JPH06162474A

JPH06162474A - 磁気記録媒体

Info

Publication number: JPH06162474A
Application number: JP33490192A
Authority: JP
Inventors: Shinji Miyazaki; 真司宮崎; Mitsuru Takai; 充高井; Koji Kobayashi; 康二小林
Original assignee: TDK Corp
Current assignee: TDK Corp
Priority date: 1992-11-24
Filing date: 1992-11-24
Publication date: 1994-06-10

Abstract

(57)【要約】【目的】高周波または高密度記録における出力特性を
向上し、またＣ／Ｎ比を向上させ、また上層強磁性金属
膜の表面のさびの発生を減少させる。【構成】非磁性基体、下層強磁性金属膜、及び上層強
磁性金属膜保護膜をこの順に形成した磁気記録媒体にお
いて、下層及び上層強磁性金属膜がＣｏ−Ｎｉ合金より
なり、上下層強磁性金属膜の膜面の法線から測った蒸着
角度が表面側程小さくなっており、下面側で８０度以
下、上面側で４０度以上になっていることを特徴とす
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は強磁性金属膜を磁気記録
層とする磁気記録媒体に関し、特に高周波特性を改善し
た磁気記録媒体に関する。

【０００２】

【従来の技術】Ｃｏ−Ｎｉ、Ｃｏ−Ｃｒその他の強磁性
金属膜を磁気記録層とする磁気記録媒体に関する技術
は、ビデオ記録、デジタル記録等の高密度記録のため、
あるいは記録再生装置の小型化、高性能化などのために
従来から広く研究されており、また実用化されている。
磁気特性を広帯域にするために、磁性層を多層構造にす
ることが行われている。例えば特開平３−２１９６６号
には、真空蒸着、イオンプレーティング、スパッタリン
グなどの方法で強磁性金属を多層に積層した構造の磁気
記録媒体が記載されている。多層にする理由は雑音を低
下させる等のほかに、下層の強磁性金属膜は低保磁力と
して低周波側の出力を確保し、上層の強磁性金属膜は高
保磁力として高周波側の出力を確保するためである。

【０００３】図１は従来の多層の強磁性金属膜を有する
磁気記録媒体の一例を示し、ポリエステル等の非磁性基
体２の表面に２層以上の磁性層、例えば下層強磁性金属
膜４、４’及び上層強磁性金属層６を設け、各強磁性金
属膜の蒸着角度（非磁性基体の膜面の法線から図った蒸
着角度、以下同じ）は、下側で大きく、上側ほど小さ
く、また下層強磁性金属膜４、４’の少なくとも一方例
えば金属膜４’の蒸着角度を上層強磁性金属膜６の蒸着
角度と逆にして金属層４’を磁気ヘッドから見て全体的
に低保磁力にして低周波の出力を確保し、上層強磁性金
属膜６は磁気ヘッド側から見て全体的に高保磁力にして
高周波側の出力を確保するのが一般的である。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、最近の
磁気記録媒体のデジタル記録は益々高密度化しており、
上記の多層構造の磁気記録媒体は十分な高出力を確保で
きない。したがって本発明の目的は、更に高密度記録が
可能な磁気記録媒体を提供することを目的とする。他の
問題は、従来の磁気記録媒体では下層の基板側の磁性金
属の蒸着方向が９０度以下といった角度で斜め蒸着をす
る。しかしこのような蒸着角度をＣｏ−Ｎｉ合金膜に適
用すると、経時的にさびを生じる問題がある。従って、
本発明はさびの問題を回避して耐久性のよい磁気記録媒
体を提供することを目的とする。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明は、非磁性基体、
下層強磁性金属膜、及び上層強磁性金属膜保護膜をこの
順に形成した磁気記録媒体において、下層及び上層強磁
性金属膜がＣｏ−Ｎｉ合金よりなり、上下層強磁性金属
膜の膜面の法線から測った蒸着角度が表面側程小さくな
っており、下面側で８０度以下、上面側で４０度以上に
なっていることを特徴とする磁気記録媒体である。これ
により、さびの発生を防止できることが分かった。ま
た、本発明の磁気記録媒体の下層強磁性金属膜の構成
は、基体側の角度を８０度以下に制限することにより、
従来と違って非磁性基体への合金蒸気の蒸着方向が基体
面に対して立っているので、基体への結合力が低下する
問題も解消された。また、下層強磁性金属膜がＣｏ７０
〜８５ｗｔ％と残部Ｎｉとよりなり、上層強磁性金属膜
がＣｏ８５〜９５ｗｔ％と残部Ｎｉとよりなるとき、高
出力及びＣ／Ｎ比の磁気記録媒体を構成でき、更に耐久
性も向上する。

【０００６】

【作用】本発明では強磁性金属層を上下２層に構成し、
各層の蒸着方向を下層で大きく、上層で小さくし、その
範囲を４０〜８０度に限定したので、さびの発生を防止
できるだけでなく、非磁性基体への結合性も向上でき
る。また、上下２層の組成を異なったものとし、各層の
蒸着方向を下層で大きく、上層で小さくしたので、低周
波側が抑制され高周波側が強調され、高周波側の出力及
びＳ／Ｎが向上し、デジタル記録に適する記録媒体とな
る。

【０００７】下層強磁性金属膜はＣｏ７０〜８５ｗｔ
％：Ｎｉ３０〜１５ｗｔ％の蒸着膜を使用する。下層強
磁性金属膜のＣｏ含有量が７０％未満では出力不足とな
り、８５％を超えると防錆効果が減ずる。上層強磁性金
属膜はＣｏ８５〜９５ｗｔ％：Ｎｉ１５〜９５ｗｔ％の
蒸着膜を使用する。上層強磁性金属膜のＣｏ含有量が８
０％未満では広域の出力が不足し、また９５％を超える
と耐久性の問題が生じる。

【０００８】次に、図２に示したように下層及び上層強
磁性金属膜は同じ方向に結晶の成長方向が傾き、それぞ
れ下側ほど蒸着角が大きく上層ほど小さい。すなわち、
本発明の磁気記録媒体では、ポリエステル等の非磁性基
体２の表面に、下層強磁性金属膜４と上層強磁性金属膜
６を設け、下層強磁性金属膜４の蒸着角度は、下側で大
きく（θ₁ ）且つ上側で小さく（θ₂ ）し、同様に、上
層強磁性金属膜６の蒸着角度も、下側で大きく（θ
₃ ）、上側で小さく（θ₂ ）する。蒸着角度はいずれも
４０〜８０度の範囲内にし、表面側は出来るだけ４０度
に近くし、下面側は８０度近くにする。表面側の蒸着角
度が４０度よりも小さくなると磁気特性が低下し出力不
足となる。また、下面側は８０度以上になると、金属蒸
気が非磁性基体を十分なエネルギーで衝撃できなくなり
結合力が低下し、さびが発生しやすくなる。

【０００９】また、非磁性基体としては、ポリアミド、
ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル、等従来
公知のプラスチック製支持体が使用できる。非磁性体の
表面に強磁性金属膜を形成する方としては、電子ビーム
蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリング法、
などが使用できるが、以下の例では電子ビーム蒸着法に
よった。すなわち、真空中で、電子ビームにより、るつ
ぼ内に収容したＣｏ−Ｎｉ合金を照射して溶融させ、こ
れを回転ドラムの面に沿って一定速度で移動している長
尺のポリエチレンテレフタレートのフィルム上に蒸着し
た。なお、必要に応じて表面に耐久性を付与するダイヤ
モンド状炭素保護膜、脂肪酸、パーフルオロアルキルカ
ルボン酸、パーフルオロアルキルポリエーテル、高級ア
ルコール、脂肪酸アミド等の潤滑剤、フッ素系等の潤滑
膜等を施しても良いし、上下層の強磁性金属膜の間に、
非磁性中間層を介在させても良い。

【００１０】以下に本発明の実施例により本発明を更に
詳しく説明する。蒸着装置は図３に示すものを使用し
た。図３は本発明の蒸着装置１を示す。ただし図示の部
分は図示しない真空チャンバーに収容されており、所定
の排気装置を有するものとする。３は矢印の方向（また
はその逆方向）に回転する回転ドラムで、蒸着基体を構
成するポリエステル等の基体フィルム５がその周りにか
け通され、繰り出しロール９から回転ドラム３の周面を
通って巻き取りロール７に巻き取られる。回転ドラム３
に近接して一部が開口したマスク１１が設けてあり、蒸
着金属が所定の角度以外ではフィルム５に蒸着しないよ
うにしている。マスク１１の外面（または内面）に沿っ
てシャッタ１３が設けてあり、蒸着の初期及び終期に矢
印の方向にスライドしてマスク１１の開口を遮蔽するこ
とにより不要な蒸着を防止する。マスク１１の開口の寸
法は回転ドラム３の軸線方向には、フィルム５上に所定
の蒸着幅が得られるように、回転ドラムの周方向にはフ
ィルム上に所定の蒸着角度θが得られるように選択す
る。

【００１１】マスク１１の開口に対向して高純度マグネ
シア（ＭｇＯ）製等のるつぼ１５が配置され、その内部
に蒸着すべき原料金属１７が装入されている。るつぼ１
５は必要な蒸着幅を得るのに十分なだけ回転ドラム４の
軸線方向に細長く伸びている。るつぼ１５は所定の蒸着
角度θ（マスクの開口内の位置により若干変動するがほ
ぼ一定）が得られるように配置される。るつぼ１５に装
入した原料金属１７は電子銃１９から放出される電子ビ
ーム２１により加熱される。本発明では電子銃１９の電
子ビーム２１の放出方向はるつぼ１５とマスク１１の開
口を結ぶ線に対してほぼ９０度をなす方向に電子ビーム
２１を放出する。この電子ビームは図示しない適当なコ
ンデンサレンズ、収束レンズ、及び偏向コイルによる磁
界２３の作用により約９０度曲げられると同時に小スポ
ット状に収束されて原料金属１７に衝突する。実験によ
ると、図１の鎖線位置に配置された従来の直進型電子銃
１９’に比較して、大幅な電力増大が達成できることが
分かった。図から明らかなように、蒸着の進行につれて
蒸着角度は小さくなることが分かる。また下層を蒸着し
たのち、一旦巻き戻してから再度蒸着を行って上層の蒸
着を行う。別法としては異なった蒸発源を設けて、ワン
パスで順次に蒸着を行う。

【００１２】実施例１厚さ１０μｍのポリエチレンテレフタレートの表面にＣ
ｏ−Ｎｉ（重量比７５：２５）を厚さ１０００Åに成膜
した。その際に蒸着角度を最下層で８０度、最上層で４
０度とした。次に、その上にＣｏ−Ｎｉ（重量比８５：
１５）を厚さ１０００Åに成膜した。その際に蒸着角度
を最下層で９０度、最上層で４０度とした。上層と下層
の蒸着方向の傾きは同じ方向とした。

【００１３】実施例２厚さ１０μｍのポリエチレンテレフタレートの表面にＣ
ｏ−Ｎｉ（重量比８０：２０）を厚さ１０００Åに成膜
した。その際に蒸着角度を最下層で８０度、最上層で４
０度とした。その上に更にＣｏ−Ｎｉ（重量比９５：
５）を厚さ１０００Åに成膜した。その際に蒸着角度を
最下層で９０度、最上層で４０度とした。また上下層の
蒸着角度の傾きは同方向とした。

【００１４】比較例１厚さ１０μｍのポリエチレンテレフタレートの表面にＣ
ｏ−Ｎｉ（重量比９０：１０）を厚さ２０００Åに成膜
した。その際に蒸着角度を最下層で９０度、最上層で４
０度とした。

【００１５】比較例２厚さ１０μｍのポリエチレンテレフタレートの表面にＣ
ｏ−Ｎｉ（重量比９５：５）を厚さ１０００Åに成膜し
た。その際に蒸着角度を最下層で９０度、最上層で４０
度とした。その上に更にＣｏ−Ｎｉ（重量比８０：２
０）を厚さ１０００Åに成膜した。その際に蒸着角度を
最下層で９０度、最上層で４０度とした。

【００１６】実施例及び比較例の磁気テープに相対速度
３．７５ｍ／ｓで７．０ＭＨｚ矩形波を記録し、その出
力特性、及びＣ／Ｎ比を測定したところ、表１の結果を
得た。またさびの測定は６０℃、９０％ＲＨ、３週間放
置テストによる表面変色の度合いにより判定した。

【００１７】

【表１】

【００１８】

【発明の効果】表１から明らかなように、本発明による
と、高周波または高密度記録における出力特性が向上
し、またＣ／Ｎ比が向上する。また蒸着角度を４０〜８
０度に選定したので下層強磁性金属膜の非磁性基体への
接着力が増大し、上層強磁性金属膜の表面のさびの発生
も減少する。

【図面の簡単な説明】

【図１】従来の多層強磁性金属膜を有する記録媒体の構
成を示す断面図である。

【図２】本発明の２層強磁性金属膜を有する記録媒体の
構成を示す断面図である。

【図３】本発明を実施するための装置の例をを示す。

【符号の説明】

１非磁性基体３下層強磁性金属膜５上層強磁性金属膜

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】非磁性基体、下層強磁性金属膜、及び上
層強磁性金属膜保護膜をこの順に形成した磁気記録媒体
において、下層及び上層強磁性金属膜がＣｏ−Ｎｉ合金
よりなり、上下層強磁性金属膜の膜面の法線から測った
蒸着角度が表面側程小さくなっており、下面側で８０度
以下、上面側で４０度以上になっていることを特徴とす
る、磁気記録媒体。
【請求項２】下層強磁性金属膜がＣｏ７０〜８５ｗｔ
％と残部Ｎｉとよりなり、上層強磁性金属膜がＣｏ８５
〜９５ｗｔ％と残部Ｎｉとよりなることを特徴とする、
磁気記録媒体。