JPH06171911A - 窒化珪素粉末の製造方法 - Google Patents
窒化珪素粉末の製造方法Info
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- JPH06171911A JPH06171911A JP5219237A JP21923793A JPH06171911A JP H06171911 A JPH06171911 A JP H06171911A JP 5219237 A JP5219237 A JP 5219237A JP 21923793 A JP21923793 A JP 21923793A JP H06171911 A JPH06171911 A JP H06171911A
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- 239000000843 powder Substances 0.000 title claims abstract description 54
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 23
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 9
- 229910021419 crystalline silicon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 30
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 claims abstract description 25
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 24
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 23
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 20
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims abstract description 20
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 20
- -1 nitrogen-containing silane compound Chemical class 0.000 claims description 31
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 27
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 26
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Chemical compound [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 8
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 7
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 5
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 5
- 238000000197 pyrolysis Methods 0.000 description 5
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 4
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 4
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 4
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 4
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 4
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 4
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000047 product Substances 0.000 description 3
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 3
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 description 3
- 238000000859 sublimation Methods 0.000 description 3
- 230000008022 sublimation Effects 0.000 description 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UMVBXBACMIOFDO-UHFFFAOYSA-N [N].[Si] Chemical compound [N].[Si] UMVBXBACMIOFDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 2
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 2
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 2
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 239000011863 silicon-based powder Substances 0.000 description 2
- 239000012798 spherical particle Substances 0.000 description 2
- 230000007723 transport mechanism Effects 0.000 description 2
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 229910003902 SiCl 4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- RAABOESOVLLHRU-UHFFFAOYSA-N diazene Chemical compound N=N RAABOESOVLLHRU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000071 diazene Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 239000013067 intermediate product Substances 0.000 description 1
- 238000002386 leaching Methods 0.000 description 1
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 238000005121 nitriding Methods 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 1
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
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- C01B21/06—Binary compounds of nitrogen with metals, with silicon, or with boron, or with carbon, i.e. nitrides; Compounds of nitrogen with more than one metal, silicon or boron
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- C01P2004/00—Particle morphology
- C01P2004/10—Particle morphology extending in one dimension, e.g. needle-like
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【構成】 窒素含有シラン化合物と結晶性窒化珪素粉末
との混合物を熱分解する際において、窒素含有シラン化
合物として酸素含量が1重量%より少ないものを用いる
ことを特徴とするα相含有率が高く同じ大きさの粒子の
形状をもった窒化珪素の粉末を製造する方法。 【効果】 α相の含有率が90%よりも多い結晶性粉末
を製造することができる。
との混合物を熱分解する際において、窒素含有シラン化
合物として酸素含量が1重量%より少ないものを用いる
ことを特徴とするα相含有率が高く同じ大きさの粒子の
形状をもった窒化珪素の粉末を製造する方法。 【効果】 α相の含有率が90%よりも多い結晶性粉末
を製造することができる。
Description
【0001】本発明は含窒素シラン化合物と結晶性Si
3N4粉末との混合物を熱分解することによりα相の含量
が高く同じ大きさの粒子の形態をもった窒素珪素粉末を
製造する方法に関する。
3N4粉末との混合物を熱分解することによりα相の含量
が高く同じ大きさの粒子の形態をもった窒素珪素粉末を
製造する方法に関する。
【0002】高性能セラミックスの製造原料となる窒素
珪素粉末はα相含量、粒子の形態および化学的純度に関
する厳密な条件を満たさなければならない。この粉末の
相組成は焼結成形品の構造組織の発達に大きな影響を及
ぼす。焼結の際、α相は高い焼結温度では熔融相として
存在する二次相の中に溶解し、再びβ−Si3N4として
分離される。α相の含量が高いと、このようにして針状
または小棒状のβ-Si3N4粒子が互い噛み合った微粒
子構造が生じ、これが曲げ強さおよび破砕強さが高くな
る原因とされている〔エフ・エフ・レインジ(f.F.
Lange)、ジャーナル・オヴ・アメリカン・セラミ
ック・ソサイアティー(J.Am.Ceram.So
c.)誌62巻428頁(1979年)〕。またα相か
らβ相への変化には約30KJ/モルのエネルギーの獲
得が伴う〔エル・グリュン(R.Gruen)、アクタ
・クリスタログラフィカ(Acta Cryst.)誌
35巻800頁(1979年)〕。これとは反対に原料
粉末に比較的β相が多い場合には、生成する構造では球
状の粒子の割合が増加する〔エム・ミトモ(M.Mit
omo)、ジャーナル・オヴ・アメリカン・セラミック
・ソサイアティー誌73巻2441頁(1990
年)〕。従ってSi3N4粉末にα相が高率で含まれてい
ることは曲げ強さの高い焼結成形体を得る上で必要なこ
とである。
珪素粉末はα相含量、粒子の形態および化学的純度に関
する厳密な条件を満たさなければならない。この粉末の
相組成は焼結成形品の構造組織の発達に大きな影響を及
ぼす。焼結の際、α相は高い焼結温度では熔融相として
存在する二次相の中に溶解し、再びβ−Si3N4として
分離される。α相の含量が高いと、このようにして針状
または小棒状のβ-Si3N4粒子が互い噛み合った微粒
子構造が生じ、これが曲げ強さおよび破砕強さが高くな
る原因とされている〔エフ・エフ・レインジ(f.F.
Lange)、ジャーナル・オヴ・アメリカン・セラミ
ック・ソサイアティー(J.Am.Ceram.So
c.)誌62巻428頁(1979年)〕。またα相か
らβ相への変化には約30KJ/モルのエネルギーの獲
得が伴う〔エル・グリュン(R.Gruen)、アクタ
・クリスタログラフィカ(Acta Cryst.)誌
35巻800頁(1979年)〕。これとは反対に原料
粉末に比較的β相が多い場合には、生成する構造では球
状の粒子の割合が増加する〔エム・ミトモ(M.Mit
omo)、ジャーナル・オヴ・アメリカン・セラミック
・ソサイアティー誌73巻2441頁(1990
年)〕。従ってSi3N4粉末にα相が高率で含まれてい
ることは曲げ強さの高い焼結成形体を得る上で必要なこ
とである。
【0003】原料粉末の形状も焼結成形体の曲げ破断強
さに大きな影響を及ぼす。この目的に対しては大きさの
同じ粒子が望ましいが、針状または柱状の粒子の粉末を
用いて得られる焼結密度は低過ぎて高い曲げ強さが得ら
れない。また針状の形は構造的な不均一性が増加し、構
造体成分の中に破砕に起因する欠陥を生じ易い。
さに大きな影響を及ぼす。この目的に対しては大きさの
同じ粒子が望ましいが、針状または柱状の粒子の粉末を
用いて得られる焼結密度は低過ぎて高い曲げ強さが得ら
れない。また針状の形は構造的な不均一性が増加し、構
造体成分の中に破砕に起因する欠陥を生じ易い。
【0004】化学的に高純度の粉末は式SiHnRmX
4-n-m(但しR=アルキル基、X=ハロゲン、n,m=
0、1、2、3、4)をもつ反応性珪素化合物をアンモ
ニア分解することによって得ることができる。しかし気
相または液相で起こるこの反応では結晶性のSi3N4は
直接生ぜず、窒素含有シラン化合物とハロゲン化アンモ
ニウムとの混合物が生じる。ハロゲン化アンモニウムは
液体アンモニアで抽出するかまたは昇華させて除去す
る。
4-n-m(但しR=アルキル基、X=ハロゲン、n,m=
0、1、2、3、4)をもつ反応性珪素化合物をアンモ
ニア分解することによって得ることができる。しかし気
相または液相で起こるこの反応では結晶性のSi3N4は
直接生ぜず、窒素含有シラン化合物とハロゲン化アンモ
ニウムとの混合物が生じる。ハロゲン化アンモニウムは
液体アンモニアで抽出するかまたは昇華させて除去す
る。
【0005】1200℃より低い温度で加熱すると、低
温で最初生じた珪素ジイミドはアンモニアを離脱させて
分解し、中間生成物であるSi3N5H3およびSi2N3
Hを経てX線的に無定形で加水分解に敏感なSi3N4を
生じる〔グレムサー(Glemser)およびナウマン
(Naumann)、ツァイトシュリフツ・ヒュール・
アノルガニッシェン・ウント・アルゲマイネ・ヘミー
(Z.AnorgAllg.Chem.)誌298巻1
34頁(1957年)〕。最後にこれから結晶性のSi
3N4粉末を1200℃よりも高い温度でつくる。
温で最初生じた珪素ジイミドはアンモニアを離脱させて
分解し、中間生成物であるSi3N5H3およびSi2N3
Hを経てX線的に無定形で加水分解に敏感なSi3N4を
生じる〔グレムサー(Glemser)およびナウマン
(Naumann)、ツァイトシュリフツ・ヒュール・
アノルガニッシェン・ウント・アルゲマイネ・ヘミー
(Z.AnorgAllg.Chem.)誌298巻1
34頁(1957年)〕。最後にこれから結晶性のSi
3N4粉末を1200℃よりも高い温度でつくる。
【0006】無定形のSi3N4からα−Si3N4への結
晶化は気相における輸送機構によって起こると言われて
いる〔ジェー・ホージョー(J.Hojo)、エイチ・
マエダ(H.Maeda)、エイ・カトー(A.Kat
o)、ジャーナル・オヴ・アメリカン・セラミック・ソ
サイアティー誌、日本国際版(Japan Inter
n.)、96巻820頁(1988年)〕。無定形のS
i3N4と反応してSiを生じ、生成するα−Si3N4が
窒素と反応して酸素を放出することにより、一酸化珪素
は輸送ガスとして作用する。
晶化は気相における輸送機構によって起こると言われて
いる〔ジェー・ホージョー(J.Hojo)、エイチ・
マエダ(H.Maeda)、エイ・カトー(A.Kat
o)、ジャーナル・オヴ・アメリカン・セラミック・ソ
サイアティー誌、日本国際版(Japan Inter
n.)、96巻820頁(1988年)〕。無定形のS
i3N4と反応してSiを生じ、生成するα−Si3N4が
窒素と反応して酸素を放出することにより、一酸化珪素
は輸送ガスとして作用する。
【0007】日本特許明細書60−028467号には
この気相輸送機構を使用し推進するα相の含有率が高い
結晶性Si3N4粉末の製造法が記載されている。このS
i3N4粉末は窒素含有シラン化合物と結晶性の窒化珪素
粉末との混合物を熱分解することによりつくられるが、
結晶性Si3N4粉末は少なくとも1.0重量%の酸素を
含んでいなければならない。SiOの分圧を適切な値に
保つためには酸素の含有率が少なくとも1.0重量%で
あることが必要である。
この気相輸送機構を使用し推進するα相の含有率が高い
結晶性Si3N4粉末の製造法が記載されている。このS
i3N4粉末は窒素含有シラン化合物と結晶性の窒化珪素
粉末との混合物を熱分解することによりつくられるが、
結晶性Si3N4粉末は少なくとも1.0重量%の酸素を
含んでいなければならない。SiOの分圧を適切な値に
保つためには酸素の含有率が少なくとも1.0重量%で
あることが必要である。
【0008】結晶性のSi3N4粉末中の酸素は窒素原子
が部分的に酸素で置き換えられたガラス相を生じると言
われている。SiOを生成し得るためには、酸素はSi
3N4の粒子の内部にしっかりと結合していてはならず、
容易に気相へと移動できなければならない。該粒子の内
部から出た酸素原子は先ず遅い拡散過程によって粒子の
表面に到達し、しかる後気相空間に入ることができる。
が部分的に酸素で置き換えられたガラス相を生じると言
われている。SiOを生成し得るためには、酸素はSi
3N4の粒子の内部にしっかりと結合していてはならず、
容易に気相へと移動できなければならない。該粒子の内
部から出た酸素原子は先ず遅い拡散過程によって粒子の
表面に到達し、しかる後気相空間に入ることができる。
【0009】本発明においては驚くべきことには、この
日本特許明細書60−028457号の記載とは対照的
に、窒素含有シラン化合物の熱分解において酸素を1重
量%よりも少なくしか含まない結晶性Si3N4粉末を添
加することにより、α相の含有率が90%よりも多い結
晶性粉末を製造し得ることが見出だされた。
日本特許明細書60−028457号の記載とは対照的
に、窒素含有シラン化合物の熱分解において酸素を1重
量%よりも少なくしか含まない結晶性Si3N4粉末を添
加することにより、α相の含有率が90%よりも多い結
晶性粉末を製造し得ることが見出だされた。
【0010】従って本発明は窒素含有シラン化合物と結
晶性窒化珪素粉末との混合物を熱分解する際において、
窒素含有シラン化合物として酸素含量が1重量%より少
ないものを用いることを特徴とするα相含有率が高く同
じ大きさの粒子の形状をもった窒化珪素の粉末を製造す
る方法に関する。
晶性窒化珪素粉末との混合物を熱分解する際において、
窒素含有シラン化合物として酸素含量が1重量%より少
ないものを用いることを特徴とするα相含有率が高く同
じ大きさの粒子の形状をもった窒化珪素の粉末を製造す
る方法に関する。
【0011】窒素含有シラン化合物の酸素含量は0.5
重量%より少ないことが好適である。 窒素含有シラン化合物と結晶性Si3N4との混合物
のハロゲン含量はできるだけ少なくなければならず、
1.0重量%よりも、好ましくは0.5重量%よりも少
ない。
重量%より少ないことが好適である。 窒素含有シラン化合物と結晶性Si3N4との混合物
のハロゲン含量はできるだけ少なくなければならず、
1.0重量%よりも、好ましくは0.5重量%よりも少
ない。
【0012】本発明方法の好適具体化例においては、窒
素含有シラン化合物は式SiHnRmX4-n-m(但しR=
アルキル基、X=ハロゲン、n,m=0、1、2、3、
4)をもつ珪素化合物をアンモニアと反応させ、次いで
液体アンモニアで抽出するかまたはアンモニア雰囲気中
で昇華させることによりハロゲン化アンモニウムを除去
して製造される。
素含有シラン化合物は式SiHnRmX4-n-m(但しR=
アルキル基、X=ハロゲン、n,m=0、1、2、3、
4)をもつ珪素化合物をアンモニアと反応させ、次いで
液体アンモニアで抽出するかまたはアンモニア雰囲気中
で昇華させることによりハロゲン化アンモニウムを除去
して製造される。
【0013】またSiOの生成に必要な表面酸素含量は
最低でなければならなず、α相の含有率が高く球状の粒
子の形をもつSi3N4粉末を得るためには好ましくは1
5%よりも少ない。
最低でなければならなず、α相の含有率が高く球状の粒
子の形をもつSi3N4粉末を得るためには好ましくは1
5%よりも少ない。
【0014】Si3N4粉末の表面酸素含量は、Si3N4
粒子の最も外側の約5〜10原子層を覆う部分をESC
A法で測定することにより決定される〔エム・ピューカ
ート(M.Peuckert)およびピー・グレイル
(P.Greil)、ジャーナル・オヴ・マテリアル・
サイエンス(J.Mat.Sci.)22巻3717頁
(1987年)〕。窒素含有シラン化合物の熱分解によ
る結晶性Si3N4の生成はガス状の一酸化珪素との反
応を介して生じるという日本特許明細書60−0284
67号お主張7とは対照的に、一酸化珪素の濃度が低い
ほどSi3N4粉末の品質は良い。
粒子の最も外側の約5〜10原子層を覆う部分をESC
A法で測定することにより決定される〔エム・ピューカ
ート(M.Peuckert)およびピー・グレイル
(P.Greil)、ジャーナル・オヴ・マテリアル・
サイエンス(J.Mat.Sci.)22巻3717頁
(1987年)〕。窒素含有シラン化合物の熱分解によ
る結晶性Si3N4の生成はガス状の一酸化珪素との反
応を介して生じるという日本特許明細書60−0284
67号お主張7とは対照的に、一酸化珪素の濃度が低い
ほどSi3N4粉末の品質は良い。
【0015】α相濃度の含量とは別に、気相における一
酸化珪素の濃度もSi3N4粉末粒子の形態に影響を及ぼ
す。針状または柱状の粒子は焼結密度が高く曲げ強さが
大きいセラミックス部品を製造するには特に有害である
が、一酸化珪素の濃度が高いと選択的に生成される。こ
れとは対照的にSiO濃度が低いと、Si3N4粉末は
所望の球状の形状をもった粒子から成っている。
酸化珪素の濃度もSi3N4粉末粒子の形態に影響を及ぼ
す。針状または柱状の粒子は焼結密度が高く曲げ強さが
大きいセラミックス部品を製造するには特に有害である
が、一酸化珪素の濃度が高いと選択的に生成される。こ
れとは対照的にSiO濃度が低いと、Si3N4粉末は
所望の球状の形状をもった粒子から成っている。
【0016】また本発明方法により全酸素含量が1.0
重量%より少ない混合物を使用し、且つ表面酸素が15
%より少ない結晶性粉末を加えることにより、窒素含有
シラン化合物の熱分解中SiO濃度を低く保たれた粉末
は、比表面積が大きいことが特徴である。
重量%より少ない混合物を使用し、且つ表面酸素が15
%より少ない結晶性粉末を加えることにより、窒素含有
シラン化合物の熱分解中SiO濃度を低く保たれた粉末
は、比表面積が大きいことが特徴である。
【0017】特に有利な具体化例においては、本発明方
法で使用される結晶性窒化珪素粉末は、湿式粉砕を行っ
た後フッ化水素酸またはフッ化水素酸を含む酸混合物で
浸出を行うことにより得られる。
法で使用される結晶性窒化珪素粉末は、湿式粉砕を行っ
た後フッ化水素酸またはフッ化水素酸を含む酸混合物で
浸出を行うことにより得られる。
【0018】ヨーロッパ特許A0 227 082号に
従えば、窒化含有シラン化合物と結晶性Si3N4との混
合物は粒径が0.05μmより小さい結晶性Si3N4粉
末を少なくとも0.1重量%含んでいなければならな
い。しかし驚くべきことには、α相の含有率が少なくと
も90%で同じ大きさの粒子の形態をもったSi3N4を
得るためには、平均粒径が0.5μmで0.2μmより
小さいものは僅かに10%しか含んでいない結晶性粉末
を0.5重量%加えるだけで十分であることが見出ださ
れた。
従えば、窒化含有シラン化合物と結晶性Si3N4との混
合物は粒径が0.05μmより小さい結晶性Si3N4粉
末を少なくとも0.1重量%含んでいなければならな
い。しかし驚くべきことには、α相の含有率が少なくと
も90%で同じ大きさの粒子の形態をもったSi3N4を
得るためには、平均粒径が0.5μmで0.2μmより
小さいものは僅かに10%しか含んでいない結晶性粉末
を0.5重量%加えるだけで十分であることが見出ださ
れた。
【0019】結晶性窒化珪素粉末の粒径の細かさとは無
関係に、これを好ましくは0.1〜5重量%、特に好ま
しくは0.1〜1.5重量%の量で反応混合物を加え
る。
関係に、これを好ましくは0.1〜5重量%、特に好ま
しくは0.1〜1.5重量%の量で反応混合物を加え
る。
【0020】結晶化の前の粉末混合物の見掛け密度に対
する粉末の形状の依存性は米国特許第4,788,04
9号に記載されており、これに従えば同じ大きさの形状
の粒子をもったSi3N4粉末を得るためには、見掛け密
度は少なくとも0.3g/cm3であることが必要であ
る。しかしこれらの粉末は針状の粒子を見掛け密度が小
さい粉末よりも遥かに少量しか含んでいないにも拘ら
ず、本発明方法に従って上記の性質をもつ結晶性Si3
N4粉末を加えなければ、尚針状の粒子が含まれている
ことが見出だされた。またこれらの粉末は粗く、α相含
有率は90重量%より少ない。
する粉末の形状の依存性は米国特許第4,788,04
9号に記載されており、これに従えば同じ大きさの形状
の粒子をもったSi3N4粉末を得るためには、見掛け密
度は少なくとも0.3g/cm3であることが必要であ
る。しかしこれらの粉末は針状の粒子を見掛け密度が小
さい粉末よりも遥かに少量しか含んでいないにも拘ら
ず、本発明方法に従って上記の性質をもつ結晶性Si3
N4粉末を加えなければ、尚針状の粒子が含まれている
ことが見出だされた。またこれらの粉末は粗く、α相含
有率は90重量%より少ない。
【0021】本発明の好適具体化例においては、熱分解
工程を行う前に、反応混合物を圧縮して見掛け密度を少
なくとも0.3g/cm3にする。特に有利な具体化例
においては、熱分解工程は1250〜1600℃の範囲
の温度で行われる。
工程を行う前に、反応混合物を圧縮して見掛け密度を少
なくとも0.3g/cm3にする。特に有利な具体化例
においては、熱分解工程は1250〜1600℃の範囲
の温度で行われる。
【0022】下記実施例により本発明を例示する。これ
らの実施例は本発明を限定するものではない。
らの実施例は本発明を限定するものではない。
【0023】
【実施例】気相においてSiCl4とNH3とを反応さ
せ、次いで付着したNH4ClをNH3雰囲気中で950
℃において昇華させることにより窒素含有シラン化合物
を合成した。窒素対珪素の比は化合物Si2N3Hに対応
する。該シラン化合物の酸素含量は対照例3においては
1.1重量%であり、他の実施例ではすべて0.5重量
%より少なかった。結晶性Si3N4粉末0.5重量%を
シラン化合物に加えた後、ステアタイトのボールを部分
的に充たした回転ポリエチレン容器中で1時間混合す
る。混合物の見掛け密度を0.3g/cm3よりも高く
した。次いでこの粉末を窒素雰囲気中において先ず13
00℃で2時間、次いで1400℃で2時間カ焼した。
生成物のα相含有率、BET表面積(DIN66131
号法による窒素1点法)および粒子の形状を決定した。
加えた結晶性Si3N4および生成物の性質を表1に示
す。
せ、次いで付着したNH4ClをNH3雰囲気中で950
℃において昇華させることにより窒素含有シラン化合物
を合成した。窒素対珪素の比は化合物Si2N3Hに対応
する。該シラン化合物の酸素含量は対照例3においては
1.1重量%であり、他の実施例ではすべて0.5重量
%より少なかった。結晶性Si3N4粉末0.5重量%を
シラン化合物に加えた後、ステアタイトのボールを部分
的に充たした回転ポリエチレン容器中で1時間混合す
る。混合物の見掛け密度を0.3g/cm3よりも高く
した。次いでこの粉末を窒素雰囲気中において先ず13
00℃で2時間、次いで1400℃で2時間カ焼した。
生成物のα相含有率、BET表面積(DIN66131
号法による窒素1点法)および粒子の形状を決定した。
加えた結晶性Si3N4および生成物の性質を表1に示
す。
【0024】
【表1】
【0025】本発明の主な特徴及び態様は次の通りであ
る。 1.窒素含有シラン化合物と結晶性窒化珪素粉末との混
合物を熱分解する際において、窒素含有シラン化合物と
して酸素含量が1重量%より少ないものを用いるα相含
有率が高く同じ大きさの粒子の形状をもった窒化珪素の
粉末を製造する方法。
る。 1.窒素含有シラン化合物と結晶性窒化珪素粉末との混
合物を熱分解する際において、窒素含有シラン化合物と
して酸素含量が1重量%より少ないものを用いるα相含
有率が高く同じ大きさの粒子の形状をもった窒化珪素の
粉末を製造する方法。
【0026】2.該窒素含有シラン化合物の酸素含量は
0.5重量%より少ない上記第1項記載の方法。
0.5重量%より少ない上記第1項記載の方法。
【0027】3.窒素含有シラン化合物と結晶性窒化珪
素粉末との混合物のハロゲン含量は1重量%より少ない
上記第1項記載の方法。
素粉末との混合物のハロゲン含量は1重量%より少ない
上記第1項記載の方法。
【0028】4.窒素含有シラン化合物は式SiHnRm
X4-n-m(但しR=アルキル基、X=ハロゲン、n,m
=0、1、2、3、4)をもつ珪素化合物をアンモニア
と反応させ、次いで液体アンモニアで抽出するかまたは
アンモニア雰囲気中で昇華させることによりハロゲン化
アンモニウムを除去して製造する上記第1項記載の方
法。
X4-n-m(但しR=アルキル基、X=ハロゲン、n,m
=0、1、2、3、4)をもつ珪素化合物をアンモニア
と反応させ、次いで液体アンモニアで抽出するかまたは
アンモニア雰囲気中で昇華させることによりハロゲン化
アンモニウムを除去して製造する上記第1項記載の方
法。
【0029】5.結晶性窒化珪素粉末の表面酸素含量は
15重量%より少ない上記第1項記載の方法。
15重量%より少ない上記第1項記載の方法。
【0030】6.結晶性窒化珪素粉末は湿式粉砕し、次
いでフッ化水素酸またはフッ化水素酸を含む酸混合物で
浸出することにより得られる上記第1項記載の方法。
いでフッ化水素酸またはフッ化水素酸を含む酸混合物で
浸出することにより得られる上記第1項記載の方法。
【0031】7.該混合物中の結晶性窒化珪素粉末の量
は0.1〜5重量%である上記第1項記載の方法。
は0.1〜5重量%である上記第1項記載の方法。
【0032】8.熱分解を行う前に該混合物を見掛け密
度が少なくとも0.3g/cm3になるまで圧縮する上
記第1項記載の方法。
度が少なくとも0.3g/cm3になるまで圧縮する上
記第1項記載の方法。
【0033】9.熱分解工程は1250〜1600℃の
温度範囲で行う上記第1項記載の方法。
温度範囲で行う上記第1項記載の方法。
【0034】10.窒素含有シラン化合物と結晶性窒化
珪素粉末との混合物のハロゲン含量は1重量%より少な
い上記第2項記載の方法。
珪素粉末との混合物のハロゲン含量は1重量%より少な
い上記第2項記載の方法。
【0035】11.窒素含有シラン化合物と結晶性窒化
珪素粉末との混合物のハロゲン含量は0.5重量%より
少ない上記第1項記載の方法。
珪素粉末との混合物のハロゲン含量は0.5重量%より
少ない上記第1項記載の方法。
【0036】12.窒素含有シラン化合物は式SiHn
RmX4-n-m(但しR=アルキル基、X=ハロゲン、n,
m=0、1、2、3、4)をもつ珪素化合物をアンモニ
アと反応させ、次いで液体アンモニアで抽出するかまた
はアンモニア雰囲気中で昇華させることによりハロゲン
化アンモニウムを除去して製造する上記第2項記載の方
法。
RmX4-n-m(但しR=アルキル基、X=ハロゲン、n,
m=0、1、2、3、4)をもつ珪素化合物をアンモニ
アと反応させ、次いで液体アンモニアで抽出するかまた
はアンモニア雰囲気中で昇華させることによりハロゲン
化アンモニウムを除去して製造する上記第2項記載の方
法。
【0037】13.結晶性窒化珪素粉末の表面酸素含量
は15重量%より少ない上記第2項記載の方法。
は15重量%より少ない上記第2項記載の方法。
【0038】14.結晶性窒化珪素粉末は湿式粉砕し、
次いでフッ化水素酸またはフッ化水素酸を含む酸混合物
で浸出することにより得られる上記第2項記載の方法。
次いでフッ化水素酸またはフッ化水素酸を含む酸混合物
で浸出することにより得られる上記第2項記載の方法。
【0039】15.該混合物中の結晶性窒化珪素粉末の
量は0.1〜5重量%である上記第2項記載の方法。
量は0.1〜5重量%である上記第2項記載の方法。
【0040】16.該混合物中の結晶性窒化珪素粉末の
量は0.1〜1.5重量%である上記第1項記載の方
法。
量は0.1〜1.5重量%である上記第1項記載の方
法。
【0041】17.熱分解を行う前に該混合物を見掛け
密度が少なくとも0.3g/cm3になるまで圧縮する
上記第2項記載の方法。
密度が少なくとも0.3g/cm3になるまで圧縮する
上記第2項記載の方法。
【0042】18.熱分解工程は1250〜1600℃
の温度範囲で行う上記第2項記載の方法。
の温度範囲で行う上記第2項記載の方法。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ホルスト・ランゲ ドイツ連邦共和国デー44803ボフム・クロ イツカンプ42
Claims (1)
- 【請求項1】 窒素含有シラン化合物と結晶性窒化珪素
粉末との混合物を熱分解する際において、窒素含有シラ
ン化合物として酸素含量が1重量%より少ないものを用
いることを特徴とするα相含有率が高く同じ大きさの粒
子の形状をもった窒化珪素の粉末を製造する方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE4227072.3 | 1992-08-17 | ||
| DE4227072A DE4227072A1 (de) | 1992-08-17 | 1992-08-17 | Verfahren zur Herstellung eines Siliziumnitridpulvers |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06171911A true JPH06171911A (ja) | 1994-06-21 |
Family
ID=6465648
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5219237A Pending JPH06171911A (ja) | 1992-08-17 | 1993-08-12 | 窒化珪素粉末の製造方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0583686B1 (ja) |
| JP (1) | JPH06171911A (ja) |
| DE (2) | DE4227072A1 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE19723434C2 (de) * | 1996-06-04 | 2002-10-31 | Advantest Corp | Halbleiterbauelement-Testgerät |
| JP2011213546A (ja) * | 2010-03-31 | 2011-10-27 | Ube Industries Ltd | 結晶質窒化ケイ素粉末の製造方法 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61191506A (ja) * | 1985-02-18 | 1986-08-26 | Toyo Soda Mfg Co Ltd | 高α型窒化珪素粉末の製造法 |
| JPS62148309A (ja) * | 1985-12-23 | 1987-07-02 | Toyo Soda Mfg Co Ltd | 高α型窒化珪素粉末の製造法 |
| US4788049A (en) * | 1986-03-21 | 1988-11-29 | Gte Products Corporation | Method for controlling the crystal morphology of silicon nitride |
-
1992
- 1992-08-17 DE DE4227072A patent/DE4227072A1/de not_active Withdrawn
-
1993
- 1993-08-04 EP EP93112491A patent/EP0583686B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1993-08-04 DE DE59302583T patent/DE59302583D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1993-08-12 JP JP5219237A patent/JPH06171911A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE19723434C2 (de) * | 1996-06-04 | 2002-10-31 | Advantest Corp | Halbleiterbauelement-Testgerät |
| JP2011213546A (ja) * | 2010-03-31 | 2011-10-27 | Ube Industries Ltd | 結晶質窒化ケイ素粉末の製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0583686A2 (de) | 1994-02-23 |
| DE59302583D1 (de) | 1996-06-20 |
| DE4227072A1 (de) | 1994-02-24 |
| EP0583686B1 (de) | 1996-05-15 |
| EP0583686A3 (en) | 1994-09-21 |
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