JPH0617132A - 磁束密度の極めて高い超低鉄損方向性電磁鋼板及びその製造方法 - Google Patents
磁束密度の極めて高い超低鉄損方向性電磁鋼板及びその製造方法Info
- Publication number
- JPH0617132A JPH0617132A JP4175790A JP17579092A JPH0617132A JP H0617132 A JPH0617132 A JP H0617132A JP 4175790 A JP4175790 A JP 4175790A JP 17579092 A JP17579092 A JP 17579092A JP H0617132 A JPH0617132 A JP H0617132A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- steel sheet
- annealing
- magnetic flux
- flux density
- oriented electrical
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F1/00—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties
- H01F1/01—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials
- H01F1/03—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity
- H01F1/12—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity of soft-magnetic materials
- H01F1/14—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity of soft-magnetic materials metals or alloys
- H01F1/147—Alloys characterised by their composition
- H01F1/14766—Fe-Si based alloys
- H01F1/14775—Fe-Si based alloys in the form of sheets
- H01F1/14783—Fe-Si based alloys in the form of sheets with insulating coating
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Soft Magnetic Materials (AREA)
- Manufacturing Of Steel Electrode Plates (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 本発明は、グラス被膜を有さず、かつ磁束密
度が極めて高い、加工性の良好な超低鉄損方向性電磁鋼
板及びその製造方法に関する。 【構成】 一次再結晶焼鈍後の鋼板を仕上焼鈍するにあ
たり、ＭｇＯ１００重量部に対してＬｉ、Ｋ、Ｎａ、Ｂ
ａ、Ｃａ、Ｍｇ、Ｚｎ、Ｆｅ、Ｚｒ、Ｓｒ、Ｓｎ、Ａｌ
等の塩化物、炭酸塩、硝酸塩、硫酸塩、硫化物の中から
選ばれる１種又は２種以上を２〜３０重量部添加した焼
鈍分離剤を用い、仕上焼鈍時の昇温速度を１０℃／ｈｒ
以下、雰囲気をＮ2 ３０％以上のＮ2 ＋Ｈ2 とし、次い
で、レーザー、歯形ロール、プレス、ケガキ、局部エッ
チング等により圧延方向に対し４５〜９０°の方向に線
状または点状キズを付与する。この時、一次再結晶焼鈍
後の鋼板の一次再結晶粒のうち、平均粒径の２倍を超え
る一次再結晶粒を１０％未満とする。
度が極めて高い、加工性の良好な超低鉄損方向性電磁鋼
板及びその製造方法に関する。 【構成】 一次再結晶焼鈍後の鋼板を仕上焼鈍するにあ
たり、ＭｇＯ１００重量部に対してＬｉ、Ｋ、Ｎａ、Ｂ
ａ、Ｃａ、Ｍｇ、Ｚｎ、Ｆｅ、Ｚｒ、Ｓｒ、Ｓｎ、Ａｌ
等の塩化物、炭酸塩、硝酸塩、硫酸塩、硫化物の中から
選ばれる１種又は２種以上を２〜３０重量部添加した焼
鈍分離剤を用い、仕上焼鈍時の昇温速度を１０℃／ｈｒ
以下、雰囲気をＮ2 ３０％以上のＮ2 ＋Ｈ2 とし、次い
で、レーザー、歯形ロール、プレス、ケガキ、局部エッ
チング等により圧延方向に対し４５〜９０°の方向に線
状または点状キズを付与する。この時、一次再結晶焼鈍
後の鋼板の一次再結晶粒のうち、平均粒径の２倍を超え
る一次再結晶粒を１０％未満とする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、グラス被膜（フォルス
テライト被膜）を有しない方向性電磁鋼板、特に切断
性、打ち抜き性等の加工性に著しく優れた高磁束密度超
低鉄損方向性電磁鋼板とその製造方法に関する。
テライト被膜）を有しない方向性電磁鋼板、特に切断
性、打ち抜き性等の加工性に著しく優れた高磁束密度超
低鉄損方向性電磁鋼板とその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】方向性電磁鋼板は、一般に軟磁性材料と
して、主としてトランスその他の電気機器の鉄心として
使用されるもので、磁気特性として、励磁特性と鉄損特
性が良好であることが要求される。良好な磁気特性を得
るためには、磁化容易軸である＜００１＞軸を圧延方向
に高度に揃えることが重要である。また、板厚、結晶粒
度、固有抵抗、被膜なども磁気特性に大きな影響を与え
るため重要である。
して、主としてトランスその他の電気機器の鉄心として
使用されるもので、磁気特性として、励磁特性と鉄損特
性が良好であることが要求される。良好な磁気特性を得
るためには、磁化容易軸である＜００１＞軸を圧延方向
に高度に揃えることが重要である。また、板厚、結晶粒
度、固有抵抗、被膜なども磁気特性に大きな影響を与え
るため重要である。
【０００３】結晶の方向性については、ＡｌＮ、ＭｎＳ
をインヒビターとして利用した高圧下最終冷延を特徴と
する方法により大幅に向上し、現在では磁束密度が理論
値に近いものまで製造されるようになってきた。一方、
方向性電磁鋼板の需要家における使用時に、磁気特性と
共に重要なのは被膜に起因する加工性である。通常、方
向性電磁鋼板は最終仕上焼鈍時に形成するグラス被膜と
絶縁被膜の二層被膜によって表面が処理されている。グ
ラス被膜は焼鈍分離剤のＭｇＯと脱炭焼鈍時に形成する
ＳｉＯ2 の反応生成物であるフォルステライト（Ｍｇ2
ＳｉＯ4 ）が主成分の被膜である。このセラミック被膜
は硬質で摩耗性が強く、電磁鋼板加工時のスリット、切
断、打ち抜きなどの工具類の耐久性に著しい悪影響を及
ぼす。例えば、グラス被膜を有する方向性電磁鋼板の打
ち抜き加工を行う場合には、金型の摩耗が生じ、数千回
程度の打ち抜きによって、打ち抜いたときにシートの返
りが大きくなり、使用時に問題が生じる程の返りが生じ
る。このため、金型の再研磨、新品との取り替えが必要
になる。これは、需要家における鉄心加工時の作業能率
を低下させ、またコスト上昇を招く結果になる。また、
電磁鋼板自体の磁気特性に対しては、たしかに被膜張力
による鉄損の改善効果があるが、形成状態によっては被
膜厚みの増加などによって、非磁性体による磁束密度の
低下の問題がある。このため、鋼板板厚の厚い材料のよ
うに被膜張力による鉄損改善効果が期待できないような
材料や、他の手段で磁区細分化を行い、鉄損が改善でき
るケース等では、むしろ前記問題からグラス被膜を有し
ない方向性電磁鋼板が望まれる。
をインヒビターとして利用した高圧下最終冷延を特徴と
する方法により大幅に向上し、現在では磁束密度が理論
値に近いものまで製造されるようになってきた。一方、
方向性電磁鋼板の需要家における使用時に、磁気特性と
共に重要なのは被膜に起因する加工性である。通常、方
向性電磁鋼板は最終仕上焼鈍時に形成するグラス被膜と
絶縁被膜の二層被膜によって表面が処理されている。グ
ラス被膜は焼鈍分離剤のＭｇＯと脱炭焼鈍時に形成する
ＳｉＯ2 の反応生成物であるフォルステライト（Ｍｇ2
ＳｉＯ4 ）が主成分の被膜である。このセラミック被膜
は硬質で摩耗性が強く、電磁鋼板加工時のスリット、切
断、打ち抜きなどの工具類の耐久性に著しい悪影響を及
ぼす。例えば、グラス被膜を有する方向性電磁鋼板の打
ち抜き加工を行う場合には、金型の摩耗が生じ、数千回
程度の打ち抜きによって、打ち抜いたときにシートの返
りが大きくなり、使用時に問題が生じる程の返りが生じ
る。このため、金型の再研磨、新品との取り替えが必要
になる。これは、需要家における鉄心加工時の作業能率
を低下させ、またコスト上昇を招く結果になる。また、
電磁鋼板自体の磁気特性に対しては、たしかに被膜張力
による鉄損の改善効果があるが、形成状態によっては被
膜厚みの増加などによって、非磁性体による磁束密度の
低下の問題がある。このため、鋼板板厚の厚い材料のよ
うに被膜張力による鉄損改善効果が期待できないような
材料や、他の手段で磁区細分化を行い、鉄損が改善でき
るケース等では、むしろ前記問題からグラス被膜を有し
ない方向性電磁鋼板が望まれる。
【０００４】とりわけ、近年では磁区細分化技術とし
て、光学的、機械的、化学的な手段による技術が発達
し、グラス被膜の張力なしでも鉄損の改善が得られるよ
うになり、むしろグラス被膜を有しない方向性電磁鋼板
の方が磁化の際の時壁移動のピンニング現象を起こすグ
ラス被膜の内部酸化層等の悪影響がないため有利である
ことも解ってきた。このためグラス被膜を有しない高磁
束密度方向性電磁鋼板の開発は需要家での種々の使用条
件を考える際に重要で、ニーズが高まっている。
て、光学的、機械的、化学的な手段による技術が発達
し、グラス被膜の張力なしでも鉄損の改善が得られるよ
うになり、むしろグラス被膜を有しない方向性電磁鋼板
の方が磁化の際の時壁移動のピンニング現象を起こすグ
ラス被膜の内部酸化層等の悪影響がないため有利である
ことも解ってきた。このためグラス被膜を有しない高磁
束密度方向性電磁鋼板の開発は需要家での種々の使用条
件を考える際に重要で、ニーズが高まっている。
【０００５】とりわけ、現在、方向性電磁鋼板に代わる
軟磁性材料として、非晶質合金がクローズアップされて
いるが、磁束密度が低い、占積率が低い、加工性が劣悪
等、実用化に際して様々な困難に直面している。従っ
て、鉄損特性において非晶質合金と対抗し得る方向性電
磁鋼板を開発するために、グラス被膜を有しない材料を
開発することが重要となってきている。
軟磁性材料として、非晶質合金がクローズアップされて
いるが、磁束密度が低い、占積率が低い、加工性が劣悪
等、実用化に際して様々な困難に直面している。従っ
て、鉄損特性において非晶質合金と対抗し得る方向性電
磁鋼板を開発するために、グラス被膜を有しない材料を
開発することが重要となってきている。
【０００６】グラス被膜を有しない方向性電磁鋼板の製
造方法としては、例えば特開昭５３−２２１１３号公報
に開示のものがある。これは、脱炭焼鈍において酸化膜
の厚みを３μｍ以下とし、焼鈍分離剤として含水珪酸塩
鉱物粉末を５〜４０％含有する微粒子のアルミナを用
い、これを鋼板に塗布し、仕上焼鈍することからなる。
この方法によると、酸化膜を薄くし、さらに含水珪酸塩
鉱物の配合によって、剥離し易いグラス被膜が形成さ
れ、金属光沢を有するものが得られるとされている。焼
鈍分離剤によりグラス被膜の形成を抑制する方法として
は、特開昭５６−６５９８３号公報に示されるように、
水酸化アルミニウム不純物除去用添加物２０重量部、抑
制物質１０重量部を配合した焼鈍分離剤を鋼板に塗布
し、０．５μｍ以下の薄いグラス被膜を形成する方法が
ある。また、特開昭５９−９６２７８号公報には、脱炭
焼鈍で形成した酸化層のＳｉＯ2 との反応が弱いＡｌ2
Ｏ3 と、１３００℃以上の高温で焼成し、活性を低下さ
せたＭｇＯとからなる焼鈍分離剤が提案されている。こ
の焼鈍分離剤によると、フォルステライトの形成が抑制
されるというものである。
造方法としては、例えば特開昭５３−２２１１３号公報
に開示のものがある。これは、脱炭焼鈍において酸化膜
の厚みを３μｍ以下とし、焼鈍分離剤として含水珪酸塩
鉱物粉末を５〜４０％含有する微粒子のアルミナを用
い、これを鋼板に塗布し、仕上焼鈍することからなる。
この方法によると、酸化膜を薄くし、さらに含水珪酸塩
鉱物の配合によって、剥離し易いグラス被膜が形成さ
れ、金属光沢を有するものが得られるとされている。焼
鈍分離剤によりグラス被膜の形成を抑制する方法として
は、特開昭５６−６５９８３号公報に示されるように、
水酸化アルミニウム不純物除去用添加物２０重量部、抑
制物質１０重量部を配合した焼鈍分離剤を鋼板に塗布
し、０．５μｍ以下の薄いグラス被膜を形成する方法が
ある。また、特開昭５９−９６２７８号公報には、脱炭
焼鈍で形成した酸化層のＳｉＯ2 との反応が弱いＡｌ2
Ｏ3 と、１３００℃以上の高温で焼成し、活性を低下さ
せたＭｇＯとからなる焼鈍分離剤が提案されている。こ
の焼鈍分離剤によると、フォルステライトの形成が抑制
されるというものである。
【０００７】これらの先行技術は、いずれも通常のオリ
エントコアと呼ばれる磁束密度がＢ 8 値で１．８８Ｔ以
下と低く、従って鉄損値も高い低級な方向性電磁鋼板を
ベースとする技術であり、本発明のように、超低鉄損を
実現するための条件を満たす方向性電磁鋼板を安定して
得る技術を開発するには至っていない。
エントコアと呼ばれる磁束密度がＢ 8 値で１．８８Ｔ以
下と低く、従って鉄損値も高い低級な方向性電磁鋼板を
ベースとする技術であり、本発明のように、超低鉄損を
実現するための条件を満たす方向性電磁鋼板を安定して
得る技術を開発するには至っていない。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、打ち抜き
性、スリット性、切断性等が極めて優れた、ほぼ均一に
グラス被膜のない高磁束密度超低鉄損方向性電磁鋼板及
び該鋼板を工業的に安価に製造する方法を提供すること
を目的とする。
性、スリット性、切断性等が極めて優れた、ほぼ均一に
グラス被膜のない高磁束密度超低鉄損方向性電磁鋼板及
び該鋼板を工業的に安価に製造する方法を提供すること
を目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明の要旨とするとこ
ろは下記のとおりである。 （１） 重量で、Ｓｉ：１．０〜７．０％を含み、鋼板
の金属表面から１５μｍ内に分布する内部酸化層の量
が、当該厚み領域内の酸素含有量で１％以下であり、Ｂ
8 ≧１．９３Ｔである磁束密度の極めて高い超低鉄損方
向性電磁鋼板。
ろは下記のとおりである。 （１） 重量で、Ｓｉ：１．０〜７．０％を含み、鋼板
の金属表面から１５μｍ内に分布する内部酸化層の量
が、当該厚み領域内の酸素含有量で１％以下であり、Ｂ
8 ≧１．９３Ｔである磁束密度の極めて高い超低鉄損方
向性電磁鋼板。
【００１０】（２） 表面に線状または点状キズが圧延
方向から４５〜９０度の方向に、２〜１５ｍｍの間隔で
付与されている請求項１記載の磁束密度の極めて高い超
低鉄損方向性電磁鋼板。 （３） 重量で、Ｓｉ：１．０〜７．０％、酸可溶性Ａ
ｌ：０．０１０〜０．０７０％を含有し、残部がＦｅ及
び不可避的不純物からなる鋼塊あるいはスラブを、熱延
し、冷延し、一次再結晶焼鈍し、焼鈍分離剤を塗布した
後、高温仕上焼鈍を行い、ヒートフラットニングを行う
ことによって方向性電磁鋼板を製造する方法において、
前記一次再結晶焼鈍後の鋼板の一次再結晶粒のうち粒径
が平均粒径の２倍を超えるものが１０％未満であるよう
に調整し、同鋼板に焼鈍分離剤として、ＭｇＯ１００重
量部に対してＬｉ、Ｋ、Ｎａ、Ｂａ、Ｃａ、Ｍｇ、Ｚ
ｎ、Ｆｅ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｓｒ、Ａｌの塩化物、炭酸塩、
硝酸塩、硫酸塩、硫化物の中から選ばれる１種又は２種
以上を２〜３０重量部添加したものを塗布し、高温仕上
焼鈍時の昇温速度を、９５０〜１１５０℃の間で、１０
℃／ｈｒ以下とし、かつ焼鈍雰囲気を少なくともＮ2 ３
０％以上のＮ2 ＋Ｈ2 とすることを特徴とする磁束密度
の極めて高い超低鉄損方向性電磁鋼板の製造方法。
方向から４５〜９０度の方向に、２〜１５ｍｍの間隔で
付与されている請求項１記載の磁束密度の極めて高い超
低鉄損方向性電磁鋼板。 （３） 重量で、Ｓｉ：１．０〜７．０％、酸可溶性Ａ
ｌ：０．０１０〜０．０７０％を含有し、残部がＦｅ及
び不可避的不純物からなる鋼塊あるいはスラブを、熱延
し、冷延し、一次再結晶焼鈍し、焼鈍分離剤を塗布した
後、高温仕上焼鈍を行い、ヒートフラットニングを行う
ことによって方向性電磁鋼板を製造する方法において、
前記一次再結晶焼鈍後の鋼板の一次再結晶粒のうち粒径
が平均粒径の２倍を超えるものが１０％未満であるよう
に調整し、同鋼板に焼鈍分離剤として、ＭｇＯ１００重
量部に対してＬｉ、Ｋ、Ｎａ、Ｂａ、Ｃａ、Ｍｇ、Ｚ
ｎ、Ｆｅ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｓｒ、Ａｌの塩化物、炭酸塩、
硝酸塩、硫酸塩、硫化物の中から選ばれる１種又は２種
以上を２〜３０重量部添加したものを塗布し、高温仕上
焼鈍時の昇温速度を、９５０〜１１５０℃の間で、１０
℃／ｈｒ以下とし、かつ焼鈍雰囲気を少なくともＮ2 ３
０％以上のＮ2 ＋Ｈ2 とすることを特徴とする磁束密度
の極めて高い超低鉄損方向性電磁鋼板の製造方法。
【００１１】（４） 重量で、Ｓｉ：１．０〜７．０
％、酸可溶性Ａｌ：０．０１０〜０．０７０％、Ｃ：
０．０２１〜０．０７５％、Ｎ：０．００３〜０．０１
３０％、Ｓ≦０．０３０％、Ｍｎ：０．０５〜０．４５
％を含有し、残部がＦｅ及び不可避的不純物からなるス
ラブの熱延前の加熱を、１２８０℃未満の温度で行い、
一次再結晶完了後、高温仕上焼鈍の二次再結晶開始前の
間で窒化することを特徴とする前項３記載の磁束密度の
極めて高い超低鉄損方向性電磁鋼板の製造方法。
％、酸可溶性Ａｌ：０．０１０〜０．０７０％、Ｃ：
０．０２１〜０．０７５％、Ｎ：０．００３〜０．０１
３０％、Ｓ≦０．０３０％、Ｍｎ：０．０５〜０．４５
％を含有し、残部がＦｅ及び不可避的不純物からなるス
ラブの熱延前の加熱を、１２８０℃未満の温度で行い、
一次再結晶完了後、高温仕上焼鈍の二次再結晶開始前の
間で窒化することを特徴とする前項３記載の磁束密度の
極めて高い超低鉄損方向性電磁鋼板の製造方法。
【００１２】（５） ヒートフラットニングの前又は後
に、レーザー、歯形ロール、プレス、ケガキ、局部エッ
チング等の局部加工により鋼板表面に線状または点状キ
ズを付与することを特徴とする前項３又は４記載の磁束
密度の極めて高い超低鉄損方向性電磁鋼板の製造方法。 以下、本発明を詳細に説明する。
に、レーザー、歯形ロール、プレス、ケガキ、局部エッ
チング等の局部加工により鋼板表面に線状または点状キ
ズを付与することを特徴とする前項３又は４記載の磁束
密度の極めて高い超低鉄損方向性電磁鋼板の製造方法。 以下、本発明を詳細に説明する。
【００１３】本発明の高磁束密度超低鉄損方向性電磁鋼
板の製造工程では、スラブ加熱段階ではインヒビター元
素、例えばＡｌ、Ｎ、Ｍｎ、Ｓ等の鋼中への溶解を完全
に行わず、脱炭焼鈍後、材料を強還元雰囲気中で窒化処
理をすることによって（Ａｌ、Ｓｉ）Ｎを主成分とする
インヒビターを形成させ、仕上焼鈍過程で良好な二次再
結晶を発達させた後、磁区細分化することを基本工程と
する。
板の製造工程では、スラブ加熱段階ではインヒビター元
素、例えばＡｌ、Ｎ、Ｍｎ、Ｓ等の鋼中への溶解を完全
に行わず、脱炭焼鈍後、材料を強還元雰囲気中で窒化処
理をすることによって（Ａｌ、Ｓｉ）Ｎを主成分とする
インヒビターを形成させ、仕上焼鈍過程で良好な二次再
結晶を発達させた後、磁区細分化することを基本工程と
する。
【００１４】前記した成分組成の出発材と工程による本
発明のグラス被膜を有しない高磁束密度方向性電磁鋼板
を得る方法においては、脱炭焼鈍〜仕上焼鈍過程での処
理方法に特徴がある。最終板厚に冷間圧延された素材
は、連続ラインにおいて脱炭焼鈍される。この脱炭焼鈍
により鋼中のＣの除去と一次再結晶が行われ、同時に鋼
板表面にＳｉＯ 2 を主成分とする酸化膜の形成が行われ
る。脱炭焼鈍は、８００〜８７５℃の温度で、雰囲気は
Ｎ2 ＋Ｈ2 中で露点をコントロールして行われる。次い
で脱炭焼鈍の後半あるいは終了後、若しくはこれらの両
段階において、同一ライン又は別に設けたラインで窒化
処理が行われる。この際に生じた窒化物は、インヒビタ
ーとして最終仕上焼鈍時に二次再結晶を発現させる。
発明のグラス被膜を有しない高磁束密度方向性電磁鋼板
を得る方法においては、脱炭焼鈍〜仕上焼鈍過程での処
理方法に特徴がある。最終板厚に冷間圧延された素材
は、連続ラインにおいて脱炭焼鈍される。この脱炭焼鈍
により鋼中のＣの除去と一次再結晶が行われ、同時に鋼
板表面にＳｉＯ 2 を主成分とする酸化膜の形成が行われ
る。脱炭焼鈍は、８００〜８７５℃の温度で、雰囲気は
Ｎ2 ＋Ｈ2 中で露点をコントロールして行われる。次い
で脱炭焼鈍の後半あるいは終了後、若しくはこれらの両
段階において、同一ライン又は別に設けたラインで窒化
処理が行われる。この際に生じた窒化物は、インヒビタ
ーとして最終仕上焼鈍時に二次再結晶を発現させる。
【００１５】この後、焼鈍分離剤を塗布し、乾燥して巻
き取り、最終仕上焼鈍される。この際の焼鈍分離剤の組
成は、グラス被膜の形成制御や分解反応に重要な役割を
持つ。本発明に用いる焼鈍分離剤としては、ＭｇＯを主
成分として、添加剤として、Ｌｉ、Ｋ、Ｎａ、Ｂａ、Ｃ
ａ、Ｍｇ、Ｚｎ、Ｆｅ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｓｒ、Ａｌ等の塩
化物、炭酸塩、硝酸塩、硫酸塩、硫化物の１種又は２種
以上を２〜３０重量部用いる。
き取り、最終仕上焼鈍される。この際の焼鈍分離剤の組
成は、グラス被膜の形成制御や分解反応に重要な役割を
持つ。本発明に用いる焼鈍分離剤としては、ＭｇＯを主
成分として、添加剤として、Ｌｉ、Ｋ、Ｎａ、Ｂａ、Ｃ
ａ、Ｍｇ、Ｚｎ、Ｆｅ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｓｒ、Ａｌ等の塩
化物、炭酸塩、硝酸塩、硫酸塩、硫化物の１種又は２種
以上を２〜３０重量部用いる。
【００１６】本発明において焼鈍分離剤と共に重要なの
は第三の要素技術である最終仕上焼鈍の条件である。本
発明者らは、本発明のようにインヒビターとして（Ａ
ｌ、Ｓｉ）Ｎを用い、焼鈍分離剤と最終仕上焼鈍条件に
よってグラス被膜の形成制御、分解反応を起こさせる工
程を採る場合においては、焼鈍雰囲気条件が二次再結晶
の安定化と高磁束密度化に重要な要素となることを膨大
な実験と研究の結果つきとめた。
は第三の要素技術である最終仕上焼鈍の条件である。本
発明者らは、本発明のようにインヒビターとして（Ａ
ｌ、Ｓｉ）Ｎを用い、焼鈍分離剤と最終仕上焼鈍条件に
よってグラス被膜の形成制御、分解反応を起こさせる工
程を採る場合においては、焼鈍雰囲気条件が二次再結晶
の安定化と高磁束密度化に重要な要素となることを膨大
な実験と研究の結果つきとめた。
【００１７】即ち、本発明のように、（Ａｌ、Ｓｉ）Ｎ
系のインヒビターを利用する工程においては、二次再結
晶開始温度領域までグラス被膜形成の制御、分解反応を
行いながらインヒビターの強度を一定レベルに保つ必要
がある。これは、焼鈍分離剤によって、一旦グラス被膜
の形成が始まり、次いで分解反応を誘起する工程では、
グラス被膜の分解反応が開始する時期から鋼中のインヒ
ビターの分解が急速に進行するからである。このため、
本発明のように、特定条件下で仕上焼鈍を行わないと、
良好な二次再結晶と高磁束密度が得られない。仕上焼鈍
条件としては、グラス被膜の分解反応が開始する昇温
時、二次再結晶が開始・進行するときの雰囲気を、Ｎ2
３０％以上として行われる。これにより、二次再結晶進
行時の（Ａｌ、Ｓｉ）Ｎの分解速度が抑えられ、Ｇｏｓ
ｓ粒成長速度が適正化される。
系のインヒビターを利用する工程においては、二次再結
晶開始温度領域までグラス被膜形成の制御、分解反応を
行いながらインヒビターの強度を一定レベルに保つ必要
がある。これは、焼鈍分離剤によって、一旦グラス被膜
の形成が始まり、次いで分解反応を誘起する工程では、
グラス被膜の分解反応が開始する時期から鋼中のインヒ
ビターの分解が急速に進行するからである。このため、
本発明のように、特定条件下で仕上焼鈍を行わないと、
良好な二次再結晶と高磁束密度が得られない。仕上焼鈍
条件としては、グラス被膜の分解反応が開始する昇温
時、二次再結晶が開始・進行するときの雰囲気を、Ｎ2
３０％以上として行われる。これにより、二次再結晶進
行時の（Ａｌ、Ｓｉ）Ｎの分解速度が抑えられ、Ｇｏｓ
ｓ粒成長速度が適正化される。
【００１８】この効果は、昇温速度が遅いとき更に顕著
に現れ、３０％以上のＮ2 分圧と徐加熱が組み合わされ
るときは、極めて高いＢ8 値が得られるが、Ｎ2 分圧が
低いと逆に二次再結晶不良を生じる。仕上焼鈍された鋼
板は形状矯正、歪取焼鈍をかねて連続焼鈍ラインで８０
０〜９００℃で絶縁被膜剤の焼き付けとヒートフラット
ニングされる。このヒートフラットニングの前又は後
に、レーザー、歯形ロール、プレス、ケガキ、局部エッ
チング等により、深さ５〜５０μｍ、間隔２〜１５ｍｍ
で圧延方向に対して４５〜９０度の方向に線条キズまた
は点条キズが導入される。この後、需要家における使用
目的に応じて種々の絶縁被膜剤が塗布され、焼き付け処
理される。
に現れ、３０％以上のＮ2 分圧と徐加熱が組み合わされ
るときは、極めて高いＢ8 値が得られるが、Ｎ2 分圧が
低いと逆に二次再結晶不良を生じる。仕上焼鈍された鋼
板は形状矯正、歪取焼鈍をかねて連続焼鈍ラインで８０
０〜９００℃で絶縁被膜剤の焼き付けとヒートフラット
ニングされる。このヒートフラットニングの前又は後
に、レーザー、歯形ロール、プレス、ケガキ、局部エッ
チング等により、深さ５〜５０μｍ、間隔２〜１５ｍｍ
で圧延方向に対して４５〜９０度の方向に線条キズまた
は点条キズが導入される。この後、需要家における使用
目的に応じて種々の絶縁被膜剤が塗布され、焼き付け処
理される。
【００１９】超低鉄損を実現するための張力被膜を形成
しようとするときは、絶縁被膜剤として、例えば特公昭
５３−２８３７５号公報に示されるような、燐酸塩〜コ
ロイダルシリカ系の被膜剤が塗布され、焼き付け処理さ
れる。また、後の需要家での使用工程で良加工性を必要
とする場合には、ヒートフラットニング後の鋼板上に有
機被膜剤又は半有機被膜剤を塗布・焼き付け処理して使
用しても良いし、無機被膜剤を塗布・焼き付け処理した
後、有機系被膜剤を塗布・焼き付け処理して二層被膜を
形成しても良い。有機系被膜剤としては、（１）アクリ
ル、ポリビニル、酢酸ビニル、エポキシ、スチレン等の
樹脂及び／又はこれらの重合体、架橋体の１種又は２種
以上の全有機被膜剤か（２）前記（１）における樹脂と
クロム酸塩、燐酸、燐酸塩、ホウ酸、ホウ酸塩等の１種
又は２種以上の混合物からなる半有機系被膜剤を１５０
〜４５０℃の温度で塗布・焼き付け処理して使用する。
しようとするときは、絶縁被膜剤として、例えば特公昭
５３−２８３７５号公報に示されるような、燐酸塩〜コ
ロイダルシリカ系の被膜剤が塗布され、焼き付け処理さ
れる。また、後の需要家での使用工程で良加工性を必要
とする場合には、ヒートフラットニング後の鋼板上に有
機被膜剤又は半有機被膜剤を塗布・焼き付け処理して使
用しても良いし、無機被膜剤を塗布・焼き付け処理した
後、有機系被膜剤を塗布・焼き付け処理して二層被膜を
形成しても良い。有機系被膜剤としては、（１）アクリ
ル、ポリビニル、酢酸ビニル、エポキシ、スチレン等の
樹脂及び／又はこれらの重合体、架橋体の１種又は２種
以上の全有機被膜剤か（２）前記（１）における樹脂と
クロム酸塩、燐酸、燐酸塩、ホウ酸、ホウ酸塩等の１種
又は２種以上の混合物からなる半有機系被膜剤を１５０
〜４５０℃の温度で塗布・焼き付け処理して使用する。
【００２０】これらの有機系被膜剤の塗布・焼き付け処
理により、打ち抜き性、スリット性、切断性等が著しく
改善される。本発明によれば、従来のグラス被膜を有す
る製品の打ち抜き性が、スチールダイスを使用する場合
には５千回程度であるのに対し、グラス被膜を有しない
製品では、無機絶縁被膜剤を塗布・焼き付けした場合、
約１０万回、更にこの上に半有機系被膜剤を塗布・焼き
付けした場合には、２００万回程度まで打ち抜き性が向
上する。
理により、打ち抜き性、スリット性、切断性等が著しく
改善される。本発明によれば、従来のグラス被膜を有す
る製品の打ち抜き性が、スチールダイスを使用する場合
には５千回程度であるのに対し、グラス被膜を有しない
製品では、無機絶縁被膜剤を塗布・焼き付けした場合、
約１０万回、更にこの上に半有機系被膜剤を塗布・焼き
付けした場合には、２００万回程度まで打ち抜き性が向
上する。
【００２１】次に、本発明における構成要件の限定理由
に就いて述べる。まず、出発材として使用する電磁鋼ス
ラブの成分組成の限定理由は次の通りである。Ｃはその
含有量が０．０２１％未満では、二次再結晶が不安定に
なり、二次再結晶した場合にも製品の磁束密度がＢ8 で
１．８０Ｔ程度と低いものになる。一方、０．０７５％
超になると、脱炭焼鈍工程に長時間を費やすため、生産
性を阻害する。
に就いて述べる。まず、出発材として使用する電磁鋼ス
ラブの成分組成の限定理由は次の通りである。Ｃはその
含有量が０．０２１％未満では、二次再結晶が不安定に
なり、二次再結晶した場合にも製品の磁束密度がＢ8 で
１．８０Ｔ程度と低いものになる。一方、０．０７５％
超になると、脱炭焼鈍工程に長時間を費やすため、生産
性を阻害する。
【００２２】Ｓｉは、その含有量によって固有抵抗が変
化し、多いほど鉄損特性が良好である。１．０％未満の
時、脱炭焼鈍時にＳｉＯ2 の酸化層が鋼板表面に形成さ
れにくく、本発明による二次再結晶時の表面シール効果
が得られにくい。Ｓｉ含有量が７．０％を超えると、最
終製品の靱性が極端に劣化し、実用に耐えない。なお、
超低鉄損の実現のしやすさと言う点では、Ｓｉ含有量を
２．５％以上として製品の固有抵抗を確保することが望
ましく、生産性の面からは、Ｓｉ４．５％以下として、
冷間圧延時の割れ、破断防止を低減することが望まし
い。
化し、多いほど鉄損特性が良好である。１．０％未満の
時、脱炭焼鈍時にＳｉＯ2 の酸化層が鋼板表面に形成さ
れにくく、本発明による二次再結晶時の表面シール効果
が得られにくい。Ｓｉ含有量が７．０％を超えると、最
終製品の靱性が極端に劣化し、実用に耐えない。なお、
超低鉄損の実現のしやすさと言う点では、Ｓｉ含有量を
２．５％以上として製品の固有抵抗を確保することが望
ましく、生産性の面からは、Ｓｉ４．５％以下として、
冷間圧延時の割れ、破断防止を低減することが望まし
い。
【００２３】Ｓは、多すぎると、二次再結晶時のインヒ
ビター強度のバランスが崩れて高Ｂ 8値 が得られない。
本発明のように、グラスレス二次再結晶を行う場合、ス
ラブ加熱温度が１２８０℃未満であれば０．０３０％ま
で添加しても十分高Ｂ8値 が得られる。Ｍｎは、少なす
ぎるとＳ偏析による熱延割れを誘起し、多すぎると二次
再結晶時のインヒビターのバランスを崩すと共に、脱炭
焼鈍時の〔Ｏ〕付着量を増加させてグラスレス化に悪影
響を及ぼす。斯かる観点から、Ｍｎ含有量を０．０５〜
０．４５％に限定する。
ビター強度のバランスが崩れて高Ｂ 8値 が得られない。
本発明のように、グラスレス二次再結晶を行う場合、ス
ラブ加熱温度が１２８０℃未満であれば０．０３０％ま
で添加しても十分高Ｂ8値 が得られる。Ｍｎは、少なす
ぎるとＳ偏析による熱延割れを誘起し、多すぎると二次
再結晶時のインヒビターのバランスを崩すと共に、脱炭
焼鈍時の〔Ｏ〕付着量を増加させてグラスレス化に悪影
響を及ぼす。斯かる観点から、Ｍｎ含有量を０．０５〜
０．４５％に限定する。
【００２４】本発明では二次再結晶に必要な析出物とし
て（Ａｌ、Ｓｉ）Ｎを用いる。従って、必要最小限のＡ
ｌＮを確保するためには、酸可溶Ａｌは０．０１０％以
上、Ｎは０．００３０％以上必要である。しかしなが
ら、酸可溶Ａｌが０．０７０％を超えると、純化工程で
Ａｌを含む酸化物が鋼板表面に多量に生成し、鉄損特性
を損なうので０．０７％以下とした。一方、Ｎの含有量
は、０．０１３０％を超えるとブリスターと呼ばれる鋼
板表面の割れが発生し、また一次再結晶の粒径が調整で
きないため、０．００３０〜０．０１３０％に限定す
る。
て（Ａｌ、Ｓｉ）Ｎを用いる。従って、必要最小限のＡ
ｌＮを確保するためには、酸可溶Ａｌは０．０１０％以
上、Ｎは０．００３０％以上必要である。しかしなが
ら、酸可溶Ａｌが０．０７０％を超えると、純化工程で
Ａｌを含む酸化物が鋼板表面に多量に生成し、鉄損特性
を損なうので０．０７％以下とした。一方、Ｎの含有量
は、０．０１３０％を超えるとブリスターと呼ばれる鋼
板表面の割れが発生し、また一次再結晶の粒径が調整で
きないため、０．００３０〜０．０１３０％に限定す
る。
【００２５】最終仕上焼鈍の条件は、本発明のように最
終焼鈍過程でグラス被膜の適正な形成と分解を行う工程
においては非常に重要である。通常、方向性電磁鋼板の
最終仕上焼鈍においては、雰囲気ガスはＮ2 、Ｈ2 或い
はこれらの混合ガスが用いられるが、表面の酸化制御と
コストの問題からＮ2＋Ｈ2 が有利である。本発明の場
合、グラスレス化反応の過程の中でインヒビターの強度
を制御するため、昇温中の雰囲気ガスとして少なくとも
Ｎ2 ３０％以上のＮ2 、Ｈ2 及び他の不活性ガスから成
る雰囲気が用いられる。Ｎ2 分圧が３０％未満では、グ
ラスレス化の反応過程で生じる（Ａｌ、Ｓｉ）Ｎの弱体
化の抑制効果がなく、高磁束密度材が安定して得られな
い。逆にＮ2 １００％のような場合には、ＭｇＯの物性
値によっては、鋼板間の酸化度の上昇によって、酸化が
生じて、鋼板表面にむらが生じる傾向があるので、好ま
しくはＮ2 ３０〜９０％の範囲とする。
終焼鈍過程でグラス被膜の適正な形成と分解を行う工程
においては非常に重要である。通常、方向性電磁鋼板の
最終仕上焼鈍においては、雰囲気ガスはＮ2 、Ｈ2 或い
はこれらの混合ガスが用いられるが、表面の酸化制御と
コストの問題からＮ2＋Ｈ2 が有利である。本発明の場
合、グラスレス化反応の過程の中でインヒビターの強度
を制御するため、昇温中の雰囲気ガスとして少なくとも
Ｎ2 ３０％以上のＮ2 、Ｈ2 及び他の不活性ガスから成
る雰囲気が用いられる。Ｎ2 分圧が３０％未満では、グ
ラスレス化の反応過程で生じる（Ａｌ、Ｓｉ）Ｎの弱体
化の抑制効果がなく、高磁束密度材が安定して得られな
い。逆にＮ2 １００％のような場合には、ＭｇＯの物性
値によっては、鋼板間の酸化度の上昇によって、酸化が
生じて、鋼板表面にむらが生じる傾向があるので、好ま
しくはＮ2 ３０〜９０％の範囲とする。
【００２６】仕上焼鈍時の昇温速度は遅いほど高磁束密
度が得られ易く、特に１０℃／ｈｒ以下の速度で効果が
現れる。一次再結晶粒は、ＢＡＦ昇温中で二次再結晶を
開始するまでに徐々に成長していく。従って、昇温速度
が遅いときは成長量も大きくなるので、一次再結晶粒径
を小さめに制御しておく必要がある。このとき、仕上焼
鈍中に長時間かけて成長した結晶粒は、粒径分布、集合
組織が二次再結晶に対して適正化されるので、平均結晶
粒径が同じであっても高い磁束密度を得ることができ
る。
度が得られ易く、特に１０℃／ｈｒ以下の速度で効果が
現れる。一次再結晶粒は、ＢＡＦ昇温中で二次再結晶を
開始するまでに徐々に成長していく。従って、昇温速度
が遅いときは成長量も大きくなるので、一次再結晶粒径
を小さめに制御しておく必要がある。このとき、仕上焼
鈍中に長時間かけて成長した結晶粒は、粒径分布、集合
組織が二次再結晶に対して適正化されるので、平均結晶
粒径が同じであっても高い磁束密度を得ることができ
る。
【００２７】即ち、二次再結晶に際して、最も高いＢ8
値が得られる最適の平均粒径がある。この平均粒径は、
大きすぎると二次再結晶不良、即ち細粒発生の原因とな
り、小さすぎると方位集積度が不十分で良好な磁気特性
が得られない。ところが、脱炭焼鈍温度を高めて上記最
適な平均粒径を狙うと、粒径分布がなだらかになり、粗
粒が多く発生する。この粗粒は、安定な二次再結晶を阻
害する。これに対して脱炭焼鈍後の結晶粒径を若干低め
にしておき、仕上焼鈍を徐加熱することによって一次再
結晶直後の平均結晶粒径を最適化すると、粒径分布が鋭
くなり、粗粒の発生が抑えられる。その結果高Ｂ8値お
よび安定した二次再結晶が得られるのである。実際に本
発明者らが試みた実験によると、実施例の項でも示す
が、平均粒径の二倍以上の大きさを持つ結晶粒の面積率
が１０％を超えた場合、平均粒径が最適であっても、二
次再結晶不良を生じた（図２参照）。実際に本発明者ら
が０．１５ｍｍ厚の材料で試みた実験結果を図１に示
す。昇温速度が早いときには脱炭焼鈍温度が比較的高く
ても（８４０℃）二次再結晶するが、得られる磁束密度
は低い。一方、徐加熱した場合は、後述のように昇温時
の窒素分圧を適正化（Ｎ 2 ５０％）すれば脱炭焼鈍温度
が低くとも高いＢ8値 が得られている。
値が得られる最適の平均粒径がある。この平均粒径は、
大きすぎると二次再結晶不良、即ち細粒発生の原因とな
り、小さすぎると方位集積度が不十分で良好な磁気特性
が得られない。ところが、脱炭焼鈍温度を高めて上記最
適な平均粒径を狙うと、粒径分布がなだらかになり、粗
粒が多く発生する。この粗粒は、安定な二次再結晶を阻
害する。これに対して脱炭焼鈍後の結晶粒径を若干低め
にしておき、仕上焼鈍を徐加熱することによって一次再
結晶直後の平均結晶粒径を最適化すると、粒径分布が鋭
くなり、粗粒の発生が抑えられる。その結果高Ｂ8値お
よび安定した二次再結晶が得られるのである。実際に本
発明者らが試みた実験によると、実施例の項でも示す
が、平均粒径の二倍以上の大きさを持つ結晶粒の面積率
が１０％を超えた場合、平均粒径が最適であっても、二
次再結晶不良を生じた（図２参照）。実際に本発明者ら
が０．１５ｍｍ厚の材料で試みた実験結果を図１に示
す。昇温速度が早いときには脱炭焼鈍温度が比較的高く
ても（８４０℃）二次再結晶するが、得られる磁束密度
は低い。一方、徐加熱した場合は、後述のように昇温時
の窒素分圧を適正化（Ｎ 2 ５０％）すれば脱炭焼鈍温度
が低くとも高いＢ8値 が得られている。
【００２８】ところで、本発明のように二次再結晶と被
膜消失が平行するプロセスでは、ＢＡＦ中窒素分圧が低
いと（Ａｌ、Ｓｉ）Ｎの分解が急速に進行するので、昇
温速度が遅い時は、一次再結晶粒が成長しすぎてしまっ
て二次再結晶が不安定になる。そこでＮ2 分圧を高めて
インヒビターの分解を抑えると、一次再結晶粒の成長が
適正化され、極めて高い磁束密度が得られる。特に板厚
が０．１７ｍｍ以下と薄いときは、Ｎ2 分圧を５０％以
上とすることが望ましい。また、これらの仕上焼鈍条件
は、少なくとも二次再結晶の開始直前である９５０℃か
ら、完了する１１５０℃までの間で満たしていることが
必要である。またさらには、（Ａｌ、Ｓｉ）Ｎの安定化
に効果のある７００℃以上で行うことが望ましい。
膜消失が平行するプロセスでは、ＢＡＦ中窒素分圧が低
いと（Ａｌ、Ｓｉ）Ｎの分解が急速に進行するので、昇
温速度が遅い時は、一次再結晶粒が成長しすぎてしまっ
て二次再結晶が不安定になる。そこでＮ2 分圧を高めて
インヒビターの分解を抑えると、一次再結晶粒の成長が
適正化され、極めて高い磁束密度が得られる。特に板厚
が０．１７ｍｍ以下と薄いときは、Ｎ2 分圧を５０％以
上とすることが望ましい。また、これらの仕上焼鈍条件
は、少なくとも二次再結晶の開始直前である９５０℃か
ら、完了する１１５０℃までの間で満たしていることが
必要である。またさらには、（Ａｌ、Ｓｉ）Ｎの安定化
に効果のある７００℃以上で行うことが望ましい。
【００２９】以上より、本発明によれば、仕上焼鈍の昇
温速度を遅くすると共にＮ2 分圧を高め、かつ一次再結
晶直後の粒径を小さくすることによって、高い磁束密度
を得ることができることがわかった。
温速度を遅くすると共にＮ2 分圧を高め、かつ一次再結
晶直後の粒径を小さくすることによって、高い磁束密度
を得ることができることがわかった。
【００３０】
【実施例】Ｓｉ：３．５０％、Ｃ：０．０５４％、Ｍ
ｎ：０．１４％、Ｓ：０．００８％、Ａｌ：０．０２９
５％、Ｎ：０．０７３％を含み、残部Ｆｅおよび不可避
的不純物からなる鋼を、連続鋳造によってスラブに鋳込
み、１２００℃でスラブ加熱を行って熱延した後、焼鈍
し、酸洗後、板厚０．２２ｍｍまで冷延し、脱炭焼鈍を
１１０秒行った。この時、脱炭焼鈍の温度は、８３０
℃、８４０℃の２水準を行った。この時の一次再結晶粒
の平均粒径及び平均粒径の２倍を超える粒の割合を図２
に示す。この脱炭焼鈍板に窒化処理を行って〔Ｎ〕＝２
２６ｐｐｍとした後、塩化物、炭酸塩、硝酸塩、硫酸塩
などを含む焼鈍分離剤を塗布して仕上焼鈍を行った。高
温仕上焼鈍のサイクルは、図３に示した３条件を行っ
た。こうして得られた二次再結晶板を、連続ラインにお
いて、２．５％硫酸液で８０℃×１０秒の軽酸洗処理を
行い、５０％Ａｌ（Ｈ2 ＰＯ4 ）3 ５０ｋｇ＋３０％コ
ロイダルシリカ７０ｋｇ＋ＣｒＯ3 ５ｋｇからなる絶縁
被膜剤を塗布し、８５０℃×３０秒の焼き付けとヒート
フラットニング処理を行った。その後レーザーを用いて
鋼板の圧延方向と直角方向に、間隔５ｍｍ、照射幅０．
１５ｍｍ、照射痕の深さ２．０μｍの条件で歪付与処理
を行って最終製品とした。
ｎ：０．１４％、Ｓ：０．００８％、Ａｌ：０．０２９
５％、Ｎ：０．０７３％を含み、残部Ｆｅおよび不可避
的不純物からなる鋼を、連続鋳造によってスラブに鋳込
み、１２００℃でスラブ加熱を行って熱延した後、焼鈍
し、酸洗後、板厚０．２２ｍｍまで冷延し、脱炭焼鈍を
１１０秒行った。この時、脱炭焼鈍の温度は、８３０
℃、８４０℃の２水準を行った。この時の一次再結晶粒
の平均粒径及び平均粒径の２倍を超える粒の割合を図２
に示す。この脱炭焼鈍板に窒化処理を行って〔Ｎ〕＝２
２６ｐｐｍとした後、塩化物、炭酸塩、硝酸塩、硫酸塩
などを含む焼鈍分離剤を塗布して仕上焼鈍を行った。高
温仕上焼鈍のサイクルは、図３に示した３条件を行っ
た。こうして得られた二次再結晶板を、連続ラインにお
いて、２．５％硫酸液で８０℃×１０秒の軽酸洗処理を
行い、５０％Ａｌ（Ｈ2 ＰＯ4 ）3 ５０ｋｇ＋３０％コ
ロイダルシリカ７０ｋｇ＋ＣｒＯ3 ５ｋｇからなる絶縁
被膜剤を塗布し、８５０℃×３０秒の焼き付けとヒート
フラットニング処理を行った。その後レーザーを用いて
鋼板の圧延方向と直角方向に、間隔５ｍｍ、照射幅０．
１５ｍｍ、照射痕の深さ２．０μｍの条件で歪付与処理
を行って最終製品とした。
【００３１】表１に、焼鈍分離剤への添加物の条件の一
覧を、表２に得られた結果を示す。
覧を、表２に得られた結果を示す。
【００３２】
【表１】
【００３３】
【表２】
【００３４】本発明例によるものは、いずれも鋼板表面
に酸化物被膜を有さず、グラスレス化が良好であった。
また、仕上焼鈍中の昇温速度を遅くした場合は、Ｎ2 分
圧を高めて脱炭焼鈍温度を低めにすると、極めて高いＢ
8 値が得られた。
に酸化物被膜を有さず、グラスレス化が良好であった。
また、仕上焼鈍中の昇温速度を遅くした場合は、Ｎ2 分
圧を高めて脱炭焼鈍温度を低めにすると、極めて高いＢ
8 値が得られた。
【００３５】
【発明の効果】本発明によれば、グラス被膜を有さな
い、磁束密度の極めて高い超低鉄損方向性電磁鋼板、特
に切断性、打ち抜き性等の加工性に著しく優れた高磁束
密度低鉄損方向性電磁鋼板を安価に製造できる。
い、磁束密度の極めて高い超低鉄損方向性電磁鋼板、特
に切断性、打ち抜き性等の加工性に著しく優れた高磁束
密度低鉄損方向性電磁鋼板を安価に製造できる。
【図１】板厚０．１５ｍｍ材で、脱炭焼鈍温度及び仕上
焼鈍サイクルを変えたときの磁束密度変化を示す図であ
る。焼鈍分離剤は、ＭｇＯ１００ｇに対してＣａＣｌ2
５ｇ添加している。
焼鈍サイクルを変えたときの磁束密度変化を示す図であ
る。焼鈍分離剤は、ＭｇＯ１００ｇに対してＣａＣｌ2
５ｇ添加している。
【図２】一次再結晶粒径と脱炭焼鈍温度の関係を示す図
である。
である。
【図３】仕上焼鈍条件を示す図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 増井 浩昭 福岡県北九州市戸畑区飛幡町１番１号 新 日本製鐵株式会社八幡製鐵所内
Claims (5)
- 【請求項１】 重量で、Ｓｉ：１．０〜７．０％を含
み、鋼板の金属表面から１５μｍ内に分布する内部酸化
層の量が、当該厚み領域内の酸素含有量で１％以下であ
り、Ｂ8 ≧１．９３Ｔである磁束密度の極めて高い超低
鉄損方向性電磁鋼板。 - 【請求項２】 表面に線状または点状キズが圧延方向か
ら４５〜９０度の方向に、２〜１５ｍｍの間隔で付与さ
れている請求項１記載の磁束密度の極めて高い超低鉄損
方向性電磁鋼板。 - 【請求項３】 重量で、Ｓｉ：１．０〜７．０％、酸可
溶性Ａｌ：０．０１０〜０．０７０％を含有し、残部が
Ｆｅ及び不可避的不純物からなる鋼塊あるいはスラブ
を、熱延し、冷延し、一次再結晶焼鈍し、焼鈍分離剤を
塗布した後、高温仕上焼鈍を行い、ヒートフラットニン
グを行うことによって方向性電磁鋼板を製造する方法に
おいて、前記一次再結晶焼鈍後の鋼板の一次再結晶粒の
うち粒径が平均粒径の２倍を超えるものが１０％未満で
あるように調整し、同鋼板に焼鈍分離剤として、ＭｇＯ
１００重量部に対してＬｉ、Ｋ、Ｎａ、Ｂａ、Ｃａ、Ｍ
ｇ、Ｚｎ、Ｆｅ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｓｒ、Ａｌの塩化物、炭
酸塩、硝酸塩、硫酸塩、硫化物の中から選ばれる１種又
は２種以上を２〜３０重量部添加したものを塗布し、高
温仕上焼鈍時の昇温速度を、９５０〜１１５０℃の間
で、１０℃／ｈｒ以下とし、かつ焼鈍雰囲気を少なくと
もＮ2 ３０％以上のＮ2 ＋Ｈ2 とすることを特徴とする
磁束密度の極めて高い超低鉄損方向性電磁鋼板の製造方
法。 - 【請求項４】 重量で、Ｓｉ：１．０〜７．０％、酸可
溶性Ａｌ：０．０１０〜０．０７０％、Ｃ：０．０２１
〜０．０７５％、Ｎ：０．００３〜０．０１３０％、Ｓ
≦０．０３０％、Ｍｎ：０．０５〜０．４５％を含有
し、残部がＦｅ及び不可避的不純物からなるスラブの熱
延前の加熱を、１２８０℃未満の温度で行い、一次再結
晶完了後、高温仕上焼鈍の二次再結晶開始前の間で窒化
することを特徴とする請求項３記載の磁束密度の極めて
高い超低鉄損方向性電磁鋼板の製造方法。 - 【請求項５】 ヒートフラットニングの前又は後に、レ
ーザー、歯形ロール、プレス、ケガキ、局部エッチング
等の局部加工により鋼板表面に線状または点状キズを付
与することを特徴とする請求項３又は４記載の磁束密度
の極めて高い超低鉄損方向性電磁鋼板の製造方法。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4175790A JP2691828B2 (ja) | 1992-07-02 | 1992-07-02 | 磁束密度の極めて高い超低鉄損方向性電磁鋼板の製造方法。 |
| DE69332394T DE69332394T2 (de) | 1992-07-02 | 1993-07-01 | Kornorientiertes Elektroblech mit hoher Flussdichte und geringen Eisenverlusten und Herstellungsverfahren |
| KR93012299A KR960009170B1 (en) | 1992-07-02 | 1993-07-01 | Grain oriented electrical steel sheet having high magnetic flux density and ultra iron loss and process for producing the same |
| EP93110517A EP0577124B1 (en) | 1992-07-02 | 1993-07-01 | Grain oriented electrical steel sheet having high magnetic flux density and ultra low iron loss and process for producing the same |
| US08/257,765 US5507883A (en) | 1992-06-26 | 1994-06-09 | Grain oriented electrical steel sheet having high magnetic flux density and ultra low iron loss and process for production the same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4175790A JP2691828B2 (ja) | 1992-07-02 | 1992-07-02 | 磁束密度の極めて高い超低鉄損方向性電磁鋼板の製造方法。 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0617132A true JPH0617132A (ja) | 1994-01-25 |
| JP2691828B2 JP2691828B2 (ja) | 1997-12-17 |
Family
ID=16002300
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4175790A Expired - Lifetime JP2691828B2 (ja) | 1992-06-26 | 1992-07-02 | 磁束密度の極めて高い超低鉄損方向性電磁鋼板の製造方法。 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2691828B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07316831A (ja) * | 1994-05-23 | 1995-12-05 | Kaisui Kagaku Kenkyusho:Kk | セラミック被膜形成剤およびその製造方法 |
| EP0753588A1 (en) * | 1995-07-14 | 1997-01-15 | Nippon Steel Corporation | Method for producing a grain-oriented electrical steel sheet having a mirror surface and improved core loss |
| CN1054885C (zh) * | 1995-07-26 | 2000-07-26 | 新日本制铁株式会社 | 生产一种具有镜面和改进了铁损的晶粒取向电工钢板的方法 |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8920581B2 (en) | 2008-12-16 | 2014-12-30 | Nippon Steel & Sumitomo Metal Corporation | Grain-oriented electrical steel sheet and manufacturing method thereof |
| WO2017201418A1 (en) | 2016-05-20 | 2017-11-23 | Arcanum Alloys, Inc. | Methods and systems for coating a steel substrate |
| WO2021155280A1 (en) * | 2020-01-31 | 2021-08-05 | Arcanum Alloys, Inc. | Modified steel compositions and methods related thereto |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0480322A (ja) * | 1990-07-20 | 1992-03-13 | Nippon Steel Corp | 低鉄損一方向性珪素鋼板の製造方法 |
-
1992
- 1992-07-02 JP JP4175790A patent/JP2691828B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0480322A (ja) * | 1990-07-20 | 1992-03-13 | Nippon Steel Corp | 低鉄損一方向性珪素鋼板の製造方法 |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07316831A (ja) * | 1994-05-23 | 1995-12-05 | Kaisui Kagaku Kenkyusho:Kk | セラミック被膜形成剤およびその製造方法 |
| EP0753588A1 (en) * | 1995-07-14 | 1997-01-15 | Nippon Steel Corporation | Method for producing a grain-oriented electrical steel sheet having a mirror surface and improved core loss |
| CN1054885C (zh) * | 1995-07-26 | 2000-07-26 | 新日本制铁株式会社 | 生产一种具有镜面和改进了铁损的晶粒取向电工钢板的方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2691828B2 (ja) | 1997-12-17 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5512110A (en) | Process for production of grain oriented electrical steel sheet having excellent magnetic properties | |
| US5507883A (en) | Grain oriented electrical steel sheet having high magnetic flux density and ultra low iron loss and process for production the same | |
| EP0577124B1 (en) | Grain oriented electrical steel sheet having high magnetic flux density and ultra low iron loss and process for producing the same | |
| KR102577485B1 (ko) | 방향성 전자 강판의 제조 방법 | |
| JP2019137883A (ja) | 方向性電磁鋼板、および方向性電磁鋼板の製造方法 | |
| JPWO2020149321A1 (ja) | 方向性電磁鋼板の製造方法 | |
| JP2691828B2 (ja) | 磁束密度の極めて高い超低鉄損方向性電磁鋼板の製造方法。 | |
| JP2620171B2 (ja) | グラス被膜を有しない高磁束密度方向性電磁鋼板の製造方法 | |
| JP3846064B2 (ja) | 方向性電磁鋼板 | |
| JP2667082B2 (ja) | グラス被膜を有さない超低鉄損方向性電磁鋼板及びその製造方法 | |
| JP2953978B2 (ja) | 絶縁被膜特性の優れるグラス被膜を有しない厚手方向性電磁鋼板及びその製造方法 | |
| JP3336555B2 (ja) | 表面性状の優れるグラス被膜を有さない方向性電磁鋼板の製造方法 | |
| JP3386717B2 (ja) | 低履歴損失の方向性珪素鋼板の製造方法 | |
| JP3412959B2 (ja) | 鉄損の低い鏡面方向性珪素鋼板の製造方法 | |
| JP2663229B2 (ja) | 均一なグラス皮膜を有し、磁気特性の著しく優れた方向性電磁鋼板の製造方法 | |
| JP3011609B2 (ja) | 磁気特性の優れたグラス被膜の少ない一方向性電磁鋼板の製造方法 | |
| JP3061491B2 (ja) | 磁気特性の優れた厚い板厚のグラス被膜の少ない一方向性電磁鋼板の製造方法 | |
| KR102583464B1 (ko) | 방향성 전자 강판의 제조 방법 | |
| JP2002241906A (ja) | 被膜特性および磁気特性に優れた方向性電磁鋼板 | |
| JPH09268322A (ja) | 超低鉄損一方向性電磁鋼板の製造方法 | |
| JP2671088B2 (ja) | 磁気特性が優れ、鉄心加工性が著しく優れた高磁束密度方向性電磁鋼板及びその製造法 | |
| JP2671084B2 (ja) | 鉄損特性の優れる高磁束密度方向性電磁鋼板及びその製造方法 | |
| JPH08269560A (ja) | グラス被膜を有しない鉄損の優れた一方向性電磁鋼板の製造方法 | |
| JP2603170B2 (ja) | 加工性の優れた高磁束密度超低鉄損方向性電磁鋼板の製造方法 | |
| JP2691837B2 (ja) | 加工性の良好な高磁束密度方向性電磁鋼板の製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 19970715 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20070905 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080905 Year of fee payment: 11 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090905 Year of fee payment: 12 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100905 Year of fee payment: 13 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100905 Year of fee payment: 13 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110905 Year of fee payment: 14 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120905 Year of fee payment: 15 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |