特性の接着剤を用いることにより
、熱膨張率の異なるガラスおよび樹脂により構成される
基板２と保護基板１ｏとの強固な接着が可能となる。

つまり、基板２には、情報担持部としての記録Ｈ６や保
護コート８等の各構成層が形成されているが、基板２，
保護基板ｌｏおよび各構成層相互間に生じる応力や歪は
接着剤層９により吸収ないし緩和される． このため、例えば本発明の光磁気記録ディスク１を−２
０〜５５℃で温度変化する苛酷な条件下に置いても、基
板２、保護基板１０および各構成層相互間の剥離を防止
することができる。

なお、ガラスの熱膨張率は８〜９×１０ｄｅｇ−　’程
度であり，樹脂の熱膨張率は５〜６×１　０−’ｄｅｇ
−’程度である． 以上では、本発明の光ディスクを片面記録型の光磁気記
録ディスクに適用する場合を説明したが、両面記録型の
光磁気記録ディスクにも適用することができる． 両面記録型の光磁気記録ディスクは、前述した各構成層
を有するガラス製の基板２と、樹脂製の基板２とを情報
担持部としての記録層７が内封されるように、接着削Ｎ
９により接着して得られる。

この場合も、前述した片面記録型の光磁気記録ディスク
と同様の効果を得ることができる。

また本発明は、この他、いわゆる相変化型等の記録層を
有し、反射率変化により記録・再生を行なう光記録ディ
スクにも適用することができる。

このような記録暦としては、例えば、特公昭５４−４　
１　９０２号、特許第１００４８３５号などに記載のＴ
ｅ．Ｓｅ系合金、特開昭５８−５４３３８号、特許第９
７４２５７号、特許第９７４２５８号、特許第９７４２
５７号記載のＴｅ酸化物系、その他各種Ｔｅ．Ｓｅを主
体とするカルコゲン系、 Ｇｅ−Ｓｎ，Ｓｉ−Ｓｎ等の非晶質一結晶質転移を生じ
る合金 Ａｇ−Ｚｎ．Ａｇ−Ａｌｌ−Ｃｕ．Ｃｕ−Ａ４２等の結
晶構造変化によって色変化を生じる合金、Ｉｎ−Ｓｂ等
の結晶粒径の変化を生じる合金などがある。

また、ビット形成により反射率変化を生じるいわゆるビ
ット形成型の記録層を有する光記録ディスクにも適用す
ることができる． ビット形成型の記録暦には、シアニン系、フタ口シアニ
ン系、ナフタロシアニン系、アントラキノン系、アゾ系
、トリフェニルメタン系、ビリリウムないしチアビリリ
ウム塩系等の色素系、あるいはＴｅを主体とするＴｅ系
等の材料が用いられる。

この他、本発明は、再生専用の光ディスクであってもよ
い。　ただ、好ましくは、上記のうち情報担持部が記録
層である光記録ディスクであり、最も好ましいのは、希
土類金属元素等の腐食性を有する金属を含有する記録店
を有する光記録ディスクである。

このときには、保護基板１０として樹脂を用いても、前
記の保護コート８を設層することにより、樹脂をとおし
ての酸素や水分の透過を阻止でき、本発明の効果に加え
、高い信頼性かえられるからである。

この場合、前記保護コート８の厚さ範囲にて、保護基板
ｌＯの厚さ０．５〜２．０ｍｍの範囲において十分な効
果を発揮する。

加えて、保護コート８を介して樹脂製の保護基板１０を
接着するときには、ガラスと樹脂という熱膨張係数の著
しく異なる２種の材料間の熱膨張率の違いを接着剤層９
に加えて、保護コート８も吸収するので、高温および低
温における保存性はきわめて高いものとなるという効果
が発現する． 本発明の光ディスクは、１　０　０　ｒｐｍ以上の回転
速度にて駆動されて記録および再生を行う。

この際，記録・再生は公知の方式に従えばよい。

そして、本発明では、ｌ　８　０　０　ｒｐｍ以上，特
に３　０　０　０　ｒｐｍ以上、より好ましくは３００
０〜５　０　０　０　ｒｐｍの回転駆動にて十分な特性
を与えるものである。

〈実施例〉 以下、本発明の具体的実施例を挙げ、本発明をさらに詳
細に説明する。

［実施例ｌ］ ガラス製基板２に、順次樹脂層３、ガラス保護層４、Ｓ
ｉＮｘの中間層５、ＴｂＦｅＣｏ記録層６、ＳｉＮｘ保
護層７、および保護コート８を形成し、最後に接着剤層
９により樹脂製保護基板１０を接着して第１図に示され
る片面記録型の光磁気記録ディスクを製造した。

ガラス製基板２は、アルミナケイ酸系の化学強化ガラス
とし、外径２００ｍｍ、厚さ１．２ｍｍのディスク状と
した． また、樹脂製保護基板１０は、材料にポリカーボネート
を用い、基板２と同一サイズのディスク状とした。

樹脂層３は２Ｐ法で形成し、その表面にはトラッキング
用グループを形成した。　また保護層４、中間層５、記
録層６および保護Ｎ７の形成にはスパッタ法を用いた。

また、保護コート８は、オリゴエステルアクリレートを
塗布後、紫外線照射して架橋硬化させることにより、１
０−に設層した。

接着剤層９は、ロールコー夕により設層し、その厚さを
８０ｐｍとした。

そして、それぞれ組成の異なる接着剤を用いた光磁気記
録ディスクサンプルＮＯ．１〜Ｎｏ．３を製造した。

各サンプルの接着剤層９には、下記に示されるペースボ
リマーおよび添加剤として石油樹脂、ビネン系樹脂等を
含有するホットメルト系接着剤を用いた。

サンプルＮｏ．ｌ（本発明）のベースボリマーポリスチ
レンーアタクチックボリプロピレン共重合体（分子量１
０万）：１００重量％サンプルＮｏ．２（本発明）のベ
ースボリマーボリスチレンーボリイソブレン共重合体（
分刊１２万）：１５重量％ ポリスチレンーボリイソブレン共重合体（分刊Ｌ３万）
二８５重量％ サンプルＮｏ．３（比較）のベースボリマースチレンー
アタクチックボリブロビレン共重合体（分子量７万）７
２０Ｍ量％ スチレンーアタクチックボリプロピレン共重合体（分子
量ｌ３万）：８０重量％ また各サンプルの接着剤層９のガラス転移温度Ｔｇ．フ
ローポイント（ＦＰ）、−２０℃、１０Ｈｚでのヤング
率および力学的損失係数ｔａｎδは表１に示されるとお
りである。

なお、ガラス転移温度Ｔｇおよびフローポイント（ＦＰ
）の測定は、岩本製作所製粘弾性スペクト口メータを用
い、強制振動法により加振周波数（正弦波）１０Ｈｚで
行った。

また、ヤング率および力学的損失係数ｔａｎδの測定は
以下のようにして測定した。

接着剤を離型紙上にロールコー夕を用いて厚さ１００〜
５００μｍとなるように塗布し、乾燥させた。　得られ
た接着剤層を離型紙から剥離し、岩本製作所製粘弾性ス
ペクト口メータにより、加振周波数（正弦波）１０１＋
ｚにて、−５０〜８０℃間で測定した。

これらの各サンプルに対し、下記の試験を行った。

（熱衝撃試験） サンプルを−２０℃の雰囲気中に入れ３０分間保存し、
その後、サンプルを入れたまま雰囲気の温度を５秒間で
５５℃に昇温する。　そして、５５℃の雰囲気中に３０
分間保存後、５秒間で−２０℃に冷却する。

以上を１サイクルとし、２０サイクル行った。

（サイクル試験） サンプルを温度−２０℃の雰囲気中に入れ，４．５時間
保存する。　その後サンプルを入れたまま雰囲気の温度
を速度１０℃／時間で５５℃に昇温し、湿度を８０％Ｒ
Ｈに保つ。

そして、５５℃、８０％ＲＨの雰囲気中に４．５時間保
存後、速度ｌＯ℃／時間で−２０℃に冷却する。

以上を１サイクルとし、１４サイクル行った。

結果は表１に示されるとおりである。

表１の結果より本発明の効果が明らかである。

この場合、比較サンプルＮＯ．３は、熱衝撃試験では、
１０サイクル以下で表１に示されるように１０個中８個
が剥離した。

なお、熱衝撃試験およびサイクル試験でのガラス製基板
２と、樹脂製保護基板ｌＯとの剥雌は、接着剤層９と保
護コート８との間で生じた。

く発明の効果〉 本発明の光ディスクでは、情報担持部が内封されるよう
に一対の基板が・一体化されるため，情報担持部、例え
ば記録層の損傷を十分に防止することができる。

そして、一方の基板がガラス製であり、他方の基板が樹
脂製であるため、十分高い剛性を有し、質量の軽減も図
ることができる。

このためｌ　８　０　０　ｒｐｍ以上，特に３００ｏｒ
ｐｍ以上の安定した高速回転駆動を容易に行うことがで
き，しかも面ブレや変形も防止することができる。

従って本発明の光ディスクによれば、高速回転駆動時に
おいても良好な記録・再生特性が得られる。

さらに、一方の基板は樹脂製であるため、光ディスクを
落としたりしたときの破損や、破損した場合のガラス飛
散を防止することができる。

また、ガラス製基板と樹脂製基板とは、ガラス転移温度
Ｔｇが−６０〜−ｌＯ℃の接着剤層により一体化される
。

このため、熱膨張率の違い等により生じるガラス製基板
と樹脂製基板間、あるいはこれらと保護コート、記録店
、接着剤層等の各構成層間、さらには構成層と構成層間
の応力や歪が接着剤層により吸収あるいは緩和される。

従って、高温あるいは低温下、例えば−２０〜５５℃で
温度変化する苛酷な条件下に保存する場合であってもガ
ラス製基板と樹脂製基板、これらと各構成店および構成
層と構成層との剥離を防止することができる。　このた
め光ディスクとして信頼性の高い製品を得ることができ
る。

特に、ガラス製の基板上に記録層等の情報担持部を形成
し、これを樹脂製の保護基板と一体化した本発明の光デ
ィスクは、記録・再生を行うガラス製基板側が、耐候性
、耐久性に優れる。　このため高温ないし低温および高
湿ないし低湿下で長期間保存した場合でもガラス製基板
の変形成や変質等はほとんど生じない。

そして複屈折もほとんど生じないため、この光ディスク
を用いれば、一層正確に記録・再生を行うことができる
。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明の光ディスクの１例を示す断面図であ
る。 符号の説明 １・・・光磁気記録ディスク ２・・・基板 ３・・・樹脂層 ４・・・保護層 ５・・・中間層 ６・・・記録層 ７・・・保護層 ８・・・保護コート ９・・・接着剤層 ｌＯ・・・保護基板 ＦＩＧ．　　１ ｆ′

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. （１）一対の基板を有し、少なくとも一方の基板に情報
   担持部を形成し、この情報担持部が内封されるように、
   前記一対の基板を接着剤により一体化した光ディスクで
   あって、前記一対の基板のうち、一方がガラス製であり
   、他方が樹脂製であり、前記接着剤のガラス転移温度Ｔ
   ｇが、−６０〜−１０℃であることを特徴とする光ディ
   スク
2. （２）前記一対の基板のうち、ガラス製基板上に情報担
   持部を形成し、これを樹脂製の保護基板と一体化した請
   求項１に記載の光ディスク。
3. （３）前記情報担持部が記録層である請求項１または２
   に記載の光ディスク。
4. （４）前記記録層が希土類金属元素を含有し、この記録
   層上に樹脂製の保護コートが設層されている請求項３に
   記載の光ディスク。
5. （５）前記接着剤のヤング率が、−２０℃、１０Ｈｚに
   て１００Ｋｇｆ／ｍｍ＾２以下である請求項１ないし４
   のいずれかに記載の光ディスク。
6. （６）前記接着剤の力学的損失係数ｔａｎδが、−２０
   ℃、１０Ｈｚにて０．１以上である請求項１ないし５の
   いずれかに記載の光ディスク。