JPH11193460A - 真空容器内の巻き取り装置 - Google Patents
真空容器内の巻き取り装置Info
- Publication number
- JPH11193460A JPH11193460A JP36671597A JP36671597A JPH11193460A JP H11193460 A JPH11193460 A JP H11193460A JP 36671597 A JP36671597 A JP 36671597A JP 36671597 A JP36671597 A JP 36671597A JP H11193460 A JPH11193460 A JP H11193460A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate material
- roll
- guide roll
- vapor
- film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000004804 winding Methods 0.000 title claims description 14
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 38
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 38
- 230000037303 wrinkles Effects 0.000 abstract description 15
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 abstract description 14
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 5
- 238000007665 sagging Methods 0.000 abstract description 3
- 239000010408 film Substances 0.000 description 24
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 14
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 14
- 230000005291 magnetic effect Effects 0.000 description 12
- 230000005294 ferromagnetic effect Effects 0.000 description 11
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 10
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 description 10
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 8
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 6
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 6
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 4
- 230000032258 transport Effects 0.000 description 4
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 3
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000005856 abnormality Effects 0.000 description 1
- 230000001464 adherent effect Effects 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000005485 electric heating Methods 0.000 description 1
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 1
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 239000013077 target material Substances 0.000 description 1
- 238000000427 thin-film deposition Methods 0.000 description 1
- 238000005019 vapor deposition process Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Winding Of Webs (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 真空容器内において被着基体材料を搬送する
のに、局部的たるみによってお こるシワの発生を抑制
し製品歩留まりを向上する。 【課題手段】蒸着装置１０１の真空容器１１０内でテー
プ状の被着基体材料１０２を搬送するガイ ドロール２
０１に被着基体材料１０２の巾方向の両端部にかかる部
位で被着基体材料両 端外側方向に直径を漸増したテー
パー部２０２を設けることで、被着基体材料１０２に
発生している局所的なたるみに起因するシワの発生を抑
制できる。またガイドロール表 面の温度調整を行うこ
とでシワ発生防止効果を高めることができる。
のに、局部的たるみによってお こるシワの発生を抑制
し製品歩留まりを向上する。 【課題手段】蒸着装置１０１の真空容器１１０内でテー
プ状の被着基体材料１０２を搬送するガイ ドロール２
０１に被着基体材料１０２の巾方向の両端部にかかる部
位で被着基体材料両 端外側方向に直径を漸増したテー
パー部２０２を設けることで、被着基体材料１０２に
発生している局所的なたるみに起因するシワの発生を抑
制できる。またガイドロール表 面の温度調整を行うこ
とでシワ発生防止効果を高めることができる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、磁気テープ、その
他長尺フィルム状の基体材料に各種金属薄膜層を蒸着す
る際に用いられる成膜処理装置、特に被着基体材料を真
空容器内において搬送して、ロール状に巻き取り処理す
る真空容器内の巻き取り装置も関するものである。
他長尺フィルム状の基体材料に各種金属薄膜層を蒸着す
る際に用いられる成膜処理装置、特に被着基体材料を真
空容器内において搬送して、ロール状に巻き取り処理す
る真空容器内の巻き取り装置も関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来の真空容器内において被着基体材料
を搬送してロール状に巻き取る装置は、一般に蒸着、Ｃ
ＶＤ、スパッタなど金属薄膜やプラズマ重合膜形成のた
めの蒸着処理に用いられる。このような蒸着技術の一つ
の使用方法として、図３に示すように磁気記録媒体の強
磁性金属薄膜の成膜装置としての使用方法があるが、こ
の蒸着は、蒸着装置１の真空容器２内において電子銃１
０により発生した電子ビームＢにより蒸着るつぼ４内の
蒸着材料３を蒸発Ｖ０して、これを被蒸着材料Ｖ１に蒸
着させる技術である。例えばＣｏ（コバ ルト）、また
はＣｏを主体とし、さらにＮｉ（ニッケル）等を含有
し、斜め蒸着法によって形成された強磁性金属薄膜を磁
性層とする磁気テープは、飽和磁束密度が大きく、しか
も保磁力が高く、すぐれた電磁変換特性を示すことが知
られている。この斜め蒸着法では、強磁性金属の蒸気を
被磁性基体の表面に特定の角度で入射させ、基体に対し
傾いた柱状結晶粒子からなる強磁性金属薄膜を形成する
ので、斜め蒸着を行なうに際しては、通常真空容器内で
長尺フィルム状の非磁性基体を回転する冷却ドラムの表
面に添わせて搬送しながら、定置された蒸着るつぼ中の
強磁性金属の溶湯表面に電子ビームを照射して蒸発させ
るものである。
を搬送してロール状に巻き取る装置は、一般に蒸着、Ｃ
ＶＤ、スパッタなど金属薄膜やプラズマ重合膜形成のた
めの蒸着処理に用いられる。このような蒸着技術の一つ
の使用方法として、図３に示すように磁気記録媒体の強
磁性金属薄膜の成膜装置としての使用方法があるが、こ
の蒸着は、蒸着装置１の真空容器２内において電子銃１
０により発生した電子ビームＢにより蒸着るつぼ４内の
蒸着材料３を蒸発Ｖ０して、これを被蒸着材料Ｖ１に蒸
着させる技術である。例えばＣｏ（コバ ルト）、また
はＣｏを主体とし、さらにＮｉ（ニッケル）等を含有
し、斜め蒸着法によって形成された強磁性金属薄膜を磁
性層とする磁気テープは、飽和磁束密度が大きく、しか
も保磁力が高く、すぐれた電磁変換特性を示すことが知
られている。この斜め蒸着法では、強磁性金属の蒸気を
被磁性基体の表面に特定の角度で入射させ、基体に対し
傾いた柱状結晶粒子からなる強磁性金属薄膜を形成する
ので、斜め蒸着を行なうに際しては、通常真空容器内で
長尺フィルム状の非磁性基体を回転する冷却ドラムの表
面に添わせて搬送しながら、定置された蒸着るつぼ中の
強磁性金属の溶湯表面に電子ビームを照射して蒸発させ
るものである。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】ところで、このような
従来の蒸着装置にあっては、真空容器内においてテープ
状の被着基体材料を搬送する手段として等径のガイドロ
ールを用いていたために、被蒸着材料である非磁性基体
の平坦度が不完全なことによって、フィルム搬送中や巻
き取り工程でシワや盛り上がり等の不具合が発生してい
た。特にフィルム切断時の影響によりフィルム端部形状
異常が多く、その結果フィルム端部に多くシワが発生し
ていた。そこで、特開昭５５−４４４９４号公報に開示
された装置では、フィルムのたるみ等の不具合を解消す
る方法としてガイドロール端部の方が径の小さくなるよ
うなテーパー部を持ったガイドロールを用いることが提
案されている。この形状のガイドロールを設置すること
によりフィルム端部の応力を最小にしてシワの解決を図
っているが、この方法ではフィルムの全体的なたるみに
は対応が可能であっても、局所的なたるみには全く効果
がなく、フィルムにシワや盛り上がり等の不具合の発生
があって、製品歩留まりも悪く問題であった。本発明
は、これら従来の欠点を排除しようとするもので、金属
薄膜の蒸着成膜装置として、フィルムの平坦度が不完全
でもシワ無く、被着基体材料が走行可能で走行安定性も
増して高品質の成膜処理を高能率で行える真空容器内の
巻き取り装置を提供することを目的とするものである。
従来の蒸着装置にあっては、真空容器内においてテープ
状の被着基体材料を搬送する手段として等径のガイドロ
ールを用いていたために、被蒸着材料である非磁性基体
の平坦度が不完全なことによって、フィルム搬送中や巻
き取り工程でシワや盛り上がり等の不具合が発生してい
た。特にフィルム切断時の影響によりフィルム端部形状
異常が多く、その結果フィルム端部に多くシワが発生し
ていた。そこで、特開昭５５−４４４９４号公報に開示
された装置では、フィルムのたるみ等の不具合を解消す
る方法としてガイドロール端部の方が径の小さくなるよ
うなテーパー部を持ったガイドロールを用いることが提
案されている。この形状のガイドロールを設置すること
によりフィルム端部の応力を最小にしてシワの解決を図
っているが、この方法ではフィルムの全体的なたるみに
は対応が可能であっても、局所的なたるみには全く効果
がなく、フィルムにシワや盛り上がり等の不具合の発生
があって、製品歩留まりも悪く問題であった。本発明
は、これら従来の欠点を排除しようとするもので、金属
薄膜の蒸着成膜装置として、フィルムの平坦度が不完全
でもシワ無く、被着基体材料が走行可能で走行安定性も
増して高品質の成膜処理を高能率で行える真空容器内の
巻き取り装置を提供することを目的とするものである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明は、真空容器内に
おいてテープ状の被着基体材料を搬送してロール状に巻
き取る真空容器内の巻き取り装置であって、真空容器内
の被着基体材料を供給ロールから巻き取りロールに搬送
する間にガイドロールを備え、該ガイドロールに、前記
被着基体材料の巾方向端部にかかる部位で被着基体材料
両端外側方向に直径を漸増したテーパー部を設けたもの
で、被着基体材料の局部的なたるみをなくしてシワの発
生を的確に抑制するものである。
おいてテープ状の被着基体材料を搬送してロール状に巻
き取る真空容器内の巻き取り装置であって、真空容器内
の被着基体材料を供給ロールから巻き取りロールに搬送
する間にガイドロールを備え、該ガイドロールに、前記
被着基体材料の巾方向端部にかかる部位で被着基体材料
両端外側方向に直径を漸増したテーパー部を設けたもの
で、被着基体材料の局部的なたるみをなくしてシワの発
生を的確に抑制するものである。
【０００５】また、本発明では、真空容器内においてテ
ープ状の被着基体材料をガイドロールで搬送してロール
状に巻き取る真空容器内の巻き取り装置であって、真空
容器内の被着基体材料を供給ロールから巻き取りロール
に搬送するガイドロールの表面を温度調整できる構成と
したことで、被着基体材料のシワの発生を効果的に抑制
することをも特徴としている。
ープ状の被着基体材料をガイドロールで搬送してロール
状に巻き取る真空容器内の巻き取り装置であって、真空
容器内の被着基体材料を供給ロールから巻き取りロール
に搬送するガイドロールの表面を温度調整できる構成と
したことで、被着基体材料のシワの発生を効果的に抑制
することをも特徴としている。
【０００６】
【発明の実施形態】本発明では、蒸着装置の真空容器内
においてテープ状の被着基体材料を供給ロールから巻き
取りロールに搬送する間にガイドロールを備え、該ガイ
ドロールに、前記被着基体材料の巾方向端部にかかる部
位で被着基体材料両端外側方向に直径を漸増したテーパ
ー部を設けたことで、被着基体材料端部に発生するシワ
がなくなり、局所的なフィルムたるみに起因するシワの
発生を抑制でき、製品歩留まりが約２０％向上した。ま
たガイドロール表面の温度調整を行うことで、蒸着時の
熱負荷によるフィルムの微小変形を段階的に減少させる
ことができ、搬送時の走行安定性が増してシワ発生抑制
効果を大幅に高められる。
においてテープ状の被着基体材料を供給ロールから巻き
取りロールに搬送する間にガイドロールを備え、該ガイ
ドロールに、前記被着基体材料の巾方向端部にかかる部
位で被着基体材料両端外側方向に直径を漸増したテーパ
ー部を設けたことで、被着基体材料端部に発生するシワ
がなくなり、局所的なフィルムたるみに起因するシワの
発生を抑制でき、製品歩留まりが約２０％向上した。ま
たガイドロール表面の温度調整を行うことで、蒸着時の
熱負荷によるフィルムの微小変形を段階的に減少させる
ことができ、搬送時の走行安定性が増してシワ発生抑制
効果を大幅に高められる。
【０００７】本発明の具体的構成について図１及び図２
の斜め蒸着装置の例で説明すると、蒸着装置１０１で
は、真空容器１１０中において、長尺フィルム状の非磁
性基体１０２を供給ロール１０３から繰り出し、回転す
る冷却ドラム１０４の表面に添わせてガイドロール２０
１で搬送しながら、定置された蒸着るつぼ１０５中の強
磁性金属１５０の表面に電子銃１０６からの電子ビーム
１０６Ｂを照射して斜め蒸着を行なうことにより、前記
非磁性基体１０２上に強磁性金属薄膜を形成する。この
強磁性金属薄膜が形成された非磁性基体１０２は、巻き
取りロール１０７に巻き取られる。
の斜め蒸着装置の例で説明すると、蒸着装置１０１で
は、真空容器１１０中において、長尺フィルム状の非磁
性基体１０２を供給ロール１０３から繰り出し、回転す
る冷却ドラム１０４の表面に添わせてガイドロール２０
１で搬送しながら、定置された蒸着るつぼ１０５中の強
磁性金属１５０の表面に電子銃１０６からの電子ビーム
１０６Ｂを照射して斜め蒸着を行なうことにより、前記
非磁性基体１０２上に強磁性金属薄膜を形成する。この
強磁性金属薄膜が形成された非磁性基体１０２は、巻き
取りロール１０７に巻き取られる。
【０００８】前記蒸着装置１０１の真空容器１１０内の
長尺フィルム状の非磁性基体を搬送するために設けられ
るガイドロール２０１は、図２の如くテープ状フィルム
の巾方向端部に相当する位置に幅１００ｍｍに対し、
０．１ｍｍ以上の半径が生じるようなテーパー部２０２
を有するガイドロールを用いる。さらに望ましくは幅１
００ｍｍに対し０．７ｍｍ以上の半径差が生じるテーパ
ー部２０２を有するガイドロール用いるが、このテーパ
ーの形状については特定されず、必要に応じて曲率を持
った形状でも良い。即ち、テープ状のフィルム端部にか
かる部位で幅方向に直径の大きくなるテーパー部２０２
を設けることで局部的なフィルムたるみをなくすように
するのがよい。
長尺フィルム状の非磁性基体を搬送するために設けられ
るガイドロール２０１は、図２の如くテープ状フィルム
の巾方向端部に相当する位置に幅１００ｍｍに対し、
０．１ｍｍ以上の半径が生じるようなテーパー部２０２
を有するガイドロールを用いる。さらに望ましくは幅１
００ｍｍに対し０．７ｍｍ以上の半径差が生じるテーパ
ー部２０２を有するガイドロール用いるが、このテーパ
ーの形状については特定されず、必要に応じて曲率を持
った形状でも良い。即ち、テープ状のフィルム端部にか
かる部位で幅方向に直径の大きくなるテーパー部２０２
を設けることで局部的なフィルムたるみをなくすように
するのがよい。
【０００９】さらに、前記ガイドロール２０１を温度調
整可能にすることにより、フィルムが蒸着されるときに
受ける熱負荷により発生する微小変形（収縮）を緩和
し、走行安定性が向上する。温度は３０〜７０℃の範囲
で適宜設定すればよく、望ましくは４０〜６０℃で処理
するものである。この温度調整する機構は電気的加熱、
高温媒体の循環など特に限定されるものではないが、ガ
イドロールの内部に加熱手段を配備するのがよい。
整可能にすることにより、フィルムが蒸着されるときに
受ける熱負荷により発生する微小変形（収縮）を緩和
し、走行安定性が向上する。温度は３０〜７０℃の範囲
で適宜設定すればよく、望ましくは４０〜６０℃で処理
するものである。この温度調整する機構は電気的加熱、
高温媒体の循環など特に限定されるものではないが、ガ
イドロールの内部に加熱手段を配備するのがよい。
【００１０】このテーパーを有するガイドロールまたは
温度調整可能のガイドローラの設置場所は限定されない
が、特に巻き取りロール直前とすると効果が大きい。さ
らにすべてのロールをテーパー部２０２のあるガイドロ
ール２０１の構造のものを用いてもよく、また温度調整
可能のガイドロールと組み合わせて状況に応じて適宜配
設すれば良い。さらにテーパーを有する前記ガイドロー
ル２０１を温度調節自在の構成として使用することもで
きる。
温度調整可能のガイドローラの設置場所は限定されない
が、特に巻き取りロール直前とすると効果が大きい。さ
らにすべてのロールをテーパー部２０２のあるガイドロ
ール２０１の構造のものを用いてもよく、また温度調整
可能のガイドロールと組み合わせて状況に応じて適宜配
設すれば良い。さらにテーパーを有する前記ガイドロー
ル２０１を温度調節自在の構成として使用することもで
きる。
【００１１】なお、前記真空容器１１０内では冷却ドラ
ム１０４に対向して開口１９２のある遮蔽板１９１と、
該開口１９２を開閉するシャッタ１９３とを備え、蒸発
する蒸着材料の蒸着処理を調整できるようにしてある。
図１中１０８は排気バルブ、１９４はシャッタ操作片で
ある。
ム１０４に対向して開口１９２のある遮蔽板１９１と、
該開口１９２を開閉するシャッタ１９３とを備え、蒸発
する蒸着材料の蒸着処理を調整できるようにしてある。
図１中１０８は排気バルブ、１９４はシャッタ操作片で
ある。
【実施例】図１に示される構成の斜め蒸着装置を用い
て、厚さ７μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥ
Ｔ）フィルムからなる非磁性基体１０２上に、強磁性金
属薄膜を形成した。平均の最小射角θｍｉｎ．を５０
度、るつぼの湯面とドラム１０４の蒸着面の平均距離を
約３００ｍｍ、遮蔽板１９１の開口１９２の幅を５００
ｍｍとした。まず、真空容器１１０内の圧力を１０-5Ｔ
ｏｒｒに保った。るつぼは、酸化マグネシウム製のもの
を用いた。電子銃のパワーは、１００ｋＷとした。ガス
供給ノズルからは、蒸着時に酸素主成分のガスを適宜調
整して供給した。また、蒸着目標厚は１８０ｍｍとし
た。
て、厚さ７μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥ
Ｔ）フィルムからなる非磁性基体１０２上に、強磁性金
属薄膜を形成した。平均の最小射角θｍｉｎ．を５０
度、るつぼの湯面とドラム１０４の蒸着面の平均距離を
約３００ｍｍ、遮蔽板１９１の開口１９２の幅を５００
ｍｍとした。まず、真空容器１１０内の圧力を１０-5Ｔ
ｏｒｒに保った。るつぼは、酸化マグネシウム製のもの
を用いた。電子銃のパワーは、１００ｋＷとした。ガス
供給ノズルからは、蒸着時に酸素主成分のガスを適宜調
整して供給した。また、蒸着目標厚は１８０ｍｍとし
た。
【００１２】表１に示すガイドロールを用いて処理した
際の各実施例と比較例とのシワ発生状況では、その優劣
差が明らかであった。
際の各実施例と比較例とのシワ発生状況では、その優劣
差が明らかであった。
【００１３】
【表１】
【００１４】また、温度調整可能のストレイトガイドロ
ールを用いた例において、表２に、各実施例と比較例と
のシワ発生状況を示す。
ールを用いた例において、表２に、各実施例と比較例と
のシワ発生状況を示す。
【００１５】
【表２】
【００１８】
【発明の効果】本発明は、真空容器内においてテープ状
の被着基体材料を供給ロールから巻き取りロールに搬送
する間にガイドロールを備え、該ガイドロールに、前記
被着基体材料の巾方向端部にかかる部位で被着基体材料
両端外側方向に直径を漸増したテーパー部を設けたこと
により、搬送される被着基体材料のフィルム端部に発生
するシワが無くなり製品歩留まりが約２０％向上した。
また、ガイドロールの温度調整を行なうことにより、蒸
着時の熱負荷によるフィルムの微小変形を段階的に減少
されることができると共に、搬送時の走行安定性も大幅
に増大させることができ、高品質の成膜処理を高能率で
行なうことができる。
の被着基体材料を供給ロールから巻き取りロールに搬送
する間にガイドロールを備え、該ガイドロールに、前記
被着基体材料の巾方向端部にかかる部位で被着基体材料
両端外側方向に直径を漸増したテーパー部を設けたこと
により、搬送される被着基体材料のフィルム端部に発生
するシワが無くなり製品歩留まりが約２０％向上した。
また、ガイドロールの温度調整を行なうことにより、蒸
着時の熱負荷によるフィルムの微小変形を段階的に減少
されることができると共に、搬送時の走行安定性も大幅
に増大させることができ、高品質の成膜処理を高能率で
行なうことができる。
【図１】本発明の実施例を示す装置の模式図である。
【図２】本発明で用いられるガイドロールの模式図であ
る。
る。
【図３】従来の蒸着装置を説明するための模式図であ
る。
る。
１ 蒸着装置 ２ 真空容器 ３ 浴湯 ４ 蒸着るつぼ １０ 電子銃 Ｂ 電子ビーム １０１ 蒸着装置 １０２ 非磁性基体 １０３ 供給ロール １０４ 冷却ドラム １０５ 浴湯 １０６ 電子銃 １０６Ｂ 電子ビーム １０７ 巻き取りロール １０８ 排気バルブ １１０ 真空槽 １５０ 強磁性金属 １９１ 遮蔽板 １９３ シャッター ２０１ ガイドロール ２０２ テーパー部
Claims (2)
- 【請求項１】 真空容器内においてテープ状の被着基体
材料を搬送してロール状に巻き取る真空容器内の巻き取
り装置であって、真空容器内の被着基体材料を供給ロー
ルから巻き取りロールに搬送する間にガイドロールを備
え、該ガイドロールに、前記被着基体材料の巾方向端部
にかかる部位で被着基体材料両端外側方向に直径を漸増
したテーパー部を設けたことを特徴とする真空容器内の
巻き取り装置。 - 【請求項２】 真空容器内において被着基体材料をガイ
ドロールで搬送してロール 状に巻き取る真空容器内の
巻き取り装置であって、真空容器内の被着基体材料を供
給ロールから巻き取りロールに搬送するガイドロールの
表面を温度調整できる構成としたことを特徴とする真空
容器内の巻き取り装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP36671597A JPH11193460A (ja) | 1997-12-26 | 1997-12-26 | 真空容器内の巻き取り装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP36671597A JPH11193460A (ja) | 1997-12-26 | 1997-12-26 | 真空容器内の巻き取り装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11193460A true JPH11193460A (ja) | 1999-07-21 |
Family
ID=18487483
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP36671597A Pending JPH11193460A (ja) | 1997-12-26 | 1997-12-26 | 真空容器内の巻き取り装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11193460A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2008139834A1 (ja) * | 2007-05-14 | 2008-11-20 | Ulvac, Inc. | フィルム搬送装置および巻取式真空成膜方法 |
| EP2085496A1 (en) * | 2008-01-31 | 2009-08-05 | FUJIFILM Corporation | Method for producing functional film |
| EP2119813A1 (en) * | 2008-05-16 | 2009-11-18 | Applied Materials, Inc. | Coating device with insulation |
| JP2015021161A (ja) * | 2013-07-19 | 2015-02-02 | 日東電工株式会社 | スパッタ装置 |
| CN108350571A (zh) * | 2015-11-20 | 2018-07-31 | 应用材料公司 | 用于柔性基板的载体 |
-
1997
- 1997-12-26 JP JP36671597A patent/JPH11193460A/ja active Pending
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2008139834A1 (ja) * | 2007-05-14 | 2008-11-20 | Ulvac, Inc. | フィルム搬送装置および巻取式真空成膜方法 |
| JP5024972B2 (ja) * | 2007-05-14 | 2012-09-12 | 株式会社アルバック | フィルム搬送装置および巻取式真空成膜方法 |
| EP2085496A1 (en) * | 2008-01-31 | 2009-08-05 | FUJIFILM Corporation | Method for producing functional film |
| US8133533B2 (en) | 2008-01-31 | 2012-03-13 | Fujifilm Corporation | Method for producing functional film |
| EP2119813A1 (en) * | 2008-05-16 | 2009-11-18 | Applied Materials, Inc. | Coating device with insulation |
| JP2015021161A (ja) * | 2013-07-19 | 2015-02-02 | 日東電工株式会社 | スパッタ装置 |
| CN108350571A (zh) * | 2015-11-20 | 2018-07-31 | 应用材料公司 | 用于柔性基板的载体 |
| JP2018537586A (ja) * | 2015-11-20 | 2018-12-20 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドＡｐｐｌｉｅｄ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ，Ｉｎｃｏｒｐｏｒａｔｅｄ | フレキシブル基板用のキャリア |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2010280943A (ja) | 蒸着装置及び蒸着方法 | |
| JPH11193460A (ja) | 真空容器内の巻き取り装置 | |
| JP4234338B2 (ja) | フィルムの蒸着方法 | |
| JP3555797B2 (ja) | 成膜装置および成膜方法 | |
| JP2007035161A (ja) | 磁気記録媒体の製造装置及び製造方法 | |
| JP2007100162A (ja) | 薄膜形成方法、磁気記録媒体製造方法および薄膜形成装置 | |
| EP0329116A1 (en) | Method for manufacturing perpendicular magnetic recording medium | |
| JPH11200011A (ja) | 真空蒸着装置 | |
| JPS61159573A (ja) | 真空蒸着装置 | |
| JP4206527B2 (ja) | ドライプレーティング装置 | |
| JP3781154B2 (ja) | 真空蒸着装置 | |
| JPS62151563A (ja) | 薄膜形成装置 | |
| JP2004143520A (ja) | 成膜装置 | |
| JPS6192431A (ja) | 磁気記録媒体の製造法 | |
| JPH01243234A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPS61289533A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法およびその装置 | |
| JPH06176360A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JP2000339675A (ja) | 磁気テープの製造方法及び磁気テープの製造装置 | |
| JP2650300B2 (ja) | 垂直磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPS6152361A (ja) | 薄膜形成方法 | |
| JPH11200023A (ja) | 真空蒸着装置 | |
| JPH07113162A (ja) | 薄膜の製造方法及び製造装置 | |
| JP2668953B2 (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPH11200047A (ja) | 真空蒸着装置 | |
| JP2000339680A (ja) | 磁気テープの製造方法及び磁気テープの製造装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Effective date: 20041117 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 |
|
| A521 | Written amendment |
Effective date: 20050222 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 |
|
| RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20050222 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20070614 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Effective date: 20070626 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Effective date: 20071030 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 |