JPH06172996A - 自公転ホルダー装置 - Google Patents
自公転ホルダー装置Info
- Publication number
- JPH06172996A JPH06172996A JP4322842A JP32284292A JPH06172996A JP H06172996 A JPH06172996 A JP H06172996A JP 4322842 A JP4322842 A JP 4322842A JP 32284292 A JP32284292 A JP 32284292A JP H06172996 A JPH06172996 A JP H06172996A
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- JP
- Japan
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- rotation
- revolution
- sun gear
- holder device
- rotatably supported
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 大幅な部品点数削減と、横幅の低減を可能と
することにより、低コストでコンパクトな自公転ホルダ
ー装置を提供する。 【構成】 鉛直状態に立設された支持枠５２と、支持枠
によって外周側から回転可能かつ鉛直状態に支持された
公転円板５３と、公転円板５３の中心軸を中心とする円
周上に配されると共に公転円板５３を貫通する状態で回
転自在に支持された複数の自転軸５９と、各自転軸５９
の両端部に取付けられたホルダー６０と、公軸円板５３
の中心軸上に回転自在に支持された１つの太陽歯車６５
と、各自転軸５９に１対１対応で固着されると共に太陽
歯車６５に噛み合う遊星歯車６４と、公転円板５３に回
転を与える回転駆動手段６９、６８、６７、５４ａと、
太陽歯車６５の回転を抑制する回転抑制手段６６とを備
えたことを特徴とする。
することにより、低コストでコンパクトな自公転ホルダ
ー装置を提供する。 【構成】 鉛直状態に立設された支持枠５２と、支持枠
によって外周側から回転可能かつ鉛直状態に支持された
公転円板５３と、公転円板５３の中心軸を中心とする円
周上に配されると共に公転円板５３を貫通する状態で回
転自在に支持された複数の自転軸５９と、各自転軸５９
の両端部に取付けられたホルダー６０と、公軸円板５３
の中心軸上に回転自在に支持された１つの太陽歯車６５
と、各自転軸５９に１対１対応で固着されると共に太陽
歯車６５に噛み合う遊星歯車６４と、公転円板５３に回
転を与える回転駆動手段６９、６８、６７、５４ａと、
太陽歯車６５の回転を抑制する回転抑制手段６６とを備
えたことを特徴とする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、スパッタ装置内におい
て基板表面に成膜加工を施すために用いる基板支持用の
自公転ホルダー装置に主として利用されるものである。
て基板表面に成膜加工を施すために用いる基板支持用の
自公転ホルダー装置に主として利用されるものである。
【０００２】
【従来の技術】近年、光ディスク、光磁気ディスク等の
円板状記録媒体の生産が増えている。
円板状記録媒体の生産が増えている。
【０００３】これらの生産は一般には多層のスッパタ膜
を真空中で連続成膜を必要とされる。
を真空中で連続成膜を必要とされる。
【０００４】複数枚の基板をホルダー装置に付けるが更
に生産性を上げるためホルダー装置の両面に基板を取付
け、ホルダー装置を鉛直に立て、その両側面にサイドス
ッパタで同時成膜が行われている。このとき膜厚の均一
性を出すため基板をホルダー装置側面内で自公転させる
必要がある。生産の自動化の要請ともあいまって、基板
を自公転させる機構を内蔵したホルダー装置を真空室外
部から駆動をかけて真空室間へ移動させると共に基板を
自公転させるものが開発されている。
に生産性を上げるためホルダー装置の両面に基板を取付
け、ホルダー装置を鉛直に立て、その両側面にサイドス
ッパタで同時成膜が行われている。このとき膜厚の均一
性を出すため基板をホルダー装置側面内で自公転させる
必要がある。生産の自動化の要請ともあいまって、基板
を自公転させる機構を内蔵したホルダー装置を真空室外
部から駆動をかけて真空室間へ移動させると共に基板を
自公転させるものが開発されている。
【０００５】以下図面を参照しながら、上述した従来の
自公転ホルダー装置の一例について説明する。
自公転ホルダー装置の一例について説明する。
【０００６】図３は従来の自公転ホルダー装置の断面図
を示すものである。図４はその側面図を示すものであ
る。１は搬送台、２は支持台、３ａ、３ｂは公転円板、
５はラック、６は支持ローラー、７はガイドローラー、
８はピニオンである。支持台２は搬送台１に固定され、
公転円板３ａ、３ｂは支持台２に回転自在に支持されて
いる。ラック５は搬送台１に固定されている。支持ロー
ラー６は外部に回転自在に支持されており、搬送台１を
水平搬送可能に保持している。ガイドローラー７は外部
機枠（図示省略）に回転自在に支持されており、搬送台
１が水平搬送されるとき斜行しないよう案内している。
ピニオン８は外部から回転駆動され、ラック５と噛み合
い、搬送台１を水平搬送する。９は自転軸、１０は基板
ホルダー、１１は基板、１２は外周マスク、１３は内周
マスク、１４は遊星歯車、１５ａ、１５ｂは太陽歯車、
１６、１７は中間歯車、１８は駆動歯車、１９はスパッ
タガン、２０はターゲットである。
を示すものである。図４はその側面図を示すものであ
る。１は搬送台、２は支持台、３ａ、３ｂは公転円板、
５はラック、６は支持ローラー、７はガイドローラー、
８はピニオンである。支持台２は搬送台１に固定され、
公転円板３ａ、３ｂは支持台２に回転自在に支持されて
いる。ラック５は搬送台１に固定されている。支持ロー
ラー６は外部に回転自在に支持されており、搬送台１を
水平搬送可能に保持している。ガイドローラー７は外部
機枠（図示省略）に回転自在に支持されており、搬送台
１が水平搬送されるとき斜行しないよう案内している。
ピニオン８は外部から回転駆動され、ラック５と噛み合
い、搬送台１を水平搬送する。９は自転軸、１０は基板
ホルダー、１１は基板、１２は外周マスク、１３は内周
マスク、１４は遊星歯車、１５ａ、１５ｂは太陽歯車、
１６、１７は中間歯車、１８は駆動歯車、１９はスパッ
タガン、２０はターゲットである。
【０００７】自転軸９は公転円板３ａ、３ｂに回転自在
に支持されている。基板ホルダー１０は自転軸９の外側
の一端に固定されている。外周マスク１２と内周マスク
１３は基板１１をはさんで基板ホルダー１０に固定され
ている。遊星歯車１４は自転軸９に固定されている。左
右１対の太陽歯車１５ａ、１５ｂは夫々４つの遊星歯車
１４に噛み合い、支持台２に固定されている。中間歯車
１６は公転円板３ａの周囲に切られた歯３ｃと噛み合い
支持台２に回転自在に支持されている。中間歯車１７は
中間歯車１６と噛み合い、搬送台１に回転自在に支持さ
れている。駆動歯車１８は中間歯車１７と噛み合い外部
から回転駆動される。すると回転力が中間歯車１７、中
間歯車１６と伝えられ、一方の公転円板３ａを回転させ
る。一方の公転円板３ａと他方の公転円板３ｂとは共通
軸３２上に固定されており、同時に回転する。すると、
左右の公転円板３ａ、３ｂの夫々に支持された４本の自
転軸９が公転運動をする。このとき各遊星歯車１４が、
固定された太陽歯車１５と噛み合いながら公転運動する
ため自転軸９を回転中心とする自転運動が発生する。従
って基板ホルダー１０に固定された基板１１が自公転運
動を行ない、ターゲット２０からスパッタリングされた
成膜の膜厚分布が均一化される。
に支持されている。基板ホルダー１０は自転軸９の外側
の一端に固定されている。外周マスク１２と内周マスク
１３は基板１１をはさんで基板ホルダー１０に固定され
ている。遊星歯車１４は自転軸９に固定されている。左
右１対の太陽歯車１５ａ、１５ｂは夫々４つの遊星歯車
１４に噛み合い、支持台２に固定されている。中間歯車
１６は公転円板３ａの周囲に切られた歯３ｃと噛み合い
支持台２に回転自在に支持されている。中間歯車１７は
中間歯車１６と噛み合い、搬送台１に回転自在に支持さ
れている。駆動歯車１８は中間歯車１７と噛み合い外部
から回転駆動される。すると回転力が中間歯車１７、中
間歯車１６と伝えられ、一方の公転円板３ａを回転させ
る。一方の公転円板３ａと他方の公転円板３ｂとは共通
軸３２上に固定されており、同時に回転する。すると、
左右の公転円板３ａ、３ｂの夫々に支持された４本の自
転軸９が公転運動をする。このとき各遊星歯車１４が、
固定された太陽歯車１５と噛み合いながら公転運動する
ため自転軸９を回転中心とする自転運動が発生する。従
って基板ホルダー１０に固定された基板１１が自公転運
動を行ない、ターゲット２０からスパッタリングされた
成膜の膜厚分布が均一化される。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記のよ
うな構成では、左右１対の公転円板３ａ、３ｂを共通軸
３２を介して支持台２に支持させているため、公転円板
３ａ、３ｂ、自転軸９及び基板ホルダー１０を支持台２
の両側に分離して配設せざるを得ず、自公転用の遊星運
動機構や自転軸回転支持機構も支持台２の両側にほぼ同
様のものを二組構成することになる。このため、部品点
数が多くなり、自公転ホルダー装置の製造コストが高く
なる。また、自公転ホルダー装置の幅が広くなるため、
装置全体が大型化し占有スペースを大きくとらねばなら
ない上に、スパッタ装置に利用する場合には、真空排気
ポンプの能力アップや真空チャンバー、真空空間の仕切
弁の大型化が必要でスパッタ装置全体の製造コストも高
くなっていた。
うな構成では、左右１対の公転円板３ａ、３ｂを共通軸
３２を介して支持台２に支持させているため、公転円板
３ａ、３ｂ、自転軸９及び基板ホルダー１０を支持台２
の両側に分離して配設せざるを得ず、自公転用の遊星運
動機構や自転軸回転支持機構も支持台２の両側にほぼ同
様のものを二組構成することになる。このため、部品点
数が多くなり、自公転ホルダー装置の製造コストが高く
なる。また、自公転ホルダー装置の幅が広くなるため、
装置全体が大型化し占有スペースを大きくとらねばなら
ない上に、スパッタ装置に利用する場合には、真空排気
ポンプの能力アップや真空チャンバー、真空空間の仕切
弁の大型化が必要でスパッタ装置全体の製造コストも高
くなっていた。
【０００９】本発明は上記問題点に鑑み、自公転ホルダ
ー装置の遊星運動機構を一組にし、部品点数の大幅な削
減、装置の幅の減少を可能にし、低コスト化、コンパク
ト化を可能とする自公転ホルダー装置を提供することを
目的とする。
ー装置の遊星運動機構を一組にし、部品点数の大幅な削
減、装置の幅の減少を可能にし、低コスト化、コンパク
ト化を可能とする自公転ホルダー装置を提供することを
目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明は上記目的を達成
するために、鉛直状態に立設された支持枠と、支持枠に
よって外周側から回転可能かつ鉛直状態に支持された公
転円板と、公転円板の中心軸を中心とする円周上に配さ
れると共に公転円板を貫通する状態で回転自在に支持さ
れた複数の自転軸と、各自転軸の両端部に取付けられた
ホルダーと、公軸円板の中心軸上に回転自在に支持され
た１つの太陽歯車と、各自転軸に１対１対応で固着され
ると共に太陽歯車に噛み合う遊星歯車と、公転円板に回
転を与える回転駆動手段と、太陽歯車の回転を抑制する
回転抑制手段とを備えたことを特徴とする。
するために、鉛直状態に立設された支持枠と、支持枠に
よって外周側から回転可能かつ鉛直状態に支持された公
転円板と、公転円板の中心軸を中心とする円周上に配さ
れると共に公転円板を貫通する状態で回転自在に支持さ
れた複数の自転軸と、各自転軸の両端部に取付けられた
ホルダーと、公軸円板の中心軸上に回転自在に支持され
た１つの太陽歯車と、各自転軸に１対１対応で固着され
ると共に太陽歯車に噛み合う遊星歯車と、公転円板に回
転を与える回転駆動手段と、太陽歯車の回転を抑制する
回転抑制手段とを備えたことを特徴とする。
【００１１】
【作用】本発明は上記した構成によって、自公転ホルダ
ー装置の自転軸とその回転保持機構、公転円板、遊星歯
車、太陽歯車等の部品点数を、上記従来例に比較し半減
することができ、自公転ホルダー装置そのものの製造コ
ストを大幅に低減することができる。また自公転ホルダ
ー装置の横幅も大幅に減少させることができる。
ー装置の自転軸とその回転保持機構、公転円板、遊星歯
車、太陽歯車等の部品点数を、上記従来例に比較し半減
することができ、自公転ホルダー装置そのものの製造コ
ストを大幅に低減することができる。また自公転ホルダ
ー装置の横幅も大幅に減少させることができる。
【００１２】なお本発明をスッパタ装置の自公転ホルダ
ー装置に適用すると、スパッタ装置の真空チャンバー及
び真空チャンバー間の仕切弁が小さくなり、また真空排
気系や装置全体も小さくすることができるため、スパッ
タ装置全体の製造コストも低減することができることと
なる。
ー装置に適用すると、スパッタ装置の真空チャンバー及
び真空チャンバー間の仕切弁が小さくなり、また真空排
気系や装置全体も小さくすることができるため、スパッ
タ装置全体の製造コストも低減することができることと
なる。
【００１３】
【実施例】以下本発明の一実施例の自公転ホルダー装置
について、図１及び図２を参照しながら説明する。
について、図１及び図２を参照しながら説明する。
【００１４】図１は本発明の実施例の断面図を示すもの
であり、図２はその側面図を示すものである。５１は搬
送台、５２は鉛直状態に立設された支持枠、５３は支持
枠５２によって外周側から回転可能かつ鉛直状態に支持
された公転円板、５４はＶ溝ローラー、５５はラック、
５６は支持ローラー、５７はガイドローラー、５８はピ
ニオンである。支持枠５２は搬送台５１に固定され、Ｖ
溝ローラー５４は回転自在に支持枠５２に支持され、４
つのＶ溝ローラー５４で公転円板５３の外周を保持し、
公転円板５３は回転自在に保持されることとなる。ラッ
ク５５は搬送台５１に固定されている。支持ローラー５
６は外部に回転自在に支持されており、搬送台５１を水
平搬送可能に保持している。ガイドローラー５７は外部
に回転自在に支持されており、搬送台５１が水平搬送さ
れるとき斜行しないよう案内している。ピニオン５８は
外部から回転駆動され、ラック５５と噛み合い、搬送台
５１を水平搬送し、真空空間を移動させ、成膜位置に自
公転ホルダー装置を持ってくる。５９は自転軸、６０は
基板ホルダー（ホルダー）、６１は基板、６２は外周マ
スク、６３は内周マスク、６４は遊星歯車、６５は太陽
歯車、６６はオモリ、６７、６８は中間歯車、６９は駆
動歯車、７０はスパッタガン、７１はターゲットであ
る。
であり、図２はその側面図を示すものである。５１は搬
送台、５２は鉛直状態に立設された支持枠、５３は支持
枠５２によって外周側から回転可能かつ鉛直状態に支持
された公転円板、５４はＶ溝ローラー、５５はラック、
５６は支持ローラー、５７はガイドローラー、５８はピ
ニオンである。支持枠５２は搬送台５１に固定され、Ｖ
溝ローラー５４は回転自在に支持枠５２に支持され、４
つのＶ溝ローラー５４で公転円板５３の外周を保持し、
公転円板５３は回転自在に保持されることとなる。ラッ
ク５５は搬送台５１に固定されている。支持ローラー５
６は外部に回転自在に支持されており、搬送台５１を水
平搬送可能に保持している。ガイドローラー５７は外部
に回転自在に支持されており、搬送台５１が水平搬送さ
れるとき斜行しないよう案内している。ピニオン５８は
外部から回転駆動され、ラック５５と噛み合い、搬送台
５１を水平搬送し、真空空間を移動させ、成膜位置に自
公転ホルダー装置を持ってくる。５９は自転軸、６０は
基板ホルダー（ホルダー）、６１は基板、６２は外周マ
スク、６３は内周マスク、６４は遊星歯車、６５は太陽
歯車、６６はオモリ、６７、６８は中間歯車、６９は駆
動歯車、７０はスパッタガン、７１はターゲットであ
る。
【００１５】４本の自転軸５９は公転円板５３の中心軸
Ｐを中心とする円周上に配されると共に公転円板５３を
貫通する状態で回転自在に支持されている。基板ホルダ
ー６０は各自転軸５９の両端部に固定され、公転円板５
３の両サイドに位置している。外周マスク６２と内周マ
スク６３は基板６１をはさんで基板ホルダー６０に固定
されている。遊星歯車６４は各自転軸５９に１対１対応
で固着されており、図１に示すように公転円板５３の右
サイドのみに固着されている。唯一の太陽歯車６５は４
つの遊星歯車６４に噛み合い、支持軸９０を介して回転
自在に公転円板５３に支持されている。オモリ６６は重
心が公転円板５３の中心軸Ｐから偏位した位置で公転円
板５３に固定されている。中間歯車６７はＶ溝ローラー
５４の内の駆動ローラを兼ねたＶ溝ローラー５４ａに固
定されている。中間歯車６８は中間歯車６７と噛み合
い、回転自在に搬送台５１に支持されている。駆動歯車
６９は成膜位置に自公転ホルダー装置が来たときに中間
歯車６８と噛み合うように外部に支持されており、外部
の駆動源によって回転される。スパッタガン７０、ター
ゲット７１は自公転ホルダー装置をはさんで両側方に配
置されている。
Ｐを中心とする円周上に配されると共に公転円板５３を
貫通する状態で回転自在に支持されている。基板ホルダ
ー６０は各自転軸５９の両端部に固定され、公転円板５
３の両サイドに位置している。外周マスク６２と内周マ
スク６３は基板６１をはさんで基板ホルダー６０に固定
されている。遊星歯車６４は各自転軸５９に１対１対応
で固着されており、図１に示すように公転円板５３の右
サイドのみに固着されている。唯一の太陽歯車６５は４
つの遊星歯車６４に噛み合い、支持軸９０を介して回転
自在に公転円板５３に支持されている。オモリ６６は重
心が公転円板５３の中心軸Ｐから偏位した位置で公転円
板５３に固定されている。中間歯車６７はＶ溝ローラー
５４の内の駆動ローラを兼ねたＶ溝ローラー５４ａに固
定されている。中間歯車６８は中間歯車６７と噛み合
い、回転自在に搬送台５１に支持されている。駆動歯車
６９は成膜位置に自公転ホルダー装置が来たときに中間
歯車６８と噛み合うように外部に支持されており、外部
の駆動源によって回転される。スパッタガン７０、ター
ゲット７１は自公転ホルダー装置をはさんで両側方に配
置されている。
【００１６】以上のように構成された自公転ホルダー装
置について、以下動作を説明する。
置について、以下動作を説明する。
【００１７】自公転ホルダー装置がピニオン５８の回転
によって成膜位置に搬送され、停止すると、中間歯車６
８が駆動歯車６９に噛み合う。駆動歯車６９が外部から
回転駆動されると回転力が中間歯車置６８、中間歯車６
７と伝えられ、駆動用のＶ溝ローラー５４ａが回転す
る。すると摩擦力により公転円板５３が回転する。自転
軸５９は公転円板５３上の円周線上に配置されているた
め公転円板５３の回転に伴い公転運動をする。このと
き、太陽歯車６５には公転円板５３と回転支持機構との
摩擦力、及び自転軸５９の回転支持機構の摩擦力によっ
て、回転モーメントが発生し、基準位置より少し回動す
るが、回動すると太陽歯車に固定されたオモリ６６の重
力による元の位置へ復帰しようとする回転モーメントが
発生し、摩擦力による回転モーメントとつり合う回転位
置で太陽歯車６５は停止する。そのため、太陽歯車６５
と噛み合っている遊星歯車６４が回転し、自転軸５９及
びその両端につけられている基板ホルダー６０、基板６
１が自転を行ない、公転円板５３の回転と共に自公転運
動を行なう。なお、本実施例ではオモリ６６を太陽歯車
６５と別体としたが、一体として太陽歯車６５自身の重
点を回転中心から偏位させてもよい。
によって成膜位置に搬送され、停止すると、中間歯車６
８が駆動歯車６９に噛み合う。駆動歯車６９が外部から
回転駆動されると回転力が中間歯車置６８、中間歯車６
７と伝えられ、駆動用のＶ溝ローラー５４ａが回転す
る。すると摩擦力により公転円板５３が回転する。自転
軸５９は公転円板５３上の円周線上に配置されているた
め公転円板５３の回転に伴い公転運動をする。このと
き、太陽歯車６５には公転円板５３と回転支持機構との
摩擦力、及び自転軸５９の回転支持機構の摩擦力によっ
て、回転モーメントが発生し、基準位置より少し回動す
るが、回動すると太陽歯車に固定されたオモリ６６の重
力による元の位置へ復帰しようとする回転モーメントが
発生し、摩擦力による回転モーメントとつり合う回転位
置で太陽歯車６５は停止する。そのため、太陽歯車６５
と噛み合っている遊星歯車６４が回転し、自転軸５９及
びその両端につけられている基板ホルダー６０、基板６
１が自転を行ない、公転円板５３の回転と共に自公転運
動を行なう。なお、本実施例ではオモリ６６を太陽歯車
６５と別体としたが、一体として太陽歯車６５自身の重
点を回転中心から偏位させてもよい。
【００１８】
【発明の効果】本発明によれば、大幅な部品点数削減
と、横幅の低減を可能とすることにより、低コストでコ
ンパクトな自公転ホルダー装置を提供することができ
る。
と、横幅の低減を可能とすることにより、低コストでコ
ンパクトな自公転ホルダー装置を提供することができ
る。
【図１】本発明の実施例の断面図。
【図２】その側面図。
【図３】従来例の断面図。
【図４】その側面図。
５２ 支持枠 ５３ 公転円板 ５９ 自転軸 ６０ ホルダー ６４ 遊星歯車 ６５ 太陽歯車 ６６ オモリ（回転抑制手段） ５４ａ、６７、６８、６９ 回転駆動手段
Claims (2)
- 【請求項１】 鉛直状態に立設された支持枠と、支持枠
によって外周側から回転可能かつ鉛直状態に支持された
公転円板と、公転円板の中心軸を中心とする円周上に配
されると共に公転円板を貫通する状態で回転自在に支持
された複数の自転軸と、各自転軸の両端部に取付けられ
たホルダーと、公軸円板の中心軸上に回転自在に支持さ
れた１つの太陽歯車と、各自転軸に１対１対応で固着さ
れると共に太陽歯車に噛み合う遊星歯車と、公転円板に
回転を与える回転駆動手段と、太陽歯車の回転を抑制す
る回転抑制手段とを備えたことを特徴とする自公転ホル
ダー装置。 - 【請求項２】 回転抑制手段が、太陽歯車にその中心軸
位置から偏位した位置に配設したオモリである請求項１
記載の自公転ホルダー装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4322842A JPH06172996A (ja) | 1992-12-02 | 1992-12-02 | 自公転ホルダー装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4322842A JPH06172996A (ja) | 1992-12-02 | 1992-12-02 | 自公転ホルダー装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06172996A true JPH06172996A (ja) | 1994-06-21 |
Family
ID=18148219
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4322842A Pending JPH06172996A (ja) | 1992-12-02 | 1992-12-02 | 自公転ホルダー装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06172996A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5830272A (en) * | 1995-11-07 | 1998-11-03 | Sputtered Films, Inc. | System for and method of providing a controlled deposition on wafers |
| CN108531847A (zh) * | 2017-12-19 | 2018-09-14 | 北京金轮坤天特种机械有限公司 | 一种等离子物理气相沉积用多工位回转工装装置 |
| CN112080734A (zh) * | 2020-07-21 | 2020-12-15 | 浙江工业大学 | 用于碱金属原子气室抗弛豫镀膜的均匀加热装置 |
| CN115261808A (zh) * | 2022-08-13 | 2022-11-01 | 北京北方华创真空技术有限公司 | 多维旋转工件架及具有该多维旋转工件架的真空镀膜机 |
-
1992
- 1992-12-02 JP JP4322842A patent/JPH06172996A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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