JPH0447422B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0447422B2 JPH0447422B2 JP57071822A JP7182282A JPH0447422B2 JP H0447422 B2 JPH0447422 B2 JP H0447422B2 JP 57071822 A JP57071822 A JP 57071822A JP 7182282 A JP7182282 A JP 7182282A JP H0447422 B2 JPH0447422 B2 JP H0447422B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pulse
- pulses
- unit
- generation circuit
- control
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/24—Circuit arrangements not adapted to a particular application of the tube and not otherwise provided for
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- ing And Chemical Polishing (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
- Electron Beam Exposure (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、イオンビーム、電子ビーム、プラズ
マビーム、レーザービーム等のビームを加工部に
照射して掘削加工、溶接、エツチング、プレーテ
イング、熱処理等の加工を行うビーム加工装置の
改良に関する。
マビーム、レーザービーム等のビームを加工部に
照射して掘削加工、溶接、エツチング、プレーテ
イング、熱処理等の加工を行うビーム加工装置の
改良に関する。
従来ビームを発生する主電源、例えば電子、イ
オンを加速する加速電源には定状直流高電圧を利
用しているが、この場合加工エネルギが充分精密
に制御できない。またレーザに於てコンデンサに
貯えたエネルギを放電管に放電してレーザ発振さ
せることは知られている。しかしこのコデンサの
放電を目的に合せて任意に制御するというわけに
はいかない。ビーム加工に於て加工性能、特に精
密な加工を行うためにはビームの制御が極めて重
要であるが、従来は何れのものも充分な制御がで
きなかつた。
オンを加速する加速電源には定状直流高電圧を利
用しているが、この場合加工エネルギが充分精密
に制御できない。またレーザに於てコンデンサに
貯えたエネルギを放電管に放電してレーザ発振さ
せることは知られている。しかしこのコデンサの
放電を目的に合せて任意に制御するというわけに
はいかない。ビーム加工に於て加工性能、特に精
密な加工を行うためにはビームの制御が極めて重
要であるが、従来は何れのものも充分な制御がで
きなかつた。
本発明は電源に一定のパルス幅と休止幅を有す
る単位パルス列を発生するパルス発生回路と、前
記単位パルスの出力パルス数と休止パルス数とを
任意に設定制御する回路とを設けて成るパルス電
源を設けたことを特徴とするものである。
る単位パルス列を発生するパルス発生回路と、前
記単位パルスの出力パルス数と休止パルス数とを
任意に設定制御する回路とを設けて成るパルス電
源を設けたことを特徴とするものである。
以下図面の一実施例により本発明を説明する
と、第１図に於て、第１は陰極を構成するフイラ
メントで、２が加熱用電源、３は電子放射を制御
するウエーネルト電極、４，５は電子加速用電極
で、この間に静電レンズ用電極６が設けられてい
る。７はビーム集束用電磁レンズで、集束したビ
ームスポツトを被加工体１３に与えて加工する。
８はパルス変圧器で、変圧出力を整流器９で整流
して加速電極に印加する。１０は直流電源、１１
は直流をスイツチングしてパルスを発生するスイ
ツチ素子、１２が制御パルスを発生するパルス発
生回路である。
と、第１図に於て、第１は陰極を構成するフイラ
メントで、２が加熱用電源、３は電子放射を制御
するウエーネルト電極、４，５は電子加速用電極
で、この間に静電レンズ用電極６が設けられてい
る。７はビーム集束用電磁レンズで、集束したビ
ームスポツトを被加工体１３に与えて加工する。
８はパルス変圧器で、変圧出力を整流器９で整流
して加速電極に印加する。１０は直流電源、１１
は直流をスイツチングしてパルスを発生するスイ
ツチ素子、１２が制御パルスを発生するパルス発
生回路である。
陰極フイラメント１の加熱により陰極から放射
する電子ビームはウエーネルト３のスリツトを通
り電極４，５，６の加速集束作用を受け、被加工
体１３の加工部に焦点を結ぶ、勿論このビーム照
射の雰囲気は真空ポンプによつて高真空に排気さ
れている。被加工体１３は加速電子ビームによつ
て溶解、蒸発等して加工されるが、微細精密加工
に於て照射ビームのエネルギ制御が重要になつて
くる。エネルギ制御はパルス電源のパルス数の制
御によつて行う。
する電子ビームはウエーネルト３のスリツトを通
り電極４，５，６の加速集束作用を受け、被加工
体１３の加工部に焦点を結ぶ、勿論このビーム照
射の雰囲気は真空ポンプによつて高真空に排気さ
れている。被加工体１３は加速電子ビームによつ
て溶解、蒸発等して加工されるが、微細精密加工
に於て照射ビームのエネルギ制御が重要になつて
くる。エネルギ制御はパルス電源のパルス数の制
御によつて行う。
パルス発生回路１２の詳細は第２図一実施例の
の通りで、１２１が単位パルス列を発生するパル
ス発生回路、１２２が前記単位パルスの出力パル
ス数と休止パルス数とを設定制御する前記出力パ
ルス数に相当するパルス幅と休止パルス数に相当
する休止幅とを有する制御パルスを発生する制御
パルス発生回路で、両者の出力をAND回路１２
３により結合することによつて所定のパルス数の
単位パルスを所定のパルス数に相当する休止幅を
もつて出力し増巾器１２４で増巾してスイツチ１
１を制御する。パルス発生回路１２１は一定のパ
ルス巾と休止巾を有するパルスを発生し続けるの
で、このパルス数によつてエネルギ制御がデジタ
ルに精密に制御できる。即ちパルス発生回路１２
１の出力パルスと制御パルス発生回路１２２の出
力パルスとはAND回路１２３によつてアンド結
合するので、制御パルス発生回路１２２の出力の
オンパルス時間だけ単位パルスが出力することに
なり、オンパルス巾の制御によつて単位パルスの
出力パルス数を容易に制御することができる。
の通りで、１２１が単位パルス列を発生するパル
ス発生回路、１２２が前記単位パルスの出力パル
ス数と休止パルス数とを設定制御する前記出力パ
ルス数に相当するパルス幅と休止パルス数に相当
する休止幅とを有する制御パルスを発生する制御
パルス発生回路で、両者の出力をAND回路１２
３により結合することによつて所定のパルス数の
単位パルスを所定のパルス数に相当する休止幅を
もつて出力し増巾器１２４で増巾してスイツチ１
１を制御する。パルス発生回路１２１は一定のパ
ルス巾と休止巾を有するパルスを発生し続けるの
で、このパルス数によつてエネルギ制御がデジタ
ルに精密に制御できる。即ちパルス発生回路１２
１の出力パルスと制御パルス発生回路１２２の出
力パルスとはAND回路１２３によつてアンド結
合するので、制御パルス発生回路１２２の出力の
オンパルス時間だけ単位パルスが出力することに
なり、オンパルス巾の制御によつて単位パルスの
出力パルス数を容易に制御することができる。
また単位パルス列が中断する時間巾も制御パル
ス発生回路１２２の出力オフパルス時間により容
易に精密に制御することができる。このように単
位パルスの出力パルス数と休止パルス数のデジタ
ル制御を行なうからパルス制御が極めて容易に正
確にでき、任意の値に制御でき、ANDゲート１
２３から出力する単位パルスによりスイツチ１１
オン、オフし変圧器８で昇圧して加速電極に加え
るエネルギが単位パルスの整数倍によつて容易に
精密に制御でき、ビームエネルギの制御ができ、
照射加工の精密制御ができるものである。
ス発生回路１２２の出力オフパルス時間により容
易に精密に制御することができる。このように単
位パルスの出力パルス数と休止パルス数のデジタ
ル制御を行なうからパルス制御が極めて容易に正
確にでき、任意の値に制御でき、ANDゲート１
２３から出力する単位パルスによりスイツチ１１
オン、オフし変圧器８で昇圧して加速電極に加え
るエネルギが単位パルスの整数倍によつて容易に
精密に制御でき、ビームエネルギの制御ができ、
照射加工の精密制御ができるものである。
したがつてこの本発明装置によれば、加工部照
射エネルギの制御が任意に精密に制御できるの
で、掘削加工、溶接、エツチング、プレーテイン
グ、熱処理等の加工を目的に対して常に正確に仕
上げることができる。
射エネルギの制御が任意に精密に制御できるの
で、掘削加工、溶接、エツチング、プレーテイン
グ、熱処理等の加工を目的に対して常に正確に仕
上げることができる。
尚前記パルス発生回路１２は単位パルス発生回
路１２１の発生回路パルスをカウンタで計数して
所定数に達する毎に単位パルス列を中断させるよ
うにしても単位パルスの出力するパルス数の制御
が任意にでき精密な制御ができる。また単位パル
スを発生するパルス発生回路１２１の発振作動を
所定の出力パルス数毎に中断制御するようにして
もよく、又単位パルスの休止パルス数もカウンタ
の計数によつて所定に制御することができる。
路１２１の発生回路パルスをカウンタで計数して
所定数に達する毎に単位パルス列を中断させるよ
うにしても単位パルスの出力するパルス数の制御
が任意にでき精密な制御ができる。また単位パル
スを発生するパルス発生回路１２１の発振作動を
所定の出力パルス数毎に中断制御するようにして
もよく、又単位パルスの休止パルス数もカウンタ
の計数によつて所定に制御することができる。
また本発明は前記パルス電源を設けることによ
つて電子ビーム、イオンビームに限らず、プラズ
マ、レーザー等のビームの制御も容易にでき、こ
れらによるビーム加工が正確に高性能に行える効
果を奏する。
つて電子ビーム、イオンビームに限らず、プラズ
マ、レーザー等のビームの制御も容易にでき、こ
れらによるビーム加工が正確に高性能に行える効
果を奏する。
第１図は本発明装置の一実施例構成図、第２図
はその一部分の詳細図である。 １……フイラメント、２……ウエーネルト、
４，５，６……電極、８……変圧器、９……整流
器、１０……直流電源、１１……スイツチ、１２
……パルス発生回路、１３……被加工体。
はその一部分の詳細図である。 １……フイラメント、２……ウエーネルト、
４，５，６……電極、８……変圧器、９……整流
器、１０……直流電源、１１……スイツチ、１２
……パルス発生回路、１３……被加工体。
Claims (1)
- １ 加工部分に高エネルギビームを照射して加工
するビーム加工装置に於て、前記高エネルギビー
ムを発生する主電源に、一定のパルス幅と休止幅
を有する単位パルス列を発生するパルス発生回路
と、前記単位パルスの出力パルス数と休止パルス
数とを任意に設定制御する回路とを設けて成るパ
ルス電源を設けたことを特徴とするビーム装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57071822A JPS58188043A (ja) | 1982-04-28 | 1982-04-28 | ビ−ム加工装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57071822A JPS58188043A (ja) | 1982-04-28 | 1982-04-28 | ビ−ム加工装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58188043A JPS58188043A (ja) | 1983-11-02 |
| JPH0447422B2 true JPH0447422B2 (ja) | 1992-08-03 |
Family
ID=13471626
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57071822A Granted JPS58188043A (ja) | 1982-04-28 | 1982-04-28 | ビ−ム加工装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58188043A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US12545970B2 (en) | 2020-09-03 | 2026-02-10 | Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho | Production method of pig iron |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4796313B2 (ja) * | 2005-03-03 | 2011-10-19 | 富士通株式会社 | カーボンナノチューブの成長方法及びトランジスタ |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5728686A (en) * | 1980-07-28 | 1982-02-16 | Daihen Corp | Working apparatus by charged particle beam |
-
1982
- 1982-04-28 JP JP57071822A patent/JPS58188043A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US12545970B2 (en) | 2020-09-03 | 2026-02-10 | Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho | Production method of pig iron |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS58188043A (ja) | 1983-11-02 |
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