JPH06163668A - 真空用移動装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 真空中を進退動する移動部の変形を防止する
ことができる真空用移動装置を提供する。 【構成】 駆動部８により駆動されて進退動する基台７
と、この基台７に取付けられて主真空室２１内を進退動
する移動部２２と、上記基台７の前面１０に主真空室２
１と連通する前面側真空室１４を形成する前面側壁部１
６と、上記基台７の背面１５に前面側真空室１４と連通
する背面側真空室２３を形成する背面側壁部２４とを備
えている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は真空用移動装置に係り、
例えば半導体製造プロセスにおいて、ウエハ等を真空中
で進退動させるための真空用移動装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】半導体製造プロセスにおいては、加工や
各種処理等の工程でのウエハ等の保管や搬送を一貫して
真空中で行う場合が多い。これは、半導体製品は不純物
に汚染されると品質不良となりやすいので、高度に清浄
化された真空中で保管、搬送することが汚染防止の点で
好ましいからである。

【０００３】図５は、従来の真空用移動装置１の全体構
成を示す図である。この真空用移動装置１は、壁部２で
囲まれた真空室３を真空状態にしてこの真空室３内にキ
ャリア４を収納している。このキャリア４には、ウエハ
等の半導体製品が多数積載されている。キャリア４はキ
ャリア受台５上に載置され、このキャリア受台５は下方
に延びる支持棒６により水平に支持されている。支持棒
６の下端は基台７に固定されている。この基台７は駆動
部８に一体的に取付けられ、駆動部８はレール９に沿っ
て矢印Ｂのように昇降するようになっている。基台７の
前面１０と壁部２の底面１１との間には、伸縮自在なベ
ローズ１２が密封状態で取付けられ、真空室３とを外部
１３と遮断している。

【０００４】上記構成を有する真空用移動装置１におい
て、レール９に沿って駆動部８が矢印Ｂのように昇降す
ると、この駆動部８に取付けられた基台７も昇降する。
これにより、基台７に取付けられた支持棒６及びキャリ
ア受台５は真空中を矢印Ｃのように昇降し、キャリア４
は真空中を昇降する。なお、ベローズ１２は基台７の昇
降により伸縮して真空室３の気密を保持している。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】上記ベローズ１２の内
部空間１４は、真空室３と連通しているので真空状態に
なっている。そのため、基台７の前面１０は真空状態の
内部空間１４に接し、背面１５は大気圧の外部１３に接
している。したがって、基台７の前面１０と背面１５と
の間には圧力差が生じ、基台７は押圧力Ｐにより上方に
押されて傾くこととなる。その結果、支持棒６、キャリ
ア受台５及びキャリア４が全体的に図中鎖線で示したよ
うに傾いてしまうという課題があった。

【０００６】本発明は、かかる課題を解決するためにな
されたもので、真空中を進退動する移動部材の変形を防
止することができる真空用移動装置を提供することを目
的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明に係る真空用移動
装置は、駆動部により駆動されて進退動する基台と、こ
の基台に取付けられて主真空室内を進退動する移動部
と、上記基台の前面に上記主真空室と連通する前面側真
空室を形成する前面側壁部と、上記基台の背面に上記前
面側真空室と連通する背面側真空室を形成する背面側壁
部とを備えたことを特徴とするものである。

【０００８】

【作用】本発明においては、移動部材が取付けられた基
台の前面側は主真空室と連通しているので真空状態にな
っており、一方、基台の背面側に形成された背面側真空
室も主真空室と連通している。したがって、基台の前面
と背面は共に同一圧力の真空状態の空間に接することと
なり、基台の前面と背面との間で圧力差は生じない。

【０００９】

【実施例】以下、本発明に係る真空用移動装置の一実施
例を図１乃至図４に基づいて説明する。

【００１０】図１は本実施例に係る真空用移動装置の原
理を示す概略構成図、図２はこれを具体化した真空用移
動装置の全体構成を示す正面図、図３は図２に示された
移動部の拡大側面図、図４は図２のIV−IV線による矢視
図である。

【００１１】図１に示すように、本発明に係る真空用移
動装置２０は、駆動部８により駆動されて進退動する基
台７と、この基台７の前面１０に取付けられて主真空室
２１内を進退動する移動部２２と、基台７の前面１０に
取付けられて主真空室２１と連通する前面側真空室１４
を形成する前面側壁部１６と、基台７の背面１５に取付
けられて前面側真空室１４と連通する背面側真空室２３
を形成する背面側壁部２４とを備えている。

【００１２】主真空室２１は、壁部２に囲まれた密封さ
れた空間であり、移動部２２は、真空となったこの主真
空室２１内を矢印Ｃに示すように昇降する。移動部２２
には、基台７の前面１０に上方に向けて固定された支持
パイプ２５と、キャリア４を着脱自在に載置するキャリ
ア受台５とから構成されている。キャリア４には多数の
ウエハ等の半導体製品が収納されている。壁部２の底面
１１と基台７の前面１０との間にはフランジ２６，２７
を介して上部ベローズ１２が密封して取付けられてい
る。この上部ベローズ１２と基台７の前面１０とによ
り、上記前面側真空室１４を形成する前面側壁部１６を
構成している。ベローズ１２の前面側真空室１４は、壁
部２とフランジ２６のそれぞれの孔２８，２９を介して
主真空室２１と連通している。基台７は駆動部８に取付
けられ、この駆動部８は、垂直方向に配設されたレール
９に沿って矢印Ｂに示すように昇降する昇降機構を構成
している。

【００１３】真空用移動装置２０の本体３０には盲フラ
ンジ３１が固定されている。基台７の背面１５と盲フラ
ンジ３１の前面３２との間には、フランジ３３，３４を
介して下部ベローズ３５が密封して取付けられている。
この下部ベローズ３５と基台７の背面１５と盲フランジ
３１とにより、上記背面側真空室２３を形成する背面側
壁部２４を構成している。大気圧の外部１３に対して背
面側壁部２４により仕切られた背面側真空室２３は、基
台７に形成された孔７ａと、この孔７ａに連通する支持
パイプ２５の管内部３６と、支持パイプ２５の壁面に穿
設された孔３７と、上部ベローズ１２の内部の前面側真
空室１４と、孔２８，２９とを介して、主真空室２１と
連通している。

【００１４】したがって、主真空室２１の壁部２に形成
された排出口２ａから主真空室２１内のガスを吸引する
と、図中矢印に示すように、上部ベローズ１２内のガス
は孔２８，２９を通って主真空室２１に流れる。一方、
下部ベローズ３５の背面真空室２３内の一部のガスは、
孔７ａ、管内部３６及び孔３７を通って主真空室２１内
に流れるとともに、残りのガスは管内部３６、孔３７、
上部ベローズ１２の内部の前面側真空室１４及び孔２
８，２９を通って主真空室２１内に流れる。これによ
り、主真空室２１に連通している空間全体のガスが排出
口２ａから排出されて真空状態が生成される。

【００１５】次に、上記構成を有する真空用移動装置２
０の動作について説明する。基台７が取付けられた駆動
部８がレール９に沿って矢印Ｂのように昇降すると、こ
の基台７に固定された支持パイプ２５は昇降し、キャリ
ア受台５及びキャリア４は真空状態の主真空室２１内を
矢印Ｃに示すように昇降する。基台７の昇降に伴って両
ベローズ１２，３５も伸縮動作を行って真空状態を維持
する。この場合に、基台７の前面１０が接している前面
側真空室１４と、背面１５が接している背面側真空室２
３は共に主真空室２１に連通しているので、前面１０と
背面１５との間に圧力差が生じることはなく、したがっ
て、背面１５に大気圧による力が加わることはない。

【００１６】このように本実施例装置２０においては、
基台７の前面１０と背面１５との間の圧力差をなくして
力のアンバランスをなくし、基台７が上方に傾くことを
防止している。したがって、キャリア受台５及びこれに
載置されたキャリア４は高精度で真空室２１の内部を昇
降する。例えば、図５に示すような従来の装置１におい
ては基台７に１／１０mm以上の変形が生じていたが、本
実施例装置２０における基台７の変形は１／１００mm以
下になっている。

【００１７】図２乃至図４は、図１に示す原理を具体化
した真空用移動装置２０の構成を示している。図２乃至
図４において、図１と同一の作用をなす部材は同一の符
号を付して説明する。この真空用移動装置２０において
は、図２に示すように、真空容器４１の内部が主真空室
２１になっている。この真空容器４１には排出口４２が
形成され、主真空室２１内のガスをこの排出口４２から
排出するようにしている。

【００１８】キャリア受台５を支持する支持パイプ２５
には複数の孔３７が穿設されている。支持パイプ２５の
下端が取付けられた基台７と真空容器４１との間には上
部ベローズ１２が取付けられている。真空用移動装置２
０の本体３０には固定用架台４３が固定され、この固定
用架台４３の上部に盲フランジ３１が固定されている。
そして、基台７と該盲フランジ３１との間には下部ベロ
ーズ３５が取付けられている。上部ベローズ１２の内部
の前面側真空室１４は主真空室２１に連通し、一方、下
部ベローズ３５の内部の背面側真空室２３は、支持パイ
プ２５の管内部３６と孔３７と前面側真空室１４とを介
して主真空室２１に連通している。基台７が取付けられ
た駆動部８にはリニアモータが内蔵され、このリニアモ
ータがレールとしてのリニアガイド４４に沿って上下に
昇降するようになっている。

【００１９】図３に示すように、基台７に取付けられた
支持パイプ２５の上端にはキャリア受台５が取付けられ
ており、このキャリア受台５にはキャリア４が載置され
ている。このキャリア４には多数の支持片４５が設けら
れており、ウエハなどの半導体製品は各支持片４５によ
りそれぞれ支持されて多数積載されている。

【００２０】したがって、駆動部８のリニアモータを駆
動させることにより基台７が昇降し、これにより、キャ
リア受台５上に載置されたキャリア４も昇降する。この
場合に、基台７の表裏面には圧力差が生じないので基台
７が変形することはなく、従ってキャリア受台５及びキ
ャリア４は高精度で垂直方向に昇降することとなる。

【００２１】なお、上記実施例は移動部２０が上下に昇
降する場合について説明したが、進退動する方向はこれ
に限られない。

【００２２】

【発明の効果】本発明に係る真空用移動装置は上記のよ
うに構成したので、基台の前面と背面との間に圧力差が
生じることはなくなり、したがって真空中を進退移動す
る移動部材の変位または変形を防止することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】図１乃至図４は本発明に係る真空用移動装置の
一実施例を示す図で、図１は本発明の原理を示す概略構
成図である。

【図２】図１に示す原理を具体化した真空用移動装置の
全体構成を示す正面図である。

【図３】図２に示す装置の移動部の拡大側面図である。

【図４】図２のIV−IV線による矢視図である。

【図５】従来の真空用移動装置の原理を示す概略構成図
で、図１に相当する図である。

【符号の説明】

７ 基台 ８ 駆動部 １０ 基台の前面 １５ 基台の背面 ２０ 真空用移動装置 ２１ 主真空室 ２２ 移動部 ２３ 背面側真空室 ２４ 背面側壁部

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 駆動部により駆動されて進退動する基台
   と、 この基台に取付けられて主真空室内を進退動する移動部
   と、 上記基台の前面に上記主真空室と連通する前面側真空室
   を形成する前面側壁部と、 上記基台の背面に上記前面側真空室と連通する背面側真
   空室を形成する背面側壁部とを備えたことを特徴とする
   真空用移動装置。