JPH06172996A - Rotating and revolving holder device - Google Patents

Rotating and revolving holder device

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Publication number
JPH06172996A
JPH06172996A JP4322842A JP32284292A JPH06172996A JP H06172996 A JPH06172996 A JP H06172996A JP 4322842 A JP4322842 A JP 4322842A JP 32284292 A JP32284292 A JP 32284292A JP H06172996 A JPH06172996 A JP H06172996A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
rotation
revolution
sun gear
holder device
rotatably supported
Prior art date
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Pending
Application number
JP4322842A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Shigeyuki Yamamoto
重之 山本
Hatsuhiko Shibazaki
初彦 柴崎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP4322842A priority Critical patent/JPH06172996A/en
Publication of JPH06172996A publication Critical patent/JPH06172996A/en
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 大幅な部品点数削減と、横幅の低減を可能と
することにより、低コストでコンパクトな自公転ホルダ
ー装置を提供する。 【構成】 鉛直状態に立設された支持枠52と、支持枠
によって外周側から回転可能かつ鉛直状態に支持された
公転円板53と、公転円板53の中心軸を中心とする円
周上に配されると共に公転円板53を貫通する状態で回
転自在に支持された複数の自転軸59と、各自転軸59
の両端部に取付けられたホルダー60と、公軸円板53
の中心軸上に回転自在に支持された1つの太陽歯車65
と、各自転軸59に1対1対応で固着されると共に太陽
歯車65に噛み合う遊星歯車64と、公転円板53に回
転を与える回転駆動手段69、68、67、54aと、
太陽歯車65の回転を抑制する回転抑制手段66とを備
えたことを特徴とする。
(57) [Summary] [Purpose] To provide a compact and low-cost rotation holder device by enabling a significant reduction in the number of parts and a reduction in width. [Structure] A vertically extending support frame 52, an orbital disc 53 rotatably and vertically supported from the outer peripheral side by the support frame, and a circle centered on the central axis of the orbital disc 53. And a plurality of rotation shafts 59 that are rotatably supported in a state of penetrating the revolution disk 53 and each rotation shaft 59.
Holders 60 attached to both ends of the shaft and the shaft disc 53
Sun gear 65 rotatably supported on the central axis of
A planetary gear 64 fixed to each rotation shaft 59 in a one-to-one correspondence and meshing with the sun gear 65, and rotation driving means 69, 68, 67, 54a for rotating the revolution disk 53.
A rotation suppressing means 66 for suppressing the rotation of the sun gear 65 is provided.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、スパッタ装置内におい
て基板表面に成膜加工を施すために用いる基板支持用の
自公転ホルダー装置に主として利用されるものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention is mainly used for a substrate supporting auto-revolution holder device used for forming a film on the surface of a substrate in a sputtering apparatus.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、光ディスク、光磁気ディスク等の
円板状記録媒体の生産が増えている。
2. Description of the Related Art In recent years, the production of disk-shaped recording media such as optical disks and magneto-optical disks has increased.

【0003】これらの生産は一般には多層のスッパタ膜
を真空中で連続成膜を必要とされる。
These productions generally require continuous deposition of multilayer sputter films in vacuum.

【0004】複数枚の基板をホルダー装置に付けるが更
に生産性を上げるためホルダー装置の両面に基板を取付
け、ホルダー装置を鉛直に立て、その両側面にサイドス
ッパタで同時成膜が行われている。このとき膜厚の均一
性を出すため基板をホルダー装置側面内で自公転させる
必要がある。生産の自動化の要請ともあいまって、基板
を自公転させる機構を内蔵したホルダー装置を真空室外
部から駆動をかけて真空室間へ移動させると共に基板を
自公転させるものが開発されている。
Although a plurality of substrates are attached to the holder device, in order to further improve productivity, substrates are attached to both sides of the holder device, the holder device is erected vertically, and simultaneous film formation is performed on both side faces by side spatter. At this time, it is necessary to revolve the substrate within the side surface of the holder device in order to obtain uniform film thickness. Along with the demand for automation of production, there has been developed a device that drives a holder device having a mechanism for orbiting a substrate to rotate from outside the vacuum chamber to move between the vacuum chambers and to orbit the substrate.

【0005】以下図面を参照しながら、上述した従来の
自公転ホルダー装置の一例について説明する。
An example of the above-described conventional rotation and revolution holder device will be described below with reference to the drawings.

【0006】図3は従来の自公転ホルダー装置の断面図
を示すものである。図4はその側面図を示すものであ
る。1は搬送台、2は支持台、3a、3bは公転円板、
5はラック、6は支持ローラー、7はガイドローラー、
8はピニオンである。支持台2は搬送台1に固定され、
公転円板3a、3bは支持台2に回転自在に支持されて
いる。ラック5は搬送台1に固定されている。支持ロー
ラー6は外部に回転自在に支持されており、搬送台1を
水平搬送可能に保持している。ガイドローラー7は外部
機枠(図示省略)に回転自在に支持されており、搬送台
1が水平搬送されるとき斜行しないよう案内している。
ピニオン8は外部から回転駆動され、ラック5と噛み合
い、搬送台1を水平搬送する。9は自転軸、10は基板
ホルダー、11は基板、12は外周マスク、13は内周
マスク、14は遊星歯車、15a、15bは太陽歯車、
16、17は中間歯車、18は駆動歯車、19はスパッ
タガン、20はターゲットである。
FIG. 3 is a sectional view of a conventional rotation and revolution holder device. FIG. 4 shows a side view thereof. 1 is a carrier, 2 is a support, 3a and 3b are revolution disks,
5 is a rack, 6 is a support roller, 7 is a guide roller,
8 is a pinion. The support base 2 is fixed to the carrier base 1,
The revolution disks 3a and 3b are rotatably supported by the support base 2. The rack 5 is fixed to the carrier 1. The support roller 6 is rotatably supported to the outside, and holds the carrier 1 so that it can be horizontally carried. The guide roller 7 is rotatably supported by an external machine frame (not shown), and guides the carriage 1 so as not to skew when it is horizontally conveyed.
The pinion 8 is rotationally driven from the outside, meshes with the rack 5, and horizontally conveys the carrier 1. 9 is a rotation axis, 10 is a substrate holder, 11 is a substrate, 12 is an outer peripheral mask, 13 is an inner peripheral mask, 14 is a planetary gear, 15a and 15b are sun gears,
Reference numerals 16 and 17 are intermediate gears, 18 is a drive gear, 19 is a sputter gun, and 20 is a target.

【0007】自転軸9は公転円板3a、3bに回転自在
に支持されている。基板ホルダー10は自転軸9の外側
の一端に固定されている。外周マスク12と内周マスク
13は基板11をはさんで基板ホルダー10に固定され
ている。遊星歯車14は自転軸9に固定されている。左
右1対の太陽歯車15a、15bは夫々4つの遊星歯車
14に噛み合い、支持台2に固定されている。中間歯車
16は公転円板3aの周囲に切られた歯3cと噛み合い
支持台2に回転自在に支持されている。中間歯車17は
中間歯車16と噛み合い、搬送台1に回転自在に支持さ
れている。駆動歯車18は中間歯車17と噛み合い外部
から回転駆動される。すると回転力が中間歯車17、中
間歯車16と伝えられ、一方の公転円板3aを回転させ
る。一方の公転円板3aと他方の公転円板3bとは共通
軸32上に固定されており、同時に回転する。すると、
左右の公転円板3a、3bの夫々に支持された4本の自
転軸9が公転運動をする。このとき各遊星歯車14が、
固定された太陽歯車15と噛み合いながら公転運動する
ため自転軸9を回転中心とする自転運動が発生する。従
って基板ホルダー10に固定された基板11が自公転運
動を行ない、ターゲット20からスパッタリングされた
成膜の膜厚分布が均一化される。
The rotation shaft 9 is rotatably supported by the revolution disks 3a and 3b. The substrate holder 10 is fixed to one end outside the rotation shaft 9. The outer peripheral mask 12 and the inner peripheral mask 13 are fixed to the substrate holder 10 with the substrate 11 interposed therebetween. The planetary gear 14 is fixed to the rotation shaft 9. The pair of left and right sun gears 15 a and 15 b mesh with the four planetary gears 14 and are fixed to the support base 2. The intermediate gear 16 meshes with the teeth 3c cut around the revolution disk 3a and is rotatably supported by the support base 2. The intermediate gear 17 meshes with the intermediate gear 16 and is rotatably supported by the carrier 1. The drive gear 18 meshes with the intermediate gear 17 and is rotationally driven from the outside. Then, the rotational force is transmitted to the intermediate gear 17 and the intermediate gear 16, and the one revolution disk 3a is rotated. One revolution disk 3a and the other revolution disk 3b are fixed on the common shaft 32 and rotate at the same time. Then,
The four rotation shafts 9 supported by the left and right revolution discs 3a and 3b make revolution movements. At this time, each planetary gear 14
Since it revolves while meshing with the fixed sun gear 15, a revolving motion about the revolving shaft 9 is generated. Therefore, the substrate 11 fixed to the substrate holder 10 revolves around its axis, and the film thickness distribution of the film sputtered from the target 20 is made uniform.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記のよ
うな構成では、左右1対の公転円板3a、3bを共通軸
32を介して支持台2に支持させているため、公転円板
3a、3b、自転軸9及び基板ホルダー10を支持台2
の両側に分離して配設せざるを得ず、自公転用の遊星運
動機構や自転軸回転支持機構も支持台2の両側にほぼ同
様のものを二組構成することになる。このため、部品点
数が多くなり、自公転ホルダー装置の製造コストが高く
なる。また、自公転ホルダー装置の幅が広くなるため、
装置全体が大型化し占有スペースを大きくとらねばなら
ない上に、スパッタ装置に利用する場合には、真空排気
ポンプの能力アップや真空チャンバー、真空空間の仕切
弁の大型化が必要でスパッタ装置全体の製造コストも高
くなっていた。
However, in the above structure, since the pair of left and right revolution disks 3a and 3b are supported by the support base 2 via the common shaft 32, the revolution disks 3a and 3b. , The support shaft 2 for supporting the rotation shaft 9 and the substrate holder 10
There is no choice but to separately dispose them on both sides, and the planetary motion mechanism for rotation and revolution and the rotation shaft rotation support mechanism will be constituted by two sets of substantially similar ones on both sides of the support base 2. Therefore, the number of parts is increased, and the manufacturing cost of the rotation holder device is increased. Also, because the width of the rotation holder device becomes wider,
In addition to enlarging the size of the entire system and occupying a large space, it is necessary to increase the capacity of the vacuum exhaust pump and increase the size of the vacuum chamber and the sluice valve for the vacuum space when using the sputtering system. The cost was also high.

【0009】本発明は上記問題点に鑑み、自公転ホルダ
ー装置の遊星運動機構を一組にし、部品点数の大幅な削
減、装置の幅の減少を可能にし、低コスト化、コンパク
ト化を可能とする自公転ホルダー装置を提供することを
目的とする。
In view of the above problems, the present invention has a set of planetary motion mechanisms of a revolving holder device, makes it possible to significantly reduce the number of parts and the width of the device, and to achieve cost reduction and compactness. It is an object of the present invention to provide a self-revolving holder device that does.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本発明は上記目的を達成
するために、鉛直状態に立設された支持枠と、支持枠に
よって外周側から回転可能かつ鉛直状態に支持された公
転円板と、公転円板の中心軸を中心とする円周上に配さ
れると共に公転円板を貫通する状態で回転自在に支持さ
れた複数の自転軸と、各自転軸の両端部に取付けられた
ホルダーと、公軸円板の中心軸上に回転自在に支持され
た1つの太陽歯車と、各自転軸に1対1対応で固着され
ると共に太陽歯車に噛み合う遊星歯車と、公転円板に回
転を与える回転駆動手段と、太陽歯車の回転を抑制する
回転抑制手段とを備えたことを特徴とする。
SUMMARY OF THE INVENTION In order to achieve the above object, the present invention provides a support frame which is erected in a vertical state, and an orbital disk which is rotatable from the outer peripheral side by the support frame and is supported in the vertical state. , A plurality of rotation shafts that are arranged on the circumference around the center axis of the revolution disk and are rotatably supported while penetrating the revolution disk, and holders attached to both ends of each rotation shaft. , A sun gear rotatably supported on the center axis of the revolution disc, a planetary gear fixed to each rotation shaft in a one-to-one correspondence and meshing with the sun gear, and rotation of the revolution disc. It is characterized in that it is provided with a rotation driving means for giving and a rotation suppressing means for suppressing the rotation of the sun gear.

【0011】[0011]

【作用】本発明は上記した構成によって、自公転ホルダ
ー装置の自転軸とその回転保持機構、公転円板、遊星歯
車、太陽歯車等の部品点数を、上記従来例に比較し半減
することができ、自公転ホルダー装置そのものの製造コ
ストを大幅に低減することができる。また自公転ホルダ
ー装置の横幅も大幅に減少させることができる。
With the above-described structure, the present invention can reduce the number of parts of the rotation shaft of the rotation / revolution holder device and its rotation holding mechanism, the revolution disk, the planetary gear, the sun gear, etc., to half that of the conventional example. It is possible to significantly reduce the manufacturing cost of the rotation holder device itself. Also, the lateral width of the auto-revolution holder device can be greatly reduced.

【0012】なお本発明をスッパタ装置の自公転ホルダ
ー装置に適用すると、スパッタ装置の真空チャンバー及
び真空チャンバー間の仕切弁が小さくなり、また真空排
気系や装置全体も小さくすることができるため、スパッ
タ装置全体の製造コストも低減することができることと
なる。
When the present invention is applied to the auto-revolution holder device of the sputter device, the vacuum chamber of the sputtering device and the partition valve between the vacuum chambers can be made small, and the vacuum exhaust system and the entire device can be made small. The manufacturing cost of the entire device can also be reduced.

【0013】[0013]

【実施例】以下本発明の一実施例の自公転ホルダー装置
について、図1及び図2を参照しながら説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A rotation and revolution holder device according to an embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS.

【0014】図1は本発明の実施例の断面図を示すもの
であり、図2はその側面図を示すものである。51は搬
送台、52は鉛直状態に立設された支持枠、53は支持
枠52によって外周側から回転可能かつ鉛直状態に支持
された公転円板、54はV溝ローラー、55はラック、
56は支持ローラー、57はガイドローラー、58はピ
ニオンである。支持枠52は搬送台51に固定され、V
溝ローラー54は回転自在に支持枠52に支持され、4
つのV溝ローラー54で公転円板53の外周を保持し、
公転円板53は回転自在に保持されることとなる。ラッ
ク55は搬送台51に固定されている。支持ローラー5
6は外部に回転自在に支持されており、搬送台51を水
平搬送可能に保持している。ガイドローラー57は外部
に回転自在に支持されており、搬送台51が水平搬送さ
れるとき斜行しないよう案内している。ピニオン58は
外部から回転駆動され、ラック55と噛み合い、搬送台
51を水平搬送し、真空空間を移動させ、成膜位置に自
公転ホルダー装置を持ってくる。59は自転軸、60は
基板ホルダー(ホルダー)、61は基板、62は外周マ
スク、63は内周マスク、64は遊星歯車、65は太陽
歯車、66はオモリ、67、68は中間歯車、69は駆
動歯車、70はスパッタガン、71はターゲットであ
る。
FIG. 1 is a sectional view of an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a side view thereof. Reference numeral 51 is a carrier, 52 is a vertically-supported support frame, 53 is a revolving disk that is rotatable from the outer peripheral side and is vertically supported by the support frame 52, 54 is a V groove roller, and 55 is a rack.
Reference numeral 56 is a support roller, 57 is a guide roller, and 58 is a pinion. The support frame 52 is fixed to the carrier table 51, and
The groove roller 54 is rotatably supported by the support frame 52, and
Hold the outer circumference of the revolution disk 53 with one V-groove roller 54,
The revolution disk 53 is rotatably held. The rack 55 is fixed to the carrier table 51. Support roller 5
Reference numeral 6 is rotatably supported to the outside, and holds the transfer table 51 so that it can be transferred horizontally. The guide roller 57 is rotatably supported to the outside, and guides the conveyance table 51 so that it does not skew when it is conveyed horizontally. The pinion 58 is rotationally driven from the outside, meshes with the rack 55, horizontally conveys the conveyance table 51, moves the vacuum space, and brings the autorotation holder device to the film formation position. Reference numeral 59 is a rotation axis, 60 is a substrate holder (holder), 61 is a substrate, 62 is an outer peripheral mask, 63 is an inner peripheral mask, 64 is a planet gear, 65 is a sun gear, 66 is a weight, 67 and 68 are intermediate gears, 69 Is a drive gear, 70 is a sputter gun, and 71 is a target.

【0015】4本の自転軸59は公転円板53の中心軸
Pを中心とする円周上に配されると共に公転円板53を
貫通する状態で回転自在に支持されている。基板ホルダ
ー60は各自転軸59の両端部に固定され、公転円板5
3の両サイドに位置している。外周マスク62と内周マ
スク63は基板61をはさんで基板ホルダー60に固定
されている。遊星歯車64は各自転軸59に1対1対応
で固着されており、図1に示すように公転円板53の右
サイドのみに固着されている。唯一の太陽歯車65は4
つの遊星歯車64に噛み合い、支持軸90を介して回転
自在に公転円板53に支持されている。オモリ66は重
心が公転円板53の中心軸Pから偏位した位置で公転円
板53に固定されている。中間歯車67はV溝ローラー
54の内の駆動ローラを兼ねたV溝ローラー54aに固
定されている。中間歯車68は中間歯車67と噛み合
い、回転自在に搬送台51に支持されている。駆動歯車
69は成膜位置に自公転ホルダー装置が来たときに中間
歯車68と噛み合うように外部に支持されており、外部
の駆動源によって回転される。スパッタガン70、ター
ゲット71は自公転ホルダー装置をはさんで両側方に配
置されている。
The four rotation shafts 59 are arranged on the circumference centering on the central axis P of the revolution disk 53 and are rotatably supported while penetrating the revolution disk 53. The substrate holders 60 are fixed to both ends of each rotation shaft 59, and the revolution disk 5
Located on both sides of 3. The outer peripheral mask 62 and the inner peripheral mask 63 are fixed to the substrate holder 60 with the substrate 61 interposed therebetween. The planetary gears 64 are fixed to the respective rotation shafts 59 in a one-to-one correspondence, and are fixed only to the right side of the revolution disk 53 as shown in FIG. The only sun gear 65 is 4
It meshes with one planetary gear 64 and is rotatably supported by the revolution disk 53 via a support shaft 90. The weight 66 is fixed to the revolution disk 53 at a position where the center of gravity is displaced from the central axis P of the revolution disk 53. The intermediate gear 67 is fixed to the V-groove roller 54a which also serves as a driving roller in the V-groove roller 54. The intermediate gear 68 meshes with the intermediate gear 67 and is rotatably supported by the carrier table 51. The drive gear 69 is externally supported so as to mesh with the intermediate gear 68 when the auto-revolution holder device comes to the film formation position, and is rotated by an external drive source. The sputter gun 70 and the target 71 are arranged on both sides of the auto-revolution holder device.

【0016】以上のように構成された自公転ホルダー装
置について、以下動作を説明する。
The operation of the auto-revolution holder device constructed as above will be described below.

【0017】自公転ホルダー装置がピニオン58の回転
によって成膜位置に搬送され、停止すると、中間歯車6
8が駆動歯車69に噛み合う。駆動歯車69が外部から
回転駆動されると回転力が中間歯車置68、中間歯車6
7と伝えられ、駆動用のV溝ローラー54aが回転す
る。すると摩擦力により公転円板53が回転する。自転
軸59は公転円板53上の円周線上に配置されているた
め公転円板53の回転に伴い公転運動をする。このと
き、太陽歯車65には公転円板53と回転支持機構との
摩擦力、及び自転軸59の回転支持機構の摩擦力によっ
て、回転モーメントが発生し、基準位置より少し回動す
るが、回動すると太陽歯車に固定されたオモリ66の重
力による元の位置へ復帰しようとする回転モーメントが
発生し、摩擦力による回転モーメントとつり合う回転位
置で太陽歯車65は停止する。そのため、太陽歯車65
と噛み合っている遊星歯車64が回転し、自転軸59及
びその両端につけられている基板ホルダー60、基板6
1が自転を行ない、公転円板53の回転と共に自公転運
動を行なう。なお、本実施例ではオモリ66を太陽歯車
65と別体としたが、一体として太陽歯車65自身の重
点を回転中心から偏位させてもよい。
When the auto-revolution holder device is conveyed to the film forming position by the rotation of the pinion 58 and stopped, the intermediate gear 6
8 meshes with the drive gear 69. When the drive gear 69 is rotationally driven from the outside, the rotational force is generated by the intermediate gear unit 68 and the intermediate gear 6.
7, the V-groove roller 54a for driving rotates. Then, the revolution disk 53 rotates due to the frictional force. Since the rotation shaft 59 is arranged on the circumference line of the revolution disc 53, the rotation shaft 59 revolves with the rotation of the revolution disc 53. At this time, a rotational moment is generated in the sun gear 65 by the frictional force between the revolution disk 53 and the rotation support mechanism and the frictional force of the rotation support mechanism of the rotation shaft 59, and the sun gear 65 rotates a little from the reference position, but When the sun gear 65 moves, a rotation moment is generated by the weight of the weight 66 fixed to the sun gear, which tends to return to its original position, and the sun gear 65 stops at a rotation position balanced with the rotation moment by the frictional force. Therefore, the sun gear 65
The planetary gear 64 meshing with the rotation rotates, and the rotation shaft 59 and the substrate holder 60 and the substrate 6 attached to both ends thereof.
1 rotates about the axis of rotation, and the rotation of the revolution disk 53 causes the rotation of the revolution disk 53. Although the weight 66 is separated from the sun gear 65 in this embodiment, the weight of the sun gear 65 itself may be deviated from the center of rotation as a unit.

【0018】[0018]

【発明の効果】本発明によれば、大幅な部品点数削減
と、横幅の低減を可能とすることにより、低コストでコ
ンパクトな自公転ホルダー装置を提供することができ
る。
As described above, according to the present invention, it is possible to provide a compact and revolving holder device at a low cost by making it possible to greatly reduce the number of parts and the width.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の実施例の断面図。FIG. 1 is a sectional view of an embodiment of the present invention.

【図2】その側面図。FIG. 2 is a side view thereof.

【図3】従来例の断面図。FIG. 3 is a sectional view of a conventional example.

【図4】その側面図。FIG. 4 is a side view thereof.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

52 支持枠 53 公転円板 59 自転軸 60 ホルダー 64 遊星歯車 65 太陽歯車 66 オモリ(回転抑制手段) 54a、67、68、69 回転駆動手段 52 Support Frame 53 Revolution Disc 59 Rotating Shaft 60 Holder 64 Planetary Gear 65 Sun Gear 66 Weight (Rotation Suppression Means) 54a, 67, 68, 69 Rotation Drive Means

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 鉛直状態に立設された支持枠と、支持枠
によって外周側から回転可能かつ鉛直状態に支持された
公転円板と、公転円板の中心軸を中心とする円周上に配
されると共に公転円板を貫通する状態で回転自在に支持
された複数の自転軸と、各自転軸の両端部に取付けられ
たホルダーと、公軸円板の中心軸上に回転自在に支持さ
れた1つの太陽歯車と、各自転軸に1対1対応で固着さ
れると共に太陽歯車に噛み合う遊星歯車と、公転円板に
回転を与える回転駆動手段と、太陽歯車の回転を抑制す
る回転抑制手段とを備えたことを特徴とする自公転ホル
ダー装置。
1. A vertical support frame, a revolving disc rotatably supported from the outer peripheral side in a vertical state by the support frame, and a revolving disc on a circumference centered on the central axis of the revolving disc. A plurality of rotating shafts that are arranged and rotatably supported while penetrating the revolution disk, holders attached to both ends of each rotation shaft, and rotatably supported on the center axis of the revolution disk. One sun gear, a planetary gear that is fixed to each rotation shaft in a one-to-one correspondence and meshes with the sun gear, a rotation drive unit that rotates the revolution disk, and a rotation suppression that suppresses rotation of the sun gear. A revolving holder device comprising:
【請求項2】 回転抑制手段が、太陽歯車にその中心軸
位置から偏位した位置に配設したオモリである請求項1
記載の自公転ホルダー装置。
2. The rotation suppressing means is a weight arranged on the sun gear at a position deviated from the central axis position thereof.
The described rotation holder device.
JP4322842A 1992-12-02 1992-12-02 Rotating and revolving holder device Pending JPH06172996A (en)

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