JPH06168902A - 縦型ボート - Google Patents

縦型ボート

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JPH06168902A
JPH06168902A JP33955392A JP33955392A JPH06168902A JP H06168902 A JPH06168902 A JP H06168902A JP 33955392 A JP33955392 A JP 33955392A JP 33955392 A JP33955392 A JP 33955392A JP H06168902 A JPH06168902 A JP H06168902A
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 この発明は、大きな寸法のウエハを積載して
熱処理をしてもスリップが生じない縦型ボートを提供す
る。 【構成】 複数の支持部材を縦方向に配列して、それら
の支持部材に所定の間隔で形成された複数のスリットに
それぞれ複数の半導体ウエハを積載するための縦型ボー
トにおいて、支持部材を断面直線形状の実質的に平坦な
板で構成し、比較的幅の広いスリットを数多く板幅の約
2/3以上にわたって切り込んで形成し、支持部材の全
体をほぼ櫛形にして、しかもスリットによって画成され
た支持アームの先端部分に支持突起を設けて、支持突起
がウエハの外周縁部を超えてウエハの中央寄りの部分を
支持する構成にしたことを特徴とする縦型ボート。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、複数の支持部材を縦
方向に配列して、それらの支持部材に所定の間隔で形成
された複数のスリットにそれぞれ複数の半導体ウエハを
積載するための縦型ボートに関する。
【0002】
【従来の技術】半導体ウエハの酸化・拡散処理工程で
は、多数の半導体ウエハをウエハ用ボートに積載して、
そのままウエハ用ボートを拡散炉内部に搬入して、そこ
で所望の熱処理を行う。
【0003】拡散炉の種類に応じて縦型ボートを使用し
たり、横型ボートを使用したりしている。
【0004】従来の縦型ボートは、複数のウエハを水平
又はそれよりも少し傾斜した状態に支持するために複数
(例えば4本)の棒形状の支持部材が縦方向に配列され
ている。それらの支持部材には所定の間隔で複数のスリ
ットが形成されている。それらの複数のスリットにそれ
ぞれ複数の半導体ウエハを積載する。
【0005】従来の縦型ボートは、通常、全ての支持部
材が同一断面形状の棒材であった。例えば、断面形状は
円形や四角形などであった。このような断面形状の棒材
に形成されたスリットは、その奥底がウエハの外周に沿
ったアーク形状となっていた。換言すれば、スリットに
よって形成された支持面のウエハ円周方向の幅が小さか
った。
【0006】棒形状の支持部材に代えて支持棒に固定さ
れた円弧形状の板の内面にスリットを形成する従来例も
知られている。この場合も、スリットによって形成され
た支持面のウエハ円周方向の幅が小さかった。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】ボートは、支持部材が
棒形状であっても板形状であっても支持部材によってウ
エハを支持した状態で熱処理時に高温にさらされる。す
ると、従来の縦型ボートは、ウエハ外周縁部を支持する
ものであるため、特にウエハが大きな寸法のものになる
につれて、ウエハはその重量で撓み量が増大する。その
結果、ウエハが変形したりスリップしたりして、いわゆ
る結晶転移が発生し、製品歩留に悪い影響を及ぼす。
【0008】さらに、支持部材の支持面がウエハの外周
縁部のみと接触していると、特定の支持部材に荷重応力
が集中する。そのため、特にウエハが大きな寸法のもの
になるにつれて、スリップの発生頻度が増加する。
【0009】ウエハをボートに出し入れするために、ウ
エハの挿入始端側に位置する1対の支持部材の間隔をウ
エハの外径よりも大きくしていた。そのため、ウエハを
ボートの所定位置に積載した状態で、ウエハの挿入始端
側に位置する支持部材の前方端と、ウエハの中心と、ウ
エハの挿入方向とのなす角度が90度を僅かに(例えば
数度)越す構造にするのがせいぜいであるが、その様な
ものであると、ウエハの重心がウエハの挿入始端側に位
置する対向する2つの支持部材の前方端間又はその近傍
に位置することになり、ウエハの挿入始端側に位置する
支持部材に荷重負担が偏ってしまう。例えば、ウエハの
挿入始端側に位置する1対の支持部材に70〜90パー
セントの荷重応力が負荷される。
【0010】また、熱処理時にボートの支持部材の支持
部分とウエハとの温度差による熱応力も複合的に加わっ
て、特にウエハが大きな寸法のものになるにつれて、ス
リップの発生頻度が増加する。
【0011】ウエハを熱処理するに際しては、拡散炉か
らの熱の伝達は輻射あるいは伝熱によるが、棒形状の支
持部材に所定の間隔で形成された複数のスリット(溝)
のところからのウエハへの伝熱もあり、局部的なウエハ
内部の温度分布の要因となっている。ウエハ自重及び熱
的温度分布による熱応力が、ウエハの挿入始端側に位置
する対向する1対の支持部材でのウエハのスリップ転移
の原因となり、ウエハの熱処理歩留を低下させていた。
【0012】この発明は、このような従来技術の欠点を
解消して、大きな寸法のウエハを積載して熱処理をして
もスリップが生じないとともに、ウエハの撓み量を小さ
くできる縦型ボートを提供することを目的としている。
【0013】
【課題を解決するための手段】本願発明は複数の支持部
材を縦方向に配列して、それらの支持部材に所定の間隔
で形成された複数のスリットにそれぞれ複数の半導体ウ
エハを積載するための縦型ボートにおいて、支持部材を
断面直線形状の実質的に平坦な板で構成し、比較的幅の
広いスリットを数多く板幅の約2/3以上にわたって切
り込んで形成し、支持部材の全体をほぼ櫛形にして、し
かもスリットによって画成された支持アームの先端部分
に支持突起を設けて、支持突起がウエハの外周縁部を超
えてウエハの中央寄りの部分を支持する構成にしたこと
を特徴とする縦型ボートを要旨としている。
【0014】
【発明の効果】この発明の縦型ボートによれば、ウエハ
の撓み、反り、スリップ発生を低減する効果がある。と
くにスリップ発生の抑制効果は非常に大きい。この発明
の縦型ボートを使用すれば、製品の歩留まり及び信頼性
の向上と、熱処理工程の時間短縮が実現できる。
【0015】さらに詳細に述べると、支持突起がウエハ
の外周縁部を超えてウエハの中央寄りの部分を支持する
ので、熱処理時に被熱処理物であるウエハの外周縁部に
支持部材の支持部分が接触しない。その結果、ウエハ外
周縁部を支持する従来の縦型ボートにみられた欠点が解
消される。例えば、半導体ウエハをボートの所定位置に
積載した状態で、ウエハの重心がウエハの挿入始端側に
位置する対向する2つの支持部材の支持部分間から相当
に奥に入ったところに位置するので、ウエハの挿入始端
側に位置する支持部材への荷重負担が軽減される。換言
すれば、全ての支持部材に荷重が適当に分散されるので
ある。それゆえウエハがスリップを起こす危険が確実に
回避される。
【0016】また、この発明の縦型ボートによれば、支
持突起がウエハの外周縁部を超えてウエハの中央寄りの
部分を支持するので、ウエハの外周縁部を支持する従来
例に比較して、ウエハの重量による撓み量を抑制する。
この効果は特にウエハが大きな寸法のものになるにつれ
て顕著になる。その結果、ウエハが変形したりスリップ
したりして結晶転移が発生することが防止でき、製品歩
留まりが向上する。
【0017】さらに、支持突起がウエハの外周縁部を超
えてウエハの中央寄りの部分を支持するので、棒形状の
支持部材に形成された複数の溝のところからのウエハへ
の伝熱がなくなり、局部的なウエハ内部の温度分布が極
力押えられ、熱処理時にボートの支持部材の支持部分と
ウエハの外周部分との温度差による熱応力の発生が効果
的に抑制される。したがって、ウエハ自重及び熱的温度
分布による熱応力が原因となるウエハのスリップ転移が
なくなり、ウエハの熱処理歩留まりが向上する。
【0018】この発明の製造方法によれば、前述のよう
に顕著な効果を奏する縦型ボートを極めて容易にかつ高
い精度で作ることができる。特に高精度のスリット幅及
びスリット間隔を有する縦型ボートを多量生産するとき
に、この発明の製造方法は抜群の効果を発揮する。
【0019】
【実施例】図1〜2はこの発明の好適な実施例による縦
型ボートを示している。縦型ボートは、多数のウエハ1
を積載するものであり、上下一対の板状固定手段2の間
に3本以上(代表的には4本)の支持部材5、6が縦方
向に配列されている。それらの支持部材5、6に所定の
間隔で縦方向に沿って形成された複数のスリット9、1
0にウエハ1を積載するようになっている。支持部材
5、6は、いずれも断面直線形状の実質的に平坦な板で
構成している。
【0020】スリット9、10が板状支持部材5、6の
板幅(つまり板の横方向の長さ)の約2/3以上(好ま
しくは3/4以上)にわたって切り込んで形成してあ
る。その結果、スリット9、10によって画成された支
持部分がアーム部分を構成して在る。そのアーム部分の
先端部に狭い面積の支持突起13、14が設けてある。
アーム部分がウエハ1の外周縁部を超えて延びて、支持
突起13、14がウエハ1の中央寄りの部分を支持する
ようになっている。例えば、これらの支持突起13、1
4によるウエハ1の支持ポイントが、ウエハ1の半径の
50〜90パーセントに来てウエハ1の外周縁部を超え
てウエハ1の中央寄りの部分を支持するように配置する
のが好ましい。しかも、支持ポイントがウエハ1の中心
1aから同心円状に配置されのが好ましい。
【0021】板状支持部材は、図示しなかった形状を含
めて、いろいろと組み合わせて使用できる。
【0022】支持突起を設けることにより、ウエハ外周
縁部との接触を避け、ウエハ外周縁部での応力集中及び
ボートからの熱伝導を避けることができる。
【0023】支持突起の高さはウエハの外周縁部が触れ
ない程度で良いが、ガス置換を考えると、1〜5mm程
の高さの方が望ましい。更に図に示すように比較的幅の
広いスリットを設けることにより、ボートからウエハへ
の熱伝導と、ウエハ及びアーム部分間のガス滞留を防ぐ
ことができる。
【0024】ボートの材質は、石英ガラス、炭化珪素、
炭素、単結晶、多結晶シリコン、シリコン含浸炭化珪素
等が挙げられる。また、ボートは、純度、耐熱性、耐腐
食性の高いものが望ましい。石英ガラスの場合、溶接が
容易であるが、他の材質の場合は組立式も考えられる。
【0025】また、図示した実施例では4本の支持部材
が使用されているが、本発明はこれに限定されない。
【0026】さらに、本発明の実施例を詳細に説明する
と、2対の同一の断面直線状の支持部材5、6が縦方向
に互いに平行に配置されている。これらの支持部材5、
6の上方端部と下方端部にはそれぞれ固定手段2が設け
られているが、一方の固定手段2だけを示し、他方の固
定手段は図示を省略している。
【0027】長さと厚みの異なる2種類の断面ほぼ直線
状の板状支持部材5、6が使用されている。ウエハ1の
挿入始端側に位置する2つの対向する支持部材5は、薄
くて長い断面ほぼ直線状の板状支持部材であり、多数の
スリット9を所定の間隔(図2)ごとに板状支持部材5
の幅の約4/5まで切り込んで多数の互いに平行なアー
ム部分を形成してあり、全体が櫛形になっている。他
方、ウエハ1の挿入後端側に位置する2つの対向する支
持部材6は、厚くて短い断面ほぼ直線状の板状支持部材
であり、多数のスリット10を前述の支持部材5と同一
の間隔ごとに板状支持部材6の幅の約3/4まで切り込
んで多数の互いに平行なアーム部分を形成してあり、全
体が櫛形になっている。
【0028】ウエハ1の挿入始端側に位置する2つの対
向する支持部材5は、スリット9の底9aがウエハ1の
挿入方向Xと平行になるように形成してある。ウエハ1
の挿入後端側に位置する2つの支持部材6は、スリット
10の底10aがウエハ1の外周円の接線と平行になる
ように形成してある。
【0029】これらのスリット9、10によって画成さ
れたアーム部分の先端部に狭い面積(例えば12m
2 )の支持突起13、14が設けて在る。アーム部分
はウエハ1の外周縁部を超え、支持突起13、14はウ
エハ1の中央寄りの部分Pを支持するようになってい
る。
【0030】図2に示すように、これらのスリット9、
10は、それぞれ幅の比較的広い第1スリット9aと、
幅の比較的狭い第2スリット9bとからなる。
【0031】好ましくは、ウエハ1をボートの所定位置
に積載した状態で、前述の支持突起13、14によるウ
エハ1の支持ポイントは、すべてウエハ1の中心1aか
ら同心円状に配置され、その同心円はウエハ1の半径の
50〜90パーセント(好ましくは50〜90パーセン
ト)の領域Pに来るようにし、ウエハ1の支持ポイント
が全てウエハ1の外周縁部を超えるように配置する。
【0032】また、これらの支持突起13、14による
ウエハ1の支持ポイントの好ましい配置方法あるいは分
配方法を述べると、ウエハ1の挿入始端側に位置する支
持部材6の突起14と、ウエハ1の中心1aと、ウエハ
1の挿入方向Xとのなす角度Aが約95〜140度(好
ましくは120度)になるように配置する。他方、ウエ
ハ1の挿入後端側に位置する2つの対向する支持部材5
の突起13と、ウエハ1の中心1aと、ウエハ1の挿入
方向Xとのなす角度Bが約30〜80度(好ましくは6
0度)になるように配置する。
【0033】これとは違った支持ポイントの配置方法あ
るいは分配方法の考え方を採用して、ウエハ1をボート
の所定位置に積載した状態で、ウエハ1の挿入始端側に
位置する2本の支持部材5の突起13と、他方の、ウエ
ハ1の挿入後端側に位置する2つの対向する2本の支持
部材6の突起14とが、ウエハ1の中心1aを通りかつ
ウエハ1の挿入方向Xと平行な線Mに対して線対称にな
っていると共に、ウエハ1の中心1aを通りかつウエハ
1の挿入方向Xと直角方向の線Nに対しても線対称にな
っていると、すべての支持ポイントに等しい荷重がかか
り、4本の突起の荷重バランスが良好になる。
【0034】支持部材5、6の製造方法の一例を説明す
ると、まず図1に示すような断面形状と所望の長さを有
する板状支持部材を形成する。続いて、このような断面
形状の板状支持部材5、6に所定の間隔(例えば3m
m)毎に所定の幅(例えば29×5.35mm)を有す
る第1スリット9aをウォータージェット等の手段を使
って開ける。そのとき、板状支持部材5、6の両方の側
端面5a、5bに残部を残す。一方の側端面5a側の残
部にその側端面5aから第1スリット9aまで所定の幅
(例えば3mm)の第2スリット9bをダイヤモンドカ
ッターで切り込むことにより、図2に示すように、支持
部材の全体を櫛形状にして、主として第1スリット9a
によって形成されたアーム部分の先端部に狭い面積のウ
エハ用の支持突起13、14を形成する。支持突起1
3、14の高さは、例えば1mmである。他方の側端5
bの残部は支柱として機能する。
【0035】なお、支持部材5、6の製造方法におい
て、第1スリットを形成した後、全ての支持部材を固定
手段に固定し、その後で、第2スリットを形成すると、
スリット全体の精度が向上する。また、第1スリットを
形成した後、Siを含浸して、そのあとに、第2スリッ
トを形成すると、加工が容易となる。
【0036】本発明のボートは従来のボートと比較して
ウエハのたわみ、そりおよびスリップ発生の低減に効果
が認められた。特にスリップ発生の抑制効果は大きく、
突起を有することによってボート支柱との接触を避けた
ことが大きな要因となっている。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の好適な実施例による縦型ボートの概
略を示す断面図。
【図2】図1の縦型ボートの一方の支持部材を示すIX
ーIX線に沿った断面図。
【符号の説明】
1 ウエハ 1a ウエハの中心 5、6 支持部材 9、10 スリット 9a、10a 第1スリット 9b、10b 第2スリット 13、14 支持突起 ◆
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成4年11月30日
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正内容】
【書類名】 明細書
【発明の名称】 縦型ボート
【特許請求の範囲】
【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、複数の支持部材を縦
方向に配列して、それらの支持部材に所定の間隔で形成
された複数のスリットにそれぞれ複数の半導体ウエハを
積載するための縦型ボートに関する。
【0002】
【従来の技術】半導体ウエハの酸化・拡散処理工程で
は、多数の半導体ウエハをウエハ用ボートに積載して、
そのままウエハ用ボートを拡散炉内部に搬入して、そこ
で所望の熱処理を行う。
【0003】拡散炉の種類に応じて縦型ボートを使用し
たり、横型ボートを使用したりしている。
【0004】従来の縦型ボートは、複数のウエハを水平
又はそれよりも少し傾斜した状態に支持するために複数
(例えば4本)の棒形状の支持部材が縦方向に配列され
ている。それらの支持部材には所定の間隔で複数のスリ
ットが形成されている。それらの複数のスリットにそれ
ぞれ複数の半導体ウエハを積載する。
【0005】従来の縦型ボートは、通常、全ての支持部
材が同一断面形状の棒材であった。例えば、断面形状は
円形や四角形などであった。このような断面形状の棒材
に形成されたスリットは、その奥底がウエハの外周に沿
ったアーク形状となっていた。換言すれば、スリットに
よって形成された支持面のウエハ円周方向の幅が小さか
った。
【0006】一方、大型のウエハの荷重応力を緩和させ
る手段として実開昭62−128633号のように円弧
状板を支持棒に固定した形状が提案されているが、面精
度を出すのが困難で高価となる。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】ボートは、支持部材が
棒形状であっても板形状であっても支持部材によってウ
エハを支持した状態で熱処理時に高温にさらされる。す
ると、従来の縦型ボートは、ウエハ外周縁部を支持する
ものであるため、特にウエハが大きな寸法のものになる
につれて、ウエハはその重量で撓み量が増大する。その
結果、ウエハが変形したりスリップしたりして、いわゆ
る結晶転移が発生し、製品歩留に悪い影響を及ぼす。
【0008】さらに、支持部材の支持面がウエハの外周
縁部のみと接触していると、特定の支持部材に荷重応力
が集中する。そのため、特にウエハが大きな寸法のもの
になるにつれて、スリップの発生頻度が増加する。
【0009】ウエハをボートに出し入れするために、ウ
エハの挿入始端側に位置する1対の支持部材の間隔をウ
エハの外径よりも大きくしていた。そのため、ウエハを
ボートの所定位置に積載した状態で、ウエハの挿入始端
側に位置する支持部材の前方端と、ウエハの中心と、ウ
エハの挿入方向とのなす角度が90度を僅かに(例えば
数度)越す構造にするのがせいぜいであるが、その様な
ものであると、ウエハの重心がウエハの挿入始端側に位
置する対向する2つの支持部材の前方端間又はその近傍
に位置することになり、ウエハの挿入始端側に位置する
支持部材に荷重負担が偏ってしまう。例えば、ウエハの
挿入始端側に位置する1対の支持部材に70〜90%の
荷重応力が負荷される。
【0010】また、熱処理時にボートの支持部材の支持
部分とウエハとの温度差による熱応力も複合的に加わっ
て、特にウエハが大きな寸法のものになるにつれて、ス
リップの発生頻度が増加する。
【0011】ウエハを熱処理するに際しては、拡散炉か
らの熱の伝達は輻射あるいは伝熱によるが、棒形状の支
持部材に所定の間隔で形成された複数のスリット(溝)
のところからのウエハへの伝熱もあり、局部的なウエハ
内部の温度分布の要因となっている。ウエハ自重及び熱
的温度分布による熱応力が、ウエハの挿入始端側に位置
する対向する1対の支持部材でのウエハのスリップ転移
の原因となり、ウエハの熱処理歩留を低下させていた。
【0012】この発明は、このような従来技術の欠点を
解消して、大きな寸法のウエハを積載して熱処理をして
もスリップが生じないとともに、ウエハの撓み量を小さ
くできる縦型ボートを提供することを目的としている。
【0013】
【課題を解決するための手段】本願発明は複数の支持部
材を縦方向に配列して、それらの支持部材に所定の間隔
で形成された複数のスリットにそれぞれ複数の半導体ウ
エハを積載するための縦型ボートにおいて、支持部材を
断面直線形状の実質的に平坦な板で構成し、比較的幅の
広いスリットを数多く板幅の約2/3以上にわたって切
り込んで形成し、支持部材の全体をほぼ櫛形にして、し
かもスリットによって画成された支持アームの先端部分
に支持突起を設けて、支持突起がウエハの外周縁部を超
えてウエハの中央寄りの部分を支持する構成にしたこと
を特徴とする縦型ボートを要旨としている。
【0014】
【発明の効果】この発明の縦型ボートによれば、ウエハ
の撓み、反り、スリップ発生を低減する効果がある。と
くにスリップ発生の抑制効果は非常に大きい。この発明
の縦型ボートを使用すれば、製品の歩留まり及び信頼性
の向上と、熱処理工程の時間短縮が実現できる。
【0015】さらに詳細に述べると、支持突起がウエハ
の外周縁部を超えてウエハの中央寄りの部分を支持する
ので、熱処理時に被熱処理物であるウエハの外周縁部に
支持部材の支持部分が接触しない。その結果、ウエハ外
周縁部を支持する従来の縦型ボートにみられた欠点が解
消される。例えば、半導体ウエハをボートの所定位置に
積載した状態で、ウエハの重心がウエハの挿入始端側に
位置する対向する2つの支持部材の支持部分間から相当
に挿入側に位置するので、ウエハの挿入始端側に位置す
る支持部材への荷重負担が軽減される。換言すれば、全
ての支持部材に荷重が適当に分散されるのである。それ
ゆえウエハがスリップを起こす危険が回避される。
【0016】また、この発明の縦型ボートによれば、支
持突起がウエハの外周縁部を超えてウエハの中央寄りの
部分を支持するので、ウエハの外周縁部を支持する従来
例に比較して、ウエハの重量による撓み量を抑制する。
この効果は特にウエハが大きな寸法のものになるにつれ
て顕著になる。その結果、ウエハが変形したりスリップ
したりして結晶転移が発生することが防止でき、製品歩
留まりが向上する。
【0017】さらに、支持突起がウエハの外周縁部を超
えてウエハの中央寄りの部分を支持するので、棒形状の
支持部材に形成された複数の溝のところからのウエハへ
の伝熱がなくなり、局部的なウエハ内部の温度分布が極
力押えられ、熱処理時にボートの支持部材の支持部分と
ウエハの外周部分との温度差による熱応力の発生が効果
的に抑制される。したがって、ウエハ自重及び熱的温度
分布による熱応力が原因となるウエハのスリップ転移が
なくなり、ウエハの熱処理歩留まりが向上する。
【0018】この発明の製造方法によれば、前述のよう
に顕著な効果を奏する縦型ボートを極めて容易にかつ高
い精度で作ることができる。特に高精度のスリット幅及
びスリット間隔を有する縦型ボートを多量生産するとき
に、この発明の製造方法は抜群の効果を発揮する。
【0019】
【実施例】図1〜2はこの発明の好適な実施例による縦
型ボートを示している。縦型ボートは、多数のウエハ1
を積載するものであり、上下一対の板伏固定手段2の間
に3本以上(代表的には4本)の支持部材5、6が縦方
向に配列されている。それらの支持部材5、6に所定の
間隔で縦方向に沿って形成された複数のスリット9、1
0にウエハ1を積載するようになっている。支持部材
5、6は、いずれも断面直線形状の実質的に平坦な板で
構成している。
【0020】スリット9、10が板状支持部材5、6の
板幅(つまり板の横方向の長さ)の約2/3以上(好ま
しくは3/4以上)にわたって切り込んで形成してあ
る。その結果、スリット9、10によって画成された支
持部分がアーム部分を構成して在る。そのアーム部分の
先端部に狭い面積の支持突起13、14が設けてある。
アーム部分がウエハ1の外周縁部を超えて延びて、支持
突起13、14がウエハ1の中央寄りの部分を支持する
ようになっている。例えば、これらの支持突起13、1
4によるウエハ1の支持ポイントが、ウエハ1の半径の
50〜90%に来てウエハ1の外周縁部を超えてウエハ
1の中央寄りの部分を支持するように配置するのが好ま
しい。しかも、支持ポイントがウエハ1の中心1aから
同心円状に配置されのが好ましい。
【0021】板状支持部材は、図示しなかった形状を含
めて、いろいろと組み合わせて使用できる。
【0022】支持突起を設けることにより、ウエハ外周
縁部での支持接触を避け、ウエハ外周縁部での応力集中
及びボートからの熱伝導を避けることができる。
【0023】支持突起の高さはウエハの外周縁部が触れ
ない程度で良いが、ガス置換を考えると、0.3〜3m
m程の高さの方が望ましい。更に図に示すように比較的
幅の広いスリットを設けることにより、ボートからウエ
ハへの熱伝導と、ウエハ及びアーム部分間のガス滞留を
防ぐことができる。
【0024】ボートの材質は、石英ガラス、炭化珪素、
炭素、単結晶、多結晶シリコン、シリコン含浸炭化珪素
等が挙げられる。また、ボートは、純度、耐熱性、耐腐
食性の高いものが望ましい。石英ガラスの場合、溶接が
容易であるが、他の材質の場合は組立式も考えられる。
【0025】また、図示した実施例では4本の支持部材
が使用されているが、本発明はこれに限定されない。
【0026】さらに、本発明の実施例を詳細に説明する
と、2対の同一の断面直線状の支持部材5、6が縦方向
に互いに平行に配置されている。これらの支持部材5、
6の上方端部と下方端部にはそれぞれ固定手段2が設け
られているが、一方の固定手段2だけを示し、他方の固
定手段は図示を省略している。
【0027】長さと厚みの異なる2種類の断面ほぼ直線
状の板状支持部材5、6が使用されている。ウエハ1の
挿入始端側に位置する2つの対向する支持部材5は、薄
くて長い断面ほぼ直線状の板状支持部材であり、多数の
スリット9を所定の間隔(図2)ごとに板状支持部材5
の幅の約4/5まで切り込んで多数の互いに平行なアー
ム部分を形成してあり、全体が櫛形になっている。他
方、ウエハ1の挿入後端側に位置する2つの対向する支
持部材6は、厚くて短い断面ほぼ直線状の板状支持部材
であり、多数のスリット10を前述の支持部材5と同一
の間隔ごとに板状支持部材6の幅の約3/4まで切り込
んで多数の互いに平行なアーム部分を形成してあり、全
体が櫛形になっている。
【0028】ウエハ1の挿入始端側に位置する2つの対
向する支持部材5は、スリット9の底9aがウエハ1の
挿入方向Xと平行になるように形成してある。ウエハ1
の挿入後端側に位置する2つの支持部材6は、スリット
10の底10aがウエハ1の外周円の接線と平行になる
ように形成してある。
【0029】これらのスリット9、10によって画成さ
れたアーム部分の先端部に狭い面積(例えば12m
)の支持突起13、14が設けて在る。アーム部分
はウエハ1の外周縁部を超え、支持突起13、14はウ
エハ1の中央寄りの部分Pを支持するようになってい
る。
【0030】図2に示すように、これらのスリット9、
10は、それぞれ幅の比較的広い第1スリット9aと、
幅の比較的狭い第2スリット9bとからなる。
【0031】好ましくは、ウエハ1をボートの所定位置
に積載した状態で、前述の支持突起13、14によるウ
エハ1の支持ポイントは、すべてウエハ1の中心1aか
ら同心円状に配置され、その同心円はウエハ1の半径の
50〜90%(好ましくは50〜90%)の領域Pに来
るようにし、ウエハ1の支持ポイントが全てウエハ1の
外周縁部を超えるように配置する。
【0032】また、これらの支持突起13、14による
ウエハ1の支持ポイントの好ましい配置方法あるいは分
配方法を述べると、ウエハ1の挿入始端側に位置する支
持部材6の突起14と、ウエハ1の中心1aと、ウエハ
1の挿入方向Xとのなす角度Aが約75〜180度(好
ましくは95〜140度)になるように配置する。他
方、ウエハ1の挿入後端側に位置する2つの対向する支
持部材5の突起13と、ウエハ1の中心1aと、ウエハ
1の挿入方向Xとのなす角度Bが約30〜120度(好
ましくは30〜80度)になるように配置する。
【0033】これとは違った支持ポイントの配置方法あ
るいは分配方法の考え方を採用して、ウエハ1をボート
の所定位置に積載した状態で、ウエハ1の挿入始端側に
位置する2本の支持部材5の突起13と、他方の、ウエ
ハ1の挿入後端側に位置する2つの対向する2本の支持
部材6の突起14とが、ウエハ1の中心1aを通りかつ
ウエハ1の挿入方向Xと平行な線Mに対して線対称にな
っていると共に、ウエハ1の中心1aを通りかつウエハ
1の挿入方向Xと直角方向の線Nに対しても線対称にな
っていると、すべての支持ポイントに等しい荷重がかか
り、4本の突起の荷重バランスが良好になる。
【0034】支持部材5、6の製造方法の一例を説明す
ると、まず図1に示すような断面形状と所望の長さを有
する板状支持部材を形成する。続いて、このような断面
形状の板状支持部材5、6に所定の間隔(例えば3m
m)毎に所定の幅(例えば29×5.35mm)を有す
る第1スリット9aをウォータージェット等の手段を使
って開ける。そのとき、板状支持部材5、6の両方の側
端面5a、5bに残部を残す。一方の側端面5a側の残
部にその側端面5aから第1スリット9aまで所定の幅
(例えば3mm)の第2スリット9bをダイヤモンドカ
ッターで切り込むことにより、図2に示すように、支持
部材の全体を櫛形状にして、主として第1スリット9a
によって形成されたアーム部分の先端部に狭い面積のウ
エハ用の支持突起13、14を形成する。支持突起1
3、14の高さは、例えば1mmである。他方の側端5
bの残部は支柱として機能する。
【0035】なお、支持部材5、6の製造方法におい
て、第1スリットを形成した後、全ての支持部材を固定
手段に固定し、その後で、第2スリットを形成すると、
スリット全体の精度が向上する。また、第1スリットを
形成した後、Siを含浸して、そのあとに、第2スリッ
トを形成すると、加工が容易となる。この様にウエハを
載せる第2スリットの加工は、加工面積が少なく、ま
た、後で加工するために高い精度が得られる。
【0036】本発明のボートは従来のボートと比較して
ウエハのたわみ、そりおよびスリップ発生の低減に効果
が認められた。特にスリップ発生の抑制効果は大きく、
突起を有することによってボート支柱との接触を避けた
ことが大きな要因となっている。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の好適な実施例による縦型ボートの概
略を示す断面図。
【図2】図1の縦型ボートの一方の支持部材を示すIX
−IX線に沿った断面図。
【符号の説明】 1 ウエハ 1a ウエハの中心 5、6 支持部材 9、10 スリット 9a、10a 第1スリット 9b、10b 第2スリット 13、14 支持突起 ─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成4年12月1日
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正内容】
【書類名】 明細書
【発明の名称】 縦型ボート
【特許請求の範囲】
【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、複数の支持部材を縦
方向に配列して、それらの支持部材に所定の間隔で形成
された複数のスリットにそれぞれ複数の半導体ウエハを
積載するための縦型ボートに関する。
【0002】
【従来の技術】半導体ウエハの酸化・拡散処理工程で
は、多数の半導体ウエハをウエハ用ボートに積載して、
そのままウエハ用ボートを拡散炉内部に搬入して、そこ
で所望の熱処理を行う。
【0003】拡散炉の種類に応じて縦型ボートを使用し
たり、横型ボートを使用したりしている。
【0004】従来の縦型ボートは、複数のウエハを水平
又はそれよりも少し傾斜した状態に支持するために複数
(例えば4本)の棒形状の支持部材が縦方向に配列され
ている。それらの支持部材には所定の間隔で複数のスリ
ットが形成されている。それらの複数のスリットにそれ
ぞれ複数の半導体ウエハを積載する。
【0005】従来の縦型ボートは、通常、全ての支持部
材が同一断面形状の棒材であった。例えば、断面形状は
円形や四角形などであった。このような断面形状の棒材
に形成されたスリットは、その奥底がウエハの外周に沿
ったアーク形状となっていた。換言すれば、スリットに
よって形成された支持面のウエハ円周方向の幅が小さか
った。
【0006】一方、大型のウエハの荷重応力を緩和させ
る手段として実開昭62−128633号のように円弧
状板を支持棒に固定した形状が提案されているが、面精
度を出すのが困難で高価となる。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】ボートは、支持部材が
棒形状であっても板形状であっても支持部材によってウ
エハを支持した状態で熱処理時に高温にさらされる。す
ると、従来の縦型ボートは、ウエハ外周縁部を支持する
ものであるため、特にウエハが大きな寸法のものになる
につれて、ウエハはその重量で撓み量が増大する。その
結果、ウエハが変形したりスリップしたりして、いわゆ
る結晶転移が発生し、製品歩留に悪い影響を及ぼす。
【0008】さらに、支持部材の支持面がウエハの外周
縁部のみと接触していると、特定の支持部材に荷重応力
が集中する。そのため、特にウエハが大きな寸法のもの
になるにつれて、スリップの発生頻度が増加する。
【0009】ウエハをボートに出し入れするために、ウ
エハの挿入始端側に位置する1対の支持部材の間隔をウ
エハの外径よりも大きくしていた。そのため、ウエハを
ボートの所定位置に積載した状態で、ウエハの挿入始端
側に位置する支持部材の前方端と、ウエハの中心と、ウ
エハの挿入方向とのなす角度が90度を僅かに(例えば
数度)越す構造にするのがせいぜいであるが、その様な
ものであると、ウエハの重心がウエハの挿入始端側に位
置する対向する2つの支持部材の前方端間又はその近傍
に位置することになり、ウエハの挿入始端側に位置する
支持部材に荷重負担が偏ってしまう。例えば、ウエハの
挿入始端側に位置する1対の支持部材に70〜90%の
荷重応力が負荷される。
【0010】また、熱処理時にボートの支持部材の支持
部分とウエハとの温度差による熱応力も複合的に加わっ
て、特にウエハが大きな寸法のものになるにつれて、ス
リップの発生頻度が増加する。
【0011】ウエハを熱処理するに際しては、拡散炉か
らの熱の伝達は輻射あるいは伝熱によるが、棒形状の支
持部材に所定の間隔で形成された複数のスリット(溝)
のところからのウエハへの伝熱もあり、局部的なウエハ
内部の温度分布の要因となっている。ウエハの自重及び
熱的温度分布による熱応力が、ウエハの挿入始端側に位
置する対向する1対の支持部材でのウエハのスリップ転
移の原因となり、ウエハの熱処理歩留を低下させてい
た。
【0012】この発明は、このような従来技術の欠点を
解消して、大きな寸法のウエハを積載して熱処理をして
もウエハにスリップが生じないとともに、ウエハの撓み
量を小さくできる縦型ボートを提供することを目的とし
ている。
【0013】
【課題を解決するための手段】本願発明は複数の支持部
材を縦方向に配列して、それらの支持部材に所定の間隔
で形成された複数のスリットにそれぞれ複数の半導体ウ
エハを積載するための縦型ボートにおいて、支持部材を
断面直線形状の実質的に平坦な板で構成し、比較的幅の
広いスリットを数多く板幅の約2/3以上にわたって切
り込んで形成し、支持部材の全体をほぼ櫛形にして、し
かもスリットによって画成された支持アームの先端部分
に支持突起を設けて、支持突起がウエハの外周縁部を超
えてウエハの中央寄りの部分を支持する構成にしたこと
を特徴とする縦型ボートを要旨としている。
【0014】
【発明の効果】この発明の縦型ボートによれば、ウエハ
の撓み、反り、スリップ発生を低減する効果がある。と
くにスリップ発生の抑制効果は非常に大きい。この発明
の縦型ボートを使用すれば、製品の歩留及び信頼性の向
上と、熱処理工程の時間短縮が実現できる。
【0015】さらに詳細に述べると、支持突起がウエハ
の外周縁部を超えてウエハの中央寄りの部分を支持する
ので、熱処理時に被熱処理物であるウエハの外周縁部に
支持部材の支持部分が接触しない。その結果、ウエハ外
周縁部を支持する従来の縦型ボートにみられた欠点が解
消される。例えば、半導体ウエハをボートの所定位置に
積載した状態で、ウエハの重心がウエハの挿入始端側に
位置する対向する2つの支持部材の支持部分間から相当
に挿入側に位置するので、ウエハの挿入始端側に位置す
る支持部材への荷重負担が軽減される。換言すれば、全
ての支持部材に荷重が適当に分散されるのである。それ
ゆえウエハがスリップを起こす危険が回避される。
【0016】また、この発明の縦型ボートによれば、支
持突起がウエハの外周縁部を超えてウエハの中央寄りの
部分を支持するので、ウエハの外周縁部を支持する従来
例に比較して、ウエハの重量による撓み量を抑制する。
この効果は特にウエハが大きな寸法のものになるにつれ
て顕著になる。その結果、ウエハが変形したりスリップ
したりして結晶転移が発生することが防止でき、製品歩
留が向上する。
【0017】さらに、支持突起がウエハの外周縁部を超
えてウエハの中央寄りの部分を支持するので、棒形状の
支持部材に形成された複数の溝のところからのウエハへ
の伝熱がなくなり、局部的なウエハ内部の温度分布が極
力抑制され、熱処理時にボートの支持部材の支持部分と
ウエハの外周部分との温度差による熱応力の発生が効果
的に抑制される。したがって、ウエハの自重及び熱的温
度分布による熱応力が原因となるウエハのスリップ転移
がなくなり、ウエハの熱処理歩留が向上する。
【0018】この発明の製造方法によれば、前述のよう
に顕著な効果を奏する縦型ボートを極めて容易にかつ高
い精度で作ることができる。特に高精度のスリット幅及
びスリット間隔を有する縦型ボートを多量生産するとき
に、この発明の製造方法は抜群の効果を発揮する。
【0019】
【実施例】図1〜2はこの発明の好適な実施例による縦
型ボートを示している。縦型ボートは、多数のウエハ1
を積載するものであり、上下一対の板状固定手段2の間
に3本以上(代表的には4本)の支持部材5、6が縦方
向に配列されている。それらの支持部材5、6に所定の
間隔で縦方向に沿って形成された複数のスリット9、1
0にウエハ1を積載するようになっている。支持部材
5、6は、いずれも断面直線形状の実質的に平坦な板で
構成している。
【0020】スリット9、10が板状支持部材5、6の
板幅(つまり板の横方向の長さ)の約2/3以上(好ま
しくは3/4以上)にわたって切り込んで形成してあ
る。その結果、スリット9、10によって画成された支
持部分がアーム部分を構成している。そのアーム部分の
先端部に狭い面積の支持突起13、14が設けてある。
アーム部分がウエハ1の外周縁部を超えて延びて、支持
突起13、14がウエハ1の中央寄りの部分を支持する
ようになっている。例えば、これらの支持突起13、1
4によるウエハ1の支持ポイントが、ウエハ1の半径の
50〜90%に来てウエハ1の外周縁部を超えてウエハ
1の中央寄りの部分を支持するように配置するのが好ま
しい。しかも、支持ポイントがウエハ1の中心1aから
同心円状に配置されのが好ましい。
【0021】板状支持部材は、図示しなかった形状を含
めて、いろいろと組み合わせて使用できる。
【0022】支持突起を設けることにより、ウエハ外周
縁部での支持接触を避け、ウエハ外周縁部での応力集中
及びボートからの熱伝導を避けることができる。
【0023】支持突起の高さはウエハの外周縁部が触れ
ない程度で良いが、ガス置換を考えると、0.3〜3m
m程の高さの方が望ましい。更に図に示すように比較的
幅の広いスリットを設けることにより、ボートからウエ
ハへの熱伝導と、ウエハ及びアーム部分間のガス滞留を
防ぐことができる。
【0024】ボートの材質は、石英ガラス、炭化珪素、
炭素、単結晶、多結晶シリコン、シリコン含浸炭化珪素
等が挙げられる。また、ボートは、純度、耐熱性、耐腐
食性の高いものが望ましい。石英ガラスの場合、溶接が
容易であるが、他の材質の場合は組立式も考えられる。
【0025】また、図示した実施例では4本の支持部材
が使用されているが、本発明はこれに限定されない。
【0026】さらに、本発明の実施例を詳細に説明する
と、2対の同一の断面直線状の支持部材5、6が縦方向
に互いに平行に配置されている。これらの支持部材5、
6の上方端部と下方端部にはそれぞれ固定手段2が設け
られているが、一方の固定手段2だけを示し、他方の固
定手段は図示を省略している。
【0027】長さと厚みの異なる2種類の断面ほぼ直線
状の板状支持部材5、6が使用されている。ウエハ1の
挿入始端側に位置する2つの対向する支持部材5は、薄
くて長い断面ほぼ直線状の板状支持部材であり、多数の
スリット9を所定の間隔(図2)ごとに板状支持部材5
の幅の約4/5まで切り込んで多数の互いに平行なアー
ム部分を形成してあり、全体が櫛形になっている。他
方、ウエハ1の挿入後端側に位置する2つの対向する支
持部材6は、厚くて短い断面ほぼ直線状の板状支持部材
であり、多数のスリット10を前述の支持部材5と同一
の間隔ごとに板状支持部材6の幅の約3/4まで切り込
んで多数の互いに平行なアーム部分を形成してあり、全
体が櫛形になっている。
【0028】ウエハ1の挿入始端側に位置する2つの対
向する支持部材5は、スリット9の底9aがウエハ1の
挿入方向Xと平行になるように形成してある。ウエハ1
の挿入後端側に位置する2つの支持部材6は、スリット
10の底10aがウエハ1の外周円の接線と平行になる
ように形成してある。
【0029】これらのスリット9、10によって画成さ
れたアーム部分の先端部に狭い面積(例えば12m
)の支持突起13、14が設けてある。アーム部分
はウエハ1の外周縁部を超え、支持突起13、14はウ
エハ1の中央寄りの部分Pを支持するようになってい
る。
【0030】図2に示すように、これらのスリット9、
10は、それぞれ幅の比較的広い第1スリット9aと、
幅の比較的狭い第2スリット9bとからなる。
【0031】好ましくは、ウエハ1をボートの所定位置
に積載した状態で、前述の支持突起13、14によるウ
エハ1の支持ポイントは、すべてウエハ1の中心1aか
ら同心円状に配置され、その同心円はウエハ1の半径の
50〜90%(好ましくは65〜85%)の領域Pに来
るようにし、ウエハ1の支持ポイントが全てウエハ1の
外周縁部を超えるように配置する。
【0032】また、これらの支持突起13、14による
ウエハ1の支持ポイントの好ましい配置方法あるいは分
配方法を述べると、ウエハ1の挿入始端側に位置する支
持部材6の突起14と、ウエハ1の中心1aと、ウエハ
1の挿入方向Xとのなす角度Aが約75〜180度(好
ましくは95〜140度)になるように配置する。他
方、ウエハ1の挿入後端側に位置する2つの対向する支
持部材5の突起13と、ウエハ1の中心1aと、ウエハ
1の挿入方向Xとのなす角度Bが約30〜120度(好
ましくは30〜80度)になるように配置する。
【0033】これとは違った支持ポイントの配置方法あ
るいは分配方法の考え方を採用して、ウエハ1をボート
の所定位置に積載した状態で、ウエハ1の挿入始端側に
位置する2本の支持部材5の突起13と、他方の、ウエ
ハ1の挿入後端側に位置する2つの対向する2本の支持
部材6の突起14とが、ウエハ1の中心1aを通りかつ
ウエハ1の挿入方向Xと平行な線Mに対して線対称にな
っていると共に、ウエハ1の中心1aを通りかつウエハ
1の挿入方向Xと直角方向の線Nに対しても線対称にな
っていると、すべての支持ポイントに等しい荷重がかか
り、4本の突起の荷重バランスが良好になる。
【0034】支持部材5、6の製造方法の一例を説明す
ると、まず図1に示すような断面形状と所望の長さを有
する板状支持部材を形成する。続いて、このような断面
形状の板状支持部材5、6に所定の間隔(例えば3m
m)毎に所定の幅(例えば29×5.35mm)を有す
る第1スリット9aをウォータージェット等の手段を使
って開ける。そのとき、板状支持部材5、6の両方の側
端面5a、5bに残部を残す。一方の側端面5a側の残
部にその側端面5aから第1スリット9aまで所定の幅
(例えば3mm)の第2スリット9bをダイヤモンドカ
ッターで切り込むことにより、図2に示すように、支持
部材の全体を櫛形状にして、主として第1スリット9a
によって形成されたアーム部分の先端部に狭い面積のウ
エハ用の支持突起13、14を形成する。支持突起1
3、14の高さは、例えば1mmである。他方の側端5
bの残部は支柱として機能する。
【0035】なお、支持部材5、6の製造方法におい
て、第1スリットを形成した後、全ての支持部材を固定
手段に固定し、その後で、第2スリットを形成すると、
スリット全体の精度が向上する。また、第1スリットを
形成した後、Siを含浸して、そのあとに、第2スリッ
トを形成すると、加工が容易となる。この様にウエハを
載せる第2スリットの加工は、加工面積が少なく、ま
た、後で加工するために高い精度が得られる。
【0036】本発明のボートは従来のボートと比較して
ウエハのたわみ、そりおよびスリップ発生の低減に効果
が認められた。特にスリップ発生の抑制効果は大きく、
突起を有することによってボート支柱との接触を避けた
ことが大きな要因となっている。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の好適な実施例による縦型ボートの概
略を示す断面図。
【図2】図1の縦型ボートの一方の支持部材を示すIX
−IX線に沿った断面図。
【符号の説明】 1 ウエハ 1a ウエハの中心 5、6 支持部材 9、10 スリット 9a、10a 第1スリット 9b、10b 第2スリット 13、14 支持突起
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 北沢 厚男 山形県西置賜郡小国町大字小国町378番地 東芝セラミックス株式会社小国製造所内 (72)発明者 目黒 和教 東京都新宿区西新宿1−26−2 東芝セラ ミックス株式会社内

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 複数の支持部材を縦方向に配列して、そ
    れらの支持部材に所定の間隔で形成された複数のスリッ
    トにそれぞれ複数の半導体ウエハを積載するための縦型
    ボートにおいて、支持部材を断面直線形状の実質的に平
    坦な板で構成し、比較的幅の広いスリットを数多く板幅
    の約2/3以上にわたって切り込んで形成し、支持部材
    の全体をほぼ櫛形にして、しかもスリットによって画成
    された支持アームの先端部分に支持突起を設けて、支持
    突起がウエハの外周縁部を超えてウエハの中央寄りの部
    分を支持する構成にしたことを特徴とする縦型ボート。
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Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1997032339A1 (en) * 1996-02-29 1997-09-04 Tokyo Electron Limited Heat-treating boat for semiconductor wafer
CN1079577C (zh) * 1995-05-05 2002-02-20 圣戈本陶瓷及塑料股份有限公司 半导体晶圆片用的竖直支架
WO2004088744A1 (ja) * 2003-03-31 2004-10-14 Sumitomo Mitsubishi Silicon Corporation シリコンウェーハ熱処理治具およびシリコンウェーハ熱処理方法
JP2007273673A (ja) * 2006-03-31 2007-10-18 Covalent Materials Corp 縦型ウエハボート
JP2007329173A (ja) * 2006-06-06 2007-12-20 Covalent Materials Corp 縦型ウェーハボート
JP2009076621A (ja) * 2007-09-20 2009-04-09 Covalent Materials Corp 熱処理用縦型ボート
JP2014093522A (ja) * 2012-11-06 2014-05-19 Tera Semicon Corp バッチ式基板処理装置
JP2023532033A (ja) * 2020-06-26 2023-07-26 グローバルウェーハズ カンパニー リミテッド 炉内の半導体ウエハを支持するためのウエハボート

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1255878C (zh) 2001-04-12 2006-05-10 松下电器产业株式会社 半导体装置及其制造方法

Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1079577C (zh) * 1995-05-05 2002-02-20 圣戈本陶瓷及塑料股份有限公司 半导体晶圆片用的竖直支架
WO1997032339A1 (en) * 1996-02-29 1997-09-04 Tokyo Electron Limited Heat-treating boat for semiconductor wafer
US6062853A (en) * 1996-02-29 2000-05-16 Tokyo Electron Limited Heat-treating boat for semiconductor wafers
WO2004088744A1 (ja) * 2003-03-31 2004-10-14 Sumitomo Mitsubishi Silicon Corporation シリコンウェーハ熱処理治具およびシリコンウェーハ熱処理方法
US7481888B2 (en) 2003-03-31 2009-01-27 Sumco Corporation Heat treatment jig and heat treatment method for silicon wafer
US8026182B2 (en) 2003-03-31 2011-09-27 Sumco Corporation Heat treatment jig and heat treatment method for silicon wafer
JP2007273673A (ja) * 2006-03-31 2007-10-18 Covalent Materials Corp 縦型ウエハボート
JP2007329173A (ja) * 2006-06-06 2007-12-20 Covalent Materials Corp 縦型ウェーハボート
JP2009076621A (ja) * 2007-09-20 2009-04-09 Covalent Materials Corp 熱処理用縦型ボート
JP2014093522A (ja) * 2012-11-06 2014-05-19 Tera Semicon Corp バッチ式基板処理装置
JP2023532033A (ja) * 2020-06-26 2023-07-26 グローバルウェーハズ カンパニー リミテッド 炉内の半導体ウエハを支持するためのウエハボート
US12424471B2 (en) 2020-06-26 2025-09-23 Globalwafers Co., Ltd. Wafer boats for supporting semiconductor wafers in a furnace

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