JPH06163668A - Moving apparatus for vacuum - Google Patents

Moving apparatus for vacuum

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Publication number
JPH06163668A
JPH06163668A JP33246192A JP33246192A JPH06163668A JP H06163668 A JPH06163668 A JP H06163668A JP 33246192 A JP33246192 A JP 33246192A JP 33246192 A JP33246192 A JP 33246192A JP H06163668 A JPH06163668 A JP H06163668A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
vacuum chamber
base
vacuum
carrier
main
Prior art date
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Pending
Application number
JP33246192A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Masaaki Kajiyama
雅章 梶山
Katsuyuki Aoki
克行 青木
Katsuaki Usui
克明 臼井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ebara Corp
Original Assignee
Ebara Corp
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Publication date
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Publication of JPH06163668A publication Critical patent/JPH06163668A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

PURPOSE:To prevent deformation of a moving part, which moves back and forth in vacuum. CONSTITUTION:A base stage 7 is driven with a driving part 8 and moves back and forth. A moving part 22 is attached to the base stage 7 and moves back and forth in a main vacuum chamber 21. A front-side wall part 16 forms a front-side vacuum chamber 14, which communicates with the main vacuum chamber 21 at a front 10 of the base stage 7. A rear-side wall part 24 forms a rear-side vacuum chamber 23, which communicates with the front-side vacuum chamber 14, at a rear surface 15 of the base stage 7. These parts are provided.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は真空用移動装置に係り、
例えば半導体製造プロセスにおいて、ウエハ等を真空中
で進退動させるための真空用移動装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a moving device for vacuum,
For example, the present invention relates to a vacuum transfer device for moving a wafer or the like back and forth in a vacuum in a semiconductor manufacturing process.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体製造プロセスにおいては、加工や
各種処理等の工程でのウエハ等の保管や搬送を一貫して
真空中で行う場合が多い。これは、半導体製品は不純物
に汚染されると品質不良となりやすいので、高度に清浄
化された真空中で保管、搬送することが汚染防止の点で
好ましいからである。
2. Description of the Related Art In a semiconductor manufacturing process, storage and transportation of wafers and the like in processes such as processing and various treatments are often carried out in a consistent vacuum. This is because if a semiconductor product is contaminated with impurities, the quality of the product is likely to be poor. Therefore, it is preferable to store and convey the semiconductor product in a highly cleaned vacuum from the viewpoint of preventing contamination.

【0003】図5は、従来の真空用移動装置1の全体構
成を示す図である。この真空用移動装置1は、壁部2で
囲まれた真空室3を真空状態にしてこの真空室3内にキ
ャリア4を収納している。このキャリア4には、ウエハ
等の半導体製品が多数積載されている。キャリア4はキ
ャリア受台5上に載置され、このキャリア受台5は下方
に延びる支持棒6により水平に支持されている。支持棒
6の下端は基台7に固定されている。この基台7は駆動
部8に一体的に取付けられ、駆動部8はレール9に沿っ
て矢印Bのように昇降するようになっている。基台7の
前面10と壁部2の底面11との間には、伸縮自在なベ
ローズ12が密封状態で取付けられ、真空室3とを外部
13と遮断している。
FIG. 5 is a diagram showing the overall structure of a conventional vacuum moving device 1. In this vacuum moving device 1, a vacuum chamber 3 surrounded by a wall portion 2 is placed in a vacuum state and a carrier 4 is housed in the vacuum chamber 3. A large number of semiconductor products such as wafers are loaded on the carrier 4. The carrier 4 is placed on a carrier pedestal 5, and the carrier pedestal 5 is horizontally supported by a support rod 6 extending downward. The lower end of the support rod 6 is fixed to the base 7. The base 7 is integrally attached to a drive unit 8, and the drive unit 8 can move up and down along a rail 9 as shown by an arrow B. An expandable bellows 12 is hermetically attached between the front surface 10 of the base 7 and the bottom surface 11 of the wall 2 to isolate the vacuum chamber 3 from the outside 13.

【0004】上記構成を有する真空用移動装置1におい
て、レール9に沿って駆動部8が矢印Bのように昇降す
ると、この駆動部8に取付けられた基台7も昇降する。
これにより、基台7に取付けられた支持棒6及びキャリ
ア受台5は真空中を矢印Cのように昇降し、キャリア4
は真空中を昇降する。なお、ベローズ12は基台7の昇
降により伸縮して真空室3の気密を保持している。
In the vacuum moving device 1 having the above structure, when the drive unit 8 moves up and down along the rail 9 as shown by the arrow B, the base 7 attached to the drive unit 8 also moves up and down.
As a result, the support rod 6 and the carrier support 5 attached to the base 7 move up and down in the vacuum as shown by arrow C, and the carrier 4
Moves up and down in a vacuum. The bellows 12 expands and contracts as the base 7 moves up and down to keep the vacuum chamber 3 airtight.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】上記ベローズ12の内
部空間14は、真空室3と連通しているので真空状態に
なっている。そのため、基台7の前面10は真空状態の
内部空間14に接し、背面15は大気圧の外部13に接
している。したがって、基台7の前面10と背面15と
の間には圧力差が生じ、基台7は押圧力Pにより上方に
押されて傾くこととなる。その結果、支持棒6、キャリ
ア受台5及びキャリア4が全体的に図中鎖線で示したよ
うに傾いてしまうという課題があった。
The inner space 14 of the bellows 12 is in a vacuum state because it communicates with the vacuum chamber 3. Therefore, the front surface 10 of the base 7 is in contact with the internal space 14 in a vacuum state, and the back surface 15 is in contact with the outside 13 at atmospheric pressure. Therefore, a pressure difference is generated between the front surface 10 and the back surface 15 of the base 7, and the base 7 is pushed upward by the pressing force P and tilts. As a result, there is a problem that the support rod 6, the carrier cradle 5, and the carrier 4 are entirely tilted as shown by the chain line in the figure.

【0006】本発明は、かかる課題を解決するためにな
されたもので、真空中を進退動する移動部材の変形を防
止することができる真空用移動装置を提供することを目
的とする。
The present invention has been made to solve the above problems, and an object of the present invention is to provide a moving device for vacuum which can prevent deformation of a moving member which moves back and forth in a vacuum.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明に係る真空用移動
装置は、駆動部により駆動されて進退動する基台と、こ
の基台に取付けられて主真空室内を進退動する移動部
と、上記基台の前面に上記主真空室と連通する前面側真
空室を形成する前面側壁部と、上記基台の背面に上記前
面側真空室と連通する背面側真空室を形成する背面側壁
部とを備えたことを特徴とするものである。
A vacuum moving device according to the present invention comprises a base which is driven by a drive unit to move back and forth, and a moving unit which is attached to the base and moves back and forth in a main vacuum chamber. A front side wall portion forming a front side vacuum chamber communicating with the main vacuum chamber on the front surface of the base, and a back side wall portion forming a back side vacuum chamber communicating with the front side vacuum chamber on the back surface of the base. It is characterized by having.

【0008】[0008]

【作用】本発明においては、移動部材が取付けられた基
台の前面側は主真空室と連通しているので真空状態にな
っており、一方、基台の背面側に形成された背面側真空
室も主真空室と連通している。したがって、基台の前面
と背面は共に同一圧力の真空状態の空間に接することと
なり、基台の前面と背面との間で圧力差は生じない。
In the present invention, the front side of the base to which the moving member is attached is in a vacuum state because it communicates with the main vacuum chamber, while the back side vacuum formed on the back side of the base. The chamber also communicates with the main vacuum chamber. Therefore, both the front surface and the back surface of the base are in contact with the vacuum space of the same pressure, and there is no pressure difference between the front surface and the back surface of the base.

【0009】[0009]

【実施例】以下、本発明に係る真空用移動装置の一実施
例を図1乃至図4に基づいて説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of a vacuum moving device according to the present invention will be described below with reference to FIGS.

【0010】図1は本実施例に係る真空用移動装置の原
理を示す概略構成図、図2はこれを具体化した真空用移
動装置の全体構成を示す正面図、図3は図2に示された
移動部の拡大側面図、図4は図2のIV−IV線による矢視
図である。
FIG. 1 is a schematic configuration diagram showing the principle of a vacuum moving device according to this embodiment, FIG. 2 is a front view showing the overall configuration of a vacuum moving device embodying this, and FIG. 3 is shown in FIG. FIG. 4 is an enlarged side view of the removed moving part, and FIG. 4 is a view taken along the line IV-IV in FIG.

【0011】図1に示すように、本発明に係る真空用移
動装置20は、駆動部8により駆動されて進退動する基
台7と、この基台7の前面10に取付けられて主真空室
21内を進退動する移動部22と、基台7の前面10に
取付けられて主真空室21と連通する前面側真空室14
を形成する前面側壁部16と、基台7の背面15に取付
けられて前面側真空室14と連通する背面側真空室23
を形成する背面側壁部24とを備えている。
As shown in FIG. 1, a vacuum moving device 20 according to the present invention includes a base 7 which is driven by a drive unit 8 to move back and forth, and a main vacuum chamber which is attached to a front surface 10 of the base 7. A moving part 22 that moves back and forth in the inside 21 and a front side vacuum chamber 14 that is attached to the front face 10 of the base 7 and communicates with the main vacuum chamber 21.
And a rear side vacuum chamber 23 attached to the rear side 15 of the base 7 and communicating with the front side vacuum chamber 14.
And a rear side wall portion 24 that forms

【0012】主真空室21は、壁部2に囲まれた密封さ
れた空間であり、移動部22は、真空となったこの主真
空室21内を矢印Cに示すように昇降する。移動部22
には、基台7の前面10に上方に向けて固定された支持
パイプ25と、キャリア4を着脱自在に載置するキャリ
ア受台5とから構成されている。キャリア4には多数の
ウエハ等の半導体製品が収納されている。壁部2の底面
11と基台7の前面10との間にはフランジ26,27
を介して上部ベローズ12が密封して取付けられてい
る。この上部ベローズ12と基台7の前面10とによ
り、上記前面側真空室14を形成する前面側壁部16を
構成している。ベローズ12の前面側真空室14は、壁
部2とフランジ26のそれぞれの孔28,29を介して
主真空室21と連通している。基台7は駆動部8に取付
けられ、この駆動部8は、垂直方向に配設されたレール
9に沿って矢印Bに示すように昇降する昇降機構を構成
している。
The main vacuum chamber 21 is a sealed space surrounded by the wall portion 2, and the moving part 22 moves up and down in the main vacuum chamber 21 which has been evacuated as indicated by an arrow C. Moving part 22
The support pipe 25 is fixed to the front surface 10 of the base 7 upward, and the carrier receiving base 5 on which the carrier 4 is detachably mounted. A large number of semiconductor products such as wafers are stored in the carrier 4. Between the bottom surface 11 of the wall 2 and the front surface 10 of the base 7, flanges 26, 27 are provided.
The upper bellows 12 is hermetically attached via. The upper bellows 12 and the front surface 10 of the base 7 form a front side wall portion 16 that forms the front side vacuum chamber 14. The front vacuum chamber 14 of the bellows 12 communicates with the main vacuum chamber 21 through the holes 28 and 29 in the wall 2 and the flange 26, respectively. The base 7 is attached to a drive unit 8, and the drive unit 8 constitutes an elevating mechanism that ascends and descends along a vertically arranged rail 9 as shown by an arrow B.

【0013】真空用移動装置20の本体30には盲フラ
ンジ31が固定されている。基台7の背面15と盲フラ
ンジ31の前面32との間には、フランジ33,34を
介して下部ベローズ35が密封して取付けられている。
この下部ベローズ35と基台7の背面15と盲フランジ
31とにより、上記背面側真空室23を形成する背面側
壁部24を構成している。大気圧の外部13に対して背
面側壁部24により仕切られた背面側真空室23は、基
台7に形成された孔7aと、この孔7aに連通する支持
パイプ25の管内部36と、支持パイプ25の壁面に穿
設された孔37と、上部ベローズ12の内部の前面側真
空室14と、孔28,29とを介して、主真空室21と
連通している。
A blind flange 31 is fixed to the main body 30 of the moving device 20 for vacuum. A lower bellows 35 is hermetically attached via flanges 33 and 34 between the rear surface 15 of the base 7 and the front surface 32 of the blind flange 31.
The lower bellows 35, the back surface 15 of the base 7 and the blind flange 31 constitute a back side wall portion 24 forming the back side vacuum chamber 23. The back side vacuum chamber 23, which is partitioned by the back side wall 24 from the outside 13 at atmospheric pressure, supports the hole 7a formed in the base 7, the inside 36 of the support pipe 25 communicating with this hole 7a, and the support. It communicates with the main vacuum chamber 21 through a hole 37 formed in the wall surface of the pipe 25, the front side vacuum chamber 14 inside the upper bellows 12, and holes 28 and 29.

【0014】したがって、主真空室21の壁部2に形成
された排出口2aから主真空室21内のガスを吸引する
と、図中矢印に示すように、上部ベローズ12内のガス
は孔28,29を通って主真空室21に流れる。一方、
下部ベローズ35の背面真空室23内の一部のガスは、
孔7a、管内部36及び孔37を通って主真空室21内
に流れるとともに、残りのガスは管内部36、孔37、
上部ベローズ12の内部の前面側真空室14及び孔2
8,29を通って主真空室21内に流れる。これによ
り、主真空室21に連通している空間全体のガスが排出
口2aから排出されて真空状態が生成される。
Therefore, when the gas in the main vacuum chamber 21 is sucked from the discharge port 2a formed in the wall portion 2 of the main vacuum chamber 21, the gas in the upper bellows 12 is discharged through the holes 28, as shown by the arrow in the figure. It flows through 29 to the main vacuum chamber 21. on the other hand,
Part of the gas in the rear vacuum chamber 23 of the lower bellows 35 is
While flowing into the main vacuum chamber 21 through the hole 7a, the tube interior 36 and the hole 37, the remaining gas flows into the tube interior 36, the hole 37,
Front side vacuum chamber 14 and hole 2 inside the upper bellows 12
It flows into the main vacuum chamber 21 through 8, 29. As a result, the gas in the entire space communicating with the main vacuum chamber 21 is exhausted from the exhaust port 2a to create a vacuum state.

【0015】次に、上記構成を有する真空用移動装置2
0の動作について説明する。基台7が取付けられた駆動
部8がレール9に沿って矢印Bのように昇降すると、こ
の基台7に固定された支持パイプ25は昇降し、キャリ
ア受台5及びキャリア4は真空状態の主真空室21内を
矢印Cに示すように昇降する。基台7の昇降に伴って両
ベローズ12,35も伸縮動作を行って真空状態を維持
する。この場合に、基台7の前面10が接している前面
側真空室14と、背面15が接している背面側真空室2
3は共に主真空室21に連通しているので、前面10と
背面15との間に圧力差が生じることはなく、したがっ
て、背面15に大気圧による力が加わることはない。
Next, the vacuum moving device 2 having the above structure
The operation of 0 will be described. When the drive unit 8 to which the base 7 is attached moves up and down along the rail 9 as shown by an arrow B, the support pipe 25 fixed to the base 7 moves up and down, and the carrier receiving base 5 and the carrier 4 are in a vacuum state. The main vacuum chamber 21 is moved up and down as shown by arrow C. Both the bellows 12 and 35 also expand and contract as the base 7 moves up and down to maintain the vacuum state. In this case, the front side vacuum chamber 14 in contact with the front surface 10 of the base 7 and the rear side vacuum chamber 2 in contact with the back surface 15
Since both 3 are in communication with the main vacuum chamber 21, there is no pressure difference between the front surface 10 and the back surface 15, and therefore no force due to atmospheric pressure is applied to the back surface 15.

【0016】このように本実施例装置20においては、
基台7の前面10と背面15との間の圧力差をなくして
力のアンバランスをなくし、基台7が上方に傾くことを
防止している。したがって、キャリア受台5及びこれに
載置されたキャリア4は高精度で真空室21の内部を昇
降する。例えば、図5に示すような従来の装置1におい
ては基台7に1/10mm以上の変形が生じていたが、本
実施例装置20における基台7の変形は1/100mm以
下になっている。
As described above, in the apparatus 20 of this embodiment,
The pressure difference between the front surface 10 and the back surface 15 of the base 7 is eliminated to eliminate the imbalance of force, and the base 7 is prevented from tilting upward. Therefore, the carrier cradle 5 and the carrier 4 placed on the carrier cradle 5 move up and down in the vacuum chamber 21 with high accuracy. For example, in the conventional device 1 as shown in FIG. 5, the base 7 is deformed by 1/10 mm or more, but the base 7 in the device 20 of the present embodiment is deformed by 1/100 mm or less. .

【0017】図2乃至図4は、図1に示す原理を具体化
した真空用移動装置20の構成を示している。図2乃至
図4において、図1と同一の作用をなす部材は同一の符
号を付して説明する。この真空用移動装置20において
は、図2に示すように、真空容器41の内部が主真空室
21になっている。この真空容器41には排出口42が
形成され、主真空室21内のガスをこの排出口42から
排出するようにしている。
2 to 4 show the structure of a vacuum moving device 20 embodying the principle shown in FIG. 2 to 4, members having the same functions as those in FIG. 1 will be described with the same reference numerals. In the vacuum moving device 20, as shown in FIG. 2, the inside of the vacuum container 41 is a main vacuum chamber 21. An exhaust port 42 is formed in the vacuum container 41, and the gas in the main vacuum chamber 21 is exhausted from the exhaust port 42.

【0018】キャリア受台5を支持する支持パイプ25
には複数の孔37が穿設されている。支持パイプ25の
下端が取付けられた基台7と真空容器41との間には上
部ベローズ12が取付けられている。真空用移動装置2
0の本体30には固定用架台43が固定され、この固定
用架台43の上部に盲フランジ31が固定されている。
そして、基台7と該盲フランジ31との間には下部ベロ
ーズ35が取付けられている。上部ベローズ12の内部
の前面側真空室14は主真空室21に連通し、一方、下
部ベローズ35の内部の背面側真空室23は、支持パイ
プ25の管内部36と孔37と前面側真空室14とを介
して主真空室21に連通している。基台7が取付けられ
た駆動部8にはリニアモータが内蔵され、このリニアモ
ータがレールとしてのリニアガイド44に沿って上下に
昇降するようになっている。
A support pipe 25 for supporting the carrier cradle 5.
A plurality of holes 37 are formed in the hole. An upper bellows 12 is attached between the base 7 to which the lower end of the support pipe 25 is attached and the vacuum container 41. Vacuum moving device 2
A fixing base 43 is fixed to the main body 30 of 0, and a blind flange 31 is fixed to an upper portion of the fixing base 43.
A lower bellows 35 is attached between the base 7 and the blind flange 31. The front side vacuum chamber 14 inside the upper bellows 12 communicates with the main vacuum chamber 21, while the back side vacuum chamber 23 inside the lower bellows 35 includes the pipe interior 36 of the support pipe 25, the hole 37, and the front side vacuum chamber. 14 to communicate with the main vacuum chamber 21. A linear motor is built in the drive unit 8 to which the base 7 is attached, and the linear motor can be moved up and down along a linear guide 44 as a rail.

【0019】図3に示すように、基台7に取付けられた
支持パイプ25の上端にはキャリア受台5が取付けられ
ており、このキャリア受台5にはキャリア4が載置され
ている。このキャリア4には多数の支持片45が設けら
れており、ウエハなどの半導体製品は各支持片45によ
りそれぞれ支持されて多数積載されている。
As shown in FIG. 3, a carrier pedestal 5 is attached to the upper end of the support pipe 25 attached to the base 7, and the carrier 4 is placed on the carrier pedestal 5. The carrier 4 is provided with a large number of supporting pieces 45, and a large number of semiconductor products such as wafers are supported and stacked by the supporting pieces 45.

【0020】したがって、駆動部8のリニアモータを駆
動させることにより基台7が昇降し、これにより、キャ
リア受台5上に載置されたキャリア4も昇降する。この
場合に、基台7の表裏面には圧力差が生じないので基台
7が変形することはなく、従ってキャリア受台5及びキ
ャリア4は高精度で垂直方向に昇降することとなる。
Therefore, by driving the linear motor of the drive unit 8, the base 7 is moved up and down, whereby the carrier 4 placed on the carrier receiving base 5 is also moved up and down. In this case, since there is no pressure difference between the front surface and the back surface of the base 7, the base 7 is not deformed, and therefore the carrier receiving base 5 and the carrier 4 are vertically moved up and down with high accuracy.

【0021】なお、上記実施例は移動部20が上下に昇
降する場合について説明したが、進退動する方向はこれ
に限られない。
Although the above embodiment has been described with respect to the case where the moving unit 20 moves up and down, the moving direction is not limited to this.

【0022】[0022]

【発明の効果】本発明に係る真空用移動装置は上記のよ
うに構成したので、基台の前面と背面との間に圧力差が
生じることはなくなり、したがって真空中を進退移動す
る移動部材の変位または変形を防止することができる。
Since the vacuum moving device according to the present invention is configured as described above, a pressure difference is not generated between the front surface and the back surface of the base, and therefore, the moving member that moves back and forth in the vacuum is provided. Displacement or deformation can be prevented.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】図1乃至図4は本発明に係る真空用移動装置の
一実施例を示す図で、図1は本発明の原理を示す概略構
成図である。
1 to 4 are views showing an embodiment of a moving device for vacuum according to the present invention, and FIG. 1 is a schematic configuration diagram showing the principle of the present invention.

【図2】図1に示す原理を具体化した真空用移動装置の
全体構成を示す正面図である。
FIG. 2 is a front view showing the overall configuration of a vacuum moving device that embodies the principle shown in FIG.

【図3】図2に示す装置の移動部の拡大側面図である。3 is an enlarged side view of a moving part of the apparatus shown in FIG.

【図4】図2のIV−IV線による矢視図である。4 is a view taken along the line IV-IV in FIG.

【図5】従来の真空用移動装置の原理を示す概略構成図
で、図1に相当する図である。
5 is a schematic configuration diagram showing the principle of a conventional vacuum moving device, and is a diagram corresponding to FIG. 1. FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

7 基台 8 駆動部 10 基台の前面 15 基台の背面 20 真空用移動装置 21 主真空室 22 移動部 23 背面側真空室 24 背面側壁部 7 Base 8 Drive 10 Front of Base 15 Back of Base 20 Moving Device for Vacuum 21 Main Vacuum Chamber 22 Moving Part 23 Rear Side Vacuum Chamber 24 Back Side Wall

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 駆動部により駆動されて進退動する基台
と、 この基台に取付けられて主真空室内を進退動する移動部
と、 上記基台の前面に上記主真空室と連通する前面側真空室
を形成する前面側壁部と、 上記基台の背面に上記前面側真空室と連通する背面側真
空室を形成する背面側壁部とを備えたことを特徴とする
真空用移動装置。
1. A base that is driven by a drive unit to move back and forth, a moving unit that is mounted on the base and moves back and forth in a main vacuum chamber, and a front surface of the base that communicates with the main vacuum chamber. A vacuum moving device comprising: a front side wall portion forming a side vacuum chamber; and a back side wall portion forming a back side vacuum chamber communicating with the front side vacuum chamber on a back side of the base.
JP33246192A 1992-11-18 1992-11-18 Moving apparatus for vacuum Pending JPH06163668A (en)

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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