JPH06175133A - 液晶表示素子の製造方法 - Google Patents
液晶表示素子の製造方法Info
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- JPH06175133A JPH06175133A JP33071492A JP33071492A JPH06175133A JP H06175133 A JPH06175133 A JP H06175133A JP 33071492 A JP33071492 A JP 33071492A JP 33071492 A JP33071492 A JP 33071492A JP H06175133 A JPH06175133 A JP H06175133A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 均一なセル厚と、均一な液晶の配向状態によ
る優れた表示特性を持った液晶表示素子を提供する。 【構成】 液晶セルのセル厚を均一にするためのスペー
サーを、フォトリソ法などにより有効画素部以外に作成
した後に、有効画素部に配向不良が発生しないように配
向処理を行うことにより、均一なセル厚と、有効画素内
での均一な液晶の配向状態が得られるようにした。
る優れた表示特性を持った液晶表示素子を提供する。 【構成】 液晶セルのセル厚を均一にするためのスペー
サーを、フォトリソ法などにより有効画素部以外に作成
した後に、有効画素部に配向不良が発生しないように配
向処理を行うことにより、均一なセル厚と、有効画素内
での均一な液晶の配向状態が得られるようにした。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、液晶表示素子の製造方
法に関する。
法に関する。
【０００２】
【従来の技術】液晶セルの厚みを制御するために、従来
より、シリカやプラスチック製のスペーサーを、ラビン
グなどの配向処理を行った後にセル内に散布するという
方法が用いられてきた。しかしながら、スペーサーを液
晶セル内に均等に散布することは非常に困難であり、部
分的な散布むらにより液晶セルの厚みにもむらが発生し
てしまい、液晶の複屈折率Δｎと液晶セルのセル厚ｄと
の積Δｎ×ｄが部分的に異なることから、着色や透過率
むらが起こり、液晶表示素子の表示品位を著しく低下さ
せるなどの問題があった。また、画素上にスペーサーが
存在すると、その周辺部の液晶の配向状態が乱れ、光漏
れなどが起こり、表示コントラストが低下するなどの問
題があった。
より、シリカやプラスチック製のスペーサーを、ラビン
グなどの配向処理を行った後にセル内に散布するという
方法が用いられてきた。しかしながら、スペーサーを液
晶セル内に均等に散布することは非常に困難であり、部
分的な散布むらにより液晶セルの厚みにもむらが発生し
てしまい、液晶の複屈折率Δｎと液晶セルのセル厚ｄと
の積Δｎ×ｄが部分的に異なることから、着色や透過率
むらが起こり、液晶表示素子の表示品位を著しく低下さ
せるなどの問題があった。また、画素上にスペーサーが
存在すると、その周辺部の液晶の配向状態が乱れ、光漏
れなどが起こり、表示コントラストが低下するなどの問
題があった。
【０００３】この問題を解決するために、特開昭６１−
１７３２２１、特開平２−２２３９２２などに示される
ように、配向膜に配向処理を行った後、感光性ポリイミ
ドやフォトレジストを塗布し、マスクを通して露光する
ことで、有効画素部以外にポリイミドのスペーサーを作
成するという方法が提案されている。これらの方法によ
れば、任意の場所に、任意の密度でスペーサーを形成で
きるため、液晶を封入した際の液晶セルギャップの不均
一性を改善できる。
１７３２２１、特開平２−２２３９２２などに示される
ように、配向膜に配向処理を行った後、感光性ポリイミ
ドやフォトレジストを塗布し、マスクを通して露光する
ことで、有効画素部以外にポリイミドのスペーサーを作
成するという方法が提案されている。これらの方法によ
れば、任意の場所に、任意の密度でスペーサーを形成で
きるため、液晶を封入した際の液晶セルギャップの不均
一性を改善できる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
改善方法では、ラビング法などにより配向処理を行った
ポリイミドなどの配向膜の上に直接、感光性ポリイミド
やフォトレジストなどを塗布することになる。また露光
後は不要部を溶剤などにより除去することが必要で、フ
ォトレジストを用いる方法では、更にエッチングなどが
行われることとなる。これらの工程は、作成されたスペ
ーサー部の下に位置する、液晶の配向膜に施された配向
処理状態を著しく汚染、破壊してしまい、液晶セル内に
注入された液晶の配向が不均一となるという課題があっ
た。
改善方法では、ラビング法などにより配向処理を行った
ポリイミドなどの配向膜の上に直接、感光性ポリイミド
やフォトレジストなどを塗布することになる。また露光
後は不要部を溶剤などにより除去することが必要で、フ
ォトレジストを用いる方法では、更にエッチングなどが
行われることとなる。これらの工程は、作成されたスペ
ーサー部の下に位置する、液晶の配向膜に施された配向
処理状態を著しく汚染、破壊してしまい、液晶セル内に
注入された液晶の配向が不均一となるという課題があっ
た。
【０００５】本発明はこのような課題を解決するもの
で、その目的とするところは、液晶セルのセル厚を均一
にするためのスペーサーを、フォトリソ法などにより有
効画素部以外に作成した後に配向処理を行うことによっ
て、均一なセル厚と、均一な液晶の配向状態による優れ
た表示特性を持った液晶表示素子を提供するところにあ
る。
で、その目的とするところは、液晶セルのセル厚を均一
にするためのスペーサーを、フォトリソ法などにより有
効画素部以外に作成した後に配向処理を行うことによっ
て、均一なセル厚と、均一な液晶の配向状態による優れ
た表示特性を持った液晶表示素子を提供するところにあ
る。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明の液晶表示素子の
製造方法は、ａ）配向膜の塗布を終えた、液晶セルの少
なくとも一方の基板に、液晶セルのギャップを制御する
スペーサーを画素部外に形成する工程と、ｂ）前記スペ
ーサーを画素部外に形成した基板にラビングなどの配向
処理を行う工程と、ｃ）対向する基板をはり合わせる工
程とからなることを特徴とする。
製造方法は、ａ）配向膜の塗布を終えた、液晶セルの少
なくとも一方の基板に、液晶セルのギャップを制御する
スペーサーを画素部外に形成する工程と、ｂ）前記スペ
ーサーを画素部外に形成した基板にラビングなどの配向
処理を行う工程と、ｃ）対向する基板をはり合わせる工
程とからなることを特徴とする。
【０００７】また、前記スペーサーを起点とした、ラビ
ングなどによる配向方向のベクトル線が画素内に到達し
ないように、画素に平行方向あるいは垂直方向にラビン
グなどの配向処理を行うことを特徴とする。
ングなどによる配向方向のベクトル線が画素内に到達し
ないように、画素に平行方向あるいは垂直方向にラビン
グなどの配向処理を行うことを特徴とする。
【０００８】さらに、前記スペーサーに起因する液晶の
配向むらを見えなくするために、前記スペーサーを起点
とした、ラビングなどによる配向方向のベクトル線の領
域が、ブラックマスク、不透明信号線などでマスクされ
るような方向にラビングなどの配向処理を行うことを特
徴とする。
配向むらを見えなくするために、前記スペーサーを起点
とした、ラビングなどによる配向方向のベクトル線の領
域が、ブラックマスク、不透明信号線などでマスクされ
るような方向にラビングなどの配向処理を行うことを特
徴とする。
【０００９】
【作用】液晶セルの液晶配向膜として主に用いられてい
る、ポリイミドなどの高分子膜は、例えばラビングによ
る配向処理によって、高分子が延伸され、その主鎖がラ
ビング方向に揃うため、液晶分子との分子間相互作用、
特にダイポール相互作用により液晶分子がラビング方向
に、あるいはある角度を持って並ぶものと考えられる。
前記ラビング処理にともない、ポリイミドなどの高分子
膜表面には、ラビング方向に沿ったサブミクロンオーダ
ーの溝が無数に形成される。このような一方向に揃った
溝による表面形状効果によっても、液晶が配向すること
は、ＳｉＯ斜方蒸着膜を配向層として備えた液晶セルに
よって確認することができる。この形状効果による液晶
の配向は、液晶とＳｉＯ斜方蒸着膜とのアンカリングエ
ネルギーが１×１０ー4Ｊ／ｍ2以下であるのに対し、ポ
リイミドラビング膜と液晶とのアンカリングエネルギー
は１×１０ー3Ｊ／ｍ2以上であることから、配向膜表面
の溝による表面形状効果よりも、液晶と配向膜高分子と
の分子間相互作用が支配的であると考えることができ
る。
る、ポリイミドなどの高分子膜は、例えばラビングによ
る配向処理によって、高分子が延伸され、その主鎖がラ
ビング方向に揃うため、液晶分子との分子間相互作用、
特にダイポール相互作用により液晶分子がラビング方向
に、あるいはある角度を持って並ぶものと考えられる。
前記ラビング処理にともない、ポリイミドなどの高分子
膜表面には、ラビング方向に沿ったサブミクロンオーダ
ーの溝が無数に形成される。このような一方向に揃った
溝による表面形状効果によっても、液晶が配向すること
は、ＳｉＯ斜方蒸着膜を配向層として備えた液晶セルに
よって確認することができる。この形状効果による液晶
の配向は、液晶とＳｉＯ斜方蒸着膜とのアンカリングエ
ネルギーが１×１０ー4Ｊ／ｍ2以下であるのに対し、ポ
リイミドラビング膜と液晶とのアンカリングエネルギー
は１×１０ー3Ｊ／ｍ2以上であることから、配向膜表面
の溝による表面形状効果よりも、液晶と配向膜高分子と
の分子間相互作用が支配的であると考えることができ
る。
【００１０】このような考え方を基にすると、以下のよ
うな問題点が生じる。
うな問題点が生じる。
【００１１】ポリイミドなどの高分子配向膜を塗布し、
例えば、ラビングによる配向処理を行った後の液晶セル
の一方の基板上に、感光性ポリイミドやフォトレジスト
を用いるなどしてスペーサーを形成する方法では、感光
性ポリイミドやフォトレジストを塗布する際、および不
要部の感光性ポリイミドやフォトレジストを除去する際
に、ポリイミドなどの配向膜を侵すような溶剤を使用し
なければならない。このような溶剤は、高分子膜を膨潤
させたり、ダイポール相互作用を発生するような分子構
造の部分を動き易くするために、ラビングにより形成さ
れた、分子間相互作用に基づく均一方向の液晶配向能力
が低下してしまうことは避けられない。その後に、エッ
チング工程が入るような工程では、更に配向能力が低下
することはいうまでもないことである。
例えば、ラビングによる配向処理を行った後の液晶セル
の一方の基板上に、感光性ポリイミドやフォトレジスト
を用いるなどしてスペーサーを形成する方法では、感光
性ポリイミドやフォトレジストを塗布する際、および不
要部の感光性ポリイミドやフォトレジストを除去する際
に、ポリイミドなどの配向膜を侵すような溶剤を使用し
なければならない。このような溶剤は、高分子膜を膨潤
させたり、ダイポール相互作用を発生するような分子構
造の部分を動き易くするために、ラビングにより形成さ
れた、分子間相互作用に基づく均一方向の液晶配向能力
が低下してしまうことは避けられない。その後に、エッ
チング工程が入るような工程では、更に配向能力が低下
することはいうまでもないことである。
【００１２】本発明においては、均一な液晶セル厚を得
るためのスペーサーを作成する上で避けることの出来な
い、配向膜を侵すような工程の後に、ラビングなどの配
向処理を行うことにより均一な液晶配向が得られ、均一
な表示特性が得られた。
るためのスペーサーを作成する上で避けることの出来な
い、配向膜を侵すような工程の後に、ラビングなどの配
向処理を行うことにより均一な液晶配向が得られ、均一
な表示特性が得られた。
【００１３】
（実施例１）本発明の実施例１における液晶表示素子
は、図１に示すように、上側偏光板１、液晶セル２、下
側偏光板３、液晶セルの上基板４、下基板５、透明電極
６、配向膜７、スペーサー８、ネマチック液晶９で構成
される。配向膜７には、日本合成ゴム社製ポリイミドで
あるオプトマーＡＬ−３０４６を用い、スピンコートに
より５００Åの膜を作成し、２００℃で１時間の焼成を
行った。スペーサー８は、図２に示すように、配向膜７
を塗布した下基板５（Ａ）の上にポジ感光性ポリイミド
１０をスプレー、スピンコート、ロールコート、または
スクリーン印刷により６．７μｍの厚みに塗布し
（Ｂ）、有効画素部以外の任意の場所をマスク（図面で
は省略）して紫外線を照射（５００ｍＪ／ｃｍ2 ）し、
感光部を除去して得られた（Ｃ）。その後、毛足長０．
８ｍｍのレーヨンを植毛したラビングクロスにて回転ラ
ビングし、配向処理を行った後、ツイスト角が左２４０
゜となるように配向処理を行った上基板をはり合わせ、
液晶セルを作成した。このセルに、Δｎが０．１３１の
液晶に、メルク社製のカイラルドーパントＳ−８１１を
０．８０ｗｔ％添加したものを注入し、作成した液晶セ
ルは、Δｎ×ｄが０．８８となる。
は、図１に示すように、上側偏光板１、液晶セル２、下
側偏光板３、液晶セルの上基板４、下基板５、透明電極
６、配向膜７、スペーサー８、ネマチック液晶９で構成
される。配向膜７には、日本合成ゴム社製ポリイミドで
あるオプトマーＡＬ−３０４６を用い、スピンコートに
より５００Åの膜を作成し、２００℃で１時間の焼成を
行った。スペーサー８は、図２に示すように、配向膜７
を塗布した下基板５（Ａ）の上にポジ感光性ポリイミド
１０をスプレー、スピンコート、ロールコート、または
スクリーン印刷により６．７μｍの厚みに塗布し
（Ｂ）、有効画素部以外の任意の場所をマスク（図面で
は省略）して紫外線を照射（５００ｍＪ／ｃｍ2 ）し、
感光部を除去して得られた（Ｃ）。その後、毛足長０．
８ｍｍのレーヨンを植毛したラビングクロスにて回転ラ
ビングし、配向処理を行った後、ツイスト角が左２４０
゜となるように配向処理を行った上基板をはり合わせ、
液晶セルを作成した。このセルに、Δｎが０．１３１の
液晶に、メルク社製のカイラルドーパントＳ−８１１を
０．８０ｗｔ％添加したものを注入し、作成した液晶セ
ルは、Δｎ×ｄが０．８８となる。
【００１４】以上のようにして作成した、本発明の実施
例１における液晶表示素子においては、表示エリア内の
セル厚を６．７±０．２μｍの精度内に制御することが
できた。また、画素内における液晶の配向も均一であ
り、むらのない非常に均一な表示が得られた。
例１における液晶表示素子においては、表示エリア内の
セル厚を６．７±０．２μｍの精度内に制御することが
できた。また、画素内における液晶の配向も均一であ
り、むらのない非常に均一な表示が得られた。
【００１５】（実施例２）本発明の実施例２における液
晶表示素子は、図３に示すように、上側偏光板１、液晶
セル２、下側偏光板３、液晶セルの上基板４、下基板
５、配向膜７、スペーサー８、ネマチック液晶９、ＴＦ
ＴまたはＭＩＭのような能動型素子１１、画素電極１
２、対向電極１３で構成される。配向膜７には日本合成
ゴム社製ポリイミドであるオプトマーＡＬ−１２５４を
用い、スピンコートにより５００Åの膜を作成し、１５
０℃で１時間の焼成を行った。スペーサー８は、図４に
示すように、配向膜７を塗布した下基板５（Ａ）の上
に、ポジ感光性ポリイミド１０をスプレー、スピンコー
ト、ロールコート、またはスクリーン印刷により５．０
μｍの厚みに塗布し（Ｂ）、能動素子部分（その他、有
効画素部以外の任意の場所であればよい）をマスク（図
面では省略）して紫外線を照射（５００ｍＪ／ｃｍ2）
し、感光部を除去して得られた（Ｃ）。その後、毛足長
０．８ｍｍのレーヨンを植毛したラビングクロスにて回
転ラビングし、配向処理を行った後、ツイスト角が右９
０゜となるように配向処理を行った上基板をはり合わ
せ、液晶セルを作成した。このセルに、Δｎが０．０８
０である液晶に、チッソ社製のカイラルドーパントＣＭ
−３３を０．０４ｗｔ％添加したものを注入し作成した
液晶セルはΔｎ×ｄが０．４０となる。
晶表示素子は、図３に示すように、上側偏光板１、液晶
セル２、下側偏光板３、液晶セルの上基板４、下基板
５、配向膜７、スペーサー８、ネマチック液晶９、ＴＦ
ＴまたはＭＩＭのような能動型素子１１、画素電極１
２、対向電極１３で構成される。配向膜７には日本合成
ゴム社製ポリイミドであるオプトマーＡＬ−１２５４を
用い、スピンコートにより５００Åの膜を作成し、１５
０℃で１時間の焼成を行った。スペーサー８は、図４に
示すように、配向膜７を塗布した下基板５（Ａ）の上
に、ポジ感光性ポリイミド１０をスプレー、スピンコー
ト、ロールコート、またはスクリーン印刷により５．０
μｍの厚みに塗布し（Ｂ）、能動素子部分（その他、有
効画素部以外の任意の場所であればよい）をマスク（図
面では省略）して紫外線を照射（５００ｍＪ／ｃｍ2）
し、感光部を除去して得られた（Ｃ）。その後、毛足長
０．８ｍｍのレーヨンを植毛したラビングクロスにて回
転ラビングし、配向処理を行った後、ツイスト角が右９
０゜となるように配向処理を行った上基板をはり合わ
せ、液晶セルを作成した。このセルに、Δｎが０．０８
０である液晶に、チッソ社製のカイラルドーパントＣＭ
−３３を０．０４ｗｔ％添加したものを注入し作成した
液晶セルはΔｎ×ｄが０．４０となる。
【００１６】以上のようにして作成した、本発明の実施
例２における液晶表示素子においては、表示エリア内の
セル厚を５．０±０．１μｍの精度内に制御することが
できた。また、画素内における液晶の配向も均一であ
り、むらのない非常に均一な表示が得られた。
例２における液晶表示素子においては、表示エリア内の
セル厚を５．０±０．１μｍの精度内に制御することが
できた。また、画素内における液晶の配向も均一であ
り、むらのない非常に均一な表示が得られた。
【００１７】（実施例３）実施例１及び実施例２におい
ては、スペーサー８を作成した後に行うラビング工程に
おいて、スペーサーの高さ、ラビングロールの直径、回
転数、回転方向、ラビングクロスの毛の材質、毛の長
さ、毛の植毛密度、さらには基板の送り速度といった、
さまざまな条件の違いにより、図５に示すようにスペー
サー８を起点として、有効画素１４内にラビング方向１
５に配向むら１６が生じてしまうという場合もあった。
ては、スペーサー８を作成した後に行うラビング工程に
おいて、スペーサーの高さ、ラビングロールの直径、回
転数、回転方向、ラビングクロスの毛の材質、毛の長
さ、毛の植毛密度、さらには基板の送り速度といった、
さまざまな条件の違いにより、図５に示すようにスペー
サー８を起点として、有効画素１４内にラビング方向１
５に配向むら１６が生じてしまうという場合もあった。
【００１８】そこで、図６に示すように、スペーサー８
を形成した側の基板のラビング方向１７を、スペーサー
８を起点としたラビング方向のベクトル線が、有効画素
１４内に到達しないような方向とし、これに対向する基
板のラビング方向を所望のツイスト角となるようにする
事により、上記のラビング工程におけるさまざまな条件
にずれが生じた場合においても、スペーサー８を起点と
した配向むら１６が画素内に出現することがなく、均一
な表示が得られた。
を形成した側の基板のラビング方向１７を、スペーサー
８を起点としたラビング方向のベクトル線が、有効画素
１４内に到達しないような方向とし、これに対向する基
板のラビング方向を所望のツイスト角となるようにする
事により、上記のラビング工程におけるさまざまな条件
にずれが生じた場合においても、スペーサー８を起点と
した配向むら１６が画素内に出現することがなく、均一
な表示が得られた。
【００１９】（実施例４）実施例３により、有効画素内
の均一表示は実現されたが、有効画素部以外の部分にお
いて配向むらによる光抜けなどが生じ、コントラストが
低下してしまう場合があった。
の均一表示は実現されたが、有効画素部以外の部分にお
いて配向むらによる光抜けなどが生じ、コントラストが
低下してしまう場合があった。
【００２０】そこで、図７に示すように、前記スペーサ
ー８を起点としたラビングによる配向むら１６の領域
を、ブラックマスク１８（あるいは不透明信号線などで
も良い）でマスクすることにより、スペーサーに起因す
る液晶の配向むら１６を見えなくすることができ、光漏
れなどによるコントラストの低下のない、均一な表示が
実現された。
ー８を起点としたラビングによる配向むら１６の領域
を、ブラックマスク１８（あるいは不透明信号線などで
も良い）でマスクすることにより、スペーサーに起因す
る液晶の配向むら１６を見えなくすることができ、光漏
れなどによるコントラストの低下のない、均一な表示が
実現された。
【００２１】
【発明の効果】以上述べたように本発明によれば、スペ
ーサーを形成した後に、画素内にスペーサーを起点とし
たラビング方向のベクトル線が到達しないようにラビン
グすることにより、均一な表示特性をもつ液晶表示素子
を提供することができる。
ーサーを形成した後に、画素内にスペーサーを起点とし
たラビング方向のベクトル線が到達しないようにラビン
グすることにより、均一な表示特性をもつ液晶表示素子
を提供することができる。
【図１】 本発明の実施例１における液晶表示素子の断
面図である。
面図である。
【図２】 本発明の実施例１における液晶表示素子のス
ペーサー部の作成工程の流れを示した図である。
ペーサー部の作成工程の流れを示した図である。
【図３】 本発明の実施例２における液晶表示素子の断
面図である。
面図である。
【図４】 本発明の実施例２における液晶表示素子のス
ペーサー部の作成工程の流れを示した図である。
ペーサー部の作成工程の流れを示した図である。
【図５】 液晶セルの有効画素部に出現する、スペーサ
ーを起点とするラビング方向の配向むらの例を示した図
である。
ーを起点とするラビング方向の配向むらの例を示した図
である。
【図６】 本発明の実施例３における液晶表示素子のラ
ビング方向を表した図である。
ビング方向を表した図である。
【図７】 液晶セルの有効画素部外に出現する、スペー
サーを起点とするラビング方向の配向むらをマスクす
る、ブラックマスクの配置を表した図である。これは、
本発明の実施例４のブラックマスクの配置に対応する。
サーを起点とするラビング方向の配向むらをマスクす
る、ブラックマスクの配置を表した図である。これは、
本発明の実施例４のブラックマスクの配置に対応する。
１ 上側偏光板 ２ 液晶セル ３ 下側偏光板 ４ 液晶セルの上基板 ５ 液晶セルの下基板 ６ 透明電極 ７ 配向膜 ８ スペーサー ９ ネマチック液晶 １０ ポジ感光性ポリイミド １１ 能動型素子 １２ 画素電極 １３ 対向電極 １４ 有効画素 １５ 実施例１および２における、スペーサーを配置し
た側の基板のラビング方向 １６ スペーサーを起点とした液晶の配向むら １７ 実施例３および２における、スペーサーを配置し
た側の基板のラビング方向 １８ ブラックマスク
た側の基板のラビング方向 １６ スペーサーを起点とした液晶の配向むら １７ 実施例３および２における、スペーサーを配置し
た側の基板のラビング方向 １８ ブラックマスク
Claims (3)
- 【請求項１】 ａ）配向膜の塗布を終えた、液晶セルの
少なくとも一方の基板に、液晶セルのギャップを制御す
るスペーサーを画素部外に形成する工程と、 ｂ）前記スペーサーを画素部外に形成した基板にラビン
グなどの配向処理を行う工程と、ｃ）対向する基板をは
り合わせる工程とからなることを特徴とする液晶表示素
子の製造方法。 - 【請求項２】 前記スペーサーを起点とした、ラビング
などによる配向方向のベクトル線が画素内に到達しない
ように、画素に平行方向あるいは垂直方向にラビングな
どの配向処理を行うことを特徴とする請求項１記載の液
晶表示素子の製造方法。 - 【請求項３】 前記スペーサーに起因する液晶の配向む
らを見えなくするために、前記スペーサーを起点とし
た、ラビングなどによる配向方向のベクトル線の領域
が、ブラックマスク、不透明信号線などでマスクされる
ような方向にラビングなどの配向処理を行うことを特徴
とする請求項１記載の液晶表示素子の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33071492A JP3391485B2 (ja) | 1992-12-10 | 1992-12-10 | 液晶素子の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33071492A JP3391485B2 (ja) | 1992-12-10 | 1992-12-10 | 液晶素子の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06175133A true JPH06175133A (ja) | 1994-06-24 |
| JP3391485B2 JP3391485B2 (ja) | 2003-03-31 |
Family
ID=18235747
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP33071492A Expired - Lifetime JP3391485B2 (ja) | 1992-12-10 | 1992-12-10 | 液晶素子の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3391485B2 (ja) |
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