JPH06167538A - 光学的にアドレス可能な高密度回路基板プローブ装置及びその利用方法 - Google Patents
光学的にアドレス可能な高密度回路基板プローブ装置及びその利用方法Info
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- JPH06167538A JPH06167538A JP4075609A JP7560992A JPH06167538A JP H06167538 A JPH06167538 A JP H06167538A JP 4075609 A JP4075609 A JP 4075609A JP 7560992 A JP7560992 A JP 7560992A JP H06167538 A JPH06167538 A JP H06167538A
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Landscapes
- Testing Of Individual Semiconductor Devices (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
- Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 プローブ密度が200プローブ/平方インチ
を超えても、信頼性が改善され、テストが所望されるど
んな回路にでも適応するプローブ装置を提供することで
ある。 【構成】 本発明は、それぞれ、電圧ストリップのよう
な外部電源に接続された光電スイッチに結合されてい
る、高密度の光電的にアドレス可能な電極を備えたプロ
ーブ・パネルを利用し、さらに、回路基板の選択された
位置にテスト信号を加えることが所望される各光電スイ
ッチを選択的に作動させるための光電手段を利用する、
回路基板のテスト装置である。
を超えても、信頼性が改善され、テストが所望されるど
んな回路にでも適応するプローブ装置を提供することで
ある。 【構成】 本発明は、それぞれ、電圧ストリップのよう
な外部電源に接続された光電スイッチに結合されてい
る、高密度の光電的にアドレス可能な電極を備えたプロ
ーブ・パネルを利用し、さらに、回路基板の選択された
位置にテスト信号を加えることが所望される各光電スイ
ッチを選択的に作動させるための光電手段を利用する、
回路基板のテスト装置である。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、回路基板のテスト装置
に関するものであり、とりわけ、多層プリント回路基板
またはマルチ・チップ・モジュールといった、高密度の
プローブ・ポイントを備えた回路基板のテスト装置に関
するものである。
に関するものであり、とりわけ、多層プリント回路基板
またはマルチ・チップ・モジュールといった、高密度の
プローブ・ポイントを備えた回路基板のテスト装置に関
するものである。
【0002】
【従来の技術】回路基板上におけるコンポーネントの配
置密度が高くなるにつれて、要求に応じ、基板に合わせ
て、テストを行うことの可能な回路基板テスト装置を提
供するのは、いっそう困難になっている。
置密度が高くなるにつれて、要求に応じ、基板に合わせ
て、テストを行うことの可能な回路基板テスト装置を提
供するのは、いっそう困難になっている。
【0003】既知のプローブ・パネルは、破損や、摩耗
といった付加的問題を被り易い探針を利用している。こ
の結果、欠陥のあるテスト装置に起因する休止時間、さ
らには、産出力の低下のため、生産性が損なわれること
になる。集積回路テクノロジが、大形回路基板に直接コ
ンポーネントを組み立てるポイントに達すると、問題の
発生する可能性がある。テストには、現在利用し得るも
のに比べてプローブ密度を高くすることが必要になる。
といった付加的問題を被り易い探針を利用している。こ
の結果、欠陥のあるテスト装置に起因する休止時間、さ
らには、産出力の低下のため、生産性が損なわれること
になる。集積回路テクノロジが、大形回路基板に直接コ
ンポーネントを組み立てるポイントに達すると、問題の
発生する可能性がある。テストには、現在利用し得るも
のに比べてプローブ密度を高くすることが必要になる。
【0004】「ベッド・オブ・ネイル」テスト装置とい
った現在のプリント回路基板テスト装置は、プローブ密
度が、100プローブ/平方インチ〜200プローブ/
平方インチに制限される。さらに、「ベッド・オブ・ネ
イル」テスト装置の各プローブ・パネルは、テストを受
ける回路基板と「整合」するように慎重に設計しなけれ
ばならない。「フィクスチャ」と呼ばれるカスタム設計
のプローブ・パネルは、かなりのコストを要するテスト
装置の典型的なものである。さらに、これらのフィクス
チャは、その設計対象となった特定の回路基板だけに限
定される。
った現在のプリント回路基板テスト装置は、プローブ密
度が、100プローブ/平方インチ〜200プローブ/
平方インチに制限される。さらに、「ベッド・オブ・ネ
イル」テスト装置の各プローブ・パネルは、テストを受
ける回路基板と「整合」するように慎重に設計しなけれ
ばならない。「フィクスチャ」と呼ばれるカスタム設計
のプローブ・パネルは、かなりのコストを要するテスト
装置の典型的なものである。さらに、これらのフィクス
チャは、その設計対象となった特定の回路基板だけに限
定される。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】従って、上述の問題を
克服するため、本発明が目的とするところは、プローブ
密度が200プローブ/平方インチを超えても、信頼性
が改善され、テストが所望されるどんな回路にでも適応
するプローブ装置の提供にある。
克服するため、本発明が目的とするところは、プローブ
密度が200プローブ/平方インチを超えても、信頼性
が改善され、テストが所望されるどんな回路にでも適応
するプローブ装置の提供にある。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、高密度
の光電的にアドレス可能な電極を備えたプローブ・パネ
ルを利用している。それぞれの電極は、金属ストリップ
のような低インピーダンス・ラインに接続された光電ス
イッチに結合されている。さらに本発明は、導電性の弾
性マットまたは他の適当な電気的インターフェイスによ
って、回路基板のさまざまな位置にテスト信号を加えた
り、あるいは、そこからテスト信号を受けたりするする
ことが所望される各光電スイッチを選択的、かつ、光電
的に作動させるための手段を利用している。
の光電的にアドレス可能な電極を備えたプローブ・パネ
ルを利用している。それぞれの電極は、金属ストリップ
のような低インピーダンス・ラインに接続された光電ス
イッチに結合されている。さらに本発明は、導電性の弾
性マットまたは他の適当な電気的インターフェイスによ
って、回路基板のさまざまな位置にテスト信号を加えた
り、あるいは、そこからテスト信号を受けたりするする
ことが所望される各光電スイッチを選択的、かつ、光電
的に作動させるための手段を利用している。
【0007】実施例の一つでは、光電スイッチの作動
に、ピクセルのアレイを備えた光変調弁が利用される。
望ましい光弁は、レーザ・ダイオード光源を備えた液晶
表示投射パネルである。アドレス可能な光弁は、テスト
を受けるプリント回路基板のパターンと整合させるのが
望ましいピクセルだけを照らすプログラミングを施され
た、コンピュータのようなプログラマブル信号駆動装置
を介して、あらかじめプログラムされたテスト・パター
ンを作用させることができるようにする。プリント回路
基板の多くは、最初に、CADシステムで設計されるの
で、その結果得られた設計をデータとして利用して、回
路基板のテスト・パターンを形成することができる。こ
の構成によって、所望の回路基板に、とりわけ、CAD
システムで設計された回路基板に光学的にアドレス可能
な汎用プローブ・パネルを用いることが可能になる。
に、ピクセルのアレイを備えた光変調弁が利用される。
望ましい光弁は、レーザ・ダイオード光源を備えた液晶
表示投射パネルである。アドレス可能な光弁は、テスト
を受けるプリント回路基板のパターンと整合させるのが
望ましいピクセルだけを照らすプログラミングを施され
た、コンピュータのようなプログラマブル信号駆動装置
を介して、あらかじめプログラムされたテスト・パター
ンを作用させることができるようにする。プリント回路
基板の多くは、最初に、CADシステムで設計されるの
で、その結果得られた設計をデータとして利用して、回
路基板のテスト・パターンを形成することができる。こ
の構成によって、所望の回路基板に、とりわけ、CAD
システムで設計された回路基板に光学的にアドレス可能
な汎用プローブ・パネルを用いることが可能になる。
【0008】テストを受ける回路基板と光電的にアドレ
ス可能なプローブ・パネルとのインターフェイスのた
め、プローブ・パネルと回路基板の間にはさまれた、導
電性のフィラメントを備えた弾性の導電性マットが設け
られている。弾性マットは、プローブ・パネルからの各
電極をプリント回路基板の電極にすぐ隣接した位置に電
気的に接続できるようにする。プローブ・パネルには、
光電的にアドレス可能なプローブ・パネルによって回路
基板に印加される電圧を測定し、記録する手段も設けら
れている。テスト結果は、プローブ・パネルによって、
コンピュータ・ベースの自動テスト装置のような分析装
置に提供することができる。
ス可能なプローブ・パネルとのインターフェイスのた
め、プローブ・パネルと回路基板の間にはさまれた、導
電性のフィラメントを備えた弾性の導電性マットが設け
られている。弾性マットは、プローブ・パネルからの各
電極をプリント回路基板の電極にすぐ隣接した位置に電
気的に接続できるようにする。プローブ・パネルには、
光電的にアドレス可能なプローブ・パネルによって回路
基板に印加される電圧を測定し、記録する手段も設けら
れている。テスト結果は、プローブ・パネルによって、
コンピュータ・ベースの自動テスト装置のような分析装
置に提供することができる。
【0009】回路基板にデータを送り、回路基板からデ
ータを受ける2重機能によってプローブ・パネルを回路
基板の両側に配置することが可能になる。
ータを受ける2重機能によってプローブ・パネルを回路
基板の両側に配置することが可能になる。
【0010】次に、実施例を表した、添付の図面を参照
しながら、本発明の説明を行うことにする。
しながら、本発明の説明を行うことにする。
【0011】
【実施例】図1は、高密度の光電的にアドレス可能な基
板テスト・システム10のブロック図である。該テスト
・システムには、上部プローブ・マトリクス12と下部
プローブ・マトリクス14が含まれており、その間に、
裸または部分的にアセンブルされた回路基板16が配置
される。できれば、回路基板16の設計に用いられるコ
ンピュータ援用設計(CAD)データ18に基づく回路
基板16の設計が、コンピュータ20にロードされる。
コンピュータ20は、次に、CADデータ18からの設
計データを利用して、レーザ・パルス・シーケンサ22
とマトリクス・アドレス指定制御装置24の両方を作動
させ、さらに、この両方を利用して、上部プローブ・マ
トリクス12と下部プローブ・マトリクス14の両方を
駆動し、コンピュータ基板16のテストを行う。上部プ
ローブ・マトリクス12と下部プローブ・マトリクス1
4の両方が、コンピュータ基板16で実施のテストで得
られたテスト・データを受けて、測定制御装置26に送
る。測定制御装置26は、さらに、このテスト結果をコ
ンピュータ20に送って、次のテスト・シーケンスに備
え、また、後続の分析及び評価のために記憶されるよう
にする。コンピュータ20、レーザ・パルス・シーケン
サ22、マトリクス・アドレス指定制御装置24、及
び、測定制御装置26が、回路基板16のテスト時に、
上部プローブ・マトリクス12及び下部プローブ・マト
リクス14とインターフェイスする方法に関するより完
全な説明について、以下に示す。
板テスト・システム10のブロック図である。該テスト
・システムには、上部プローブ・マトリクス12と下部
プローブ・マトリクス14が含まれており、その間に、
裸または部分的にアセンブルされた回路基板16が配置
される。できれば、回路基板16の設計に用いられるコ
ンピュータ援用設計(CAD)データ18に基づく回路
基板16の設計が、コンピュータ20にロードされる。
コンピュータ20は、次に、CADデータ18からの設
計データを利用して、レーザ・パルス・シーケンサ22
とマトリクス・アドレス指定制御装置24の両方を作動
させ、さらに、この両方を利用して、上部プローブ・マ
トリクス12と下部プローブ・マトリクス14の両方を
駆動し、コンピュータ基板16のテストを行う。上部プ
ローブ・マトリクス12と下部プローブ・マトリクス1
4の両方が、コンピュータ基板16で実施のテストで得
られたテスト・データを受けて、測定制御装置26に送
る。測定制御装置26は、さらに、このテスト結果をコ
ンピュータ20に送って、次のテスト・シーケンスに備
え、また、後続の分析及び評価のために記憶されるよう
にする。コンピュータ20、レーザ・パルス・シーケン
サ22、マトリクス・アドレス指定制御装置24、及
び、測定制御装置26が、回路基板16のテスト時に、
上部プローブ・マトリクス12及び下部プローブ・マト
リクス14とインターフェイスする方法に関するより完
全な説明について、以下に示す。
【0012】図2には、本発明による下部プローブ・マ
トリクス14が示されている。下部プローブ・マトリク
ス14は、上部プローブ・マトリクス12と同一であ
り、従って、下部プローブ・マトリクス14についての
み解説するものとする。回路基板16と下部プローブ・
マトリクス14の間には、導電性マット28が配置され
ている。下部プローブ・マトリクス14には、ノード・
マトリクス32を組み立てるフラットなガラス板30が
含まれている。ノード・マトリクス32は、ガラス板3
0の反対側においてさらされることになる光源を介し
て、光電的に作動する。ノード・マトリクス32の作動
に用いられる光源は、レーザ・ダイオード36のような
光源によって照射される、一組の液晶表示(LCD)投
射パネル34といった適合する光弁によって形成される
像から得られる。もちろん、各電極毎に設けた単一の光
ダイオード、バック・ライト光源付きのLCDパネル、
あるいは、適合する光学素子及びシャッタを備えた白色
光源といった、他の光源構成も可能である。マット28
は、また、回路基板16とガラス板30の間における電
気的接触に必要な圧力による回路基板16とガラス板3
0の両方に対する影響を和らげる働きもする。
トリクス14が示されている。下部プローブ・マトリク
ス14は、上部プローブ・マトリクス12と同一であ
り、従って、下部プローブ・マトリクス14についての
み解説するものとする。回路基板16と下部プローブ・
マトリクス14の間には、導電性マット28が配置され
ている。下部プローブ・マトリクス14には、ノード・
マトリクス32を組み立てるフラットなガラス板30が
含まれている。ノード・マトリクス32は、ガラス板3
0の反対側においてさらされることになる光源を介し
て、光電的に作動する。ノード・マトリクス32の作動
に用いられる光源は、レーザ・ダイオード36のような
光源によって照射される、一組の液晶表示(LCD)投
射パネル34といった適合する光弁によって形成される
像から得られる。もちろん、各電極毎に設けた単一の光
ダイオード、バック・ライト光源付きのLCDパネル、
あるいは、適合する光学素子及びシャッタを備えた白色
光源といった、他の光源構成も可能である。マット28
は、また、回路基板16とガラス板30の間における電
気的接触に必要な圧力による回路基板16とガラス板3
0の両方に対する影響を和らげる働きもする。
【0013】本発明の実施例の一つでは、単一のレーザ
・ダイオード36を備えた単一のLCD投射パネル34
だけが用いられる。望ましい実施例では、対応する数の
レーザ・ダイオード36を備えた複数のLCD投射パネ
ルを利用して、ノード・マトリクス32を光電的に作動
させる。複数のLCD投射パネルによるこの望ましい実
施例の場合、各LCD投射パネルを保持するため、取付
フレーム38が設けられている。LCD投射パネルを用
いることによって、該パネルをマトリクス・パネルから
離して配置することが可能になる。光源/光弁の組み合
わせには、マトリクス・パネルに像を形成するための光
学素子は不要である。このタイプのシステムを利用する
ことによって、光学ベースのシステムに共通した光学歪
と収差の両方または一方が排除される。さらに、投射シ
ステムは、容易にスケール可能である。光弁をマトリク
ス・パネルに近づけたり、あるいは、遠ざけたりするだ
けで、像の拡大または縮小が行われる。LCD投射パネ
ル34は、また、ある像のエッジが、隣接像のエッジと
正確に整合するように、あるいは、重なるようにさえす
ることが可能である。これらの利点は、両方とも、任意
のサイズのマトリクス・パネルを完全にカバレーするこ
とができる。
・ダイオード36を備えた単一のLCD投射パネル34
だけが用いられる。望ましい実施例では、対応する数の
レーザ・ダイオード36を備えた複数のLCD投射パネ
ルを利用して、ノード・マトリクス32を光電的に作動
させる。複数のLCD投射パネルによるこの望ましい実
施例の場合、各LCD投射パネルを保持するため、取付
フレーム38が設けられている。LCD投射パネルを用
いることによって、該パネルをマトリクス・パネルから
離して配置することが可能になる。光源/光弁の組み合
わせには、マトリクス・パネルに像を形成するための光
学素子は不要である。このタイプのシステムを利用する
ことによって、光学ベースのシステムに共通した光学歪
と収差の両方または一方が排除される。さらに、投射シ
ステムは、容易にスケール可能である。光弁をマトリク
ス・パネルに近づけたり、あるいは、遠ざけたりするだ
けで、像の拡大または縮小が行われる。LCD投射パネ
ル34は、また、ある像のエッジが、隣接像のエッジと
正確に整合するように、あるいは、重なるようにさえす
ることが可能である。これらの利点は、両方とも、任意
のサイズのマトリクス・パネルを完全にカバレーするこ
とができる。
【0014】回路基板16の上下に二つのマトリクス・
パネルを用いることが開示されているが、片側の回路基
板16に用いられる単一のマトリクス・パネルしか利用
しないのも、十分に本発明の意図する範囲内である。
パネルを用いることが開示されているが、片側の回路基
板16に用いられる単一のマトリクス・パネルしか利用
しないのも、十分に本発明の意図する範囲内である。
【0015】図3には、ノード・マトリクス32の平面
図が示されている。ノード・マトリクス32には、複数
の接点電極42といくつかのデータ・ライン44を備え
た接点ノード・フィールド40が含まれている。接点電
極42は、各データ・ライン44に接続されて、N×M
のアレイを形成する。データ・ライン44は、ノード・
マトリクス32を横切って並行にアライメントがとられ
ている。各データ・ライン44は、ノード・マトリクス
32の幅にわたって延び、さらに、マルチプレクサ46
に接続され、各マルチプレクサ46は、データ接点パッ
ド48に接続されている。マルチプレクサ46は、いく
つかの利用できる可能性のあるラインのうち特定のライ
ンに各データ・ライン44を接続できるようにする。該
ラインは、電圧Vbias、アースが接続されたり、非接点
(N/C)とされたり、あるいは、電圧計、電流計、ま
たは、他のタイプの電気信号受信装置といった測定出力
装置に接続される。こうした電力及びアドレス指定能力
は、データ接点パッド48を介して得られる。
図が示されている。ノード・マトリクス32には、複数
の接点電極42といくつかのデータ・ライン44を備え
た接点ノード・フィールド40が含まれている。接点電
極42は、各データ・ライン44に接続されて、N×M
のアレイを形成する。データ・ライン44は、ノード・
マトリクス32を横切って並行にアライメントがとられ
ている。各データ・ライン44は、ノード・マトリクス
32の幅にわたって延び、さらに、マルチプレクサ46
に接続され、各マルチプレクサ46は、データ接点パッ
ド48に接続されている。マルチプレクサ46は、いく
つかの利用できる可能性のあるラインのうち特定のライ
ンに各データ・ライン44を接続できるようにする。該
ラインは、電圧Vbias、アースが接続されたり、非接点
(N/C)とされたり、あるいは、電圧計、電流計、ま
たは、他のタイプの電気信号受信装置といった測定出力
装置に接続される。こうした電力及びアドレス指定能力
は、データ接点パッド48を介して得られる。
【0016】図4には、各データ・ライン44の概略図
が示されている。各電極42は、フォトレジスタRを介
してデータ・ライン44に接続される。フォトレジスタ
Rは、光活性領域50を表している。データ・ライン4
4には、特定のテスト・シーケンス時におけるプログラ
ミングに従って、電圧Vbias、非接点(N/C)、アー
ス、あるいは、電圧計、電流計といった測定装置(前述
の)をデータ・ライン44に接続するマルチプレクサ4
6が接続されている。マトリクスアドレス指定制御装置
24は、各マルチプレクサに接続されて、テスト段階に
おけるデータ・ラインのプログラミングを行う。マルチ
プレクサは、用途に固有の集積回路(ASIC)から形
成することができ、チップ・オン・ガラス(COG)・
テクノロジを利用して、ガラス・パネル上に組み立てる
ことも可能である(ノード・マトリクス)。ASICマ
ルチプレクサは、各データ・ライン44毎に電力、アド
レス指定、及び、測定能力を提供する。コンデンサCを
電極とアースの間に配置することができる。図5は、意
図する行と列の電極アレイ・フォーマットを示す接点ノ
ード・フィールド40の拡大切り欠き図である。電極4
2は、対応する光導電層の領域が光源によって照射さ
れ、電極とデータ・ラインを短絡させる場合に限って、
活動状態になる。
が示されている。各電極42は、フォトレジスタRを介
してデータ・ライン44に接続される。フォトレジスタ
Rは、光活性領域50を表している。データ・ライン4
4には、特定のテスト・シーケンス時におけるプログラ
ミングに従って、電圧Vbias、非接点(N/C)、アー
ス、あるいは、電圧計、電流計といった測定装置(前述
の)をデータ・ライン44に接続するマルチプレクサ4
6が接続されている。マトリクスアドレス指定制御装置
24は、各マルチプレクサに接続されて、テスト段階に
おけるデータ・ラインのプログラミングを行う。マルチ
プレクサは、用途に固有の集積回路(ASIC)から形
成することができ、チップ・オン・ガラス(COG)・
テクノロジを利用して、ガラス・パネル上に組み立てる
ことも可能である(ノード・マトリクス)。ASICマ
ルチプレクサは、各データ・ライン44毎に電力、アド
レス指定、及び、測定能力を提供する。コンデンサCを
電極とアースの間に配置することができる。図5は、意
図する行と列の電極アレイ・フォーマットを示す接点ノ
ード・フィールド40の拡大切り欠き図である。電極4
2は、対応する光導電層の領域が光源によって照射さ
れ、電極とデータ・ラインを短絡させる場合に限って、
活動状態になる。
【0017】図6には、厚いガラス板30にしっかり取
り付けられたノード・マトリクスの32の側面断面図で
ある。ノード・マトリクス32には、N×Mのアレイを
なすように形成された接点電極42が組み立てられる。
各電極42は、二酸化ケイ素のような絶縁層52に被着
したアルミニウムのような導電層から形成される。絶縁
層52は、さらに、CdSeまたはCdSのような光導
電層58上に形成される。光導電層54は、プレート1
2の幅にわたって延びる導電性データ・ライン44を電
極接点56を介して多くの電極に相互接続するように形
成される。光導電層54は、適合する波長及び強度の光
で照射されると、導電状態になる、すなわち、オンにな
るように形成される。各電極42は、50ミル四方で、
0.5ミクロン〜2.0ミクロン、できれば、1.0ミ
クロンの厚さを有しているのが望ましい(図5)。各電
極42の所望のピッチは、約10ミルである。これによ
って、10,000電極/平方インチの電極密度が可能
になる。こうした密度は、「ベッド・オブ・ネイル」テ
スト装置の利用時に可能な、約200プローブ/平方イ
ンチの最高密度を大幅に超える。電極42に接続された
コンデンサを形成する追加金属及び絶縁体プロセス・ス
テップが行われる可能性がある。
り付けられたノード・マトリクスの32の側面断面図で
ある。ノード・マトリクス32には、N×Mのアレイを
なすように形成された接点電極42が組み立てられる。
各電極42は、二酸化ケイ素のような絶縁層52に被着
したアルミニウムのような導電層から形成される。絶縁
層52は、さらに、CdSeまたはCdSのような光導
電層58上に形成される。光導電層54は、プレート1
2の幅にわたって延びる導電性データ・ライン44を電
極接点56を介して多くの電極に相互接続するように形
成される。光導電層54は、適合する波長及び強度の光
で照射されると、導電状態になる、すなわち、オンにな
るように形成される。各電極42は、50ミル四方で、
0.5ミクロン〜2.0ミクロン、できれば、1.0ミ
クロンの厚さを有しているのが望ましい(図5)。各電
極42の所望のピッチは、約10ミルである。これによ
って、10,000電極/平方インチの電極密度が可能
になる。こうした密度は、「ベッド・オブ・ネイル」テ
スト装置の利用時に可能な、約200プローブ/平方イ
ンチの最高密度を大幅に超える。電極42に接続された
コンデンサを形成する追加金属及び絶縁体プロセス・ス
テップが行われる可能性がある。
【0018】下記は、ガラス上に電極を形成するための
所望のステップである。 1.メタライゼーション・ステップによって、データ・
ライン44及び電極接点56を被着させ、パターン形成
する。 2.光導電層54を被着させ、パターン形成する。 3.絶縁フィルムを被着させる。 4.絶縁層52に接点ホールをエッチングする。 5.電極42を被着させ、パターン形成する。 6.処理されたガラス・パネルをガラス板30に取り付
ける。
所望のステップである。 1.メタライゼーション・ステップによって、データ・
ライン44及び電極接点56を被着させ、パターン形成
する。 2.光導電層54を被着させ、パターン形成する。 3.絶縁フィルムを被着させる。 4.絶縁層52に接点ホールをエッチングする。 5.電極42を被着させ、パターン形成する。 6.処理されたガラス・パネルをガラス板30に取り付
ける。
【0019】動作時、テスト装置10は、次のように用
いられる。図7に示すように、回路基板16は、上部マ
トリクス・パネル12と下部マトリクス・パネル14の
間に配置され、導電性マット28が、回路基板16と、
上部マトリクス・パネル12及び下部マトリクス・パネ
ル14の間の接触を可能にする。テストを受ける基板の
導電性基準を利用して、正確な基板のアライメントが求
められる。それらは、適合する像・パターン及び測定資
源によって走査を受け、回路基板16の精確なアライメ
ントが求められる。このアライメント情報は、コンピュ
ータに報告され、マトリクスパネル12または14に対
する回路基板16のミスアライメントのために必要にな
る電極42の回転、並進、または、スケール変換が施さ
れる。次に、コンピュータ20は、アライメント・デー
タに加えて、あらかじめ処理されたCADデータを利用
し、上部マトリクス・パネル12と下部マトリクス・パ
ネル14のそれぞれについて像・パターンを発生する。
いられる。図7に示すように、回路基板16は、上部マ
トリクス・パネル12と下部マトリクス・パネル14の
間に配置され、導電性マット28が、回路基板16と、
上部マトリクス・パネル12及び下部マトリクス・パネ
ル14の間の接触を可能にする。テストを受ける基板の
導電性基準を利用して、正確な基板のアライメントが求
められる。それらは、適合する像・パターン及び測定資
源によって走査を受け、回路基板16の精確なアライメ
ントが求められる。このアライメント情報は、コンピュ
ータに報告され、マトリクスパネル12または14に対
する回路基板16のミスアライメントのために必要にな
る電極42の回転、並進、または、スケール変換が施さ
れる。次に、コンピュータ20は、アライメント・デー
タに加えて、あらかじめ処理されたCADデータを利用
し、上部マトリクス・パネル12と下部マトリクス・パ
ネル14のそれぞれについて像・パターンを発生する。
【0020】像・パターンは、二つのマトリクス・パネ
ル12及び14に達する前に、マトリクス・アドレス指
定制御装置24による処理を受ける。コンピュータ20
は、また、マルチプレクサのパターンを運用して、適合
する電極に対して施すべき適当な接続を決定する。この
情報も、マトリクス・アドレス指定制御装置24に送ら
れる。次に、LCD投射パネル34が、回路基板16に
おけるテストが所望されるパターンに対応するテスト・
パターンを表示する。レーザ・ダイオード36は、投射
パネル34における所望の像・パターンをノード・マト
リクス32に投射することによって、ノード・マトリク
ス32を照射する。レーザ・ダイオード36は、レーザ
・パルス・シーケンサ22によって、投射パネル34の
像・パターン・シーケンスと整合するように信号が加え
られる。照射を受ける各光活性領域50が、対応する電
極42をスイッチして、電極間に所望の信号を加え、回
路基板上16の位置を選択する(図7)。加えられる信
号の結果は、やはり、上部マトリクス・パネル12と下
部マトリクス・パネル14によって観測され、測定制御
装置26に送られる。測定制御装置26は、さらに、こ
の結果を利用して、コンピュータ20に対し、所望のテ
スト・シーケンスにおける次のテスト・フレームの処理
を開始するように指示を与える。
ル12及び14に達する前に、マトリクス・アドレス指
定制御装置24による処理を受ける。コンピュータ20
は、また、マルチプレクサのパターンを運用して、適合
する電極に対して施すべき適当な接続を決定する。この
情報も、マトリクス・アドレス指定制御装置24に送ら
れる。次に、LCD投射パネル34が、回路基板16に
おけるテストが所望されるパターンに対応するテスト・
パターンを表示する。レーザ・ダイオード36は、投射
パネル34における所望の像・パターンをノード・マト
リクス32に投射することによって、ノード・マトリク
ス32を照射する。レーザ・ダイオード36は、レーザ
・パルス・シーケンサ22によって、投射パネル34の
像・パターン・シーケンスと整合するように信号が加え
られる。照射を受ける各光活性領域50が、対応する電
極42をスイッチして、電極間に所望の信号を加え、回
路基板上16の位置を選択する(図7)。加えられる信
号の結果は、やはり、上部マトリクス・パネル12と下
部マトリクス・パネル14によって観測され、測定制御
装置26に送られる。測定制御装置26は、さらに、こ
の結果を利用して、コンピュータ20に対し、所望のテ
スト・シーケンスにおける次のテスト・フレームの処理
を開始するように指示を与える。
【0021】先行プローブ・パネルの場合、テストを受
ける特定の回路基板に合わせて、カスタム組立を必要と
した。「フィクスチャ」と呼ばれるこれらのカスタム設
計によるプローブ・パネルは、極めて高価であり、設計
対象となった回路基板との使用に限定された。本発明
は、現在利用可能なものに比べて、ほぼ100倍の電極
密度を備えたプローブ・パネルを提供する。さらに、こ
のプローブ・パネルは、アドレス可能なソフトウエアで
あるので、特定の回路基板の組み立てに用いるように設
計されたCADソフトウエアを利用して、テスト装置1
0に用いるためのソフトウエア・「フィクスチャ」・パ
ネルを作成することも可能である。ソフトウエア・フィ
クスチャリングの利点は、単一のプローブ・システム
が、同じものが二つとない、極めて多様な回路基板をテ
ストできることによって、機械的フィクスチャ基板に比
べてはるかに融通性が高くなる可能性を有するというこ
とである。
ける特定の回路基板に合わせて、カスタム組立を必要と
した。「フィクスチャ」と呼ばれるこれらのカスタム設
計によるプローブ・パネルは、極めて高価であり、設計
対象となった回路基板との使用に限定された。本発明
は、現在利用可能なものに比べて、ほぼ100倍の電極
密度を備えたプローブ・パネルを提供する。さらに、こ
のプローブ・パネルは、アドレス可能なソフトウエアで
あるので、特定の回路基板の組み立てに用いるように設
計されたCADソフトウエアを利用して、テスト装置1
0に用いるためのソフトウエア・「フィクスチャ」・パ
ネルを作成することも可能である。ソフトウエア・フィ
クスチャリングの利点は、単一のプローブ・システム
が、同じものが二つとない、極めて多様な回路基板をテ
ストできることによって、機械的フィクスチャ基板に比
べてはるかに融通性が高くなる可能性を有するというこ
とである。
【0022】標準的なイメージング・テクノロジによっ
て、毎秒30もの異なるテスト・パターンのサイクリン
グが可能になる。この結果、毎秒30の測定スケジュー
ルが可能になる。従って、例えば、100×100の電
極からなるアレイの場合(合計で10,000の電
極)、回路基板26における一つのポイントからもう一
つのポイントへの各導通路は、ネットワークを形成し、
各フレームまたはスケジュール毎に、こうした100の
ネットワークを十分にテストすることができる。この割
合によれば、毎秒約3,000のネットワークがテスト
されることになる。こうした構成は、10,000のテ
スト・ポイントを備える回路基板の完全な回路基板テス
トに要する時間が5秒未満であることを表している。
て、毎秒30もの異なるテスト・パターンのサイクリン
グが可能になる。この結果、毎秒30の測定スケジュー
ルが可能になる。従って、例えば、100×100の電
極からなるアレイの場合(合計で10,000の電
極)、回路基板26における一つのポイントからもう一
つのポイントへの各導通路は、ネットワークを形成し、
各フレームまたはスケジュール毎に、こうした100の
ネットワークを十分にテストすることができる。この割
合によれば、毎秒約3,000のネットワークがテスト
されることになる。こうした構成は、10,000のテ
スト・ポイントを備える回路基板の完全な回路基板テス
トに要する時間が5秒未満であることを表している。
【0023】回路基板で実施される二つの周知のテスト
は、導通に関するテストと、分離に関するテストであ
る。両方とも、本発明で可能である。導通テストには、
二つの方法がある。第1の方法は、単にテストを行っ
て、回路基板上の二つのポイント間における所定の経路
の導通を確認するだけのものである。第2の方法は、ケ
ルビン・プローブを利用して、回路基板上の二つのポイ
ント間における所定の経路の導通と抵抗率の両方につい
て確かめるものである。分離テストは、単に、少なくと
も、二つのポイント間における所定の経路が、回路基板
上における別の経路に対して短絡していないかどうかを
確認するだけのものである。
は、導通に関するテストと、分離に関するテストであ
る。両方とも、本発明で可能である。導通テストには、
二つの方法がある。第1の方法は、単にテストを行っ
て、回路基板上の二つのポイント間における所定の経路
の導通を確認するだけのものである。第2の方法は、ケ
ルビン・プローブを利用して、回路基板上の二つのポイ
ント間における所定の経路の導通と抵抗率の両方につい
て確かめるものである。分離テストは、単に、少なくと
も、二つのポイント間における所定の経路が、回路基板
上における別の経路に対して短絡していないかどうかを
確認するだけのものである。
【0024】これで、特定の実施例に関連した本発明の
説明を終えた。当該技術の熟練者であれば、他の実施例
については明らかであろう。例えば、テスト基板とし
て、プリント回路基板繰り返し利用されたが、セラミッ
ク、エポキシ・ガラス、及び、射出成形によるプラスチ
ックといった他のタイプのコンピュータ基板も、開示の
装置を使ってテストすることが可能である。従って、本
発明に対する制限は、付属の請求項によって示されるも
の以外にはない。
説明を終えた。当該技術の熟練者であれば、他の実施例
については明らかであろう。例えば、テスト基板とし
て、プリント回路基板繰り返し利用されたが、セラミッ
ク、エポキシ・ガラス、及び、射出成形によるプラスチ
ックといった他のタイプのコンピュータ基板も、開示の
装置を使ってテストすることが可能である。従って、本
発明に対する制限は、付属の請求項によって示されるも
の以外にはない。
【図1】プローブ・パネル・システムのブロック図であ
る。
る。
【図2】本発明による導電性下部マトリクス・パネルの
断面拡大図である。
断面拡大図である。
【図3】図2のノード・マトリクスの平面図である。
【図4】図3におけるデータ・ラインの概略図である。
【図5】図3におけるノード・マトリクスに見受けられ
る接点ノードの拡大平面図である。
る接点ノードの拡大平面図である。
【図6】図2におけるガラス板に組み立てられる導電性
ノード・マトリクスの断面図である。
ノード・マトリクスの断面図である。
【図7】テストを受ける基板をテストするための選択作
動電極を備えた下部マトリクス・パネル及び上部マトリ
クス・パネルの断面拡大図である。
動電極を備えた下部マトリクス・パネル及び上部マトリ
クス・パネルの断面拡大図である。
10 テスト・システム 12 上部プローブ・マトリクス 14 下部プローブ・マトリクス 16 回路基板 18 CADデータ 20 コンピュータ 22 レーザ・パルス・シーケンサ 24 マトリクス・アドレス指定制御装置 26 測定制御装置 28 導電性マット 30 ガラス板 32 ノード・マトリクス 34 LCDパネル 36 レーザ・ダイオード 40 接点ノード・フィールド 42 接点電極 44 データ・ライン 46 マルチプレクサ 48 データ接点パッド 50 光活性領域 52 絶縁層 54 光導電層 56 電極接点
Claims (28)
- 【請求項1】 テストを受ける回路基板にアドレス可能
な接触を行えるようにし、第1の複数(N)の導電性を
備えた第1のストリップを具備しており、第1のストリ
ップが、それぞれ、第1の電極アレイを形成する第2の
複数(M)の第1の電極を備えている第1のプローブパ
ネルと、 前記第1の電極のそれぞれに結合されて、前記第1のス
トリップを介して対応する第1の電極に対する外部接点
を形成し、入射光電エネルギーに感応して、前記第1の
ストリップと前記第1の電極のうち選択された電極とを
導通させる光電スイッチから構成された第1のスイッチ
ング手段と、 前記光電スイッチのそれぞれを選択的に、かつ、光電的
に作動させる第1の作動手段とから構成される裸または
部分的にアセンブルされた回路基板をテストするための
プローブ装置。 - 【請求項2】 前記テストを受ける回路基板にアドレス
可能な接触を行えるようにし、第1の複数(N)の導電
性を備えた第2のストリップを具備しており、第2のス
トリップが、それぞれ、第2の電極アレイを形成する第
2の複数(M)の第2の電極を備えている第2のプロー
ブパネルと、 前記第2の電極のそれぞれに結合されて、前記第2のス
トリップを介して対応する第2の電極に対する外部接点
を形成し、入射光電エネルギーに感応して、前記第2の
ストリップと前記第2の電極のうち選択された電極とを
導通させる光電スイッチから構成された第2のスイッチ
ング手段と、 前記光電スイッチのそれぞれを選択的に、かつ、光電的
に作動させる第2の作動手段とが、 さらに、含まれていることを特徴とする、請求項1に記
載のプローブ装置。 - 【請求項3】 前記第1の作動手段が、前記電極アレイ
の前記スイッチング手段の位置をスケール可能に整合さ
せる形状係数を有する、N×Mのピクセルからなるアレ
イを備えた光弁と、前記光弁を介して前記スイッチング
手段に光電エネルギーを送り込む光電源から構成される
ことを特徴とする、請求項1に記載のプローブ装置。 - 【請求項4】 前記第1の作動手段が、前記電極アレイ
の前記スイッチング手段の位置をスケール可能に整合さ
せる形状係数を有する、N×Mのピクセルからなるアレ
イを備えた光弁と、前記光弁を介して前記スイッチング
手段に光電エネルギーを送り込む光電源から構成される
ことを特徴とする、請求項2に記載のプローブ装置。 - 【請求項5】 前記光弁が、液晶表示(LCD)投射パ
ネルであることを特徴とする、請求項4に記載のプロー
ブ装置。 - 【請求項6】 前記光源が、レーザ・ダイオードである
ことを特徴とする、請求項4に記載のプローブ装置。 - 【請求項7】 前記光弁が、二次光源を備えたLCDパ
ネルであることを特徴とする、請求項4に記載のプロー
ブ装置。 - 【請求項8】 前記光弁が、あらかじめ選択された励起
パターンを供給し、前記プローブ・パネルの電極を作動
させるプログラマブル信号駆動装置に結合されているこ
とを特徴とする、請求項4に記載のプローブ装置。 - 【請求項9】 前記光弁が、白色光源を備えた光学シャ
ッタであることを特徴とする、請求項4に記載のプロー
ブ装置。 - 【請求項10】 前記作動手段が、各光電スイッチ毎
に、別個の光源を備えていることを特徴とする、請求項
1に記載のプローブ装置。 - 【請求項11】 前記外部接点が、電源、アース接点、
電圧計、及び、電流計から選択されるということを特徴
とする、請求項1に記載のプローブ装置。 - 【請求項12】 さらに、テストを受ける前記回路基板
の選択位置に前記各電極を電気的に結合するための手段
が設けられていることを特徴とする、請求項1に記載の
プローブ装置。 - 【請求項13】 前記電気的結合手段が、導電性マット
を形成する弾性シートに埋め込まれた導電性フィラメン
トからなることと、前記弾性シートが、導電性マットの
平面に沿って、絶縁を施すことと、前記埋め込みフィラ
メントが、導電性マットの平面とほぼ垂直な方向に導通
することとを特徴とする、請求項12に記載のプローブ
装置。 - 【請求項14】 テストを受ける回路基板に対するアド
レス可能なラインが設けられており、第1の複数(N)
のストリップを備え、各ストリップが、電極アレイを形
成する第2の複数(M)の電極を備える第1と第2のプ
ローブ・パネルと、 前記ストリップの前記電極を複数の前記アドレス可能な
ラインに選択的に結合するための結合手段と、 前記各電極と前記ストリップの一つとの間に結合され
た、入射光電エネルギーに感応して、前記ストリップと
前記電極とを導通させる光電スイッチからなるスイッチ
ング手段と、 前記光電スイッチを選択的に、かつ、光電的に作動させ
る作動手段とから構成される回路基板をテストするため
のプローブ装置。 - 【請求項15】 前記結合手段が、マルチプレクサであ
ることを特徴とする、請求項14に記載のテスト装置。 - 【請求項16】 前記アドレス可能なラインが、電圧
源、アース、電圧計、及び、電流計からなるグループか
ら選択される手段に結合されることを特徴とする、請求
項14に記載のテスト装置。 - 【請求項17】 前記作動手段が、前記電極アレイの前
記スイッチング手段の位置をスケール可能に整合させる
形状係数を有する、N×Mのピクセルからなるアレイを
備えた光弁と、前記光弁を介して前記スイッチング手段
に光電エネルギーを送り込む光電源から構成されること
を特徴とする、請求項14に記載のテスト装置。 - 【請求項18】 前記光弁が液晶表示投射パネルである
ことを特徴とする、請求項17に記載のテスト装置。 - 【請求項19】 前記光源がレーザ・ダイオードである
ことを特徴とする、請求項17に記載のテスト装置。 - 【請求項20】 前記光弁が二次光源を備えたLCDパ
ネルであることを特徴とする、請求項17に記載のテス
ト装置。 - 【請求項21】 前記光弁があらかじめ選択された励起
パターンを供給し、前記プローブ・パネルの電極を作動
させるプログラマブル信号駆動装置に結合されているこ
とを特徴とする、請求項17に記載のテスト装置。 - 【請求項22】 さらに、テストを受ける前記回路基板
の選択位置に前記各電極を電気的に結合するための手段
が設けられていることを特徴とする、請求項14に記載
のテスト装置。 - 【請求項23】 前記電気的結合手段が、導電性マット
を形成する弾性シートに埋め込まれた導電性フィラメン
トからなることと、前記弾性シートが、導電性マットの
平面に沿って、絶縁を施すことと、前記埋め込みフィラ
メントが、導電性マットの平面とほぼ垂直な方向に導通
することを特徴とする、請求項22に記載のテスト装
置。 - 【請求項24】 回路基板の位置に一致する選択された
位置からなるアドレス・マトリクスを作成するステップ
と、 光弁手段に前記アドレス・マトリクスを複写するステッ
プと、 光電的にアドレス可能なプローブ・パネルにおける一組
の多重化手段にプログラミングを施して、選択された特
定の機能を果たす多重化手段に接続され、それぞれ、光
電スイッチを介して少なくとも一つの電極に結合されて
いる、あらかじめ選択されたデータ・ラインにアドレス
指定を行うステップと、 前記光弁手段を介して前記プローブ・パネルに光電エネ
ルギーを送り込み、前記アドレス・マトリクスの選択位
置に基づくパターンをなす前記電極を作動させることに
よって、前記アドレス・マトリクスにほぼ一致する形状
係数を有するパターンをなすノードを電気的に作動させ
るステップから構成される、 複数のノードを備える裸または部分的にアセンブルされ
た回路基板のテスト方法。 - 【請求項25】 さらに、前記電極の一部を介して前記
回路基板に加えられる電気信号を検出するステップが含
まれることを特徴とする、請求項24に記載のテスト方
法。 - 【請求項26】 前記アドレス・マトリクスが、前記光
弁手段によってスケール可能であることを特徴とする、
請求項24に記載のテスト方法。 - 【請求項27】 光学アドレス・マトリクスとして複数
のノードのうち選択されたノードに対応する、アドレス
可能な位置からなるアレイのイメージを形成するステッ
プと、 光電スイッチ・マトリクスからなるパネルに前記光学ア
ドレス・マトリクスを投射し、前記光学アドレス・マト
リクスを前記光電スイッチ・マトリクスに光電的に作用
させることによって、前記光電スイッチ・マトリクスを
スイッチし、前記光電スイッチに接続された第1グルー
プの電極を介して、前記選択ノードに信号を加えるステ
ップと、 前記光学アドレス・スイッチ・マトリクスによって使用
可能になった前記光電スイッチ・マトリクスを通じて前
記光電スイッチに接続されている、第2グループの電極
を介して前記信号に対する応答を検出するステップから
構成される、 複数のノードを備える裸または部分的にアセンブルされ
た回路基板のテスト方法。 - 【請求項28】 前記アドレス・マトリクスが、前記光
弁手段によってスケール可能であることを特徴とする、
請求項27に記載のテスト方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4075609A JPH06167538A (ja) | 1992-02-27 | 1992-02-27 | 光学的にアドレス可能な高密度回路基板プローブ装置及びその利用方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4075609A JPH06167538A (ja) | 1992-02-27 | 1992-02-27 | 光学的にアドレス可能な高密度回路基板プローブ装置及びその利用方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06167538A true JPH06167538A (ja) | 1994-06-14 |
Family
ID=13581127
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4075609A Pending JPH06167538A (ja) | 1992-02-27 | 1992-02-27 | 光学的にアドレス可能な高密度回路基板プローブ装置及びその利用方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06167538A (ja) |
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7075323B2 (en) | 2004-07-29 | 2006-07-11 | Applied Materials, Inc. | Large substrate test system |
| US7256606B2 (en) | 2004-08-03 | 2007-08-14 | Applied Materials, Inc. | Method for testing pixels for LCD TFT displays |
| US7319335B2 (en) | 2004-02-12 | 2008-01-15 | Applied Materials, Inc. | Configurable prober for TFT LCD array testing |
| US7330021B2 (en) | 2004-02-12 | 2008-02-12 | Applied Materials, Inc. | Integrated substrate transfer module |
| US7355418B2 (en) | 2004-02-12 | 2008-04-08 | Applied Materials, Inc. | Configurable prober for TFT LCD array test |
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