JPH061676B2 - 螢光表示装置 - Google Patents

螢光表示装置

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JPH061676B2
JPH061676B2 JP501586A JP501586A JPH061676B2 JP H061676 B2 JPH061676 B2 JP H061676B2 JP 501586 A JP501586 A JP 501586A JP 501586 A JP501586 A JP 501586A JP H061676 B2 JPH061676 B2 JP H061676B2
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は螢光体発光を利用して文字・記号等を表示する
螢光表示装置に関し、特にフリツプフロツプで構成した
スタテイツクRAM(ランダムアクセスメモリ)(以後S
−RAMと記す)のQ出力点または出力点に螢光面形成
電極への電圧印加をスイツチングする駆動用トランジス
タを接続することにより、このS−RAMで発光表示部を
制御する螢光表示装置においてその発光エレメント近傍
のメタル配線構造を形成する表面絶縁膜のピンホールに
よるもれ発光を防止した螢光表示装置に関するものであ
る。
〔従来の技術〕
従来、この種の螢光表示装置としては例えば特開昭60−
48090に記載されたものがある。この螢光表示装置の基
本的な構成は、フリツプフロツプからなるS−RAMのQ
出力点または出力点螢光面形成電極への電圧印加をス
イツチングする駆動用トランジスタを接続して発光エレ
メントを構成し、このエレメントを多数マトリツクス配
列してなる発光表示部と、これを制御する駆動部とを同
一半導体集積基板に形成したものである。これについて
第3図および第4図を参照して詳述する。
例えば漢字表示を目的とする発光ドツト数24×24ド
ツトの表示装置では、第3図に示すような回路部を1個
の半導体基板に集積化する。そして、表示文字数に相当
する同様の半導体集積基板をガラス等の絶縁基板上に並
置し、表示画素に対向配置したフイラメント状陰極を設
け、その上から透明なカバーガラスをかぶせて絶縁基板
と気密封止した後、内部を真空排気して目的とする螢光
表示装置が構成される。なお、フイラメント状陰極と表
紙画素との間の空間に、全表示画素を覆う1枚のグリツ
ド電極を必要に応じて配置してもよい。
第3図において、1は表示画素部、2はこの表示画素部
1を駆動制御する駆動部を構成する行選択回路、3aは入
出力回路、3bは列選択回路、4は入力データコントロー
ル回路、5はパワーダウン回路であり、表示画素部1以
外は通常のS−RAMで用いられると同様の回路構成であ
る。また、A0〜A6,I/O1〜I/O8,,の各端子
は各表示文字に対応する各半導体集積基板間で対応する
ものをそれぞれ共通接続し、表示管外に導出している。
端子については各半導体集積基板別に表示文字数に
相当する数だけ表示管外へ導出する。
次に表示画素部1を形成する1発光エレメントの構成例
を第4図に示して説明する。第4図は、C−MOS基板を
用い、駆動用トランジスタをP−MOSによつて構成した
例を示す。同図において、6はフイラメント状陰極、7
はフイラメント電源、8は螢光表示管駆動電源、9はグ
リツド、10は螢光体、11は螢光面を形成する発光電
極(陽極)、12は駆動用トランジスタ、13はフリツ
プフロツプ構成のS−RAM部、14a,14bは各エレメント
間で共通接続されて第3図に示した列選択回路3bに接続
される「1」および「0」の各ビツトライン、15は行
ごとに共通接続されて第3図に示す行選択回路2に接続
されるワードセレクトラインを示す。また、16は列ご
とに共通接続されて第3図に示す列選択回路3bに接続
されるデータ読出しライン16であり、このデータ読出
しライン16は図示しないが、螢光表示管駆動電源8の
マイナス側に接続されている。17は第1の端子がワー
ドセレクトライン15に、第2の端子が発光電極11
に、第3の端子がデータ読出しライン16にそれぞれ接
続された読出し用トランジスタを示す。なお、TL1,TL2
およびT1〜T4はS−RAM部13を構成するトランジス
タである。
上記構成において、ビツトライン14aまたは14bとワード
セレクトライン15との組合せにより、各エレメントに
発光または非発光の信号が選択付加され、S−RAM部1
3に記憶されると、S−RAM お部13の出力点の電圧により駆動用トランジスタ1
2がスイツチングし、VSS電源ラインを通じて螢光表示
管駆動電源8の電圧が発光電極11を介して螢光体10
に供給される。その結果、フイラメント電源7により加
熱されグリツド9によつて加速・拡散された熱電子は駆
動電源8の加速電圧により螢光体10を衝撃して発光表
示が行なわれる。一度発光表示を開始した螢光体10
は、ビツトライン14a,14bとワードセレクトライン15
との組合せにより非発光の信号が入力されるまで、S−
RAM部13の記憶により発光を持続する。したがつて、
記憶状態を発光の持続中リフレツシユする必要がなく、
螢光体10に直流電圧が印加されるので低電圧で高輝
度、かつちらつきのない表示が行なえる。さらに、ワー
ドセレクトライン15に検査信号を順次印加して走査す
ることによりデータ読出しライン16を通じてS−RAM
部13の記憶状態を読出すことが可能となり、この半導
体集積基板単体で、その検査が可能となつて、表示装置
の製造過程での良品の選別が可能となる。また、この読
出しライン16は、当該螢光表示装置の駆動中にその発
光状態を他の機器に転送する信号線としても用いること
ができる。
〔発明が解決しようとする問題点〕
このように上記した従来の螢光表示装置は、外部への導
出リード線数が少なく、かつメモリのリフレツシユの必
要がなく低電圧駆動で高輝度の表示が得られるととも
に、螢光体駆動用トランジスタ12の不良(リーク電流
過大)等の検出が行える利点を有しているが、実用上、
螢光体駆動用トランジスタ12は約10-9A程度のリーク
電流しか許容されず、これをデバイス製造プロセスによ
る高歩留で達成するには特別な製造工程上の工夫を要す
る。また、上記半導体集積基板単体すなわち1チツプ
(たとえば24×24ドツト構成とした場合)中に1点のリ
ーク電流過大な駆動用トランジスタがあつても1点は常
時発光となり、そのチツプは不良となる。その結果、デ
バイス歩留が著しく低下するという問題があつた。
そこで、この問題点を解消するために、同一出願人は第
5図に示す螢光表示装置を別途提案している。この螢光
表示装置は、その発光エレメントの基本的な構成を第5
図に示すように、第4図の回路に、さらにソース電極が
螢光体駆動トランジスタ12のドレイン電極に、ドレイ
ン電極がデータ読出しライン16に、ゲート電極がフリ
ツプフロツプ13のQ出力点にそれぞれ接続されたトラ
ンジスタ18を付加したもので、螢光体駆動トランジス
タ12のオフ時に上記トランジスタ18をオンして螢光
面形成電極すなわち螢光体ドツトを強制的に非発光電位
まで引き下げるようにしたものである。なお、第5図に
おいて第4図と同等部分は同一符号を付してある。
かかる構成の螢光表示装置は、データ読出しライン16
は、上述したように螢光表示管駆動電源8のマイナス側
に接続されていることから、トランジスタ18がオンに
なつたときは陰極6と発光電極11との間の電位差はほ
ぼ零になる。螢光表示管は陰極6と発光電極11との間
の電位差が発光しない電圧(この例では約5V)以下の
場合は電子が螢光体10を発光させるエネルギーを有さ
ず、発光しない。このため、トランジスタ18がオンの
ときは発光しない。今、螢光体駆動用トランジスタ12
が何らかの原因により電流リークが発生しているとす
る。この場合、螢光体駆動トランジスタ12がオン時に
は上記トランジスタ18はオフとなり、螢光体10は前
述と同様にして明るく発光する。そして、螢光体駆動ト
ランジスタ12がオフすると、これと同時に上記トラン
ジスタ18はオンとなり、螢光体駆動トランジスタ12
のリークによるドレイン電流はほとんどがデータ読出し
ライン16に流れ込み、この駆動トランジスタ12のド
レイン電極の電位は強制的にデータ読出しライン16の
電位にまで引き下げられ、螢光体10は非発光となる。
したがつて、第4図のようにトランジスタ18がないと
きは、螢光体駆動トランジスタ12のオフ時に生じるリ
ーク電流はそのドレイン電極からカソード(陰極)6に
向つて流れ、該ドレイン電極上の螢光体はもれ発光を生
じることになるが、第5図に示す回路構成によると、螢
光体駆動トランジスタ12のオフ時にそのドレイン電極
の電位がデータ読出しライン16の非発光電位まで引き
下げられるため、発光体駆動トランジスタ12のリーク
電流などによるもれ発光を防止できる。これによつて、
第4図に示したものの機能を損なうことなく、デバイス
製造工程において常時点灯し、デバイスを不良ならしめ
ていた発光エレメントを正常化することが可能となり、
製造歩留の大幅な向上とチツプ製造工程の工数低減も同
時に達成できる。
ところが、このような螢光表示装置を製造する場合、そ
の発光エレメントを構成する螢光体駆動トランジスタ1
2およびその周辺のメタル配線構造は、通常、第6図に
示すように、第1層メタルでMOSトランジスタすなわ
ち螢光体駆動トランジスタ(図では2個の場合を示す)
12のドレイン電極12D1,12D2および配線層21-1〜21-8
が形成され、その上に絶縁層24を介して光を遮断する
ための第2層メタル22が一面に形成される。そして、
この第2層メタル22には上記ドレイン電極12D1,12D2
に穴23が開けられ、スルーホール25と絶縁層24を
介して螢光体10すなわち螢光体ドツト10と螢光体駆
動トランジスタ12のドレイン電極12D1,12D2が電気的
に接続されている。そのため、第6図に示すように、表
面絶縁膜24aにピンホール30が生じると、その上部に
形成されている螢光体10とシヨートすることとなり、
この螢光体ドツトはもれ発光つまり常時点灯状態とな
る。なぜならば、上記第2層メタル22はカソード(陰
極)6よりも+10V〜20Vに固定された電位VBが印
加されており、この電位では螢光体10は明るく発光す
る。したがつて、このような表面絶縁膜24aのピンホー
ル30による不良がデバイス製造工程(たとえば20文
字表示管の場合には20チツプが1デバイス作製に必
要)に混入された場合、たとえば1点でも常時発光の不
良があると、その管球は不良となり、20チツプ全部が
不良となる結果となる。
本発明はこのような事情に鑑みてなされたもので、その
目的は、第2層メタルのパターン構造を一部変更するこ
とにより、表面保護膜にピンホールが存在しても常時点
灯の不良ドットをなくして製造歩留を向上させた螢光表
示装置を提供することにある。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明に係る螢光表示装置は、フリツプフロツプからな
るS−RAM部と、上記フリツプフロツプのQ出力点また
は出力点に接続された第1の端子および螢光面形成電
極に接続された第2の端子ならびに電源ラインに接続さ
れた第3の端子を有する駆動用トランジスタ部と、上記
S−RAMのワードセレクトラインに接続された第1の端
子および上記螢光面形成電極に接続された第2の端子な
らびにデータ読出しラインに接続された第3の端子を有
する読出し用トランジスタ部と、さらに上記プリツプフ
ロツプのまたはQ出力点に接続された第1の端子およ
び螢光面形成電極に接続された第2の端子ならびにデー
タ読出しラインに接続された第3の端子を有するトラン
ジスタとで1発光エレメントを形成し、この発光エレメ
ントを多数マトリツクス状に配列した発光表示部と、こ
の発光表示部を制御する駆動部とを同一半導体集積基板
に一体に形成してなる螢光表示装置において、その発光
エレメント近傍のメタル配線構造は、上記螢光体駆動ト
ランジスタの第2の端子および配線層を形成する第1層
メタルと、この第1層メタル上に絶縁層を介してその全
面に形成された第2層メタルからなり、この第2層メタ
ルが各螢光体ドツトごとに互いに離間してそれぞれのメ
タルエレメントが上記螢光体駆動トランジスタの第2の
端子を形成する第1層メタルに上記絶縁膜のスルーホー
ルを介して電気的に接続されるとともに、上記第2層メ
タルの各エレメントの一辺の大きさがその上面に表面絶
縁膜のスルーホールを介してそれぞれ形成される螢光体
ドツトの直径と同じかあるいはそれよりも大きく形成さ
れてなることを特徴とする。
〔作用〕
本発明においては、第2層メタルが各螢光体ドツトごと
に互いに離間してそれぞれのメタルエレメントが螢光体
駆動トランジスタの第2の端子を形成する第1層メタル
と電気的に接続されることにより、上記第2層メタルは
螢光体駆動トランジスタの第2の端子つまりドレイン電
極の電位と同じ電位となり、螢光面形成電極として働く
ことになる。これによつて、表面絶縁膜のピンホールに
よる常時発光を防止することができる。
〔実施例〕
以下、実施例を用いて本発明を詳細に説明する。
第1図は本発明の一実施例による発光エレメントの螢光
体ドツト周辺のメタル配線構造を示す概略構成図であ
り、同図において第6図と同一または相当部分は同一符
合を示している。この実施例が第6図に示すものと異な
る点は、Al膜からなる第1層メタルで螢光体駆動トラン
ジスタ12のドレイン電極12D1,12D2および配線層211
218を形成したうえ、この第1層メタル上に絶縁層24を
介して第2層メタルを形成する際に、第1図(a)に示す
ように、被着形成すべく各螢光体ドツト10の中央部分に
四角形状を有する第2層メタル22-1,22-2をそれぞれ形
成して、これら第2層メタル22-1,22-2を各螢光体ドツ
ト10ごとに四角いアイランド状に離間させるととも
に、上記螢光体駆動トランジスタ12のドレイン電極12
D1,12D2を形成する第1層メタルと上記絶縁層24のス
ルーホール251を介して電気的にそれぞれ接続する。こ
のとき、上記各第2層メタル22-1,22-2の一辺の大きさ
は螢光体ドツト10の直径の寸法よりも大きく形成され
ているが、それと同径でもよい。次いで、上記各第2層
メタル22-1,22-2の上面にその表面絶縁膜24aのスルーホ
ール252を介して螢光体ドツト10をそれぞれ被着形成
することにより、これら離間した各第2層メタル22-1,2
2-2を螢光体形成電極として形成したものである。
なお、第1図の実施例において、発光エレメントの回路
構成は第5図と同様であり、フリップフロフプからなる
S−RAM部13と、上記フリツプフロツプの出力によ
り制御される螢光体駆動トランジスタ12と、読出しト
ランジスタ17と、トランジスタ18とで1発光エレメ
ントを形成し、この発光エレメントが多数マトリツクス
状に配列された発光表示部とこの発光表示部を駆動制御
する駆動部が同一基板に一体に形成されている。また、
基本的な発光表示メカニズムも同様であり、その詳細に
説明は省略する。
このように上記実施例の構成によると、各第2層メタル
22-1,22-2が螢光体ドツト10ごとに互いに離間してそ
れぞれのメタルエレメントが螢光体駆動トランジスタ1
2のドレイン電極12D1,12D2を形成する第1層メタルと
電気的に接続されるので、これら離間した第2層メタル
22-1,22-2は上記螢光体駆動トランジスタ12のドレイ
ン電極12D1,12D2と同じ電位になり、螢光体形成電極と
して働くことになる。一方、各螢光体ドツト10は互い
に接触しないように間隔を開けて形成されており、この
間隔が前述の第2層メタル22-1,22-2離間用のスリツト
26の幅よりも大きく形成されるので、その表面絶縁膜
24aにたとえ第1図に示すようなピンホール30が存在
しても、螢光体ドツト10は常時点灯の不良とはなら
ず、正常ドツトとして動作する。これにより、第5図に
示したものの機能を損なうことなくデバイスの製造歩留
を大幅に向上させることができる。
なお、上述の実施例では、P−MOSトランジスタにより
発光エレメントを構成する場合を例にとつて示したが、
本発明は、これに限らず、第2図に示すように、第5図
と同様にC−MOS基板を用い、螢光体駆動トランジスタ
12をP−MOS、読出し用トランジスタ17およびトラ
ンジスタ18をそれぞれN−MOSにより発光エレメント
を構成する場合にも同様に適用することができる。この
とき、上記トランジスタ18は、そのドレイン電極を螢
光体駆動トランジスタ12のドレイン電極に、ソース電
極をデータ読出しライン16にそれぞれ接続し、さらに
ゲート電極をS−RAM部をなすフリツプフロツプ13の
出力点に接続すればよい。
以上、いずれもMOSトランジスタを用いた場合を例に
とつて説明したが、本発明はこれに限定されるものでは
なく、例えばバイポーラトランジスタ、その他どのよう
なスイツチング素子構成を用いても、また基板もシリコ
ン以外の他の基板を用いても同様に実施することができ
る。
〔発明の効果〕
以上説明したように、本発明によるときは、表面絶縁膜
のピンホールにより不良となつていた螢光体ドツトが、
同様にピンホールが存在していても正常に動作すること
が可能になり、製造歩留の大幅な向上がはかれる効果が
ある。
【図面の簡単な説明】
第1図(a)および(b)は本発明の一実施例による発光エレ
メントの螢光体ドツト周辺のメタル配線構造を示す概略
平面図およびその断面図、第2図は本発明において適用
可能な上記実施例と異なる発光エレメントの構成例を示
す回路図、第3図は従来周知の螢光表示装置の一例を示
す同一半導体基板に形成される発光表示部および駆動回
路のブロツク図、第4図は第3図の表示画素部を形成す
る1発光エレメントの構成を示す回路図、第5図は同一
出願人が別途提案している表示画素部を形成する1発光
エレメントの構成を示す第4図相当の回路図、第6図
(a)および(b)は第5図における発光エレメントの螢光体
ドツト周辺のメタル配線構造を示す概略平面図およびそ
の断面図である。 1・・・・表示画素部、2・・・・行選択回路、3a・・
・・入出力回路、3b・・・・行選択回路、4・・・・入
力データコントロール回路、6・・陰極、8・・・・螢
光表示管駆動電源、10・・・・螢光体(螢光体ドツ
ト)、11・・・・発光電極(螢光面形成電極)、12
・・・・駆動用トランジスタ、12D1,12D2・・・・トラ
ンジスタ12のドレイン電極(第1層メタル)、13・
・・・S−RAM、15・・・・ワードセレクトライン、1
6・・・・データ読出しライン、17・・・・読出し用
トランジスタ、18・・・・トランジスタ、211〜218
・・・配線層(第1層メタル)、22-1,22-2・・・・第
2層メタル、24・・・・絶縁層、24a・・・・表面絶
縁膜、251,252・・・・スルーホール、26・・・・ス
リツト、30・・・・ピンホール。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】フリツプフロツプからなるスタテイツクR
    AM部と、上記フリツプフロツプのQ出力点または出
    力点に接続された第1の端子および螢光面形成電極に接
    続された第2の端子ならびに電源ラインに接続された第
    3の端子を有する駆動用トランジスタ部と、上記スタテ
    イツクRAMのワードセレクトラインに接続された第1
    の端子および上記螢光面形成電極に接続された第2の端
    子ならびにデータ読出しラインに接続された第3の端子
    を有する読出し用トランジスタ部と、さらに上記フリツ
    プフロツプのまたはQ出力点に接続された第1の端子
    および螢光面形成電極に接続された第2の端子ならびに
    データ読出しラインに接続された第3の端子を有するト
    ランジスタとで1発光エレメントを形成し、この発光エ
    レメントを多数マトリツクス状に配列した発光表示部
    と、この発光表示部を制御する駆動部とを同一半導体集
    積基板に一体に形成し、この半導体集積基板と当該半導
    体集積基板の上記発光表示部搭載面に対向配置した陰極
    とを少なくとも一面が透光性を有する真空容器に内蔵し
    てなる螢光表示装置において、その発光エレメント近傍
    のメタル配線構造は、上記螢光体駆動トランジスタの第
    2の端子および配線層を形成する第1層メタルと、この
    第1層メタル上に絶縁層を介してその全面に形成された
    第2層メタルからなり、この第2層メタルが各螢光体ド
    ツトごとに互いに離間してそれぞれのメタルエレメント
    が上記螢光体駆動トランジスタの第2の端子を形成する
    第1層メタルに上記絶縁層のスルーホールを介して電気
    的に接続されるとともに、上記第2層メタルの各エレメ
    ントの一辺の大きさがその上面に表面絶縁膜のスルーホ
    ールを介してそれぞれ形成される螢光体ドツトの直径と
    同じかあるいはそれよりも大きく形成されてなることを
    特徴とする螢光表示装置。
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