JPH06165975A - 基板端縁洗浄装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 角型基板の周縁部の表裏両面の少なくとも一
方に対する不要薄膜の洗浄除去とともに位置決め部材に
付着した不要薄膜を除去できるようにする。 【構成】 表面に薄膜が形成された角型基板１を基板保
持手段に載置保持させ、その角型基板１の対向する二辺
それぞれに作用するように、角型基板１の端縁の不要薄
膜を洗浄除去する基板端縁洗浄具３を設け、かつ、それ
らの基板端縁洗浄具３それぞれを、角型基板の端縁１の
表裏両面に溶剤を吐出して不要薄膜を溶解する溶剤ノズ
ルと、角型基板１の端縁の外方に設けられて溶剤ノズル
からの溶剤や不要薄膜を吸引排出する吸引部材２３とか
ら構成し、吸引部材２３内に位置決め板２９を設け、角
型基板１の周端面に当接して位置決めを行う。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、フォトレジスト塗布液
や感光性ポリイミド樹脂やカラーフィルター用の染色剤
といった薄膜が表面に形成された半導体ウエハや液晶表
示装置用のガラス基板やフォトマスク用のガラス基板や
サーマルヘッド製造用のセラミック基板などの基板を所
定の位置で保持し、その薄膜形成後の基板の端縁に溶剤
を吐出して、基板端縁の不要薄膜を溶解除去するため
に、表面に薄膜が形成された角型基板を載置保持する基
板保持手段と、その基板保持手段によって保持された角
型基板の端縁の不要薄膜を洗浄除去する端縁洗浄手段と
を備えた基板端縁洗浄装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】上述のような基板端縁洗浄装置では、そ
の洗浄に先立って、基板保持手段に所定の位置で基板を
保持させる必要があり、従来、例えば、特開昭５８−１
５５１４０号公報に開示されているものがあった。

【０００３】この公知例によれば、角型基板の四辺のう
ちの二辺にそれぞれ当接するように固定ピンが設けら
れ、一方、それに対向する二辺側に、角型基板を固定ピ
ン側に押圧するように移動する可動ピンとが設けられ、
その可動ピンと固定ピンとを角型基板の四辺に当接させ
ることによって角型基板を所定位置に位置させるように
構成されている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た公知例の場合、その薄膜形成後の角型基板において、
表面のみならず周端面にも不要薄膜が付着しているた
め、位置決めに際して可動ピンおよび固定ピンそれぞれ
が角型基板の周端面に当接するに伴い、不要薄膜が可動
ピンおよび固定ピンそれぞれに付着する。

【０００５】このため、位置決めの繰り返しに伴い、可
動ピンおよび固定ピンそれぞれに不要薄膜が付着してい
ってピン径が大きくなり、次の角型基板の位置決めを行
うときに位置決め精度が低下する欠点があった。また、
可動ピンおよび固定ピンそれぞれに付着した不要薄膜の
一部が剥離してパーティクルとなり、角型基板の表面を
汚染する虞があった。

【０００６】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たものであって、請求項１に係る発明の基板端縁洗浄装
置は、位置決めに起因する位置決め精度の低下やパーテ
ィクル発生を構成的に簡単にして回避できるようにする
ことを目的とし、また、請求項２に係る発明の基板端縁
洗浄装置は、角型基板の周縁部の表裏両面の少なくとも
一方に対する不要薄膜の洗浄除去とともに位置決め部材
に付着した不要薄膜を除去できるようにすることを目的
とし、また、請求項３に係る発明の基板端縁洗浄装置
は、溶剤や不要薄膜を角型基板の周縁部および位置決め
部材から良好に除去できるようにすることを目的とし、
また、請求項４に係る発明の基板端縁洗浄装置は、溶剤
や不要薄膜を外部に飛散させずに良好に回収できるよう
にすることを目的とし、また、請求項５に係る発明の基
板端縁洗浄装置は、角型基板の周端面に対する不要薄膜
の洗浄除去とともに位置決め部材に付着した不要薄膜を
除去できるようにすることを目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】請求項１に係る発明の基
板端縁洗浄装置は、上述のような目的を達成するため
に、表面に薄膜が形成された角型基板を載置保持する基
板保持手段と、その基板保持手段によって保持された角
型基板の端縁の不要薄膜を洗浄除去する端縁洗浄手段と
を備えた基板端縁洗浄装置において、端縁洗浄手段に、
角型基板の周端面に当接して基板保持手段に所定位置に
保持させる位置決め機能を兼備する。

【０００８】また、請求項２に係る発明の基板端縁洗浄
装置は、上述のような目的を達成するために、上記請求
項１に記載の端縁洗浄手段を、少なくとも角型基板の対
向する二辺それぞれに作用するように設け、かつ、それ
らの端縁洗浄手段それぞれを、角型基板の端縁の表裏両
面の少なくともいずれか一方に溶剤を吐出して不要薄膜
を溶解する溶剤ノズルと、角型基板の端縁の外方に設け
られて溶剤ノズルからの溶剤や不要薄膜を吸引排出する
吸引部材とから構成し、吸引部材内に、角型基板の周端
面に当接する位置決め部材を設けて構成する。

【０００９】使用する溶剤としては、フォトレジスト塗
布液を溶解する場合には、アセトン、メチルエチルケト
ン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ジイ
ソブチルケトンなどのケトン類や、酢酸エチル、酢酸ブ
チル、酢酸−ｎ−アミル、蟻酸メチル、プロピオン酸エ
チル、フタル酸ジメチル、安息香酸エチルなどのエステ
ル類や、トルエン、キシレン、ベンゼン、エチルベンゼ
ンなどの芳香族炭化水素類や、テトラヒドロフラン、ジ
エチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテ
ル、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート
などのエーテル類や、ジメチルホルムアミドやジメチル
スルホキサイドなどを用いることができる。また、染色
剤を溶解する場合には、30〜60℃の温湯や、メタノー
ル、エタノール、プロパノールなどの低級アルコール
や、アセトンなどを用いることができ、そして、これら
の液体中に角型基板との濡れを良くするために界面活性
剤を添加しても良い。

【００１０】また、請求項３に係る発明の基板端縁洗浄
装置は、上述のような目的を達成するために、上記請求
項２に記載の端縁洗浄手段を、溶剤ノズルからの溶剤に
よって溶解された不要薄膜をガスの吐出によって角型基
板の端縁よりも外方に吹き飛ばすガスノズルを備えて構
成する。ガスノズルから供給するガスとしては、窒素ガ
スなどの不活性ガスや空気を用いることができる。

【００１１】また、請求項４に係る発明の基板端縁洗浄
装置は、上述のような目的を達成するために、請求項２
または３のいずれかに記載の吸引手段を、角型基板の周
端面に対向する幅の狭い吸引口とそれに連続する幅の広
い延長部とを有し、吸引口の先端よりも延長部側の位置
に位置決め部材を設けて構成する。

【００１２】また、請求項５に係る発明の基板端縁洗浄
装置は、上述のような目的を達成するために、請求項１
に記載の端縁洗浄手段を、少なくとも角型基板の対向す
る二辺それぞれに作用するように設け、かつ、それらの
端縁洗浄手段それぞれを、角型基板の周端面に自転しな
がら摺接する洗浄具と、その洗浄具を角型基板の周端面
に摺接しない非洗浄位置で浸漬する洗浄槽とから構成
し、洗浄具を角型基板の対向する二辺の周端面に当接し
て角型基板に対する位置決めを行うように構成する。

【００１３】

【作用】請求項１に係る発明の基板端縁洗浄装置の構成
によれば、表面に均一に薄膜を形成した角型基板を、端
縁洗浄手段に兼備させた位置決め機能によって所定位置
に位置決めした状態で基板保持手段に載置保持させ、そ
の後に、端縁洗浄手段により、角型基板の周縁部の表裏
両面の少なくとも一方とか周端面といった角型基板の端
縁の不要薄膜を洗浄除去し、その一連の洗浄除去におい
て、位置決めにより角型基板の周端面と当接した部分を
洗浄することができる。

【００１４】また、請求項２に係る発明の基板端縁洗浄
装置の構成によれば、表面に均一に薄膜を形成した角型
基板を、吸引部材内に設けた位置決め部材を角型基板の
周端面に当接させて所定位置に位置決めした状態で基板
保持手段に載置保持させ、その後に、溶剤ノズルから角
型基板の表裏両面の少なくともいずれか一方に溶剤を吐
出して角型基板の端縁の不要薄膜を溶解し、溶剤および
不要薄膜を吸引部材によって吸引排出することができ、
そして、この吸引排出される溶剤によって、前述位置決
めに際して位置決め部材に付着した不要薄膜を洗浄除去
することができる。

【００１５】また、請求項３に係る発明の基板端縁洗浄
装置の構成によれば、溶剤によって溶解した不要薄膜を
ガスノズルからガスを吐出することにより基板の端縁よ
りも外方に吹き飛ばし、また、そのガスによって位置決
め部材からの不要薄膜の除去を促進し、吸引部材によっ
て吸引排出することができる。

【００１６】また、請求項４に係る発明の基板端縁洗浄
装置の構成によれば、吸引口部分での排気のための線速
度を高めることができる。

【００１７】また、請求項５に係る発明の基板端縁洗浄
装置の構成によれば、洗浄具を角型基板の周端面に当接
させて所定位置に位置決めした状態で基板保持手段に角
型基板を載置保持させ、その後に、洗浄具を自転させな
がら角型基板の周端面に摺接させ、角型基板の周端面に
付着した不要薄膜を洗浄除去し、しかる後に、洗浄具を
洗浄槽中に浸漬し、位置決めおよび自転による洗浄の際
に洗浄具に付着した不要薄膜を除去することができる。

【００１８】

【実施例】次に、本発明の実施例を図面を用いて詳細に
説明する。

【００１９】＜第１実施例＞図１は、本発明に係る基板
端縁洗浄装置の第１実施例の全体概略平面図、図２は一
部切欠全体概略側面図であり、回転塗布によって表面に
薄膜が形成された角型基板１を載置保持する基板保持手
段２の周囲４箇所に端縁洗浄手段としての基板端縁洗浄
具３が備えられて、基板端縁洗浄装置４が構成されてい
る。

【００２０】基台Ｂに、第１のエアーシリンダ５と一対
の第１のガイド６，６を介してシリンダ支持台７が昇降
可能に設けられ、そのシリンダ支持台７上に第２のエア
ーシリンダ８が設けられるとともに、第２のエアーシリ
ンダ８に角型基板１を真空吸着によって載置保持する基
板載置プレート９が一体的に設けられ、前記基板保持手
段２が構成されている。

【００２１】前記基板端縁洗浄具３は、洗浄具本体１０
と、それを角型基板１の端縁に沿わせて直線移動する移
動手段１１と、洗浄具本体１０を角型基板１の端縁に対
して遠近変位する位置調整手段１２とから構成されてい
る。

【００２２】前記基台Ｂに取り付けられた支持台１３
に、一対の第２のガイド１４，１４を介して角型基板１
の端縁に沿う方向に移動可能に移動台１５が設けられ、
かつ、支持台１３に、主動プーリー１６と従動プーリー
１７とが取り付けられ、両プーリー１６，１７にベルト
１８が巻回されるとともに主動プーリー１６に第１の電
動モータ１９が連動連結され、そして、ベルト１８に移
動台１５が一体的に取り付けられ、洗浄具本体１０を角
型基板１の端縁に沿わせて直線移動するように前記移動
手段１１が構成されている。

【００２３】前記移動台１５に、図３の要部の一部切欠
拡大側面図に示すように、一対の第３のガイド２０，２
０と第３のエアーシリンダ２１とを介して、角型基板１
に対して遠近する方向に駆動移動可能に支持部材２２が
設けられ、洗浄具本体１０を角型基板１の大きさに応
じ、その端縁に沿って直線的に移動できる位置に変位で
きるように前記位置調整手段１２が構成されている。

【００２４】支持部材２２に上下方向に固定位置を調整
可能に吸引部材２３が取り付けられ、その吸引部材２３
の吸引口部２３ａを挟んだ上下方向の上側に第１の溶剤
ノズル２４ａと第１のガスノズル２５ａが、そして、下
側に第２の溶剤ノズル２４ｂと第２のガスノズル２５ｂ
が、それぞれ水平方向の軸芯周りで回転可能に取り付け
られるとともに、長穴Ｈ…それぞれを通したネジ部材
（図示せず）をナット（図示せず）で締め付けることに
より固定位置を調整可能に支持部材２２に取り付けられ
ている。

【００２５】図示しないが、吸引部材２３には排気用の
配管を介して真空源が接続され、また、第１および第２
の溶剤ノズル２４ａ，２４ｂそれぞれには角型基板１の
端縁に塗布された不要薄膜を溶解可能な溶剤を供給する
溶剤供給管が接続され、更に、第１および第２のガスノ
ズル２５ａ，２５ｂそれぞれには、ガスとして窒素ガス
を供給するガス供給管が接続され、それらの排気用の配
管、溶剤供給管およびガス供給管のいずれもが、洗浄具
本体１０の移動を許容するように可撓性を有する材料で
構成されている。

【００２６】吸引部材２３の吸引口部２３ａの開口面積
が、その吸引口部２３ａに連なる延長部２３ｂの開口横
断面積よりも小に構成され、かつ、その延長部２３ｂの
開口横断面積が、吸引口部２３ａから所定長さの範囲
は、吸引口部２３ａ側ほど小さくなるように構成し、か
つ、所定長さの範囲を超えた範囲では一定になるように
構成され、吸引口部２３ａでの線速度を高くして排気効
率を向上できるように構成されている。

【００２７】基板載置プレート９には、真空吸着孔（図
示せず）が分散形成されるとともに、それらの真空吸着
孔に吸気管２６および電磁開閉弁２６ａを介して真空源
２７が接続され、基板載置プレート９上に角型基板１を
載置して吸着保持するように構成されている。

【００２８】前記吸引部材２３…それぞれは、図４の要
部の斜視図に示すように、長方形状の箱形部材２８に、
長手方向に所定間隔を隔てて２枚の位置決め板２９，２
９を設けて内部空間を３個に分割するとともに、各内部
空間それぞれに吸引用の分岐配管３０…を接続して構成
され、かつ、位置決め板２９，２９の端面が吸引口部２
３ａの近くに位置するように構成されている。

【００２９】前記支持部材２２の変位方向の途中箇所
に、支持部材２２に当接する位置と当接しない非当接位
置とに正逆転可能な第２の電動モータ３１によって回転
変位可能にストッパー３２が設けられ、第３のエアーシ
リンダ２１によってストロークエンドまで伸長して吸引
部材２３を位置決め位置まで変位した後、ストッパー３
２を当接位置に変位させ、第３のエアーシリンダ２１を
短縮してストッパー３２に支持部材２２が当接する位置
まで変位させることにより、吸引部材２３を吸引位置に
位置させることができるようになっている。図中２１ａ
は、第３のエアーシリンダ２１によるストロークエンド
位置、すなわち、位置決め位置を微調整するアジャスト
ボルトを示している。

【００３０】以上の構成により、図５の（ａ）の要部の
側面図に示すように、吸引部材２３を原点位置に位置さ
せた状態で、基板載置プレート９上に角型基板１を載置
させ、その状態で第３のエアーシリンダ２１をストロー
クエンドまで伸長し、図５の（ｂ）の要部の側面図に示
すように、吸引部材２３を位置決め位置まで変位させ、
各位置決め板２９…を角型基板１の周端面に当接して位
置決めを行う。このとき、第２の電動モータ３１を駆動
してストッパー３２を当接位置まで変位させておく。

【００３１】位置決めの終了後に、電磁開閉弁２６ａを
開いて角型基板１を基板載置プレート９に真空吸着保持
させるとともに、図５の（ｃ）の要部の側面図に示すよ
うに、第３のエアーシリンダ２１を短縮して、支持部材
２２がストッパー３２に当接する位置まで変位して吸引
部材２３を吸引位置に位置させる。

【００３２】しかる後、図５の（ｄ）の要部の側面図に
示すように、第１および第２の溶剤ノズル２４ａ，２４
ｂ、ならびに第１および第２のガスノズル２５ａ，２５
ｂそれぞれから溶剤とガスとを角型基板１の表裏両面の
端縁側に吐出するとともに吸引部材２３から排気し、角
型基板１の端縁の不要薄膜、および、前述した位置決め
に伴って位置決め板２９の端面に付着した不要薄膜、な
らびに、溶剤を吸引部材２３を通じて洗浄除去すること
ができる。

【００３３】＜第２実施例＞図６は第２実施例を示し、
（ａ）は要部の一部切欠斜視図、（ｂ）は要部の正面図
であり、吸引部材２３内に、角型基板１の端面に当接す
る上下方向に幅の狭い位置決め板３３，３３が設けら
れ、吸引部材２３の天井面と底板それぞれと位置決め板
３３との間に隙間が形成され、かつ、吸引部材２３の底
板に、横断面形状円形で比較的小径の１本の吸引用の配
管３４が接続されている。他の構成は第１実施例と同じ
であり、その説明は省略する。

【００３４】＜第３実施例＞図７の（ａ）は第３実施例
を示す要部の斜視図であり、吸引部材２３内の吸引口部
２３ａに近い位置で、底板に角型基板１の端面に当接す
る位置決めピン３５，３５が突設されている。他の構成
は第１実施例と同じであり、その説明は省略する。

【００３５】上記第１および第２実施例における位置決
め板２９，３３、および、第３実施例における位置決め
ピン３５をして位置決め部材と総称する。

【００３６】＜第４実施例＞図７の（ｂ）は第４実施例
を示す要部の横断面図であり、第１実施例と異なるとこ
ろは次の通りである。すなわち、吸引部材２３の底板
に、両位置決め板２９，２９にわたるとともに、分割さ
れた３個の内部空間に接続する状態で、吸引用の開口３
６が形成されている。他の構成は第１実施例と同じであ
り、その説明は省略する。この第４実施例において、吸
引部材２３の底板を開口３６側程低くなるように傾斜面
に構成しても良い。

【００３７】＜第５実施例＞図７の（ｃ）は第５実施例
を示す要部の横断面図であり、第１実施例と異なるとこ
ろは次の通りである。すなわち、吸引部材２３の底板
に、両位置決め板２９，２９それぞれの両側にわたる状
態で、吸引用の開口３７，３７が形成されている。他の
構成は第１実施例と同じであり、その説明は省略する。
この第５実施例において、吸引部材２３の底板を開口３
７側程低くなるように傾斜面に構成しても良い。

【００３８】上記実施例では、基板端縁の表裏両面に溶
剤を吐出するように構成しているが、例えば、回転可能
に保持された角型基板１の下方側に溶剤を供給し、角型
基板１の裏面に回り込んで形成される薄膜を溶解除去す
るように構成した裏面洗浄タイプの回転塗布装置で回転
塗布により薄膜が形成された角型基板１に対しては、角
型基板１の裏面の不要薄膜は既に除去されているため、
角型基板１の端縁の表面側にのみ溶剤を吐出するように
構成するとか、あるいは、角型基板１の端縁の裏面側に
のみ溶剤を吐出して表面張力により表面側に回り込ませ
るように構成するなど、角型基板１の端縁の表裏両面の
少なくともいずれか一方に溶剤を吐出するように構成す
れば良い。

【００３９】＜第６実施例＞

【００４０】図８は、第６実施例を示す一部省略全体側
面図、図９は全体平面図であり、これらの図において、
４１は昇降および回転可能な基板保持手段を示し、角型
基板１を水平姿勢に載置するとともに真空吸着により保
持する基板載置プレート４１ａと、その基板載置プレー
ト４１ａを鉛直方向の第１の軸芯（回転中心）Ｐ１周り
で駆動回転する回転速度可変の第３の電動モータ４１ｂ
とから構成されている。

【００４１】基板載置プレート４１ａに載置された状態
での角型基板１の対向する１組の辺それぞれの横側に中
空筒状の第１の支柱４２が立設され、その第１の支柱４
２に第１の支持部材４３が鉛直方向の第２の軸芯（揺動
軸芯）Ｐ２周りで回転可能に内嵌されるとともに、第１
の支持部材４３に水平方向に張り出すアーム部分４４ａ
を備えた第２の支持部材４４がスプライン嵌合によって
上下方向に摺動のみ可能に設けられ、その第２の支持部
材４４のアーム部分４４ａの先端側に、前記第２の軸芯
Ｐ２とは偏位した鉛直方向の第３の軸芯（自転軸芯）Ｐ
３周りで回転（自転）可能に、端縁洗浄手段を構成する
洗浄具４５が設けられている。

【００４２】図１０の一部切欠全体側面図に示すよう
に、アーム部分４４ａの先端側に洗浄具４５の駆動軸４
６が第３の軸芯（自転軸芯）Ｐ３周りで回転可能に設け
られるとともにその駆動軸４６に従動プーリー４７が取
り付けられ、一方、アーム部分４４ａの途中箇所に第４
の電動モータ４８が設けられるとともに、そのモータ軸
４９に主動プーリー５０が取り付けられ、主動プーリー
５０と従動プーリー４７とにわたって伝動ベルト５１が
巻回され、正逆転可能な第４の電動モータ４８によって
洗浄具４５を駆動自転できるように構成されている。

【００４３】図１０および図１１の一部省略平面図に示
すように、第１の支持部材４３に一体回転自在にアーム
５２が取り付けられるとともに、第１および第２の支持
部材４３，４４から離れた所定箇所とアーム５２の先端
側とにわたって引っ張りスプリング５３が連結され、角
型基板１を比較的低速（例えば、20秒間で１回転など）
で回転させながら洗浄具４５を比較的高速（例えば、10
0rpm）で駆動自転しつつ、第２の支持部材４４を引っ張
りスプリング５３の付勢力によって付勢し、洗浄具４５
を角型基板１の端面に一定の圧力で接触させながら摺接
し、角型基板１の端面に付着した塗布液などの不要薄膜
を洗浄除去できるように構成されている。

【００４４】図１０および図１１において、５４は、鉛
直方向の第４の軸芯Ｐ４周りで回転可能に設けられた洗
浄解除アームを示し、この洗浄解除アーム５４に第４の
エアーシリンダ５５が連結され、一方、アーム５２に、
洗浄解除アーム５４に当接するローラ５６が付設され、
第４のエアーシリンダ５５を短縮することにより、洗浄
解除アーム５４をローラ５６に当接し、引っ張りスプリ
ング５３の付勢力に抗してアーム１２を回転し、洗浄具
４５を角型基板１の端面に摺接しない位置に変位して洗
浄動作を解除できるように構成されている。

【００４５】また、図中５７は、洗浄具４５の移動範囲
の下方に設けた付着物回収容器を示し、この付着物回収
容器５７の、洗浄具４５が角型基板１の端面を洗浄しな
い非基板洗浄位置に相当する箇所に、端縁洗浄手段を構
成する洗浄槽５８が設けられている。図１０に示すよう
に、水平方向の軸芯Ｐ５周りでフォーク部材５９が設け
られ、そのフォーク部材５９の一端側に鉛直方向の第５
のエアーシリンダ６０が連結されるとともに、他端側に
第２の支持部材４４が係合され、第５のエアーシリンダ
６０の伸縮によって第２の支持部材４４を、すなわち、
洗浄具４５を昇降できるように構成されている。

【００４６】上記構成により、角型基板１の端面に摺接
する位置と、前述した非洗浄位置で洗浄槽５８内に洗浄
具４５を浸漬する位置とにわたって洗浄具４５を昇降さ
せ、位置決めおよび洗浄処理後に、洗浄具４５を洗浄槽
５８内の洗浄液中に浸漬して洗浄具４５に付着した塗布
液を除去し、その後、それよりやや上昇して洗浄具４５
を洗浄槽５８内の洗浄液の液面より上方の振り切り位置
に位置させ、その状態で洗浄具４５を高速で回転させる
ことにより、洗浄後に洗浄具４５に滲み込んだ余剰の洗
浄液を振り切り、適量の洗浄液を滲み込ませた状態で、
次の洗浄に移行するようになっている。

【００４７】洗浄具４５の上方側周囲を覆う状態で、ア
ーム部分４４ａにカバー部材６１が取り付けられ、前述
した振り切り位置において、洗浄槽５８の周壁とカバー
部材６１とによって洗浄具４５の周囲を覆い、振り切り
時に洗浄液が外部に飛散しないように構成されている。

【００４８】洗浄具４５としては、表面にフェルトを貼
り付けて構成するものや、ナイロン、モヘア等を材質と
する毛を植設して構成するものや、多孔質のスポンジや
布を巻き付けて構成するものなどが採用できる。

【００４９】以上の構成により、基板載置プレート４１
ａ上に角型基板１を載置させた後、両洗浄具４５，４５
に対し、第４のエアーシリンダ５５を伸長して洗浄解除
アーム５４による作用を解除し、角型基板１の対向する
二辺の周端面に両洗浄具４５，４５を当接させ、角型基
板１を両側から挟むようにして位置決めし、その後、真
空吸着を行って角型基板１を真空吸着保持してから、角
型基板１を比較的低速で回転させながら、その角型基板
１の周端面に洗浄具４５を駆動自転しながら摺接させ、
角型基板１を半回転することによって、角型基板１の四
辺すべての端面を連続的に洗浄できる。しかる後に、前
述したように、第４のエアーシリンダ５５を短縮して洗
浄解除アーム５４を作用させ、洗浄具４５を非洗浄位置
に変位してから下降させることにより、洗浄具４５を洗
浄槽５８内に浸漬し、位置決めおよび洗浄処理によって
洗浄具４５に付着した不要薄膜を洗浄除去することがで
きる。

【００５０】上述した角型基板１の洗浄時においては、
洗浄具４５が角型基板１の角部を乗り越える時に角型基
板１の端面から離間するのを防止するため、角型基板１
の回転速度を、洗浄具４５が角部近くに移動するに伴っ
て減速するようになっている。

【００５１】また、角型基板１への塗布液の塗布処理時
において、塗布液を振り切るときに、角型基板１の回転
方向後方側の角部側に寄った端面に付着する塗布液の量
が多くなる傾向にある。本実施例では、第３の電動モー
タ４１ｂとして、回転速度可変のものを用いているの
で、このことに対応して、角型基板１の回転方向後方側
の角部側に近づくに連れて角型基板１の回転速度を減速
し、付着した塗布液の量が多い箇所ほど洗浄具４５によ
る摺接時間を多くしてその部分を念入りに洗浄し、周方
向全周にわたって角型基板１の端面を良好に且つ時間的
効率も良く洗浄できるようになっている。

【００５２】尚、本発明の実施にあたり、基板保持手段
４１と洗浄具４５とを回転方向が同一となるように、基
板保持手段４１と洗浄具４５の両方を時計回り方向に駆
動すると、洗浄具５による角型基板１の端面に対する相
対的な摺動速度が洗浄具４５の回転速度よりも大きくな
る状態で、洗浄具４５が角型基板１の周方向全周の端面
に沿って摺動することになり、洗浄具４５と角型基板１
の端面との間での摩擦抵抗が小さくても、また、引っ張
りスプリング５３によって付与する付勢力が小さくて
も、角型基板１の端面に付着した塗布液を掻き取る力、
即ち、端面が洗浄具４５によって擦られる力が大きくな
り、摺動に伴う洗浄効果が向上する。

【００５３】また、基板保持手段４１と洗浄具４５とを
回転方向が逆になるように、基板保持手段４１を時計回
り方向に、洗浄具４５を反時計回り方向に駆動すると、
洗浄具４５は角型基板１の端面が相対移動する向きに沿
って回転するので、洗浄具４５と角型基板１の端面との
間での摩擦抵抗が大きくても、洗浄具４５の角型基板１
の端面に沿っての移動、特に、洗浄具４５が角型基板１
の角部を乗り越えることが円滑に行われる。また、自転
している洗浄具４５が外力として角型基板１の端面に加
える力は、角型基板１の回転と同方向回りのモーメント
として作用するので角型基板１が基板載置プレート４１
ａとの間でズレたりすることがなく、スリ傷発生等の不
都合を軽減できる。

【００５４】第６実施例の基板端縁洗浄装置としては、
角型基板１の端面の洗浄専用に構成するものでも、フォ
トレジスト液などの塗布液を塗布する装置と兼用で構成
するものでも良い。

【００５５】本発明としては、長方形状の角型基板１に
限らず、正方形状の角型基板を洗浄する場合にも適用で
きる。

【００５６】

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、請求項
１に係る発明の基板端縁洗浄装置によれば、端縁洗浄手
段に位置決め機能を兼備するから、端縁洗浄手段による
角型基板の端縁の不要薄膜の一連の洗浄除去において、
位置決めにより角型基板の周端面と当接した部分をも洗
浄でき、不要薄膜が付着したままで次の角型基板に対し
て位置決めすることを、専用の洗浄手段を用いずに回避
でき、位置決めに起因する位置決め精度の低下やパーテ
ィクル発生を構成的に簡単にして回避できる。

【００５７】また、請求項２に係る発明の基板端縁洗浄
装置の構成によれば、角型基板の表裏両面の少なくとも
いずれか一方に対する不要薄膜の洗浄除去とともに位置
決め部材に付着した不要薄膜を洗浄除去できるから、位
置決め部材に対する洗浄のための特別な構成が不用で、
位置決めに起因する位置決め精度の低下やパーティクル
発生を構成的に簡単にして回避することができる。

【００５８】また、請求項３に係る発明の基板端縁洗浄
装置の構成によれば、ガスノズルから吐出されるガスに
よって位置決め部材からの不要薄膜の除去を促進し、位
置決め部材に付着した溶剤や不要薄膜をより良好に除去
することができる。

【００５９】また、請求項４に係る発明の基板端縁洗浄
装置の構成によれば、吸引口部分での排気のための線速
度を高めることができるから、位置決め部材に付着した
溶剤や不要薄膜をより一層良好に除去することができ
る。

【００６０】また、請求項５に係る発明の基板端縁洗浄
装置の構成によれば、角型基板の周端面に摺接させてそ
こに付着した不要薄膜を洗浄除去する洗浄具自体を角型
基板の周端面に当接させることにより、角型基板に対す
る位置決めを行うとともに、その位置決めに伴って洗浄
具に付着した不要薄膜を、端縁洗浄に伴って付着した溶
剤や不要薄膜とともに洗浄槽で洗浄して除去するから、
位置決めに起因する位置決め精度の低下やパーティクル
発生を構成的に簡単にして回避することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る基板端縁洗浄装置の第１実施例の
全体概略平面図である。

【図２】一部切欠全体概略側面図である。

【図３】要部の一部切欠拡大側面図である。

【図４】要部の斜視図である。

【図５】要部の側面図である。

【図６】（ａ）は第２実施例を示す要部の一部切欠斜視
図、（ｂ）は第２実施例を示す要部の正面図である。

【図７】（ａ）は第３実施例を示す要部の斜視図、
（ｂ）は第４実施例を示す要部の横断面図、（ｃ）は第
５実施例を示す要部の横断面図である。

【図８】第６実施例を示す一部省略全体側面図である。

【図９】全体平面図である。

【図１０】一部切欠全体側面図である。

【図１１】一部省略全体平面図である。

【符号の説明】

１…角型基板 ２…基板保持手段 ３…端縁洗浄手段としての基板端縁洗浄具 ２３…吸引部材 ２３ａ…吸引口部 ２３ｂ…延長部 ２４ａ…第１の溶剤ノズル ２４ｂ…第２の溶剤ノズル ２５ａ…第１のガスノズル ２５ｂ…第２のガスノズル ２９…位置決め板 ３３…位置決め板 ３５…位置決めピン ４１…基板保持手段 ４５…端縁洗浄手段を構成する洗浄具 ５８…端縁洗浄手段を構成する洗浄槽

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁵ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 // Ｇ０２Ｆ 1/13 １０１ 9315−2Ｋ 1/1333 ５００ 9225−2Ｋ

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 表面に薄膜が形成された角型基板を載置
   保持する基板保持手段と、その基板保持手段によって保
   持された前記角型基板の端縁の不要薄膜を洗浄除去する
   端縁洗浄手段とを備えた基板端縁洗浄装置において、 前記端縁洗浄手段に、前記角型基板の周端面に当接して
   前記基板保持手段に所定位置に保持させる位置決め機能
   を兼備したことを特徴とする基板端縁洗浄装置。
2. 【請求項２】 請求項１に記載の端縁洗浄手段を、少な
   くとも前記角型基板の対向する二辺それぞれに作用する
   ように設け、かつ、それらの端縁洗浄手段それぞれが、
   角型基板の端縁の表裏両面の少なくともいずれか一方に
   溶剤を吐出して不要薄膜を溶解する溶剤ノズルと、前記
   角型基板の端縁の外方に設けられて前記溶剤ノズルから
   の溶剤や不要薄膜を吸引排出する吸引部材とから成り、
   前記吸引部材内に、前記角型基板の周端面に当接する位
   置決め部材を設けたものである基板端縁洗浄装置。
3. 【請求項３】 請求項２に記載の端縁洗浄手段が、溶剤
   ノズルからの溶剤によって溶解された不要薄膜をガスの
   吐出によって角型基板の端縁よりも外方に吹き飛ばすガ
   スノズルを備えたものである基板端縁洗浄装置。
4. 【請求項４】 請求項２または３のいずれかに記載の吸
   引手段が、角型基板の周端面に対向する幅の狭い吸引口
   部とそれに連続する幅の広い延長部とを有し、前記吸引
   口部の先端よりも前記延長部側の位置に位置決め部材を
   設けてある基板端縁洗浄装置。
5. 【請求項５】 請求項１に記載の端縁洗浄手段を、少な
   くとも前記角型基板の対向する二辺それぞれに作用する
   ように設け、かつ、それらの端縁洗浄手段それぞれが、
   角型基板の周端面に自転しながら摺接する洗浄具と、そ
   の洗浄具を前記角型基板の周端面に摺接しない非洗浄位
   置で浸漬する洗浄槽とを備え、前記洗浄具を前記角型基
   板の対向する二辺の周端面に当接して前記角型基板に対
   する位置決めを行うものである基板端縁洗浄装置。