JPH06176403A - 光記録媒体およびその製造方法 - Google Patents
光記録媒体およびその製造方法Info
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- JPH06176403A JPH06176403A JP4351272A JP35127292A JPH06176403A JP H06176403 A JPH06176403 A JP H06176403A JP 4351272 A JP4351272 A JP 4351272A JP 35127292 A JP35127292 A JP 35127292A JP H06176403 A JPH06176403 A JP H06176403A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- recording medium
- film
- optical recording
- color tone
- reflection
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- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】本発明による光記録媒体は、レーザ光を用い
て、反射により記録を読み出す光記録媒体において、銀
を主体とする反射膜を有し、該反射膜上に、Ｓｉを主体
とする色調制御膜を設けたことを特徴とする。 【効果】反射膜として画一的に銀を用いるものの、種々
の色調を得ることができるものである。
て、反射により記録を読み出す光記録媒体において、銀
を主体とする反射膜を有し、該反射膜上に、Ｓｉを主体
とする色調制御膜を設けたことを特徴とする。 【効果】反射膜として画一的に銀を用いるものの、種々
の色調を得ることができるものである。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、光記録媒体およびその
製造方法に関するものである。
製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】光記録媒体は、レーザ光を用いて記録を
読み出す記録媒体であって、コンパクトディスク、レー
ザーディスク、ＣＤ−Ｒ、ミニディスク等が知られてい
る。これらの光記録媒体は、レーザ光反射型が一般的で
あって、そのため、反射膜を備えている。この反射膜
は、高い反射率を得るために、従来、ＡｌやＡｕのスパ
ッタ膜が使用されている。
読み出す記録媒体であって、コンパクトディスク、レー
ザーディスク、ＣＤ−Ｒ、ミニディスク等が知られてい
る。これらの光記録媒体は、レーザ光反射型が一般的で
あって、そのため、反射膜を備えている。この反射膜
は、高い反射率を得るために、従来、ＡｌやＡｕのスパ
ッタ膜が使用されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】したがって、従来の光
記録媒体は、上記反射膜の材料の色を呈し、画一的なも
のとなり、また、トップコート中に染料を入れたり、印
刷レーベル等を用いて着色する方法が採られているが、
そうすると、反射膜の持つ美しい金属光沢を生かすこと
ができず、面白みに欠けるという問題があった。
記録媒体は、上記反射膜の材料の色を呈し、画一的なも
のとなり、また、トップコート中に染料を入れたり、印
刷レーベル等を用いて着色する方法が採られているが、
そうすると、反射膜の持つ美しい金属光沢を生かすこと
ができず、面白みに欠けるという問題があった。
【０００４】そこで、本発明は、反射膜としては、銀あ
るいは銀を主体とする合金を画一的に用いるが、色々な
色調を呈することのできる光記録媒体およびその製造方
法を提供することを目的とするものである。
るいは銀を主体とする合金を画一的に用いるが、色々な
色調を呈することのできる光記録媒体およびその製造方
法を提供することを目的とするものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】このような目的は、下記
（１）〜（１０）の発明によって達成される。 （１）レーザ光を用いて、反射により記録を読み出す光
記録媒体において、銀を主体とする反射膜を有し、該反
射膜上に、Ｓｉを主体とする色調制御膜を設けたことを
特徴とする光記録媒体。 （２）前記反射膜の銀含有率が６０atm%以上である上記
（１）の光記録媒体。 （３）前記色調制御膜のＳｉの含有率が４０atm%以上で
ある上記（１）または（２）の光記録媒体。 （４）前記色調制御膜の複素光学定数の実部ｎと、虚部
ｋとが、可視光領域において０．５≦ｎ≦５．０、
０．００１≦ｋ≦５．０であり、前記反射制御層の厚さ
ｔが、４nm≦ｔ≦５００nmである上記（１）〜（３）の
いずれかの光記録媒体。 （５）前記色調制御膜上に、さらにほぼ透明の保護層を
有する上記（１）〜（４）のいずれかの光記録媒体。 （６）レーザ光を用いて、反射により記録を読み出す光
記録媒体の製造方法において、銀を主体とする反射膜を
形成する工程、および該反射膜上に、Ｓｉを主体とする
色調制御膜を形成する工程を有し、色調制御膜の形成工
程において、その材料組成および膜厚の少なくとも一方
を変えることによって、呈する色調を変化させることを
特徴とする光記録媒体の製造方法。 （７）前記反射膜の銀含有量が６０atm%以上である上記
（６）の光記録媒体の製造方法。 （８）前記色調制御膜のＳｉの含有率が４０atm%以上で
ある上記（６）または（７）の光記録媒体。 （９）前記反射制御層の複素光学定数の実部ｎと、虚部
ｋとが可視光領域において０．５≦ｎ≦５．０，０．０
０１≦ｋ≦５．０であり、前記反射制御層の厚さｔが、
４nm≦ｔ≦５００nmである上記（６）〜（８）のいずれ
かの光記録媒体の製造方法。 （１０）前記反射制御層上に、さらにほぼ透明の保護層
を設ける上記（６）〜（９）のいずれかの光記録媒体の
製造方法。
（１）〜（１０）の発明によって達成される。 （１）レーザ光を用いて、反射により記録を読み出す光
記録媒体において、銀を主体とする反射膜を有し、該反
射膜上に、Ｓｉを主体とする色調制御膜を設けたことを
特徴とする光記録媒体。 （２）前記反射膜の銀含有率が６０atm%以上である上記
（１）の光記録媒体。 （３）前記色調制御膜のＳｉの含有率が４０atm%以上で
ある上記（１）または（２）の光記録媒体。 （４）前記色調制御膜の複素光学定数の実部ｎと、虚部
ｋとが、可視光領域において０．５≦ｎ≦５．０、
０．００１≦ｋ≦５．０であり、前記反射制御層の厚さ
ｔが、４nm≦ｔ≦５００nmである上記（１）〜（３）の
いずれかの光記録媒体。 （５）前記色調制御膜上に、さらにほぼ透明の保護層を
有する上記（１）〜（４）のいずれかの光記録媒体。 （６）レーザ光を用いて、反射により記録を読み出す光
記録媒体の製造方法において、銀を主体とする反射膜を
形成する工程、および該反射膜上に、Ｓｉを主体とする
色調制御膜を形成する工程を有し、色調制御膜の形成工
程において、その材料組成および膜厚の少なくとも一方
を変えることによって、呈する色調を変化させることを
特徴とする光記録媒体の製造方法。 （７）前記反射膜の銀含有量が６０atm%以上である上記
（６）の光記録媒体の製造方法。 （８）前記色調制御膜のＳｉの含有率が４０atm%以上で
ある上記（６）または（７）の光記録媒体。 （９）前記反射制御層の複素光学定数の実部ｎと、虚部
ｋとが可視光領域において０．５≦ｎ≦５．０，０．０
０１≦ｋ≦５．０であり、前記反射制御層の厚さｔが、
４nm≦ｔ≦５００nmである上記（６）〜（８）のいずれ
かの光記録媒体の製造方法。 （１０）前記反射制御層上に、さらにほぼ透明の保護層
を設ける上記（６）〜（９）のいずれかの光記録媒体の
製造方法。
【０００６】
【作用】本発明は、銀層の上に反射制御層である色調制
御膜を設けて、反射光のスペクトル制御によって種々の
色調を得るという新しい発想のものである。すなわち、
反射を銀で得、得たい色調の反射スペクトルを得るため
に、特定の吸収をもつ反射制御層すなわち色調制御膜を
用いるのである。そして、その結果、反射膜として画一
的に銀を用いるものの、種々の色調を得ることができる
ものである。
御膜を設けて、反射光のスペクトル制御によって種々の
色調を得るという新しい発想のものである。すなわち、
反射を銀で得、得たい色調の反射スペクトルを得るため
に、特定の吸収をもつ反射制御層すなわち色調制御膜を
用いるのである。そして、その結果、反射膜として画一
的に銀を用いるものの、種々の色調を得ることができる
ものである。
【０００７】
【具体的構成】以下、この出願の発明の具体的構成につ
いて詳細に説明する。本発明の反射膜は銀を主体とし、
光記録媒体に通常使用される透明基板上に形成される。
銀を主体とするとは、銀が６０at% 以上、特に８５〜１
００atm%であることを意味する。そして、反射膜は通常
４０nm〜０．５mm程度の厚さとする。また、基板と反射
膜間には中間下地層やレーザ光を用いて記録可能な層を
設けてもよい。
いて詳細に説明する。本発明の反射膜は銀を主体とし、
光記録媒体に通常使用される透明基板上に形成される。
銀を主体とするとは、銀が６０at% 以上、特に８５〜１
００atm%であることを意味する。そして、反射膜は通常
４０nm〜０．５mm程度の厚さとする。また、基板と反射
膜間には中間下地層やレーザ光を用いて記録可能な層を
設けてもよい。
【０００８】上記反射膜上には、反射制御層である色調
制御膜が設けられる。反射制御層は、その可視光領域
（λ＝４５０〜８００nmの波長域）における複素光学定
数の実部をｎ、虚部をｋ、その厚さをｔとしたとき、ｎ
＝０．５〜５．０、ｋ＝０．００１〜５．０、ｔ＝４〜
５００nmであることが好ましい。このような光学定数で
あれば、上記の膜厚ｔ範囲内で、後に詳述する反射スペ
クトルプロファイルを得る膜厚ｔを容易に実験的に求め
ることができる。
制御膜が設けられる。反射制御層は、その可視光領域
（λ＝４５０〜８００nmの波長域）における複素光学定
数の実部をｎ、虚部をｋ、その厚さをｔとしたとき、ｎ
＝０．５〜５．０、ｋ＝０．００１〜５．０、ｔ＝４〜
５００nmであることが好ましい。このような光学定数で
あれば、上記の膜厚ｔ範囲内で、後に詳述する反射スペ
クトルプロファイルを得る膜厚ｔを容易に実験的に求め
ることができる。
【０００９】このようなｎおよびｋをもつ材質として
は、Ｓｉ、Ｓｉの酸化物、窒化物、炭化物を採用するこ
とができる。
は、Ｓｉ、Ｓｉの酸化物、窒化物、炭化物を採用するこ
とができる。
【００１０】このような色調制御膜は反射膜表面に直接
形成されていてもよいが、色調制御膜と反射膜表面との
間には、透明層が形成されていてもよい。透明層のλ＝
４５０〜８００nmでのｎおよびｋは、ｎ＝１．０〜３．
０、ｋ＝０．００１〜２．０程度であることが好まし
く、その膜厚は通常２〜５００nm程度である。
形成されていてもよいが、色調制御膜と反射膜表面との
間には、透明層が形成されていてもよい。透明層のλ＝
４５０〜８００nmでのｎおよびｋは、ｎ＝１．０〜３．
０、ｋ＝０．００１〜２．０程度であることが好まし
く、その膜厚は通常２〜５００nm程度である。
【００１１】色調制御膜の形成は、通常、蒸着、スパッ
タ等の各種気相成膜法に従うが、この際、色調制御膜側
の反射率スペクトルが所定のプロファイルをもつように
その膜厚を制御する。この反射率スペクトルのプロファ
イルにおいては、波長λ＝４５０〜８００nmにおける反
射率Ｒが重要である。この波長範囲のＲを所定範囲に制
御することによって、見た者に種々の色調を呈すること
ができるからである。例えば、金色の場合λ＝４５０〜
８００nmにおけるＲ（％）は、図１中（λ，Ｒ）にて、
点Ａ（４５０，０）、Ｂ（４５０，４５）、Ｃ（５５
０，１００）、Ｄ（８００，１００）、Ｆ（８００，８
０）、Ｆ（６００，８０）およびＡを順に結ぶ直線上、
およびその直線で囲まれた範囲内に存在しなければなら
ない。なお、４５０nm未満および８００nm超のλにおけ
るＲについては制限がないことが確認されている。ま
た、図１中には、２４金（６−９以上）の２００nmのス
パッタ膜の反射率スペクトルが示される。この出願の発
明で必要とする反射率スペクトルプロファイルは、実際
の金の反射率スペクトルときわめて類似したものであ
る。この出願の発明によれば、銀の反射膜上に、その膜
厚を制御して、所定波長域にて設定色調類似反射スペク
トルを示す反射制御層である色調制御膜を設けさえすれ
ば、所定の色調を得ることができる。なお、反射制御層
の形成は常法に従えばよい。
タ等の各種気相成膜法に従うが、この際、色調制御膜側
の反射率スペクトルが所定のプロファイルをもつように
その膜厚を制御する。この反射率スペクトルのプロファ
イルにおいては、波長λ＝４５０〜８００nmにおける反
射率Ｒが重要である。この波長範囲のＲを所定範囲に制
御することによって、見た者に種々の色調を呈すること
ができるからである。例えば、金色の場合λ＝４５０〜
８００nmにおけるＲ（％）は、図１中（λ，Ｒ）にて、
点Ａ（４５０，０）、Ｂ（４５０，４５）、Ｃ（５５
０，１００）、Ｄ（８００，１００）、Ｆ（８００，８
０）、Ｆ（６００，８０）およびＡを順に結ぶ直線上、
およびその直線で囲まれた範囲内に存在しなければなら
ない。なお、４５０nm未満および８００nm超のλにおけ
るＲについては制限がないことが確認されている。ま
た、図１中には、２４金（６−９以上）の２００nmのス
パッタ膜の反射率スペクトルが示される。この出願の発
明で必要とする反射率スペクトルプロファイルは、実際
の金の反射率スペクトルときわめて類似したものであ
る。この出願の発明によれば、銀の反射膜上に、その膜
厚を制御して、所定波長域にて設定色調類似反射スペク
トルを示す反射制御層である色調制御膜を設けさえすれ
ば、所定の色調を得ることができる。なお、反射制御層
の形成は常法に従えばよい。
【００１２】このような色調制御膜の上には、ほぼ透明
な各種保護層が設けられていてもよい。
な各種保護層が設けられていてもよい。
【００１３】
【実施例】以下、本発明の具体的実施例を示し、本発明
をさらに詳細に説明する。
をさらに詳細に説明する。
【００１４】実施例１ ポリカーボネート基板上に、以下の条件で厚さ１００nm
のＡｇスパッタ膜を形成した。
のＡｇスパッタ膜を形成した。
【００１５】ターゲット：Ａｇ（純度９５atm%） 投入電力：１ｋＷ ＲＦ 真空度：０．６４Ｐａ ガス種：Ａｒ ガス流量：４０ｓｃｃｍ スパッタ時間：２４０ｓｅｃ
【００１６】以上の条件で、ポリカーボネート基板上に
厚さ１００nmのＡｇ反射膜を得た。
厚さ１００nmのＡｇ反射膜を得た。
【００１７】次いで、以下の条件で、上記反射膜上に厚
さ２０nmのＳｉスパッタ膜を形成した。
さ２０nmのＳｉスパッタ膜を形成した。
【００１８】ターゲット：Ｓｉ（Ｂドーピングしたも
の） 投入電力：１ｋＷ ＤＣ 真空度：０．２Ｐａ ガス種：Ａｒ ガス流量：１００ｓｃｃｍ スパッタ時間：２００ｓｅｃ
の） 投入電力：１ｋＷ ＤＣ 真空度：０．２Ｐａ ガス種：Ａｒ ガス流量：１００ｓｃｃｍ スパッタ時間：２００ｓｅｃ
【００１９】以上により、反射膜上に厚さ２０nmのＳｉ
色調制御膜を形成した。色調制御膜は、Ｘ線分析によ
り、Ｓｉのアモルファス膜であることが確認され、看者
にブルーの色調を呈した。その反射スペクトルを図２に
示した。
色調制御膜を形成した。色調制御膜は、Ｘ線分析によ
り、Ｓｉのアモルファス膜であることが確認され、看者
にブルーの色調を呈した。その反射スペクトルを図２に
示した。
【００２０】実施例２ 実施例１で作製したＡｇ反射膜上に、以下の条件で、厚
さ４０nmのＳｉＮスパッタ膜を形成した。
さ４０nmのＳｉＮスパッタ膜を形成した。
【００２１】ターゲット：Ｓｉ 投入電力：３００Ｗ ＲＦ 真空度：０．８Ｐａ ガス種：Ａｒ＋Ｎ2 混合ガス ガス流量：Ａｒ １８ｓｃｃｍ Ｎ2 ２ｓｃｃｍ スパッタ時間：４００ｓｅｃ
【００２２】以上により、反射膜上に厚さ４０nmのＳｉ
Ｎ色調制御膜を形成した。色調制御膜は、オージェ分析
により、膜中にＮが検出され、看者にピンクの色調を呈
した。その反射スペクトルを図３に示した。
Ｎ色調制御膜を形成した。色調制御膜は、オージェ分析
により、膜中にＮが検出され、看者にピンクの色調を呈
した。その反射スペクトルを図３に示した。
【００２３】実施例３ 実施例１で作製したＡｇ反射膜上に、以下の条件で、厚
さ１６０nmのＳｉＯスパッタ膜を形成した。
さ１６０nmのＳｉＯスパッタ膜を形成した。
【００２４】ターゲット：ＳｉＯ 投入電力：３００Ｗ ＲＦ 真空度：０．５Ｐａ ガス種：Ａｒ ガス流量：１０ｓｃｃｍ スパッタ時間：５２０ｓｅｃ
【００２５】以上により、反射膜上に厚さ１６０nmのＳ
ｉＯ色調制御膜を形成した。色調制御膜は、看者に金色
の色調を呈した。その反射スペクトルを図４に示した。
ｉＯ色調制御膜を形成した。色調制御膜は、看者に金色
の色調を呈した。その反射スペクトルを図４に示した。
【００２６】実施例４ 実施例１で作製したＡｇ反射膜上に、以下の条件で、厚
さ７．５nmＳｉスパッタ膜を形成した。
さ７．５nmＳｉスパッタ膜を形成した。
【００２７】ターゲット：Ｓｉ（Ｂドーピングしたも
の） 投入電力：１ｋＷ ＤＣ 真空度：０．２Ｐａ ガス種：Ａｒ ガス流量：１００ｓｃｃｍ スパッタ時間：７５ｓｅｃ
の） 投入電力：１ｋＷ ＤＣ 真空度：０．２Ｐａ ガス種：Ａｒ ガス流量：１００ｓｃｃｍ スパッタ時間：７５ｓｅｃ
【００２８】以上により、反射膜上に厚さ１５nmのＳｉ
色調制御膜を形成した。色調制御膜は、Ｘ線分析によ
り、Ｓｉのアモルファス膜であることが確認され、看者
に金色の色調を呈した。その反射スペクトルを図５に示
した。
色調制御膜を形成した。色調制御膜は、Ｘ線分析によ
り、Ｓｉのアモルファス膜であることが確認され、看者
に金色の色調を呈した。その反射スペクトルを図５に示
した。
【００２９】実施例５ 実施例１で作製したＡｇ反射膜上に、以下の条件で、厚
さ１５nmＳｉスパッタ膜を形成した。
さ１５nmＳｉスパッタ膜を形成した。
【００３０】ターゲット：Ｓｉ（Ｂドーピングしたも
の） 投入電力：１ｋＷ ＤＣ 真空度：０．２Ｐａ ガス種：Ａｒ ガス流量：１００ｓｃｃｍ スパッタ時間：１５０ｓｅｃ
の） 投入電力：１ｋＷ ＤＣ 真空度：０．２Ｐａ ガス種：Ａｒ ガス流量：１００ｓｃｃｍ スパッタ時間：１５０ｓｅｃ
【００３１】以上により、反射膜上に厚さ７．５nmのＳ
ｉ色調制御膜を形成した。色調制御膜は、Ｘ線分析によ
り、Ｓｉのアモルファス膜であることが確認され、看者
にルビー色の色調を呈した。その反射スペクトルを図６
に示した。
ｉ色調制御膜を形成した。色調制御膜は、Ｘ線分析によ
り、Ｓｉのアモルファス膜であることが確認され、看者
にルビー色の色調を呈した。その反射スペクトルを図６
に示した。
【００３２】実施例６ 実施例１で作製したＡｇ反射膜上に、以下の条件で、厚
さ３０nmのＳｉＮスパッタ膜を形成した。
さ３０nmのＳｉＮスパッタ膜を形成した。
【００３３】ターゲット：Ｓｉ 投入電力：３００Ｗ ＲＦ 真空度：０．８Ｐａ ガス種：Ａｒ＋Ｎ2 混合ガス ガス流量：Ａｒ １８ｓｃｃｍ Ｎ2 ２ｓｃｃｍ スパッタ時間：３００ｓｅｃ
【００３４】以上により、反射膜上に厚さ３０nmのＳｉ
Ｎ色調制御膜を形成した。色調制御膜は、オージェ分析
により、膜中にＮが検出され、看者に金色の色調を呈し
た。その反射スペクトルを図７に示した。
Ｎ色調制御膜を形成した。色調制御膜は、オージェ分析
により、膜中にＮが検出され、看者に金色の色調を呈し
た。その反射スペクトルを図７に示した。
【００３５】
【発明の効果】反射膜を画一的にＡｇ膜で形成しても、
Ｓｉを主体とする色調制御膜を設けることにより、光記
録媒体は種々の色を呈することができる。
Ｓｉを主体とする色調制御膜を設けることにより、光記
録媒体は種々の色を呈することができる。
【図１】金色を呈する反射スペクトルのプロファイルに
必要な条件を説明するためのグラフである。
必要な条件を説明するためのグラフである。
【図２】本発明の実施例１の光記録媒体の反射スペクト
ルである。
ルである。
【図３】本発明の実施例２の光記録媒体の反射スペクト
ルである。
ルである。
【図４】本発明の実施例３の光記録媒体の反射スペクト
ルである。
ルである。
【図５】本発明の実施例４の光記録媒体の反射スペクト
ルである。
ルである。
【図６】本発明の実施例５の光記録媒体の反射スペクト
ルである。
ルである。
【図７】本発明の実施例６の光記録媒体の反射スペクト
ルである。
ルである。
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成５年２月３日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正内容】
【００１２】このような色調制御膜の上には、ほぼ透明
な各種保護層が設けられていてもよい。あるいは酸化に
よる反射制御層の屈折率変化を防ぐために、制御層の上
下両方、あるいは一方を制御層と同様の材料の酸化物、
窒化物の層によって保護しても良い。
な各種保護層が設けられていてもよい。あるいは酸化に
よる反射制御層の屈折率変化を防ぐために、制御層の上
下両方、あるいは一方を制御層と同様の材料の酸化物、
窒化物の層によって保護しても良い。
フロントページの続き (72)発明者 川島 康 東京都中央区日本橋一丁目13番１号 ティ ーディーケイ株式会社内
Claims (10)
- 【請求項１】 レーザ光を用いて、反射により記録を読
み出す光記録媒体において、銀を主体とする反射膜を有
し、該反射膜上に、Ｓｉを主体とする色調制御膜を設け
たことを特徴とする光記録媒体。 - 【請求項２】 前記反射膜の銀含有率が６０atm%以上で
ある請求項１の光記録媒体。 - 【請求項３】 前記色調制御膜のＳｉの含有率が４０at
m%以上である請求項１または２の光記録媒体。 - 【請求項４】 前記色調制御膜の複素光学定数の実部ｎ
と、虚部ｋとが、可視光領域において０．５≦ｎ≦５．
０、 ０．００１≦ｋ≦５．０であり、前記反射制御層
の厚さｔが、４nm≦ｔ≦５００nmである請求項１〜３の
いずれかの光記録媒体。 - 【請求項５】 前記色調制御膜上に、さらにほぼ透明の
保護層を有する請求項１〜４のいずれかの光記録媒体。 - 【請求項６】 レーザ光を用いて、反射により記録を読
み出す光記録媒体の製造方法において、銀を主体とする
反射膜を形成する工程、および該反射膜上に、Ｓｉを主
体とする色調制御膜を形成する工程を有し、色調制御膜
の形成工程において、その材料組成および膜厚の少なく
とも一方を変えることによって、呈する色調を変化させ
ることを特徴とする光記録媒体の製造方法。 - 【請求項７】 前記反射膜の銀含有量が６０atm%以上で
ある請求項６の光記録媒体の製造方法。 - 【請求項８】 前記色調制御膜のＳｉの含有率が４０at
m%以上である請求項６または７の光記録媒体。 - 【請求項９】 前記反射制御層の複素光学定数の実部ｎ
と、虚部ｋとが可視光領域において０．５≦ｎ≦５．
０，０．００１≦ｋ≦５．０であり、前記反射制御層の
厚さｔが、４nm≦ｔ≦５００nmである請求項６〜８のい
ずれかの光記録媒体の製造方法。 - 【請求項１０】 前記反射制御層上に、さらにほぼ透明
の保護層を設ける請求項６〜９のいずれかの光記録媒体
の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4351272A JPH06176403A (ja) | 1992-12-07 | 1992-12-07 | 光記録媒体およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4351272A JPH06176403A (ja) | 1992-12-07 | 1992-12-07 | 光記録媒体およびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06176403A true JPH06176403A (ja) | 1994-06-24 |
Family
ID=18416197
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4351272A Pending JPH06176403A (ja) | 1992-12-07 | 1992-12-07 | 光記録媒体およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06176403A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5509991A (en) * | 1993-08-31 | 1996-04-23 | Daewoo Electronics Co., Ltd. | Method of producing an optical disk having an integrated label layer |
-
1992
- 1992-12-07 JP JP4351272A patent/JPH06176403A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5509991A (en) * | 1993-08-31 | 1996-04-23 | Daewoo Electronics Co., Ltd. | Method of producing an optical disk having an integrated label layer |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 19990727 |