JPH06172984A - 蒸着方法および装置 - Google Patents
蒸着方法および装置Info
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- JPH06172984A JPH06172984A JP4324091A JP32409192A JPH06172984A JP H06172984 A JPH06172984 A JP H06172984A JP 4324091 A JP4324091 A JP 4324091A JP 32409192 A JP32409192 A JP 32409192A JP H06172984 A JPH06172984 A JP H06172984A
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- 238000000151 deposition Methods 0.000 title abstract description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 65
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims abstract description 47
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims abstract description 42
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 claims description 124
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 20
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 19
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 5
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 22
- 230000005291 magnetic effect Effects 0.000 abstract description 7
- 239000010408 film Substances 0.000 description 63
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 6
- 239000000498 cooling water Substances 0.000 description 5
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 5
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 5
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 4
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 4
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 3
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 3
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 3
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920003207 poly(ethylene-2,6-naphthalate) Polymers 0.000 description 2
- 239000011112 polyethylene naphthalate Substances 0.000 description 2
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 230000005294 ferromagnetic effect Effects 0.000 description 1
- JEGUKCSWCFPDGT-UHFFFAOYSA-N h2o hydrate Chemical compound O.O JEGUKCSWCFPDGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000005415 magnetization Effects 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 磁気テープに低コストで、膜厚の均一な蒸着
膜を形成させる。 【構成】 電子ビーム５の走査パターン（三角波）に応
じて、るつぼ９の幅方向の中央部に直径の大きい冷却用
の水管20a を配し、外側にいくほど直径の小さい水管20
b ，20c ，20d を設ける。るつぼ９に収容された蒸着材
料３は、走査手段15による電子ビーム５の例えば三角波
状の走査の場合は、るつぼ９の幅方向の略中央部が高温
を呈する温度分布を示すため、この略中央部を、この中
央部より外側の部分より強く冷却する。
膜を形成させる。 【構成】 電子ビーム５の走査パターン（三角波）に応
じて、るつぼ９の幅方向の中央部に直径の大きい冷却用
の水管20a を配し、外側にいくほど直径の小さい水管20
b ，20c ，20d を設ける。るつぼ９に収容された蒸着材
料３は、走査手段15による電子ビーム５の例えば三角波
状の走査の場合は、るつぼ９の幅方向の略中央部が高温
を呈する温度分布を示すため、この略中央部を、この中
央部より外側の部分より強く冷却する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は基板部材上に蒸着膜を形
成させる蒸着方法および装置に関し、詳細には電子ビー
ムによりるつぼ中の蒸着材料を蒸発させて、磁気テープ
等に蒸着膜を形成する蒸着方法および装置に関するもの
である。
成させる蒸着方法および装置に関し、詳細には電子ビー
ムによりるつぼ中の蒸着材料を蒸発させて、磁気テープ
等に蒸着膜を形成する蒸着方法および装置に関するもの
である。
【０００２】
【従来の技術】近年、磁気テープ等の磁気記録媒体は高
密度記録の要望が強く、これに応えるものとして、蒸着
によって形成される薄膜（蒸着膜）を積層された磁気記
録媒体が知られている。
密度記録の要望が強く、これに応えるものとして、蒸着
によって形成される薄膜（蒸着膜）を積層された磁気記
録媒体が知られている。
【０００３】この蒸着膜を積層された磁気記録媒体は添
加物やバインダなどの介在物を含有しておらず、また蒸
着材料として鉄、コバルト、ニッケル等の強磁性金属を
使用しているため飽和磁化が大きく、高密度記録に適し
ている。また記録波長の短い領域では、メタルテープよ
り高い出力が得られるとともに、結晶粒子が小さいため
ノイズレベルが低いという特長を有している。そしてこ
の蒸着膜を得るための蒸着方法および装置は、特開昭57
-71515号、同57-19493号、同61-74142号公報に開示され
ているように、通常蒸着材料に電子ビーム等の加熱手段
を走査してこの蒸着材料を加熱蒸発させ、この加熱蒸発
された蒸着材料を帯状のＰＥＴ（ポリエチレンテレフタ
レート）やＰＥＮ（ポリエチレンナフタレート）等の基
板部材に堆積させるものである。
加物やバインダなどの介在物を含有しておらず、また蒸
着材料として鉄、コバルト、ニッケル等の強磁性金属を
使用しているため飽和磁化が大きく、高密度記録に適し
ている。また記録波長の短い領域では、メタルテープよ
り高い出力が得られるとともに、結晶粒子が小さいため
ノイズレベルが低いという特長を有している。そしてこ
の蒸着膜を得るための蒸着方法および装置は、特開昭57
-71515号、同57-19493号、同61-74142号公報に開示され
ているように、通常蒸着材料に電子ビーム等の加熱手段
を走査してこの蒸着材料を加熱蒸発させ、この加熱蒸発
された蒸着材料を帯状のＰＥＴ（ポリエチレンテレフタ
レート）やＰＥＮ（ポリエチレンナフタレート）等の基
板部材に堆積させるものである。
【０００４】しかしこのような蒸着方法および装置は、
上記基板部材の幅方向に均一な膜厚の蒸着膜を形成する
ことができないという難点がある。不均一な膜厚の蒸着
膜は、出力波長の不安定や磁気ヘッドの走行性不良等の
問題を生ずる。そのためこの膜厚を均一に形成させる蒸
着装置が開発されている。
上記基板部材の幅方向に均一な膜厚の蒸着膜を形成する
ことができないという難点がある。不均一な膜厚の蒸着
膜は、出力波長の不安定や磁気ヘッドの走行性不良等の
問題を生ずる。そのためこの膜厚を均一に形成させる蒸
着装置が開発されている。
【０００５】この蒸着装置は、蒸着材料を加熱させる電
子ビームの走査波形を、時系列で次々に変化させ、それ
によって蒸着材料が基板部材に均一に堆積されるような
蒸着材料の温度分布に保持するものである。
子ビームの走査波形を、時系列で次々に変化させ、それ
によって蒸着材料が基板部材に均一に堆積されるような
蒸着材料の温度分布に保持するものである。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかし上記蒸着装置
は、偏向コイルを制御することによって電子ビームの走
査パターンを詳細に変動させているため、膜厚の変動に
対応させて制御される偏向コイルの追従性に難点があ
り、また実験によると上記膜厚の最大値Ｄmax と最小値
Ｄmin とから算出される膜厚の均一度δ（ただしδ＝
（Ｄmax −Ｄmin ）／（Ｄmax ＋Ｄmin ）×100 ）は10
〜30％程度であり、上記膜厚を十分均一にすることがで
きないという問題がある。
は、偏向コイルを制御することによって電子ビームの走
査パターンを詳細に変動させているため、膜厚の変動に
対応させて制御される偏向コイルの追従性に難点があ
り、また実験によると上記膜厚の最大値Ｄmax と最小値
Ｄmin とから算出される膜厚の均一度δ（ただしδ＝
（Ｄmax −Ｄmin ）／（Ｄmax ＋Ｄmin ）×100 ）は10
〜30％程度であり、上記膜厚を十分均一にすることがで
きないという問題がある。
【０００７】この問題は上述のとおり偏向コイルの追従
性に起因するものであり、追従性の優れた偏向コイルを
使用することによって解決し得るものであると考えられ
るが、このような追従性の優れた偏向コイルは大型であ
るとともにコストが非常に高いため蒸着装置に使用する
には実用上好ましくない。
性に起因するものであり、追従性の優れた偏向コイルを
使用することによって解決し得るものであると考えられ
るが、このような追従性の優れた偏向コイルは大型であ
るとともにコストが非常に高いため蒸着装置に使用する
には実用上好ましくない。
【０００８】本発明の目的は上記事情に鑑みなされたも
のであって、低コストで均一な膜厚の蒸着膜を形成させ
ることのできる蒸着方法および装置を提供することにあ
る。
のであって、低コストで均一な膜厚の蒸着膜を形成させ
ることのできる蒸着方法および装置を提供することにあ
る。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明の蒸着方法は、蒸
着材料に電子ビームを走査してこの蒸着材料を加熱蒸発
させ、この加熱蒸発された蒸着材料を帯状の基板部材に
堆積させる蒸着方法において、上記蒸着材料を上記基板
部材に均一に堆積させるように、上記電子ビームが蒸着
材料を走査する走査パターンに応じて上記蒸着材料を冷
却することを特徴とするものである。
着材料に電子ビームを走査してこの蒸着材料を加熱蒸発
させ、この加熱蒸発された蒸着材料を帯状の基板部材に
堆積させる蒸着方法において、上記蒸着材料を上記基板
部材に均一に堆積させるように、上記電子ビームが蒸着
材料を走査する走査パターンに応じて上記蒸着材料を冷
却することを特徴とするものである。
【００１０】すなわち上記電子ビームを所定の走査パタ
ーンで走査し、それよって形成される蒸着材料の温度分
布において高温を呈する部分を、上記蒸着材料が基板部
材に均一に堆積されるように冷却することを特徴とする
ものである。
ーンで走査し、それよって形成される蒸着材料の温度分
布において高温を呈する部分を、上記蒸着材料が基板部
材に均一に堆積されるように冷却することを特徴とする
ものである。
【００１１】また本発明の蒸着装置は、上記蒸着方法を
実施するための装置であって、帯状の基板部材を懸架す
る円筒状の冷却キャンと、この冷却キャンの下方に配置
された、蒸着材料を収容する、上記冷却キャン上の帯状
基板部材の全幅に亘って十分な長さを有するるつぼと、
このるつぼに収容された蒸着材料を加熱蒸発せしめる電
子ビームを射出する電子ビーム源と、この電子ビームを
上記蒸着材料に、上記るつぼの幅方向に往復走査させる
走査手段とを備えた蒸着装置であって、上記走査手段に
よる電子ビームの走査パターンに応じて、上記基板部材
に蒸着材料を均一に堆積させるように蒸着材料の冷却を
行なう、上記るつぼに密着して配された少なくとも１つ
の冷却手段を備えてなることを特徴とするものである。
実施するための装置であって、帯状の基板部材を懸架す
る円筒状の冷却キャンと、この冷却キャンの下方に配置
された、蒸着材料を収容する、上記冷却キャン上の帯状
基板部材の全幅に亘って十分な長さを有するるつぼと、
このるつぼに収容された蒸着材料を加熱蒸発せしめる電
子ビームを射出する電子ビーム源と、この電子ビームを
上記蒸着材料に、上記るつぼの幅方向に往復走査させる
走査手段とを備えた蒸着装置であって、上記走査手段に
よる電子ビームの走査パターンに応じて、上記基板部材
に蒸着材料を均一に堆積させるように蒸着材料の冷却を
行なう、上記るつぼに密着して配された少なくとも１つ
の冷却手段を備えてなることを特徴とするものである。
【００１２】すなわち上記走査手段が電子ビームを所定
の走査パターンで走査することによって形成される蒸着
材料の温度分布の高温を呈する部分を、上記蒸着材料が
基板部材に均一に堆積されるように、上記るつぼの下面
に配された冷却手段によって冷却することを特徴とする
ものである。
の走査パターンで走査することによって形成される蒸着
材料の温度分布の高温を呈する部分を、上記蒸着材料が
基板部材に均一に堆積されるように、上記るつぼの下面
に配された冷却手段によって冷却することを特徴とする
ものである。
【００１３】ここで上記蒸着装置は例えば上記走査パタ
ーンが三角波状である場合は、蒸着材料の高温部であ
る、上記るつぼの幅方向の略中央部を冷却するように配
された冷却手段を備え、また上記走査パターンが正弦波
状である場合は、蒸着材料の高温部である、上記るつぼ
の幅方向の中央部より外側を冷却するように配された冷
却手段を備え、さらに上記走査パターンが矩形波状であ
る場合は、蒸着材料の高温部である、上記るつぼの幅方
向の略外縁部を冷却するように配された冷却手段を備え
るものを採用することができる。
ーンが三角波状である場合は、蒸着材料の高温部であ
る、上記るつぼの幅方向の略中央部を冷却するように配
された冷却手段を備え、また上記走査パターンが正弦波
状である場合は、蒸着材料の高温部である、上記るつぼ
の幅方向の中央部より外側を冷却するように配された冷
却手段を備え、さらに上記走査パターンが矩形波状であ
る場合は、蒸着材料の高温部である、上記るつぼの幅方
向の略外縁部を冷却するように配された冷却手段を備え
るものを採用することができる。
【００１４】ここで上記走査パターンは、必ずしも１つ
の走査パターンに限るものではなく、上記走査および冷
却が追従し得る限り、いくつかの走査パターンを組み合
わせたものであってもよい。
の走査パターンに限るものではなく、上記走査および冷
却が追従し得る限り、いくつかの走査パターンを組み合
わせたものであってもよい。
【００１５】
【作用および発明の効果】本発明の蒸着方法によれば、
電子ビームが所定の走査パターンで蒸着材料に走査さ
れ、それよって加熱される蒸着材料に温度分布が形成さ
れ、この温度分布のうち高温を呈する部分を、上記蒸着
材料を基板部材に均一に堆積させるように冷却する。そ
してこの冷却された蒸着材料は蒸発されて、上記基板部
材上に膜厚が均一の蒸着膜を形成させる。
電子ビームが所定の走査パターンで蒸着材料に走査さ
れ、それよって加熱される蒸着材料に温度分布が形成さ
れ、この温度分布のうち高温を呈する部分を、上記蒸着
材料を基板部材に均一に堆積させるように冷却する。そ
してこの冷却された蒸着材料は蒸発されて、上記基板部
材上に膜厚が均一の蒸着膜を形成させる。
【００１６】このように本発明の蒸着方法は、電子ビー
ムの走査パターンに応じて形成される蒸着材料の高温部
を冷却するものであるから、低コストで均一な膜厚の蒸
着膜を形成することができる。
ムの走査パターンに応じて形成される蒸着材料の高温部
を冷却するものであるから、低コストで均一な膜厚の蒸
着膜を形成することができる。
【００１７】また本発明の蒸着装置によれば、走査手段
が電子ビームを所定の走査パターンで走査し、それによ
って蒸着材料に温度分布が形成され、この温度分布の高
温を呈する部分を、上記蒸着材料を基板部材に均一に堆
積させるように、るつぼの下面に配された冷却手段によ
って冷却する。そしてこの冷却された蒸着材料は蒸発さ
れて、冷却キャンに懸架された基板部材上に膜厚が均一
の蒸着膜を形成させる。 このように本発明の蒸着方法
は、上記蒸着方法を容易に実施することができる。
が電子ビームを所定の走査パターンで走査し、それによ
って蒸着材料に温度分布が形成され、この温度分布の高
温を呈する部分を、上記蒸着材料を基板部材に均一に堆
積させるように、るつぼの下面に配された冷却手段によ
って冷却する。そしてこの冷却された蒸着材料は蒸発さ
れて、冷却キャンに懸架された基板部材上に膜厚が均一
の蒸着膜を形成させる。 このように本発明の蒸着方法
は、上記蒸着方法を容易に実施することができる。
【００１８】
【実施例】以下、図面を用いて本発明の実施例について
説明する。
説明する。
【００１９】図１は本発明にかかる蒸着装置の一例を示
す概略図、図２は図１に示した蒸着装置のるつぼ部のI-
I 線断面を示す断面図である。図示の蒸着装置１は、巻
出ロール６に巻き付けられたＰＥＴ（ポリエチレンテレ
フタレート）からなる帯状のベースフイルム10a を懸架
する冷却キャン２と、この冷却キャン２の下方にＣｏ80
Ｎｉ20合金などの蒸着材料３を収容したるつぼ９が設け
られている。このるつぼ９はセラミックス製で、上記冷
却キャン２上のベースフイルム10a の全幅に亘って十分
な長さを有している。さらに、このるつぼ９に収容され
た蒸着材料３を加熱蒸発させる電子ビーム５を射出する
電子ビーム源４と、この電子ビーム源４から射出された
電子ビーム５を、るつぼの幅方向について図３に示す三
角波形の走査パターンで上記蒸着材料３に走査させる走
査手段15と、るつぼ９の下面に埋設された冷却手段20と
を備えている。この冷却手段20は、るつぼの幅方向（図
２参照）の略中央部に最も太い直径の水管20a 、中央部
から両外側に向うごとに直径が細い水管20b ，20c ，20
d が組み合わされている。これらの水管の内部には常に
冷却水が還流している。
す概略図、図２は図１に示した蒸着装置のるつぼ部のI-
I 線断面を示す断面図である。図示の蒸着装置１は、巻
出ロール６に巻き付けられたＰＥＴ（ポリエチレンテレ
フタレート）からなる帯状のベースフイルム10a を懸架
する冷却キャン２と、この冷却キャン２の下方にＣｏ80
Ｎｉ20合金などの蒸着材料３を収容したるつぼ９が設け
られている。このるつぼ９はセラミックス製で、上記冷
却キャン２上のベースフイルム10a の全幅に亘って十分
な長さを有している。さらに、このるつぼ９に収容され
た蒸着材料３を加熱蒸発させる電子ビーム５を射出する
電子ビーム源４と、この電子ビーム源４から射出された
電子ビーム５を、るつぼの幅方向について図３に示す三
角波形の走査パターンで上記蒸着材料３に走査させる走
査手段15と、るつぼ９の下面に埋設された冷却手段20と
を備えている。この冷却手段20は、るつぼの幅方向（図
２参照）の略中央部に最も太い直径の水管20a 、中央部
から両外側に向うごとに直径が細い水管20b ，20c ，20
d が組み合わされている。これらの水管の内部には常に
冷却水が還流している。
【００２０】次に本実施例の作用について説明する。
【００２１】まずチャンバ11の内部は図示しないポンプ
により 1.0×10-4Torr以下の真空状態とされる。
により 1.0×10-4Torr以下の真空状態とされる。
【００２２】巻出ロール６から巻き出されたベースフイ
ルム10a は冷却キャン２に懸架され、この冷却キャン２
が矢印方向に回転することによって巻取ロール７の方向
へ搬送される。
ルム10a は冷却キャン２に懸架され、この冷却キャン２
が矢印方向に回転することによって巻取ロール７の方向
へ搬送される。
【００２３】一方、電子ビーム源４から射出された電子
ビーム５は、偏向コイル等の走査手段15の、図３に示す
三角波状の走査パターンによって、るつぼ９に収容され
た蒸着材料３を走査する。この電子ビーム５に走査され
た蒸着材料３は、この電子ビーム５のエネルギにより加
熱蒸発し、遮蔽板８の開口部8aを通過して、冷却キャン
２の周壁に沿って懸架されたベースフイルム10a 上に堆
積し、蒸着膜10b を形成する。
ビーム５は、偏向コイル等の走査手段15の、図３に示す
三角波状の走査パターンによって、るつぼ９に収容され
た蒸着材料３を走査する。この電子ビーム５に走査され
た蒸着材料３は、この電子ビーム５のエネルギにより加
熱蒸発し、遮蔽板８の開口部8aを通過して、冷却キャン
２の周壁に沿って懸架されたベースフイルム10a 上に堆
積し、蒸着膜10b を形成する。
【００２４】ところで上記蒸着膜10b の幅方向の膜厚分
布は、蒸着源である、るつぼ９に収容された蒸着材料３
のるつぼの幅方向に対応する方向の温度分布に依存する
ところが大きく、またこの蒸着材料３のるつぼの幅方向
に対応する方向の温度分布は、この蒸着材料３を走査す
る電子ビーム５の走査パターンによって決定される。本
実施例の三角波状の走査パターンの場合、上記温度分布
はるつぼの幅方向の略中央部の温度が高く、この温度分
布のままで蒸発されると、ベースフイルム10a上に形成
される蒸着膜10b の膜厚分布は、図４に示すように略中
央部で厚くなる。
布は、蒸着源である、るつぼ９に収容された蒸着材料３
のるつぼの幅方向に対応する方向の温度分布に依存する
ところが大きく、またこの蒸着材料３のるつぼの幅方向
に対応する方向の温度分布は、この蒸着材料３を走査す
る電子ビーム５の走査パターンによって決定される。本
実施例の三角波状の走査パターンの場合、上記温度分布
はるつぼの幅方向の略中央部の温度が高く、この温度分
布のままで蒸発されると、ベースフイルム10a上に形成
される蒸着膜10b の膜厚分布は、図４に示すように略中
央部で厚くなる。
【００２５】そこで本実施例では、図２に示すようにる
つぼ９の下面に埋設された、直径の異なる水管20のそれ
ぞれに冷却水を流すことによって、この蒸着材料３の中
央部を両端部より強く冷却し、それによって蒸着材料３
の温度分布を、この蒸着材料３がベースフイルム10a に
均一な膜厚で堆積するようにコントロールしている。
つぼ９の下面に埋設された、直径の異なる水管20のそれ
ぞれに冷却水を流すことによって、この蒸着材料３の中
央部を両端部より強く冷却し、それによって蒸着材料３
の温度分布を、この蒸着材料３がベースフイルム10a に
均一な膜厚で堆積するようにコントロールしている。
【００２６】つまり、るつぼ９に埋設された水管の直径
が太いほど冷却性能は高いため、るつぼ９の中央部は端
部よりも強く冷却され、それによって蒸着材料３の中央
部の温度を低下させて上記ベースフイルム10a に堆積さ
れる蒸着膜の中央部が端部に較べて厚くなることを低減
させることができ、均一な膜厚の蒸着膜を得ることがで
きる。
が太いほど冷却性能は高いため、るつぼ９の中央部は端
部よりも強く冷却され、それによって蒸着材料３の中央
部の温度を低下させて上記ベースフイルム10a に堆積さ
れる蒸着膜の中央部が端部に較べて厚くなることを低減
させることができ、均一な膜厚の蒸着膜を得ることがで
きる。
【００２７】本実施例の蒸着装置１は走査手段15の走査
パターンが図３に示すように三角波状であるが、本発明
の蒸着装置は上記実施例の走査パターンに限るものでは
なく、例えば図５(a) に示す正弦波状の走査パターンや
図５(b) に示す矩形波状の走査パターンなどを採用する
ことができる。
パターンが図３に示すように三角波状であるが、本発明
の蒸着装置は上記実施例の走査パターンに限るものでは
なく、例えば図５(a) に示す正弦波状の走査パターンや
図５(b) に示す矩形波状の走査パターンなどを採用する
ことができる。
【００２８】正弦波状の走査パターンを採用した場合、
ベースフイルム10a 上に形成される蒸着膜10b の膜厚は
図６(a) に示すように、幅方向の中央部よりも外側の部
分で厚くなり、さらに外側の端縁部分は中央部分よりわ
ずかに厚いという分布となるので、るつぼ９の下面に図
７(a) に示すようにるつぼの幅方向の中央部よりも外側
の部分に直径の太い水管を配したこの部分を最も冷却さ
せ、最外側に近い部分に中程度の太さの水管を配し、中
央部には細い水管を配して、各々の部分を冷却すること
によって、上記ベースフイルム10a 上に均一に膜厚の蒸
着膜を形成することができる。
ベースフイルム10a 上に形成される蒸着膜10b の膜厚は
図６(a) に示すように、幅方向の中央部よりも外側の部
分で厚くなり、さらに外側の端縁部分は中央部分よりわ
ずかに厚いという分布となるので、るつぼ９の下面に図
７(a) に示すようにるつぼの幅方向の中央部よりも外側
の部分に直径の太い水管を配したこの部分を最も冷却さ
せ、最外側に近い部分に中程度の太さの水管を配し、中
央部には細い水管を配して、各々の部分を冷却すること
によって、上記ベースフイルム10a 上に均一に膜厚の蒸
着膜を形成することができる。
【００２９】また矩形波状の走査パターンを採用した場
合、ベースフイルム10a 上に形成される蒸着膜10b の膜
厚は図６(b) に示すように、幅方向の中央部が最も薄
く、外縁に近い部分ほど厚いという分布となるので、る
つぼの下面に図７(b) に示すようにるつぼの幅方向の中
央部に最も直径の細い水管を配し、外側に近い部分に太
い水管を配して、各々の部分を冷却することによって、
上記ベースフイルム10a上に均一な膜厚の蒸着膜を形成
することができる。
合、ベースフイルム10a 上に形成される蒸着膜10b の膜
厚は図６(b) に示すように、幅方向の中央部が最も薄
く、外縁に近い部分ほど厚いという分布となるので、る
つぼの下面に図７(b) に示すようにるつぼの幅方向の中
央部に最も直径の細い水管を配し、外側に近い部分に太
い水管を配して、各々の部分を冷却することによって、
上記ベースフイルム10a上に均一な膜厚の蒸着膜を形成
することができる。
【００３０】このように本発明の蒸着装置によれば、均
一な膜厚の蒸着膜を低コストで形成することができる。
一な膜厚の蒸着膜を低コストで形成することができる。
【００３１】なお本発明の蒸着装置は上記実施例のよう
に冷却手段として水を流したり水管を用いるものに限る
ものではななく、またこの冷却手段を設置する数量も上
記実施例の態様に限るものではない。また、電子ビーム
の走査パターンも上記三角波、正弦波、矩形波に限るも
のではなく、走査手段の追従性の許す限りこれらを組み
合わせた走査パターンや、その他の走査パターンを採用
することができる。この場合、冷却手段を可動型のもの
として、冷却するるつぼの位置を、上記走査パターンに
対応させて移動し得る構成を採用することができる。
に冷却手段として水を流したり水管を用いるものに限る
ものではななく、またこの冷却手段を設置する数量も上
記実施例の態様に限るものではない。また、電子ビーム
の走査パターンも上記三角波、正弦波、矩形波に限るも
のではなく、走査手段の追従性の許す限りこれらを組み
合わせた走査パターンや、その他の走査パターンを採用
することができる。この場合、冷却手段を可動型のもの
として、冷却するるつぼの位置を、上記走査パターンに
対応させて移動し得る構成を採用することができる。
【００３２】以下、本実施例の蒸着装置による具体的な
実験結果を示す。
実験結果を示す。
【００３３】本実験は幅500mm のベースフイルムを搬送
スピード60ｍ／min で冷却キャンの周壁に沿って搬送さ
せ、異なる３つの走査パターンと冷却パターンとの組み
合わせによって蒸着膜を形成させた。ここで蒸着材料と
してＣｏ80Ｎｉ20の合金を使用し、この蒸着材料を幅 7
00mm×長さ 120mmのセラミックス製のるつぼ内に収容
し、出力90〜100kW の電子ビームを上記走査パターンに
従って走査した。また、るつぼの冷却方法は、１つの水
源から流出する冷却水をるつぼの下面に面した各水管に
分岐させて流し、るつぼの下面の形状を各水管の周壁に
沿わせた形状に加工して行なった。なお比較例（従来の
方法）の冷却方法はるつぼの下面に同じ太さの水管を、
幅方向に複数本並設し、るつぼを均等に冷却した（図８
参照）。
スピード60ｍ／min で冷却キャンの周壁に沿って搬送さ
せ、異なる３つの走査パターンと冷却パターンとの組み
合わせによって蒸着膜を形成させた。ここで蒸着材料と
してＣｏ80Ｎｉ20の合金を使用し、この蒸着材料を幅 7
00mm×長さ 120mmのセラミックス製のるつぼ内に収容
し、出力90〜100kW の電子ビームを上記走査パターンに
従って走査した。また、るつぼの冷却方法は、１つの水
源から流出する冷却水をるつぼの下面に面した各水管に
分岐させて流し、るつぼの下面の形状を各水管の周壁に
沿わせた形状に加工して行なった。なお比較例（従来の
方法）の冷却方法はるつぼの下面に同じ太さの水管を、
幅方向に複数本並設し、るつぼを均等に冷却した（図８
参照）。
【００３４】この実験の評価は、得られたＯＤ値の分布
を膜厚分布に換算して行なった。
を膜厚分布に換算して行なった。
【００３５】表１および図９に実験結果を示す。
【００３６】
【表１】
【００３７】上記のとおりいずれの走査パターンにおい
ても本発明の蒸着装置による実験結果（実験 No.１，
３，５）は従来の蒸着装置による実験結果（実験 No.
２，４，６）に対して蒸着膜の膜厚を均一にすることが
できることが示された。
ても本発明の蒸着装置による実験結果（実験 No.１，
３，５）は従来の蒸着装置による実験結果（実験 No.
２，４，６）に対して蒸着膜の膜厚を均一にすることが
できることが示された。
【図１】本発明にかかる蒸着装置の一例を示す概略図
【図２】図１に示した蒸着装置のI-I 線断面を示す断面
図
図
【図３】電子ビームの三角波状の走査パターンを示すグ
ラフ
ラフ
【図４】三角波状の走査パターンにより形成される蒸着
膜の膜厚分布を示す分布図
膜の膜厚分布を示す分布図
【図５】(a) 電子ビームの正弦波状の走査パターンを示
すグラフ、(b) 電子ビームの矩形波状の走査パターンを
示すグラフ
すグラフ、(b) 電子ビームの矩形波状の走査パターンを
示すグラフ
【図６】(a) 正弦波状の走査パターンにより形成される
蒸着膜の膜厚分布を示す分布図、(b) 矩形波状の走査パ
ターンにより形成される蒸着膜の膜厚分布を示す分布図
蒸着膜の膜厚分布を示す分布図、(b) 矩形波状の走査パ
ターンにより形成される蒸着膜の膜厚分布を示す分布図
【図７】(a) 正弦波状の走査パターンに対応する冷却手
段の配置を示す配置図、(b) 矩形波状の走査パターンに
対応する冷却手段の配置を示す配置図、
段の配置を示す配置図、(b) 矩形波状の走査パターンに
対応する冷却手段の配置を示す配置図、
【図８】従来の冷却手段の配置を示す配置図
【図９】各走査パターンにより形成される蒸着膜の膜厚
分布を示す分布図
分布を示す分布図
１ 蒸着装置 ２ 冷却キャン ３ 蒸着材料 ４ 電子ビーム源 ５ 電子ビーム ６ 巻出ロール ７ 巻取ロール ８ 遮蔽板 8a 開口部 ９ るつぼ 10 蒸着テープ 10a ベースフイルム 10b 蒸着膜 11 チャンバ 20，21，22 冷却水用の水管
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成５年１月６日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正内容】
【００３３】本実験は幅500mm のベースフイルムを搬送
スピード60ｍ／min で冷却キャンの周壁に沿って搬送さ
せ、異なる３つの走査パターンと冷却パターンとの組み
合わせによって蒸着膜を形成させた。ここで蒸着材料と
してＣｏ80Ｎｉ20の合金を使用し、この蒸着材料を幅 7
50mm×長さ 120mmのセラミックス製のるつぼ内に収容
し、出力90〜100kW の電子ビームを上記走査パターンに
従って走査した。また、るつぼの冷却方法は、１つの水
源から流出する冷却水をるつぼの下面に面した各水管に
分岐させて流し、るつぼの下面の形状を各水管の周壁に
沿わせた形状に加工して行なった。なお比較例（従来の
方法）の冷却方法はるつぼの下面に同じ太さの水管を、
幅方向に複数本並設し、るつぼを均等に冷却した（図８
参照）。
スピード60ｍ／min で冷却キャンの周壁に沿って搬送さ
せ、異なる３つの走査パターンと冷却パターンとの組み
合わせによって蒸着膜を形成させた。ここで蒸着材料と
してＣｏ80Ｎｉ20の合金を使用し、この蒸着材料を幅 7
50mm×長さ 120mmのセラミックス製のるつぼ内に収容
し、出力90〜100kW の電子ビームを上記走査パターンに
従って走査した。また、るつぼの冷却方法は、１つの水
源から流出する冷却水をるつぼの下面に面した各水管に
分岐させて流し、るつぼの下面の形状を各水管の周壁に
沿わせた形状に加工して行なった。なお比較例（従来の
方法）の冷却方法はるつぼの下面に同じ太さの水管を、
幅方向に複数本並設し、るつぼを均等に冷却した（図８
参照）。
【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１
【補正方法】変更
【補正内容】
【図１】
Claims (5)
- 【請求項１】 蒸着材料に電子ビームを走査して該蒸着
材料を加熱蒸発させ、該加熱蒸発された蒸着材料を帯状
の基板部材に堆積させる蒸着方法において、 前記蒸着材料を前記基板部材に均一に堆積させるよう
に、前記電子ビームが蒸着材料を走査する走査パターン
に応じて前記蒸着材料を冷却することを特徴とする蒸着
方法。 - 【請求項２】 帯状の基板部材を懸架する円筒状の冷却
キャンと、該冷却キャンの下方に配置された、蒸着材料
を収容する、前記冷却キャン上の帯状基板部材の全幅に
亘って十分な長さを有するるつぼと、該るつぼに収容さ
れた蒸着材料を加熱蒸発せしめる電子ビームを射出する
電子ビーム源と、該電子ビームを前記蒸着材料に、前記
るつぼの幅方向に往復走査させる走査手段とを備えた蒸
着装置であって、 前記走査手段による電子ビームの走査パターンに応じ
て、前記基板部材に蒸着材料を均一に堆積させるように
蒸着材料の冷却を行なう、前記るつぼに密着して配され
た少なくとも１つの冷却手段を備えてなることを特徴と
する蒸着装置。 - 【請求項３】 前記走査パターンが三角波状であって、
前記冷却手段が前記るつぼの幅方向の略中央部を冷却す
るように配されていることを特徴とする請求項２記載の
蒸着装置。 - 【請求項４】 前記走査パターンが正弦波状であって、
前記冷却手段が前記るつぼの幅方向の中央部より外側を
冷却するように配されていることを特徴とする請求項２
記載の蒸着装置。 - 【請求項５】 前記走査パターンが矩形波状であって、
前記冷却手段が前記るつぼの幅方向の略外縁部を冷却す
るように配されていることを特徴とする請求項２記載の
蒸着装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4324091A JPH06172984A (ja) | 1992-12-03 | 1992-12-03 | 蒸着方法および装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4324091A JPH06172984A (ja) | 1992-12-03 | 1992-12-03 | 蒸着方法および装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06172984A true JPH06172984A (ja) | 1994-06-21 |
Family
ID=18162061
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4324091A Withdrawn JPH06172984A (ja) | 1992-12-03 | 1992-12-03 | 蒸着方法および装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06172984A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012097338A (ja) * | 2010-11-04 | 2012-05-24 | Kaneka Corp | 蒸着装置及び有機ｅｌ装置の製造方法 |
| JP2018016836A (ja) * | 2016-07-27 | 2018-02-01 | 日本電子株式会社 | 間接加熱蒸着源 |
| CN110797242A (zh) * | 2019-11-04 | 2020-02-14 | 中国航空制造技术研究院 | 一种用于镀膜的冷阴极电子枪装置 |
-
1992
- 1992-12-03 JP JP4324091A patent/JPH06172984A/ja not_active Withdrawn
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012097338A (ja) * | 2010-11-04 | 2012-05-24 | Kaneka Corp | 蒸着装置及び有機ｅｌ装置の製造方法 |
| JP2018016836A (ja) * | 2016-07-27 | 2018-02-01 | 日本電子株式会社 | 間接加熱蒸着源 |
| CN110797242A (zh) * | 2019-11-04 | 2020-02-14 | 中国航空制造技术研究院 | 一种用于镀膜的冷阴极电子枪装置 |
| CN110797242B (zh) * | 2019-11-04 | 2022-06-10 | 中国航空制造技术研究院 | 一种用于镀膜的冷阴极电子枪装置 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20000307 |