JPH0617441B2 - 樹脂組成物 - Google Patents

樹脂組成物

Info

Publication number
JPH0617441B2
JPH0617441B2 JP1132807A JP13280789A JPH0617441B2 JP H0617441 B2 JPH0617441 B2 JP H0617441B2 JP 1132807 A JP1132807 A JP 1132807A JP 13280789 A JP13280789 A JP 13280789A JP H0617441 B2 JPH0617441 B2 JP H0617441B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
silicone
weight
resin
epoxy resin
modified
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP1132807A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH03719A (ja
Inventor
賢 太田
健一 柳沢
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Bakelite Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Bakelite Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Bakelite Co Ltd filed Critical Sumitomo Bakelite Co Ltd
Priority to JP1132807A priority Critical patent/JPH0617441B2/ja
Publication of JPH03719A publication Critical patent/JPH03719A/ja
Publication of JPH0617441B2 publication Critical patent/JPH0617441B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Epoxy Resins (AREA)
  • Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は高集積度IC封止用樹脂組成物に適する超低応
力、高強度、低粘度のエポキシ樹脂組成物に関するもの
である。
(従来技術) エポキシ樹脂は耐熱性、電気特性、機械強度や接着性に
優れた樹脂であり、塗料、接着剤、電子部品封止用樹
脂、積層板用樹脂やその他多方面にわたって広く用いら
れている樹脂である。
しかしながら未だ解決されていない問題点として硬く脆
いこと、つまり強靱でないことが挙げられている。
例えばIC,LSI,トランジスター、ダイオードなど
の半導体素子や電子回路の樹脂封止には特性、コスト等
の点からエポキシ樹脂組成物が多量にかつ最も一般的に
用いられている。
しかしこれらの半導体素子は4MDRAMに代表されるよう
に高集積化、大チップ化の傾向にあり半導体素子と封止
樹脂組成物の熱膨張係数の差からくる内部応力が増大
し、従来の小チップではあまり見られなかったICパッ
ケージのクラック、ICチップの破損そしてこれらによ
る耐湿性の低下がおこり問題となっている。
これらの不良を改良するためにエポキシ樹脂に要求され
る性能としては低応力化(低弾性率、低熱膨張係
数)、強靱化(高強度)が望まれ、前述の未解決の課
題がそのまま欠点として残ってしまっておりこれらを改
良することが強く望まれてきている。
これらの問題点を改良する方策として従来のエポキシ樹
脂にシリコーンオイル、シリコーンゴム等のシリコーン
化合物、又は合成ゴムなどの熱可塑性樹脂等を添加、分
散させポリマーアロイ化することにより低応力化、強靱
化が図られてきている。これらの方法によって改質剤を
添加したものは性能が大幅に向上し、利用範囲も広がっ
たが、これらの改質剤を添加すれば成形加工性(型汚
れ、樹脂バリの発生、成形ボイドの発生等)や捺印性の
不良発生がより一層悪化する方向となってしまう。これ
らを改良するためにシリコーン化合物とエポキシ樹脂を
あらかじめ反応させたものを用いるということが提案さ
れている(例えば特開昭62−212417号公報
等)。
更にシリコーンと樹脂を十分に反応させたり、又は未反
応シリコーンを完全に除去することによりシリコーン変
性樹脂の性能を十分発揮できることを本願発明者はすで
に提案している。
しかし、シリコーン変性のエポキシ樹脂、シリコーン変
性フェノール樹脂をそれぞれ単独で配合した樹脂組成物
は、高集積度のIC封止用としては未だ耐熱衝撃性が不
十分であった。
そこでシリコーン変性エポキシ樹脂とシリコーン変性フ
ェノール樹脂とを組み合わせた系についても提案してい
るが、これらの樹脂組成物により耐熱衝撃性が向上した
が、しかしながら樹脂組成物の粘度が上昇し、金型内の
流れ性や金線変形性等が低下してしまいIC封止用樹脂
組成物としての性能は満足出来るものではなかった。
(発明が解決しようとする課題) 本願発明の目的とするところは低弾性、かつ高強度に
よる高耐熱衝撃性、低粘度による高充填性、低金線変
形性を有するIC封止用樹脂組成物を提供することにあ
る。
(課題を解決するための手段) 本発明者らは、これらの問題を解決するため、鋭意研究
を進め、特に耐熱衝撃性を顕著に向上させうる高変性率
シリコーン変性率エポキシ樹脂と高変性率シリコーン変
性フェノールを組み合わせ、かつ粘度を顕著に低下せし
める効果を有する下記式〔II〕で示されるビフェニル型
エポキシ化合物 (R:H又はCH) を組み合わせることにより目的とする特性を満足する半
導体封止用エポキシ樹脂組成物が得られることを見いだ
し本発明を完成するに至ったものである。
(作用) 本発明において用いる高変性率シリコーン変性エポキシ
樹脂及び高変性率シリコーン変性率フェノール樹脂は、
シリコーン変性率Rが95≦R≦100であることが必
要であり、これらのシリコーン変性エポキシ樹脂及びシ
リコーン変性率フェノール樹脂は、未反応シリコーン化
合物が少ないために、半導体封止用エポキシ樹脂組成物
に用いた場合、これらの未反応シリコーン化合物の成形
品表面への浮き出しが少なく、成形加工性や捺印性を悪
化させることがなく、その上に殆どのシリコーン化合物
がエポキシ樹脂の三次元架橋構造に取り込まれているた
めにシリコーンの粒径は極めて小さくなり、その結果強
度が向上して耐熱衝撃性、半田耐熱性が向上するという
効果を示す。
又未反応シリコーン化合物が少ないためシリコーン化合
物の鎖長、構造によりシリコーンの粒径を非常に正確に
コントロールすることができるため材料設計が極めて容
易で正確に出来るという非常に優れた特徴がある。
本発明の高変性率シリコーン変性エポキシ樹脂の原料と
して用いるエポキシ樹脂は1分子中に2個以上のエポキ
シ基を有するものであればいかなるものでも良く、例え
ばビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF
型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹
脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、脂環式エポ
キシ樹脂およびこれらの変性樹脂等が挙げられ、これら
のエポキシ樹脂は1種又は2種以上混合して用いること
が出来る。これらのエポキシ樹脂の中でもエポキシ当量
150〜250、軟化点60〜130℃でNa、C1
等のイオン性不純物を出来る限り除いたものが好まし
い。
又本発明の高変性率シリコーン変性エポキシ樹脂の一方
の原料として用いられるオルガノシロキサンは上述のエ
ポキシ樹脂と反応しうる官能基を有するもので、官能基
としては例えばエポキシ基、アルコキシ基、水酸基、ア
ミノ基、ヒドロシル基等が挙げられ、分子構造は直鎖
状、分枝鎖状のいずれであっても良い。
本発明における高変性率シリコーン変性エポキシ樹脂の
合成方法は特に限定されるものではないが、例として挙
げれば2ヶ以上のアミノ基を有するオルガノポリシロキ
サンとエポキシ樹脂の一部のエポキシ基を反応せしめて
ブロック付加体となすとか、アルケニル基含有エポキシ
樹脂と2ヶ以上のハイドロシリル基を有するオルガノポ
リシロキサンを塩化白金酸触媒下、溶媒存在下でハイド
ロシリル化反応によりブロック付加体を得るなどの合成
方法がある。要はいずれの方法を用いても未反応オルガ
ノポリシロキサンの少ないものとすることが本発明にお
いては肝要であり、必要に応じて得られた反応物から洗
浄、抽出等の方法でこれらの未反応オルガノポリシロキ
サンを除去する等の方法も適宜可能である。
シリコーン変性エポキシ樹脂中のシリコーン成分の含有
量は、原料エポキシ樹脂100重量部に対しシリコーン
成分が10〜40重量部となる範囲のものが好適に用い
られる。
シリコーン成分が10重量部未満の場合は耐熱衝撃性が
不十分であり、40重量部よりおおい場合は変性率Rが
95%未満に低下する。
シリコーン変性エポキシ樹脂の配合量は、総エポキシ成
分中の50重量%以上90重量%以下にする必要があ
る。
配合量が50重量%未満の場合は耐熱衝撃性が低下し、
90重量%を上回れば粘度の上昇、熱膨張係数の増大の
ため金線変性性、耐熱衝撃性が低下する。
本発明で用いるシリコーン変性フェノール樹脂の原料と
してのフェノール樹脂はフェノールノボラック樹脂、ク
レゾールノボラック樹脂及びこれらの変性樹脂が挙げら
れ、これらのフェノール樹脂は1種又は2種以上混合し
て用いることも出来る。これらのフェノール樹脂の中で
も、水酸基当量が80〜150、軟化点が60〜120
℃であり、Na、C1等のイオン性不純物を出来る
限り除いたものが望ましい。
又、本発明のシリコーン変性フェノール樹脂の一方の原
料として用いられるオルガノシロキサンは上述のエポキ
シ樹脂と反応しうる官能基を有するもので、官能基とし
ては例えばエポキシ基、アルコキシ基、水酸基、アミノ
基、ヒドロシル基等が挙げられ、分子構造は直鎖状、分
枝鎖状のいずれであっても良い。
本発明における高変性率シリコーン変性フェノール樹脂
の合成方法は特に限定されるものではないが、例として
挙げれば2ヶ以上のエポキシ基を有するオルガノポリシ
ロキサンとフェノール樹脂とを反応せしめてブロック付
加体となすとか、アルケニル基含有フェノール樹脂と2
ヶ以上のハイドロシリル基を有するオルガノポリシロキ
サンを塩化白金酸触媒下、溶媒存在下でハイドロシリル
化反応によりブロック付加体を得るなどの合成方法があ
る。要はいずれの方法を用いても未反応オルガノポリシ
ロキサンの少ないものとすることが本発明においては肝
要であり、必要に応じて得られた反応物から洗浄、抽出
等の方法でこれらの未反応オルガノポリシロキサンを除
去する等の方法も適宜可能である。
シリコーン変性フェノール樹脂中のシリコーン成分の含
有量は原料フェノール樹脂100重量部に対して10〜
40重量部となる範囲のものが好適に用いられる。
シリコーン成分が10重量部未満の場合は耐熱衝撃性が
不十分であり、40重量部よりおおい場合は変性率Rが
95%未満に低下する。
シリコーン変性フェノール樹脂に従来からあるフェノー
ル樹脂を混合して用いても良いが、これら混合系におい
てはシリコーン変性フェノールを50重量%以上とする
ことが必要である。50重量%未満の場合は耐熱衝撃性
が低下する。
又、本発明において用いるシリコーン変性樹脂において
は、シリコーン変性率Rが95≦R≦100であること
が必要であり、変性率Rが95未満の場合、半導体封止
用樹脂組成物として用いると未反応のオルガノポリシロ
キサン成分はエポキシ樹脂と相溶性が悪く、しかも表面
張力が低く、一般に粘度も低いために、この樹脂組成物
を高温・高圧で成形すると成形品表面から未反応オルガ
ノポリシロキサン成分がにじみだし、成形品の油汚れ、
型汚れ、捺印性の不良、樹脂バリ等の不良モードを発生
させ又強度や硬化性の低下をひきおこす。
シリコーン変性エポキシ樹脂とシリコーン変性フェノー
ル樹脂は組み合わせて用いる必要があるが、その理由は
単独で用いる場合と比較して、より低応力で強靱とな
り、非常に優れた耐熱衝撃性を有し、しかもエポキシ樹
脂成分とフェノール樹脂成分同志の相溶性が向上するこ
とによって成形加工性の向上が見られるためである。
しかし、一般にシリコーン変性をすることにより、樹脂
組成物中の高分子量成分が増加し、粘度が高くなる傾向
にあり、封止用樹脂組成物として使用しずらくなる。
これに加えて、更にシリコーン変性エポキシ樹脂とシリ
コーン変性フェノール樹脂とを併用することにより粘度
の上昇は著しくなる。
この問題はビフェニル型エポキシ化合物(下記式〔I
I〕)を配合することによって、解決される。
(R:HまたはCH) 式〔II〕で示されるビフェニル型エポキシ化合物として
R:Hのジハイドロキシビフェニル・ジグリシジルエポ
キシやR:CHのテトラメチルジハイドロキシビフェ
ニル・ジグリシジルエポキシおよびこれらの混合物が挙
げられる。
これらの化合物を用いることにより、ロングフロー
化、低粘度化、熱膨張係数の低下、吸水率の低下、
強靱性が向上し、耐熱衝撃性、半田耐熱性が向上する
とともにTgが低下しない、ウスバリ特性が低下し
ない等の優れた性質を付与できる。
低分子のビフェニル型エポキシ化合物の併用により、樹
脂組成物の架橋密度を低下させることによりロングフロ
ー等の上記の特性が付与されたものと考えられる。
尚、通常のエポキシ樹脂−フェノール樹脂系組成物に上
記ビフェニル型エポキシ化合物を配合すればウスバリ特
性が低下するが、本発明のようにシリコーン変性エポキ
シ樹脂−シリコーン変性フェノール樹脂系組成物にビフ
ェニル型エポキシ化合物を配合すれば、ビフェニル型エ
ポキシ化合物はシリコーン変性による高重合度成分とも
反応するため、ブリードしにくくなり、ウスバリ特性は
低下しない。
しかしながら本発明で用いられるビフェニル型エポキシ
化合物は総エポキシ成分中の10重量%〜50重量%と
することが必要である。10重量%未満であれば金線変
形性、耐熱衝撃性の改善効果が不十分となり、50重量
%より多くなればウスバリ特性が低下し、尚且つシリコ
ーン変性エポキシ樹脂の量が少なくなるため耐熱衝撃性
も低下してしまう。
総エポキシ成分と総フェノール成分は当量比でエポキシ
基/フェノール性OH基=70/100〜100/70
の範囲が好適である。当量比が70/100未満もしく
は100/70より大きいとTgの低下、熱時硬度の低
下、耐湿性の低下等が生じ、半導体封止用樹脂組成物と
して不敵となってしまう。
本発明で用いられる無機充填材としては結晶シリカ、溶
融シリカ、アルミナ、炭酸カルシウム、タルク、マイ
カ、ガラス繊維等が挙げられる。
これらの1種又は2種以上混合して使用される。これら
のうちで特に結晶シリカ又は溶融シリカが好適に用いら
れる。
又、本発明に使用される硬化促進剤はエポキシ基とフェ
ノール性OH基との反応を促進するものであればよく、
一般に封止用材料に使用されているものを広く使用する
ことができ、例えばBDMA等の第3級アミン類、イミ
ダゾール類、1,8-ジアザビクシクロ[5,4,0]ウンデセン-
7(DBU)、トリフェニルホスフィン(TPP)等の
有機リン化合物等が単独もしくは2種以上混合して用い
られる。
本発明の封止用樹脂組成物はエポキシ樹脂、硬化剤、無
機充填材及び硬化促進剤を必須成分とするが、これ以外
に必要に応じてシランカップリング剤、ブロム化エポキ
シ樹脂、三酸化アンチモン、ヘキサブロムベンゼン等の
難燃剤、天然ワックス、合成ワックス等の離型剤、カー
ボンブラック、ベンガラ等の着色剤およびシリコーンオ
イル、ゴム等の低応力添加剤等の種々の添加剤を適宜添
加しても良い。
又、本発明の封止用樹脂組成物を成形材料として製造す
るには、エポキシ樹脂、硬化剤、無機充填材、硬化促進
剤、その他添加剤をミキサー等によって充分に均一に混
合した後、更に熱ロールまたはニーダー等で溶融混練
し、冷却後粉砕することにより得ることができる。これ
らの成形材料は電子部品あるいは電気部品の封止、被
覆、絶縁等に用いることができる。
(実施例) 実施例1 下記組成物 シリコーン変性エポキシ樹脂(a) 70重量部 テトラメチルジヒドロキシビフェニル・ ジグリシジルエーテル(d) 30重量部 ブロム化ビスフェノールA型エポキシ樹脂 (エポキシ当量370,軟化点65℃,ブロム含有量37%) 7重量部 シリコーン変性フェノール樹脂(f)60重量部 溶融シリカ 490重量部 三酸化アンチモン 25重量部 シランカップリング剤 2重量部 トリフェニルホスフィン 2重量部 カーボンブラック 3重量部 カルナバワックス 3重量部 を常温で充分混合し、次いで95〜100℃で2軸ロー
ルにより混練し、冷却後粉砕してタブレット化して半導
体封止用成形材料を得た。
この材料をトランスファー成形機(成形条件:金型温度
175℃,硬化時間2分)を用いて成形し、得られた成
形品を175℃,8時間の条件で後硬化し評価を行っ
た。結果を第1表に示す。
実施例2 実施例1においてシリコーン変性エポキシ樹脂(a)を
シリコーン変性エポキシ樹脂(b)、テトラメチルジヒ
ドロキシビフェニル・ジグリシジルエーテル(d)をジ
ヒドロキシビフェニル・ジグリシジルエーテル(e)に
変えて、他は実施例1と同様にして半導体封止用成形材
料を得、同様にして評価した。結果を第1表に示す。
実施例3,4 実施例1と同様にして第1表に示す組成の半導体封止用
成形材料を得た、実施例1と同様にして評価した。結果
を第1評価に示す。
比較例1〜10 実施例1と同様にして第1表に示す組成の半導体封止用
成形材料を得た、実施例1と同様にして評価した。結果
を第1評価に示す。
(発明の効果) 本発明の高変性率シリコーン変性エポキシ樹脂、高変性
率シリコーン変性フェノール樹脂とビスフェノール型エ
ポキシ化合物、無機充填材及び硬化促進剤を必須成分と
する半導体封止用樹脂組成物は耐熱衝撃性に極めて優
れ、低粘度でありこのため金線変形性及び充填性にも優
れている。
さらに成形加工性(樹脂バリ)や半田耐熱性にも優れ、
非常にバランスのとれた樹脂組成物であるため、高集積
度IC封止用樹脂組成物として非常に信頼性の高いもの
である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 23/29 23/31 (56)参考文献 特開 昭62−7723(JP,A) 特開 昭62−254454(JP,A) 特開 昭61−133222(JP,A) 特開 昭61−73725(JP,A) 特開 昭64−87616(JP,A) 特開 昭64−65116(JP,A) 特開 昭63−251419(JP,A)

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】(イ)下記式〔I〕から求められるシリコ
    ーン変性率Rが95≦R≦100であるシリコーン変性
    エポキシ樹脂50〜90重量%と下記式〔II〕で示され
    るビフェニール型のエポキシ樹脂50〜100重量%か
    らなるエポキシ樹脂 R=(1−KA/BC)×100・・・〔I〕 A:S/T(溶媒強度0.25以下の有機溶媒を用いシ
    リカゲルを吸着剤にして展開する薄層クロマトグラフィ
    ーを薄層クロマトグラフィー自動検出装置で定量した
    時、Rf値0.7〜0.9の範囲に分離されるシリコーン
    化合物のピーク面積SとRf値0.4〜0.6の範囲に分
    離される標準物質コレステロールアセテートのピーク面
    積Tとの比) B:試料溶液中のシリコーン変性エポキシ樹脂の重量/
    試料溶液中の標準物質の重量 C:シリコーン変性エポキシ樹脂中のシリコーン成分含
    有率(シリコーン変性エポキシ樹脂生成反応時における
    シリコーン化合物の添加重量%) K:シリコーン化合物ピークの単位面積に対応するシリ
    コーン化合物重量/標準物質の単位面積に対するコレス
    テロールアセテート重量 (R:H又はCH) (ロ)下記式〔III〕から求められるシリコーン変性率
    Rが95≦R≦100であるシリコーン変性フェノール
    樹脂硬化剤を総硬化剤量に対し50〜90重量%含有す
    る硬化剤 R=(1−KA/BC)×100・・・〔III〕 A:S/T(溶媒強度0.25以下の有機溶媒を用いシ
    リカゲルを吸着剤にして展開する薄層クロマトグラフィ
    ーを薄層クロマトグラフィー自動検出装置で定量した
    時、Rf値0.7〜0.9の範囲に分離されるシリコーン
    化合物のピーク面積SとRf値0.4〜0.6の範囲に分
    離される標準物質コレステロールアセテートのピーク面
    積Tとの比) B:試料溶液中のシリコーン変性フェノール樹脂の重量
    /試料溶液中の標準物質の重量 C:シリコーン変性フェノール樹脂中のシリコーン成分
    含有率(シリコーン変性フェノール樹脂生成反応時にお
    けるシリコーン化合物の添加重量%) K:シリコーン化合物ピークの単位面積に対応するシリ
    コーン化合物重量/標準物質の単位面積に対するコレス
    テロールアセテート重量 (ハ)無機充填材 (ニ)硬化促進剤 を必須成分とする半導体封止用の樹脂組成物。
JP1132807A 1989-05-29 1989-05-29 樹脂組成物 Expired - Fee Related JPH0617441B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1132807A JPH0617441B2 (ja) 1989-05-29 1989-05-29 樹脂組成物

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1132807A JPH0617441B2 (ja) 1989-05-29 1989-05-29 樹脂組成物

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH03719A JPH03719A (ja) 1991-01-07
JPH0617441B2 true JPH0617441B2 (ja) 1994-03-09

Family

ID=15090040

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1132807A Expired - Fee Related JPH0617441B2 (ja) 1989-05-29 1989-05-29 樹脂組成物

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0617441B2 (ja)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06200124A (ja) * 1993-01-07 1994-07-19 Matsushita Electric Works Ltd 封止用エポキシ樹脂成形材料

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6173725A (ja) * 1984-09-20 1986-04-15 Denki Kagaku Kogyo Kk エポキシ樹脂組成物
JPS61133222A (ja) * 1984-12-04 1986-06-20 Denki Kagaku Kogyo Kk エポキシ樹脂組成物
JPS627723A (ja) * 1985-07-03 1987-01-14 Shin Etsu Chem Co Ltd エポキシ樹脂組成物
JPS62254454A (ja) * 1986-04-25 1987-11-06 Nitto Electric Ind Co Ltd 半導体装置
JPH06104712B2 (ja) * 1987-04-08 1994-12-21 東レ株式会社 半導体封止用樹脂組成物
JPH0753791B2 (ja) * 1987-09-04 1995-06-07 東レ株式会社 半導体封止用樹脂組成物
JPH0668010B2 (ja) * 1987-09-28 1994-08-31 東レ株式会社 半導体封止用樹脂組成物

Also Published As

Publication number Publication date
JPH03719A (ja) 1991-01-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH07268186A (ja) エポキシ樹脂組成物
JP2003147050A (ja) エポキシ樹脂組成物及び半導体装置
KR20010113532A (ko) 반도체 봉지용 에폭시 수지 조성물 및 반도체 장치
JP2823682B2 (ja) 樹脂組成物
JP2834460B2 (ja) エポキシ樹脂組成物
JP2938174B2 (ja) 樹脂組成物
JPH0617441B2 (ja) 樹脂組成物
JP3274265B2 (ja) エポキシ樹脂組成物
JP2925905B2 (ja) エポキシ樹脂組成物
JP2983613B2 (ja) エポキシ樹脂組成物
JPH06244319A (ja) 半導体装置の封止用エポキシ樹脂組成物
JP2744500B2 (ja) 樹脂組成物
JP2823634B2 (ja) 樹脂組成物
JP3478380B2 (ja) エポキシ樹脂組成物及び半導体装置
JP3255376B2 (ja) エポキシ樹脂組成物
JP2000309678A (ja) エポキシ樹脂組成物及び半導体装置
JP3506423B2 (ja) 封止用樹脂組成物および半導体封止装置
JP2986900B2 (ja) 樹脂組成物
JP2714451B2 (ja) エポキシ樹脂組成物
JP3056634B2 (ja) 半導体封止用エポキシ樹脂組成物
JP3192315B2 (ja) エポキシ樹脂組成物
JP2744493B2 (ja) 樹脂組成物
JP2823658B2 (ja) 樹脂組成物
JPH03195725A (ja) 樹脂組成物
JPH06244318A (ja) 電子機器用エポキシ樹脂組成物

Legal Events

Date Code Title Description
LAPS Cancellation because of no payment of annual fees