JPH06176723A - 電子線発生装置 - Google Patents
電子線発生装置Info
- Publication number
- JPH06176723A JPH06176723A JP43A JP32641792A JPH06176723A JP H06176723 A JPH06176723 A JP H06176723A JP 43 A JP43 A JP 43A JP 32641792 A JP32641792 A JP 32641792A JP H06176723 A JPH06176723 A JP H06176723A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electron beam
- photocathode
- generator
- beam generator
- laser
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- Pending
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- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】電子線発生装置において、所望の断面形状の電
子線を得るための装置の変更を不用にする。 【構成】電子線発生装置は、光照射によって電子を発生
する光陰極１，陰極面上でのレーザ光の照射位置・形状
を制御できるレーザ光発生装置２，電子線加速装置３１
から構成される。この光陰極を用いる電子線発生装置で
は、レーザ光発生装置２から光陰極１に照射されるレー
ザ光２１によって発生した電子群が陽・陰極間にかけら
れた高電圧によって引き出されて電子線４となる。 【効果】装置を全く変更せずレーザ光の制御だけで電子
線断面形状、及び、電子線のオン・オフを制御でき、金
属材料等の加工作業の効率を著しく向上させることがで
きる。
子線を得るための装置の変更を不用にする。 【構成】電子線発生装置は、光照射によって電子を発生
する光陰極１，陰極面上でのレーザ光の照射位置・形状
を制御できるレーザ光発生装置２，電子線加速装置３１
から構成される。この光陰極を用いる電子線発生装置で
は、レーザ光発生装置２から光陰極１に照射されるレー
ザ光２１によって発生した電子群が陽・陰極間にかけら
れた高電圧によって引き出されて電子線４となる。 【効果】装置を全く変更せずレーザ光の制御だけで電子
線断面形状、及び、電子線のオン・オフを制御でき、金
属材料等の加工作業の効率を著しく向上させることがで
きる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、工業用の電子線発生装
置に係り、特に、金属材料加工等の任意断面形状の電子
線が必要な電子線発生施設に関する。
置に係り、特に、金属材料加工等の任意断面形状の電子
線が必要な電子線発生施設に関する。
【０００２】
【従来の技術】電子線による金属材料及びその化合物、
特に高融点金属，酸化物等に溶解，精製または溶接等の
加工を施す際に、任意断面形状の強力な電子線発生装置
が必要となる。従来は熱陰極から発生する電子線の通路
にスリットを設ける、又は、一つの電子銃中に複数個の
陰極を配置し、それぞれ独立にオン・オフして所要の断
面形状を有する電子線を形成させていた。従来例は、特
願昭38−10100 号明細書に記載されている。
特に高融点金属，酸化物等に溶解，精製または溶接等の
加工を施す際に、任意断面形状の強力な電子線発生装置
が必要となる。従来は熱陰極から発生する電子線の通路
にスリットを設ける、又は、一つの電子銃中に複数個の
陰極を配置し、それぞれ独立にオン・オフして所要の断
面形状を有する電子線を形成させていた。従来例は、特
願昭38−10100 号明細書に記載されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】スリットを用いる電子
線発生装置では電子線の断面形状を変更するためにスリ
ットの形状を変更しなければならない。また、複数個の
陰極を用いる電子線発生装置でも陰極の個数および配置
と各陰極の形状によって電子線の断面形状の自由度は制
限される。
線発生装置では電子線の断面形状を変更するためにスリ
ットの形状を変更しなければならない。また、複数個の
陰極を用いる電子線発生装置でも陰極の個数および配置
と各陰極の形状によって電子線の断面形状の自由度は制
限される。
【０００４】本発明の目的は、装置の変更無しに任意の
断面形状の電子線を生成することができる電子線発生装
置を提供することにある。
断面形状の電子線を生成することができる電子線発生装
置を提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明の特徴は、光陰極
が光照射を受けた部分のみ電子を放出することを利用
し、所望の断面形状の電子線が得られるようにレーザ光
の光陰極上の照射位置変更および照射形状の制御を行う
ことによって、装置の変更無しに任意の断面形状の電子
線を生成することができる電子線発生装置が提供され
る。
が光照射を受けた部分のみ電子を放出することを利用
し、所望の断面形状の電子線が得られるようにレーザ光
の光陰極上の照射位置変更および照射形状の制御を行う
ことによって、装置の変更無しに任意の断面形状の電子
線を生成することができる電子線発生装置が提供され
る。
【０００６】
【作用】本発明の電子線発生装置を用いれば、装置を全
く変更せずレーザ光の制御だけで電子線断面形状、及
び、電子線のオン・オフを制御できるので、金属材料等
の加工作業の効率を著しく向上させることができる。
く変更せずレーザ光の制御だけで電子線断面形状、及
び、電子線のオン・オフを制御できるので、金属材料等
の加工作業の効率を著しく向上させることができる。
【０００７】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明
する。図１は本発明の電子線発生装置の一実施例を上か
ら見た断面図であり、光陰極１，レーザ光発生装置２，
陽極３１から構成される。この光陰極を用いる電子線発
生装置では、レーザ光発生装置２から光陰極１に照射さ
れるレーザ光２１によって発生した電子群が陽・陰極間
にかけられた高電圧によって引き出されて電子線４とな
る。図２は本発明の電子線発生装置の陰極１を電子線射
出方向から見た説明図であり、陰極面上のレーザ光照射
部２２も併せて示してある。本発明の電子線発生装置で
は、レーザ光２の位置、又は、断面形状を制御して任意
形状のレーザ光照射部２２を陰極面上に形成することに
よって任意断面形状の電子線を得ることができる。
する。図１は本発明の電子線発生装置の一実施例を上か
ら見た断面図であり、光陰極１，レーザ光発生装置２，
陽極３１から構成される。この光陰極を用いる電子線発
生装置では、レーザ光発生装置２から光陰極１に照射さ
れるレーザ光２１によって発生した電子群が陽・陰極間
にかけられた高電圧によって引き出されて電子線４とな
る。図２は本発明の電子線発生装置の陰極１を電子線射
出方向から見た説明図であり、陰極面上のレーザ光照射
部２２も併せて示してある。本発明の電子線発生装置で
は、レーザ光２の位置、又は、断面形状を制御して任意
形状のレーザ光照射部２２を陰極面上に形成することに
よって任意断面形状の電子線を得ることができる。
【０００８】図３は、複数台のレーザ光発生装置によっ
て電子線を発生させる本発明の実施例である。
て電子線を発生させる本発明の実施例である。
【０００９】図４は、図１の陽極３１の代わりに高周波
空胴３２中の電界によって電子線４を引き出す本発明の
電子線発生装置の実施例である。
空胴３２中の電界によって電子線４を引き出す本発明の
電子線発生装置の実施例である。
【００１０】
【発明の効果】本発明によれば、装置を全く変更せずレ
ーザ光の制御だけで電子線断面形状、及び、電子線のオ
ン・オフを制御でき、金属材料等の加工作業の効率を著
しく向上させることができる。
ーザ光の制御だけで電子線断面形状、及び、電子線のオ
ン・オフを制御でき、金属材料等の加工作業の効率を著
しく向上させることができる。
【図１】本発明の電子線発生装置の一実施例の断面図。
【図２】本発明の電子線発生装置の光陰極面上のレーザ
光照射部の説明図。
光照射部の説明図。
【図３】本発明の電子線発生装置の第二の実施例の断面
図。
図。
【図４】本発明の電子線発生装置の第三の実施例の断面
図。
図。
１…光陰極、２…レーザ光発生装置、４…電子線、２１
…レーザ光、２２…陰極面上のレーザ光照射部、３１…
陽極、３２…高周波空洞。
…レーザ光、２２…陰極面上のレーザ光照射部、３１…
陽極、３２…高周波空洞。
Claims (2)
- 【請求項１】光照射によって電子を発生する光陰極，電
子線取り出し口を有する陽極、及びレーザ光発生装置か
ら構成される電子線発生装置において、レーザ光の光陰
極上の照射位置、及び、照射形状が制御可能であること
を特徴とする電子線発生装置。 - 【請求項２】光照射によって電子を発生する光陰極，高
周波空洞、及びレーザ光発生装置から構成される電子線
発生装置において、レーザ光の光陰極上の照射位置、及
び、照射形状が制御可能であることを特徴とする電子線
発生装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP43A JPH06176723A (ja) | 1992-12-07 | 1992-12-07 | 電子線発生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP43A JPH06176723A (ja) | 1992-12-07 | 1992-12-07 | 電子線発生装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06176723A true JPH06176723A (ja) | 1994-06-24 |
Family
ID=18187563
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP43A Pending JPH06176723A (ja) | 1992-12-07 | 1992-12-07 | 電子線発生装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06176723A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012506122A (ja) * | 2009-08-21 | 2012-03-08 | ポステック アカデミー−インダストリー ファウンデーション | 電子ビーム発生装置 |
| WO2012043475A1 (ja) | 2010-09-27 | 2012-04-05 | 大学共同利用機関法人高エネルギー加速器研究機構 | 光陰極高周波電子銃空洞装置 |
| WO2017071878A1 (en) * | 2015-10-30 | 2017-05-04 | Asml Netherlands B.V. | Electron source, with photocathode illuminated off-axis |
-
1992
- 1992-12-07 JP JP43A patent/JPH06176723A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012506122A (ja) * | 2009-08-21 | 2012-03-08 | ポステック アカデミー−インダストリー ファウンデーション | 電子ビーム発生装置 |
| US8736169B2 (en) | 2009-08-21 | 2014-05-27 | Postech Academy-Industry Foundation | Electron beam generating apparatus |
| WO2012043475A1 (ja) | 2010-09-27 | 2012-04-05 | 大学共同利用機関法人高エネルギー加速器研究機構 | 光陰極高周波電子銃空洞装置 |
| US9224571B2 (en) | 2010-09-27 | 2015-12-29 | Inter-University Research Institute Corporation | Photocathode high-frequency electron-gun cavity apparatus |
| WO2017071878A1 (en) * | 2015-10-30 | 2017-05-04 | Asml Netherlands B.V. | Electron source, with photocathode illuminated off-axis |
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