JPH06167604A - 赤外線透過・可視光線反射型ミラー - Google Patents
赤外線透過・可視光線反射型ミラーInfo
- Publication number
- JPH06167604A JPH06167604A JP32011392A JP32011392A JPH06167604A JP H06167604 A JPH06167604 A JP H06167604A JP 32011392 A JP32011392 A JP 32011392A JP 32011392 A JP32011392 A JP 32011392A JP H06167604 A JPH06167604 A JP H06167604A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- refractive index
- index material
- substrate
- low refractive
- low
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
- 239000010408 film Substances 0.000 claims abstract description 111
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 61
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 47
- 239000012788 optical film Substances 0.000 claims abstract description 17
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 16
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 5
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 4
- ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L magnesium fluoride Chemical compound [F-].[F-].[Mg+2] ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 2
- 239000005304 optical glass Substances 0.000 abstract description 13
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 12
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 abstract description 6
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 abstract description 6
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 abstract 4
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 abstract 4
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 abstract 4
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 abstract 4
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 abstract 3
- 229910001635 magnesium fluoride Inorganic materials 0.000 abstract 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 abstract 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 abstract 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 79
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 29
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 2
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 層数が少なく、可視光線反射率の高い赤外線
透過・可視光線反射型ミラーを提供する。 【構成】 基板上に、高屈折率物質膜層と低屈折率物質
膜層とを交互に積層させてなり、前記高屈折率物質がシ
リコン（Ｓｉ）であり、低屈折率物質が二酸化珪素（Ｓ
ｉＯ2 ）および／または弗化マグネシウム（ＭｇＦ2 ）
であることを特徴とする赤外線透過・可視光線反射型ミ
ラー。
透過・可視光線反射型ミラーを提供する。 【構成】 基板上に、高屈折率物質膜層と低屈折率物質
膜層とを交互に積層させてなり、前記高屈折率物質がシ
リコン（Ｓｉ）であり、低屈折率物質が二酸化珪素（Ｓ
ｉＯ2 ）および／または弗化マグネシウム（ＭｇＦ2 ）
であることを特徴とする赤外線透過・可視光線反射型ミ
ラー。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、赤外線透過・可視光線
反射型ミラーに関する。本発明の赤外線透過・可視光線
反射型ミラー（以下、コールドミラーという）は、医療
用ライトや、プロジェクターなどの、光源カバーや、可
視光線選択反射用ミラーに利用される。
反射型ミラーに関する。本発明の赤外線透過・可視光線
反射型ミラー（以下、コールドミラーという）は、医療
用ライトや、プロジェクターなどの、光源カバーや、可
視光線選択反射用ミラーに利用される。
【０００２】
【従来の技術】従来のコールドミラーの製造法は大きく
分けて２つあり、第１の方法は可視光に対して透明な誘
電体を使用する方法であり、第２の方法は可視光を反射
する性質をもっている金属や半導体を使用するものであ
る。第１の方法により誘電体のみで作製されるコールド
ミラーの例として、特開昭６３−３１１３０１号公報に
おいて、高屈折率物質としてＴｉＯ2 、低屈折率物質と
してＳｉＯ2 を用い、総層数２３層の交互積層多層膜で
作製されたものが挙げられている。金属や半導体を利用
して第２の方法で得られたものとしては、例えば、Ｇｅ
とＴｉＯ2 で作製されたものが、『真空蒸着』（沢木司
著、日刊工業新聞社刊）に掲載さされている。
分けて２つあり、第１の方法は可視光に対して透明な誘
電体を使用する方法であり、第２の方法は可視光を反射
する性質をもっている金属や半導体を使用するものであ
る。第１の方法により誘電体のみで作製されるコールド
ミラーの例として、特開昭６３−３１１３０１号公報に
おいて、高屈折率物質としてＴｉＯ2 、低屈折率物質と
してＳｉＯ2 を用い、総層数２３層の交互積層多層膜で
作製されたものが挙げられている。金属や半導体を利用
して第２の方法で得られたものとしては、例えば、Ｇｅ
とＴｉＯ2 で作製されたものが、『真空蒸着』（沢木司
著、日刊工業新聞社刊）に掲載さされている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】従来の技術においてコ
ールドミラーを製造する場合、「可視域において透明な
誘電体」のみで製造しようとすると、可視光線の総ての
領域に渡って満足する反射率をもったコールドミラーと
するには、例えばＴｉＯ2 （屈折率２．３）とＳｉＯ2
（屈折率１．４６）の２物質を用いて２３層もの積層が
必要となり、それだけの設備をもった装置でなければ作
製することができず、製造時間の長さなどからくるコス
ト高が避けられない。また、Ｇｅを用いたコールドミラ
ーは、Ｇｅの可視光線反射率が低いことにより、コール
ドミラーとしても可視光線反射効率が悪く、充分な機能
を果してはいない。そこで、層数が少なく、可視光線反
射率の高いコールドミラーの作製が望まれていた。
ールドミラーを製造する場合、「可視域において透明な
誘電体」のみで製造しようとすると、可視光線の総ての
領域に渡って満足する反射率をもったコールドミラーと
するには、例えばＴｉＯ2 （屈折率２．３）とＳｉＯ2
（屈折率１．４６）の２物質を用いて２３層もの積層が
必要となり、それだけの設備をもった装置でなければ作
製することができず、製造時間の長さなどからくるコス
ト高が避けられない。また、Ｇｅを用いたコールドミラ
ーは、Ｇｅの可視光線反射率が低いことにより、コール
ドミラーとしても可視光線反射効率が悪く、充分な機能
を果してはいない。そこで、層数が少なく、可視光線反
射率の高いコールドミラーの作製が望まれていた。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記課題を解
決するためになされたものであり、本発明のコールドミ
ラーは、基板上に、高屈折率物質膜層と低屈折率物質膜
層とを交互に積層させてなり、前記高屈折率物質がシリ
コン（Ｓｉ）であり、低屈折率物質が二酸化珪素（Ｓｉ
Ｏ2 ）および／または弗化マグネシウム（ＭｇＦ2 ）で
あることを特徴とする。
決するためになされたものであり、本発明のコールドミ
ラーは、基板上に、高屈折率物質膜層と低屈折率物質膜
層とを交互に積層させてなり、前記高屈折率物質がシリ
コン（Ｓｉ）であり、低屈折率物質が二酸化珪素（Ｓｉ
Ｏ2 ）および／または弗化マグネシウム（ＭｇＦ2 ）で
あることを特徴とする。
【０００５】本発明のコールドミラーにおいて、基板
は、ガラスやプラスチックなどの赤外線透過物質である
ことが望ましい。そして本発明のコールドミラーは、前
記基板上に高屈折率物質膜層と低屈折率物質膜層とを交
互に積層させてなり、前記高屈折率物質がシリコン（Ｓ
ｉ）であり、前記低屈折率物質が二酸化珪素（Ｓｉ
Ｏ2）および／または弗化マグネシウム（ＭｇＦ2 ）で
ある。高屈折率物質膜層と低屈折率物質膜層の交互積層
は５層以上１６層以下であることが望ましい。５層未満
の積層では、可視光線の反射帯域が不十分であり、ま
た、１６層を越える積層を行ってもコールドミラーとし
ての性質は向上しない。
は、ガラスやプラスチックなどの赤外線透過物質である
ことが望ましい。そして本発明のコールドミラーは、前
記基板上に高屈折率物質膜層と低屈折率物質膜層とを交
互に積層させてなり、前記高屈折率物質がシリコン（Ｓ
ｉ）であり、前記低屈折率物質が二酸化珪素（Ｓｉ
Ｏ2）および／または弗化マグネシウム（ＭｇＦ2 ）で
ある。高屈折率物質膜層と低屈折率物質膜層の交互積層
は５層以上１６層以下であることが望ましい。５層未満
の積層では、可視光線の反射帯域が不十分であり、ま
た、１６層を越える積層を行ってもコールドミラーとし
ての性質は向上しない。
【０００６】そして、本発明のコールドミラーは、その
膜構成が以下のようなものであることが要求される。 光学膜厚がλo ／４（λo は設計中心波長）の高屈折
率物質膜層をＨ、光学膜厚がλo ／４の低屈折率物質膜
層をＬとするとき、ＨとＬが基板上で交互積層されてい
るもの。 光学膜厚がλo ／８の高屈折率物質膜層をＨ／２、ｍ
を正の整数、Ｓを基板、Ａを空気とするとき（Ｌおよび
Ｈについては上記参照）、 Ｓ・Ｈ／２・［Ｌ・Ｈ］m ・Ｌ・Ｈ／２・Ａ 光学膜厚がλo ／２の低屈折率物質膜層を２Ｌ、ｎを
２以上の正の整数とするとき（Ｌ、Ｈ、Ｈ／２、Ｓ、Ａ
については上記および参照）、 Ｓ・Ｈ／２・［Ｌ・Ｈ］n ・２Ｌ・Ａ 光学膜厚がλo ／２の低屈折率物質膜層を２Ｌとする
とき（Ｈ、Ｌ、Ｓ、Ａおよびｎについては上記、お
よび参照）、 Ｓ・［Ｈ・Ｌ］n ・Ｈ・２Ｌ・Ａ 本発明のコールドミラーの好ましい反射率特性は、波長
４３０〜６４０ｎｍの可視域における反射率が８０％以
上であり、波長８００〜２０００ｎｍの近赤外域におけ
る平均反射率が２３％以下である。
膜構成が以下のようなものであることが要求される。 光学膜厚がλo ／４（λo は設計中心波長）の高屈折
率物質膜層をＨ、光学膜厚がλo ／４の低屈折率物質膜
層をＬとするとき、ＨとＬが基板上で交互積層されてい
るもの。 光学膜厚がλo ／８の高屈折率物質膜層をＨ／２、ｍ
を正の整数、Ｓを基板、Ａを空気とするとき（Ｌおよび
Ｈについては上記参照）、 Ｓ・Ｈ／２・［Ｌ・Ｈ］m ・Ｌ・Ｈ／２・Ａ 光学膜厚がλo ／２の低屈折率物質膜層を２Ｌ、ｎを
２以上の正の整数とするとき（Ｌ、Ｈ、Ｈ／２、Ｓ、Ａ
については上記および参照）、 Ｓ・Ｈ／２・［Ｌ・Ｈ］n ・２Ｌ・Ａ 光学膜厚がλo ／２の低屈折率物質膜層を２Ｌとする
とき（Ｈ、Ｌ、Ｓ、Ａおよびｎについては上記、お
よび参照）、 Ｓ・［Ｈ・Ｌ］n ・Ｈ・２Ｌ・Ａ 本発明のコールドミラーの好ましい反射率特性は、波長
４３０〜６４０ｎｍの可視域における反射率が８０％以
上であり、波長８００〜２０００ｎｍの近赤外域におけ
る平均反射率が２３％以下である。
【０００７】
【作用】本発明のコールドミラーにおいては、高屈折率
物質膜層を形成する物質に、可視領域における屈折率が
高いＳｉを使用している。その屈折率は３．５程度であ
り、可視領域用光学多層膜物質として通常使用されるＴ
ｉＯ2 の屈折率が２．３程度であるのに比べ、非常に高
屈折率である。しかしＳｉは、可視領域全体に吸収があ
り、例えば可視光線の一部を反射するダイクロイックミ
ラーのような可視領域用光学多層膜には不向きであると
され、あまり研究されていない物質であった。ところ
が、我々は鋭意研究の結果、Ｓｉの可視領域における吸
収は、コールドミラーとしての性能を損なうほど大きく
ないことを見い出した。
物質膜層を形成する物質に、可視領域における屈折率が
高いＳｉを使用している。その屈折率は３．５程度であ
り、可視領域用光学多層膜物質として通常使用されるＴ
ｉＯ2 の屈折率が２．３程度であるのに比べ、非常に高
屈折率である。しかしＳｉは、可視領域全体に吸収があ
り、例えば可視光線の一部を反射するダイクロイックミ
ラーのような可視領域用光学多層膜には不向きであると
され、あまり研究されていない物質であった。ところ
が、我々は鋭意研究の結果、Ｓｉの可視領域における吸
収は、コールドミラーとしての性能を損なうほど大きく
ないことを見い出した。
【０００８】また、低屈折率物質膜層を形成する物質
に、ＳｉＯ2 またはＭｇＦ2 またはこの２物質を主成分
とする物質を使用しているが、これは低屈折率物質とし
て可能な限り屈折率の低い物質を用いるのが良く、実用
上使用可能な屈折率を持つＳｉＯ2 （屈折率１．４６）
とＭｇＦ2 （屈折率１．３８）を選んだものである。
に、ＳｉＯ2 またはＭｇＦ2 またはこの２物質を主成分
とする物質を使用しているが、これは低屈折率物質とし
て可能な限り屈折率の低い物質を用いるのが良く、実用
上使用可能な屈折率を持つＳｉＯ2 （屈折率１．４６）
とＭｇＦ2 （屈折率１．３８）を選んだものである。
【０００９】そしてこの高・低屈折率物質を使用するこ
とにより、屈折率比の大きな組み合わせとすることがで
き、この組み合わせで作られた光学多層膜は、少ない層
数の積層でも、その反射帯の幅を広く、反射率を高くす
ることができる。さらに、この光学多層膜は、その反射
帯域を可視光領域とすることにより、充分な性能をもっ
たコールドミラーを得ることができる。
とにより、屈折率比の大きな組み合わせとすることがで
き、この組み合わせで作られた光学多層膜は、少ない層
数の積層でも、その反射帯の幅を広く、反射率を高くす
ることができる。さらに、この光学多層膜は、その反射
帯域を可視光領域とすることにより、充分な性能をもっ
たコールドミラーを得ることができる。
【００１０】
【実施例】以下、本発明の実施例について詳細に説明す
る。 実施例１ 実施例１のコールドミラーは、赤外線を透過する基板と
高屈折率物質Ｓｉ膜層（５００ｎｍにおける屈折率３．
５）：２ａ〜２ｃと低屈折率物質ＳｉＯ2 膜層（５００
ｎｍにおける屈折率１．４６）：３ａ〜３ｂから構成さ
れる。高屈折率物質膜層２ａ〜２ｃと低屈折率物質膜層
３ａ〜３ｂは基板上で表１に示すように交互に積層して
いる。
る。 実施例１ 実施例１のコールドミラーは、赤外線を透過する基板と
高屈折率物質Ｓｉ膜層（５００ｎｍにおける屈折率３．
５）：２ａ〜２ｃと低屈折率物質ＳｉＯ2 膜層（５００
ｎｍにおける屈折率１．４６）：３ａ〜３ｂから構成さ
れる。高屈折率物質膜層２ａ〜２ｃと低屈折率物質膜層
３ａ〜３ｂは基板上で表１に示すように交互に積層して
いる。
【００１１】
【表１】 基板を光学ガラスとし、高屈折率物質膜層２ａ〜２ｃ及
び低屈折率物質膜層３ａ〜３ｂを、設計中心波長を５２
０ｎｍとして表１のように積層したときの、第５層２ｃ
側から光線を入射し、その入射角及び受光角を４５度と
したときの分光反射率を図１に示す。本実施例の分光特
性は、可視領域において４２０〜６７５ｎｍに及ぶ範囲
を８０％以上反射しており、赤外領域において８００〜
２０００ｎｍの範囲の平均反射率は１９％である。ここ
で平均反射率とは、その範囲内の分光反射率を定波長毎
に合計し、その集計点数で割ったものとする。本実施例
の場合は、範囲を８００〜２０００ｎｍ、定波長を１０
ｎｍとした。集計点数は１２１である。他の実施例につ
いても、平均反射率の定義、範囲、定波長、集計点数は
同じである。
び低屈折率物質膜層３ａ〜３ｂを、設計中心波長を５２
０ｎｍとして表１のように積層したときの、第５層２ｃ
側から光線を入射し、その入射角及び受光角を４５度と
したときの分光反射率を図１に示す。本実施例の分光特
性は、可視領域において４２０〜６７５ｎｍに及ぶ範囲
を８０％以上反射しており、赤外領域において８００〜
２０００ｎｍの範囲の平均反射率は１９％である。ここ
で平均反射率とは、その範囲内の分光反射率を定波長毎
に合計し、その集計点数で割ったものとする。本実施例
の場合は、範囲を８００〜２０００ｎｍ、定波長を１０
ｎｍとした。集計点数は１２１である。他の実施例につ
いても、平均反射率の定義、範囲、定波長、集計点数は
同じである。
【００１２】実施例２ 実施例２のコールドミラーは、赤外線透過材料である基
板と高屈折率物質Ｓｉ膜層：２ａ〜２ｅと低屈折率物質
ＳｉＯ2 膜層：３ａ〜３ｅから構成される。高屈折率物
質膜層２ａ〜２ｅと低屈折率物質膜層３ａ〜３ｅは表２
に示すように基板上で交互に積層している。
板と高屈折率物質Ｓｉ膜層：２ａ〜２ｅと低屈折率物質
ＳｉＯ2 膜層：３ａ〜３ｅから構成される。高屈折率物
質膜層２ａ〜２ｅと低屈折率物質膜層３ａ〜３ｅは表２
に示すように基板上で交互に積層している。
【００１３】
【表２】 基板を光学ガラスとし、高屈折率物質膜層２ａ〜２ｅ及
び低屈折率物質膜層３ａ〜３ｅを、設計中心波長を５１
０ｎｍとして表２のように積層したときの、第１０層３
ｅ側から光線を入射し、その入射角及び受光角を４５度
とした時の分光反射率を求めた。その結果、本実施例の
分光特性は、可視領域において４２０〜６４０ｎｍに及
ぶ範囲を８０％以上反射しており、赤外領域において８
００〜２０００ｎｍの範囲の平均反射率は２３％であっ
た。
び低屈折率物質膜層３ａ〜３ｅを、設計中心波長を５１
０ｎｍとして表２のように積層したときの、第１０層３
ｅ側から光線を入射し、その入射角及び受光角を４５度
とした時の分光反射率を求めた。その結果、本実施例の
分光特性は、可視領域において４２０〜６４０ｎｍに及
ぶ範囲を８０％以上反射しており、赤外領域において８
００〜２０００ｎｍの範囲の平均反射率は２３％であっ
た。
【００１４】実施例３ 実施例３のコールドミラーは、赤外線透過材料である基
板と高屈折率物質Ｓｉ膜層：２ａ〜２ｃと低屈折率物質
ＳｉＯ2 膜層：３ａ〜３ｂから構成される。高屈折率物
質膜層２ａ〜２ｃと低屈折率物質膜層３ａ〜３ｂは基板
上で表３に示すように交互に積層している。
板と高屈折率物質Ｓｉ膜層：２ａ〜２ｃと低屈折率物質
ＳｉＯ2 膜層：３ａ〜３ｂから構成される。高屈折率物
質膜層２ａ〜２ｃと低屈折率物質膜層３ａ〜３ｂは基板
上で表３に示すように交互に積層している。
【００１５】
【表３】 基板を光学ガラスとし、高屈折率物質２ａ〜２ｃ及び低
屈折率物質３ａ〜３ｂを、設計中心波長を５８０ｎｍと
して表３のように積層したときの、入射角及び受光角４
５度における分光反射率を図２に示す。本実施例の分光
特性は、可視領域において４２０〜６４５ｎｍに及ぶ範
囲を８０％以上反射しており、赤外領域において８００
〜２０００ｎｍの範囲の平均反射率は１４％である。
屈折率物質３ａ〜３ｂを、設計中心波長を５８０ｎｍと
して表３のように積層したときの、入射角及び受光角４
５度における分光反射率を図２に示す。本実施例の分光
特性は、可視領域において４２０〜６４５ｎｍに及ぶ範
囲を８０％以上反射しており、赤外領域において８００
〜２０００ｎｍの範囲の平均反射率は１４％である。
【００１６】実施例４ 実施例４のコールドミラーは、赤外線透過材料である基
板と高屈折率物質Ｓｉ膜層：２ａ〜２ｆと低屈折率物質
ＳｉＯ2 膜層：３ａ〜３ｅから構成される。高屈折率物
質膜層２ａ〜２ｆと低屈折率物質膜層３ａ〜３ｅは基板
上で表４に示すように交互に積層している。
板と高屈折率物質Ｓｉ膜層：２ａ〜２ｆと低屈折率物質
ＳｉＯ2 膜層：３ａ〜３ｅから構成される。高屈折率物
質膜層２ａ〜２ｆと低屈折率物質膜層３ａ〜３ｅは基板
上で表４に示すように交互に積層している。
【００１７】
【表４】 基板を光学ガラスとし、高屈折率物質膜層２ａ〜２ｆ及
び低屈折率物質膜層３ａ〜３ｅを、設計中心波長を５６
０ｎｍとして表４のように積層したときの、入射角及び
受光角４５度における分光反射率を求めた。その結果、
本実施例の分光特性は、可視領域において４１５〜６８
０ｎｍに及ぶ範囲を８０％以上反射しており、赤外領域
において８００〜２０００ｎｍの範囲の平均反射率は１
５％であった。
び低屈折率物質膜層３ａ〜３ｅを、設計中心波長を５６
０ｎｍとして表４のように積層したときの、入射角及び
受光角４５度における分光反射率を求めた。その結果、
本実施例の分光特性は、可視領域において４１５〜６８
０ｎｍに及ぶ範囲を８０％以上反射しており、赤外領域
において８００〜２０００ｎｍの範囲の平均反射率は１
５％であった。
【００１８】実施例５ 実施例５のコールドミラーは、赤外線透過材料である基
板と高屈折率物質Ｓｉ膜層：２ａ〜２ｃと低屈折率物質
ＳｉＯ2 膜層：３ａ〜３ｃから構成される。高屈折率物
質膜層２ａ〜２ｃと低屈折率物質膜層３ａ〜３ｃは基板
上で表５に示すように交互に積層している。
板と高屈折率物質Ｓｉ膜層：２ａ〜２ｃと低屈折率物質
ＳｉＯ2 膜層：３ａ〜３ｃから構成される。高屈折率物
質膜層２ａ〜２ｃと低屈折率物質膜層３ａ〜３ｃは基板
上で表５に示すように交互に積層している。
【００１９】
【表５】 基板を光学ガラスとし、高屈折率物質膜層２ａ〜２ｃ及
び低屈折率物質膜層３ａ〜３ｃを、設計中心波長を５４
０ｎｍとして表５のように積層したときの、入射角及び
受光角４５度における分光反射率を図３に示す。本実施
例の分光特性は、可視領域において４３０〜６４０ｎｍ
に及ぶ範囲を８０％以上反射しており、赤外領域におい
て８００〜２０００ｎｍの範囲の平均反射率は１０％で
ある。
び低屈折率物質膜層３ａ〜３ｃを、設計中心波長を５４
０ｎｍとして表５のように積層したときの、入射角及び
受光角４５度における分光反射率を図３に示す。本実施
例の分光特性は、可視領域において４３０〜６４０ｎｍ
に及ぶ範囲を８０％以上反射しており、赤外領域におい
て８００〜２０００ｎｍの範囲の平均反射率は１０％で
ある。
【００２０】実施例６ 実施例６のコールドミラーは、赤外線透過材料である基
板と高屈折率物質Ｓｉ膜層：２ａ〜２ｆと低屈折率物質
ＳｉＯ2 膜層：３ａ〜３ｆから構成される。高屈折率物
質膜層２ａ〜２ｆと低屈折率物質膜層３ａ〜３ｆは基板
上で表６に示すように交互に積層している。
板と高屈折率物質Ｓｉ膜層：２ａ〜２ｆと低屈折率物質
ＳｉＯ2 膜層：３ａ〜３ｆから構成される。高屈折率物
質膜層２ａ〜２ｆと低屈折率物質膜層３ａ〜３ｆは基板
上で表６に示すように交互に積層している。
【００２１】
【表６】 基板を光学ガラスとし、高屈折率物質膜層２ａ〜２ｆ及
び低屈折率物質膜層３ａ〜３ｆを、設計中心波長を５４
０ｎｍとして表６のように積層したときの、入射角及び
受光角４５度における分光反射率を求めた。その結果、
本実施例の分光特性は、可視領域において４３５〜６６
５ｎｍに及ぶ範囲を８０％以上反射しており、赤外領域
において８００〜２０００ｎｍの範囲の平均反射率は１
３％であった。
び低屈折率物質膜層３ａ〜３ｆを、設計中心波長を５４
０ｎｍとして表６のように積層したときの、入射角及び
受光角４５度における分光反射率を求めた。その結果、
本実施例の分光特性は、可視領域において４３５〜６６
５ｎｍに及ぶ範囲を８０％以上反射しており、赤外領域
において８００〜２０００ｎｍの範囲の平均反射率は１
３％であった。
【００２２】実施例７ 実施例７のコールドミラーは、赤外線透過材料である基
板と高屈折率物質Ｓｉ膜層：２ａ〜２ｃと低屈折率物質
ＳｉＯ2 膜層：３ａ〜３ｃから構成される。高屈折率物
質膜層２ａ〜２ｃと低屈折率物質膜層３ａ〜３ｃは基板
上で表７に示すように交互に積層している。
板と高屈折率物質Ｓｉ膜層：２ａ〜２ｃと低屈折率物質
ＳｉＯ2 膜層：３ａ〜３ｃから構成される。高屈折率物
質膜層２ａ〜２ｃと低屈折率物質膜層３ａ〜３ｃは基板
上で表７に示すように交互に積層している。
【００２３】
【表７】 基板を光学ガラスとし、高屈折率物質膜層２ａ〜２ｃ及
び低屈折率物質膜層３ａ〜３ｃを、設計中心波長を５４
０ｎｍとして表７のように積層したときの、入射角及び
受光角４５度における分光反射率を図４に示す。本実施
例の分光特性は、可視領域において４３０〜６８５ｎｍ
に及ぶ範囲を８０％以上反射しており、赤外領域におい
て８００〜２０００ｎｍの範囲の平均反射率は１２％で
ある。
び低屈折率物質膜層３ａ〜３ｃを、設計中心波長を５４
０ｎｍとして表７のように積層したときの、入射角及び
受光角４５度における分光反射率を図４に示す。本実施
例の分光特性は、可視領域において４３０〜６８５ｎｍ
に及ぶ範囲を８０％以上反射しており、赤外領域におい
て８００〜２０００ｎｍの範囲の平均反射率は１２％で
ある。
【００２４】実施例８ 実施例８のコールドミラーは、赤外線透過材料である基
板と高屈折率物質Ｓｉ膜層：２ａ〜２ｅと低屈折率物質
ＳｉＯ2 膜層：３ａ〜３ｅから構成される。高屈折率物
質膜層２ａ〜２ｅと低屈折率物質膜層３ａ〜３ｅは基板
上で表８に示すように交互に積層している。
板と高屈折率物質Ｓｉ膜層：２ａ〜２ｅと低屈折率物質
ＳｉＯ2 膜層：３ａ〜３ｅから構成される。高屈折率物
質膜層２ａ〜２ｅと低屈折率物質膜層３ａ〜３ｅは基板
上で表８に示すように交互に積層している。
【００２５】
【表８】 基板を光学ガラスとし、高屈折率物質膜層２ａ〜２ｅ及
び低屈折率物質膜層３ａ〜３ｅを、設計中心波長を５４
０ｎｍとして表８のように積層したときの、入射角及び
受光角４５度における分光反射率を求めた。その結果、
本実施例の分光特性は、可視領域において４３０〜６７
５ｎｍに及ぶ範囲を８０％以上反射しており、赤外領域
において８００〜２０００ｎｍの範囲の平均反射率は１
８％であった。
び低屈折率物質膜層３ａ〜３ｅを、設計中心波長を５４
０ｎｍとして表８のように積層したときの、入射角及び
受光角４５度における分光反射率を求めた。その結果、
本実施例の分光特性は、可視領域において４３０〜６７
５ｎｍに及ぶ範囲を８０％以上反射しており、赤外領域
において８００〜２０００ｎｍの範囲の平均反射率は１
８％であった。
【００２６】実施例９ 実施例９のコールドミラーは、赤外線透過材料である基
板と高屈折率物質Ｓｉ膜層：２ａ〜２ｃと低屈折率物質
ＭｇＦ2 膜層：３ａ〜３ｃから構成される。高屈折率物
質膜層２ａ〜２ｃと低屈折率物質膜層３ａ〜３ｃは基板
上で表９に示すように交互に積層している。
板と高屈折率物質Ｓｉ膜層：２ａ〜２ｃと低屈折率物質
ＭｇＦ2 膜層：３ａ〜３ｃから構成される。高屈折率物
質膜層２ａ〜２ｃと低屈折率物質膜層３ａ〜３ｃは基板
上で表９に示すように交互に積層している。
【００２７】
【表９】 基板を光学ガラスとし、高屈折率物質膜層２ａ〜２ｃ及
び低屈折率物質膜層３ａ〜３ｃを、設計中心波長を５１
３ｎｍとして表９のように積層したときの、入射角及び
受光角４５度における分光反射率を求めた。その結果、
本実施例の分光特性は、可視領域において４２０〜６７
０ｎｍに及ぶ範囲を８０％以上反射しており、赤外領域
において８００〜２０００ｎｍの範囲の平均反射率は１
８％である。
び低屈折率物質膜層３ａ〜３ｃを、設計中心波長を５１
３ｎｍとして表９のように積層したときの、入射角及び
受光角４５度における分光反射率を求めた。その結果、
本実施例の分光特性は、可視領域において４２０〜６７
０ｎｍに及ぶ範囲を８０％以上反射しており、赤外領域
において８００〜２０００ｎｍの範囲の平均反射率は１
８％である。
【００２８】実施例１０ 実施例１０のコールドミラーは、赤外線透過材料である
基板と高屈折率物質Ｓｉ膜層：２ａ〜２ｃと低屈折率物
質ＭｇＦ2 膜層：３ａ〜３ｂから構成される。高屈折率
物質膜層２ａ〜２ｃと低屈折率物質膜層３ａ〜３ｂは基
板上で表１０に示すように交互に積層している。
基板と高屈折率物質Ｓｉ膜層：２ａ〜２ｃと低屈折率物
質ＭｇＦ2 膜層：３ａ〜３ｂから構成される。高屈折率
物質膜層２ａ〜２ｃと低屈折率物質膜層３ａ〜３ｂは基
板上で表１０に示すように交互に積層している。
【００２９】
【表１０】 基板を光学ガラスとし、高屈折率物質膜層２ａ〜２ｃ及
び低屈折率物質膜層３ａ〜３ｂを、設計中心波長を５８
０ｎｍとして表１０のように積層したときの、入射角及
び受光角４５度における分光反射率を求めた。その結
果、本実施例の分光特性は、可視領域において４２０〜
６５０ｎｍに及ぶ範囲を８０％以上反射しており、赤外
領域において８００〜２０００ｎｍの範囲の平均反射率
は１２％である。
び低屈折率物質膜層３ａ〜３ｂを、設計中心波長を５８
０ｎｍとして表１０のように積層したときの、入射角及
び受光角４５度における分光反射率を求めた。その結
果、本実施例の分光特性は、可視領域において４２０〜
６５０ｎｍに及ぶ範囲を８０％以上反射しており、赤外
領域において８００〜２０００ｎｍの範囲の平均反射率
は１２％である。
【００３０】実施例１１ 実施例１１のコールドミラーは、赤外線透過材料である
基板と高屈折率物質Ｓｉ膜層：２ａ〜２ｃと低屈折率物
質ＭｇＦ2 膜層：３ａ，３ｃ，低屈折率物質ＳｉＯ2 膜
層：３ｂから構成される。高屈折率物質膜層２ａ〜２ｃ
と低屈折率物質膜層３ａ〜３ｃは基板上で表１１に示す
ように交互に積層している。
基板と高屈折率物質Ｓｉ膜層：２ａ〜２ｃと低屈折率物
質ＭｇＦ2 膜層：３ａ，３ｃ，低屈折率物質ＳｉＯ2 膜
層：３ｂから構成される。高屈折率物質膜層２ａ〜２ｃ
と低屈折率物質膜層３ａ〜３ｃは基板上で表１１に示す
ように交互に積層している。
【００３１】
【表１１】 基板を光学ガラスとし、高屈折率物質膜層２ａ〜２ｃ及
び低屈折率物質膜層３ａ〜３ｃを、設計中心波長を５２
８ｎｍとして表１１のように積層したときの、入射角及
び受光角４５度における分光反射率を求めた。その結
果、本実施例の分光特性は、可視領域において４２５〜
６３０ｎｍに及ぶ範囲を８０％以上反射しており、赤外
領域において８００〜２０００ｎｍの範囲の平均反射率
は１０％である。
び低屈折率物質膜層３ａ〜３ｃを、設計中心波長を５２
８ｎｍとして表１１のように積層したときの、入射角及
び受光角４５度における分光反射率を求めた。その結
果、本実施例の分光特性は、可視領域において４２５〜
６３０ｎｍに及ぶ範囲を８０％以上反射しており、赤外
領域において８００〜２０００ｎｍの範囲の平均反射率
は１０％である。
【００３２】実施例１２ 実施例１２のコールドミラーは、赤外線透過材料である
基板と高屈折率物質Ｓｉ膜層：２ａ〜２ｃと低屈折率物
質ＳｉＯ2 膜層：３ａ，３ｂ及び低屈折率物質ＭｇＦ2
膜層：３ｃから構成される。高屈折率物質膜層２ａ〜２
ｃと低屈折率物質膜層３ａ〜３ｃは基板上で表１２に示
すように交互に積層している。
基板と高屈折率物質Ｓｉ膜層：２ａ〜２ｃと低屈折率物
質ＳｉＯ2 膜層：３ａ，３ｂ及び低屈折率物質ＭｇＦ2
膜層：３ｃから構成される。高屈折率物質膜層２ａ〜２
ｃと低屈折率物質膜層３ａ〜３ｃは基板上で表１２に示
すように交互に積層している。
【００３３】
【表１２】 基板を光学ガラスとし、高屈折率物質膜層２ａ〜２ｃ及
び低屈折率物質膜層３ａ〜３ｃを、設計中心波長を５３
０ｎｍとして表１２のように積層したときの、入射角及
び受光角４５度における分光反射率を求めた。その結
果、本実施例の分光特性は、可視領域において４２５〜
６７０ｎｍに及ぶ範囲を８０％以上反射しており、赤外
領域において８００〜２０００ｎｍの範囲の平均反射率
は１２％である。
び低屈折率物質膜層３ａ〜３ｃを、設計中心波長を５３
０ｎｍとして表１２のように積層したときの、入射角及
び受光角４５度における分光反射率を求めた。その結
果、本実施例の分光特性は、可視領域において４２５〜
６７０ｎｍに及ぶ範囲を８０％以上反射しており、赤外
領域において８００〜２０００ｎｍの範囲の平均反射率
は１２％である。
【００３４】
【発明の効果】以上の通り、本発明によれば、高屈折率
物質にＳｉを、低屈折率物質にＳｉＯ2 またはＭｇＦ2
またはこの２物質を用いることにより、少ない層数で、
可視領域の反射率が高く、近赤外領域の反射率が低い優
れた特性を有するコールドミラーを作製することがで
き、製造時間の短縮・コストの低減と共に、１０層程度
しか積層できない簡単な構造の成膜装置においても作製
できることになり、安価なコールドミラーが市場に与え
る経済的価値は多大である。
物質にＳｉを、低屈折率物質にＳｉＯ2 またはＭｇＦ2
またはこの２物質を用いることにより、少ない層数で、
可視領域の反射率が高く、近赤外領域の反射率が低い優
れた特性を有するコールドミラーを作製することがで
き、製造時間の短縮・コストの低減と共に、１０層程度
しか積層できない簡単な構造の成膜装置においても作製
できることになり、安価なコールドミラーが市場に与え
る経済的価値は多大である。
【図１】実施例１のコールドミラーの分光反射率図であ
る。
る。
【図２】実施例３のコールドミラーの分光反射率図であ
る。
る。
【図３】実施例５のコールドミラーの分光反射率図であ
る。
る。
【図４】実施例７のコールドミラーの分光反射率図であ
る。
る。
Claims (6)
- 【請求項１】 基板上に、高屈折率物質膜層と低屈折率
物質膜層とを交互に積層させてなり、前記高屈折率物質
がシリコン（Ｓｉ）であり、低屈折率物質が二酸化珪素
（ＳｉＯ2 ）および／または弗化マグネシウム（ＭｇＦ
2 ）であることを特徴とする赤外線透過・可視光線反射
型ミラー。 - 【請求項２】 高屈折率物質膜層および低屈折率物質膜
層の光学膜厚がλo／４（λo は設計中心波長）であ
り、ガラス基板上に交互に積層されていることを特徴と
する請求項１に記載の赤外線透過・可視光線反射型ミラ
ー。 - 【請求項３】 光学膜厚がλo ／４（λo は設計中心波
長）の高屈折率物質膜層をＨ、光学膜厚がλo ／８の高
屈折率物質膜層をＨ／２、光学膜厚がλo ／４の低屈折
率物質膜層をＬ、ｍを正の整数、Ｓを基板、Ａを空気と
するとき、 Ｓ・Ｈ／２・［Ｌ・Ｈ］m ・Ｌ・Ｈ／２・Ａ で表示される多層膜で構成されていることを特徴とする
請求項１に記載の赤外線透過・可視光線反射型ミラー。 - 【請求項４】 光学膜厚がλo ／４の高屈折率物質膜層
をＨ、光学膜厚がλo ／８の高屈折率物質膜層をＨ／
２、光学膜厚がλo ／４の低屈折率物質膜層をＬ、光学
膜厚がλo ／２の低屈折率物質膜層を２Ｌ、ｎを２以上
の正の整数、Ｓを基板、Ａを空気とするとき、 Ｓ・Ｈ／２・［Ｌ・Ｈ］n ・２Ｌ・Ａ で表示される多層膜で構成されていることを特徴とする
請求項１に記載の赤外線透過・可視光線反射型ミラー。 - 【請求項５】 光学膜厚がλo ／４の高屈折率物質膜層
をＨ、光学膜厚がλo ／４の低屈折率物質膜層をＬ、光
学膜厚がλo ／２の低屈折率物質膜層を２Ｌ、ｎを２以
上の正の整数、Ｓを基板、Ａを空気とするとき、 Ｓ・［Ｈ・Ｌ］n ・Ｈ・２Ｌ・Ａ で表示される多層膜で構成されていることを特徴とする
請求項１に記載の赤外線透過・可視光線反射型ミラー。 - 【請求項６】 波長４３０〜６４０ｎｍの可視域におけ
る反射率が８０％以上であり、波長８００〜２０００ｎ
ｍの近赤外域における平均反射率が２３％以下であるこ
とを特徴とする請求項１乃至５に記載の赤外線透過・可
視光線反射型ミラー。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32011392A JPH06167604A (ja) | 1992-11-30 | 1992-11-30 | 赤外線透過・可視光線反射型ミラー |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32011392A JPH06167604A (ja) | 1992-11-30 | 1992-11-30 | 赤外線透過・可視光線反射型ミラー |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06167604A true JPH06167604A (ja) | 1994-06-14 |
Family
ID=18117847
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32011392A Withdrawn JPH06167604A (ja) | 1992-11-30 | 1992-11-30 | 赤外線透過・可視光線反射型ミラー |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06167604A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000314807A (ja) * | 1999-04-30 | 2000-11-14 | Nippon Shinku Kogaku Kk | 可視光線遮断赤外線透過フィルター |
| JP2005266538A (ja) * | 2004-03-19 | 2005-09-29 | Stanley Electric Co Ltd | 赤外線透過フィルタ |
| WO2024237175A1 (ja) * | 2023-05-18 | 2024-11-21 | Ａｇｃ株式会社 | 透過部材 |
-
1992
- 1992-11-30 JP JP32011392A patent/JPH06167604A/ja not_active Withdrawn
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000314807A (ja) * | 1999-04-30 | 2000-11-14 | Nippon Shinku Kogaku Kk | 可視光線遮断赤外線透過フィルター |
| JP2005266538A (ja) * | 2004-03-19 | 2005-09-29 | Stanley Electric Co Ltd | 赤外線透過フィルタ |
| WO2024237175A1 (ja) * | 2023-05-18 | 2024-11-21 | Ａｇｃ株式会社 | 透過部材 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| TWI404979B (zh) | 介電質多層膜濾光器 | |
| US7450306B2 (en) | Optical filter for blocking UV light and IR light | |
| US5460888A (en) | Multi-layered optical film | |
| JP2000171625A (ja) | ダイクロイックミラー | |
| JP2000314807A (ja) | 可視光線遮断赤外線透過フィルター | |
| JPH0786568B2 (ja) | 光源装置 | |
| JP3153334B2 (ja) | 紫外線照射装置の多層膜フィルタ | |
| JP4171362B2 (ja) | 反射防止膜付き透明基板 | |
| US7567386B2 (en) | Dichroic mirror | |
| JPH06337302A (ja) | プラスチック光学部品の反射防止膜 | |
| JPH11202127A (ja) | ダイクロイックミラー | |
| JPH11101913A (ja) | 光学素子 | |
| JPH07111482B2 (ja) | 多層反射防止膜 | |
| JPH05241017A (ja) | 黄色フィルター機能を有する光干渉多層膜 | |
| JP3031625B2 (ja) | 熱線吸収反射鏡 | |
| JP3224316B2 (ja) | 二波長反射防止膜 | |
| JP2566634B2 (ja) | 多層反射防止膜 | |
| JP3222546B2 (ja) | 紫外線照射装置の多層膜反射鏡および紫外線照射装置 | |
| JP2006259124A (ja) | コールドミラー | |
| JP2005266211A (ja) | 多層膜反射鏡 | |
| JP3315494B2 (ja) | 反射膜 | |
| JP2835535B2 (ja) | 光学部品の反射防止膜 | |
| JP3550894B2 (ja) | 反射防止膜 | |
| JPH10153705A (ja) | ダイクロイックミラー | |
| JP2935765B2 (ja) | ダイクロイックミラーの製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20000201 |