JPH06177199A - 半導体チップ - Google Patents
半導体チップInfo
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- JPH06177199A JPH06177199A JP4325504A JP32550492A JPH06177199A JP H06177199 A JPH06177199 A JP H06177199A JP 4325504 A JP4325504 A JP 4325504A JP 32550492 A JP32550492 A JP 32550492A JP H06177199 A JPH06177199 A JP H06177199A
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- Japan
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- semiconductor chip
- step portion
- bonding pads
- bonding
- wire
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- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W72/00—Interconnections or connectors in packages
- H10W72/90—Bond pads, in general
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- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10D—INORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
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- H10D62/10—Shapes, relative sizes or dispositions of the regions of the semiconductor bodies; Shapes of the semiconductor bodies
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- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
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- H10W72/07551—Connecting or disconnecting of bond wires characterised by changes in properties of the bond wires during the connecting
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- H10W72/50—Bond wires
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- H10W72/932—Plan-view shape, i.e. in top view
Landscapes
- Wire Bonding (AREA)
- Design And Manufacture Of Integrated Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 多数のボンディングパッドを配列させた場合
にも、確実にワイヤーボンディングを施すことができる
半導体チップを提供することにある。 【構成】 半導体チップ10の外縁部には、この内側に
比べて外側が低く形成される段差部11を備える。そし
て、この段差部11を境とする上段部Aと下段部Bに
は、この段差部11に沿ってそれぞれボンディングパッ
ド12a,12bを配列させて構成する。
にも、確実にワイヤーボンディングを施すことができる
半導体チップを提供することにある。 【構成】 半導体チップ10の外縁部には、この内側に
比べて外側が低く形成される段差部11を備える。そし
て、この段差部11を境とする上段部Aと下段部Bに
は、この段差部11に沿ってそれぞれボンディングパッ
ド12a,12bを配列させて構成する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、複数のボンディングパ
ッドを備える半導体チップに関する。
ッドを備える半導体チップに関する。
【0002】
【従来の技術】通常、半導体チップの外縁部には、多数
のI/Oセルが配列されており、各I/Oセルには、こ
のI/Oセルの入出力電極となるボンディングパッドが
形成されている。具体的な構成例を図5(a)に示す
と、I/Oセル40の横幅は136μm程度であり、こ
の一端部には一辺が100μm程度のボンディングパッ
ド41が形成されている。
のI/Oセルが配列されており、各I/Oセルには、こ
のI/Oセルの入出力電極となるボンディングパッドが
形成されている。具体的な構成例を図5(a)に示す
と、I/Oセル40の横幅は136μm程度であり、こ
の一端部には一辺が100μm程度のボンディングパッ
ド41が形成されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】各ボンディングパッド
41は、AuやAlなどによって形成された細線(以
下、ワイヤーという)42を用いて、例えばパッケージ
側の電極と接続されるが、この際、隣り合うワイヤー4
2同士の接触を避けるため100μm程度の間隔が必要
されている。このワイヤー42同士の間隔を確保するた
め、隣り合うボンディングパッド同士の間隔も一定の値
以下に形成することはできなかった。
41は、AuやAlなどによって形成された細線(以
下、ワイヤーという)42を用いて、例えばパッケージ
側の電極と接続されるが、この際、隣り合うワイヤー4
2同士の接触を避けるため100μm程度の間隔が必要
されている。このワイヤー42同士の間隔を確保するた
め、隣り合うボンディングパッド同士の間隔も一定の値
以下に形成することはできなかった。
【0004】一方、このI/Oセル40を形成する内部
回路は、素子の微細化が進むに連れ占有面積の縮小化が
進んでおり、このような現状からも、限られた範囲内
に、従来よりも多数のボンディングパッドを配列させる
ことが望まれている。
回路は、素子の微細化が進むに連れ占有面積の縮小化が
進んでおり、このような現状からも、限られた範囲内
に、従来よりも多数のボンディングパッドを配列させる
ことが望まれている。
【0005】本発明は、このような課題を解決すべくな
されたものであり、一定の範囲内に多数のボンディング
パッドを配列させた場合にも、確実にワイヤーボンディ
ングを施すことができる半導体チップを提供することを
目的とする。
されたものであり、一定の範囲内に多数のボンディング
パッドを配列させた場合にも、確実にワイヤーボンディ
ングを施すことができる半導体チップを提供することを
目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】そこで、本発明にかかる
半導体チップは、少なくともこの一辺に沿った外縁部
に、この内側に比べ外側が低く形成される段差部を備
え、この段差部を境とする上段部と下段部には、この段
差部に沿ってボンディングパッドを配列させて構成す
る。
半導体チップは、少なくともこの一辺に沿った外縁部
に、この内側に比べ外側が低く形成される段差部を備
え、この段差部を境とする上段部と下段部には、この段
差部に沿ってボンディングパッドを配列させて構成す
る。
【0007】また、この段差部は、半導体チップの外縁
部の全周に亘って形成することもできる。
部の全周に亘って形成することもできる。
【0008】
【作用】この半導体チップのいずれか一辺に沿った外縁
部には、2列にボンディングパッドが配列されることと
なるが、形成される段差部によって、外側に配列された
ボンディングパッドは、その内側に配列されたボンディ
ングパッドに比べて低い位置に形成されることになる。
このような状態に2列に配列させた場合、上段に配列さ
れたボンディングパッドと下段に配列されたボンディン
グパッドとの間には、この段差部の高さに相当する間隔
が形成される。
部には、2列にボンディングパッドが配列されることと
なるが、形成される段差部によって、外側に配列された
ボンディングパッドは、その内側に配列されたボンディ
ングパッドに比べて低い位置に形成されることになる。
このような状態に2列に配列させた場合、上段に配列さ
れたボンディングパッドと下段に配列されたボンディン
グパッドとの間には、この段差部の高さに相当する間隔
が形成される。
【0009】
【実施例】以下、本発明の実施例を添付図面に基づいて
説明する。図1に、本実施例にかかる半導体チップ10
を示す。半導体チップ10は、その外縁部の全周に亘っ
て、チップの中央部(内側)に比べて外側が低くなるよ
うな段差部11を形成している。また、段差部11付近
には、この段差部11を境として、その上段部Aにボン
ディングパッド12aを、また、下段部Bにボンディン
グパッド12bをそれぞれ相対して配列させている。
説明する。図1に、本実施例にかかる半導体チップ10
を示す。半導体チップ10は、その外縁部の全周に亘っ
て、チップの中央部(内側)に比べて外側が低くなるよ
うな段差部11を形成している。また、段差部11付近
には、この段差部11を境として、その上段部Aにボン
ディングパッド12aを、また、下段部Bにボンディン
グパッド12bをそれぞれ相対して配列させている。
【0010】この段差部11は、半導体チップ10を構
成するチップ基板13に対し選択エッチング法などの従
来から行われている方法によってエッチングを施して形
成している。また、この段差部11の高さは、この後の
工程で施されるワイヤーボンディングにおいて、隣り合
うワイヤー同士の接触を十分に回避できる程度に形成す
ることが好ましく、少なくとも100μm程度の高さが
必要である。
成するチップ基板13に対し選択エッチング法などの従
来から行われている方法によってエッチングを施して形
成している。また、この段差部11の高さは、この後の
工程で施されるワイヤーボンディングにおいて、隣り合
うワイヤー同士の接触を十分に回避できる程度に形成す
ることが好ましく、少なくとも100μm程度の高さが
必要である。
【0011】なお、図において、ボンディングパッド1
2bは図示される2辺に沿ってのみ形成されているが、
図示されていない残る2辺に沿っても同様に配列・形成
されている。また、半導体チップ10の外縁部には、実
際には全周囲に亘ってI/Oセルが形成されているが、
便宜上、図示を省略する。
2bは図示される2辺に沿ってのみ形成されているが、
図示されていない残る2辺に沿っても同様に配列・形成
されている。また、半導体チップ10の外縁部には、実
際には全周囲に亘ってI/Oセルが形成されているが、
便宜上、図示を省略する。
【0012】次に、このように段差部11を利用してボ
ンディングパッド12a,12bを配列させることによ
る作用について説明する。
ンディングパッド12a,12bを配列させることによ
る作用について説明する。
【0013】図2は、半導体チップ10の一部縦断面を
概略的に示すものであり、参照番号20は、ワイヤーボ
ンディングを施した際に形成されるAu或いはAlなど
の細線、即ちワイヤーを示す。この図2において一点鎖
線で示すように、段差部11を形成せず、同一の平面上
に単純に2列にボンディングパッド12b´を配列させ
た場合には、各ボンディングパッド12a,12b´に
接続されたワイヤー20とワイヤー20´の間隔はL1
となる。これに対し、本実施例で示したように段差部1
1を形成し、高低差を付けてボンディングパッド12
a,12bを形成した場合には、図から明らかなよう
に、ワイヤー20同士の間隔L2は、L1に比べて大と
なり、段差部11の高さを調整することにより十分な間
隔L2を確保することができる。
概略的に示すものであり、参照番号20は、ワイヤーボ
ンディングを施した際に形成されるAu或いはAlなど
の細線、即ちワイヤーを示す。この図2において一点鎖
線で示すように、段差部11を形成せず、同一の平面上
に単純に2列にボンディングパッド12b´を配列させ
た場合には、各ボンディングパッド12a,12b´に
接続されたワイヤー20とワイヤー20´の間隔はL1
となる。これに対し、本実施例で示したように段差部1
1を形成し、高低差を付けてボンディングパッド12
a,12bを形成した場合には、図から明らかなよう
に、ワイヤー20同士の間隔L2は、L1に比べて大と
なり、段差部11の高さを調整することにより十分な間
隔L2を確保することができる。
【0014】また、図5(b)に示すように、ボンディ
ングパッド12a,12b´を同一の平面上に2列に配
列させた場合には、ワイヤーの形成方向に沿って斜めに
隣り合うボンディングパッドに着目すると、このボンデ
ィングパッドに接続されたワイヤー20とワイヤー20
´の間隔L3は、極端に狭く形成されることとなる。し
かし、このような場合にも、本実施例で示すような段差
部11を形成することによりこの間隔L3が広がるた
め、段差部11の高さを調整することにより、十分な間
隔L3を確保することもできる。
ングパッド12a,12b´を同一の平面上に2列に配
列させた場合には、ワイヤーの形成方向に沿って斜めに
隣り合うボンディングパッドに着目すると、このボンデ
ィングパッドに接続されたワイヤー20とワイヤー20
´の間隔L3は、極端に狭く形成されることとなる。し
かし、このような場合にも、本実施例で示すような段差
部11を形成することによりこの間隔L3が広がるた
め、段差部11の高さを調整することにより、十分な間
隔L3を確保することもできる。
【0015】また、ボンディングパッドの他の配列状態
を図3に示す。図1の場合には、ボンディングパッド
を、段差部11の上段部Aと下段部Bに同じ位置関係で
配列させたが、図3に示すように、各段部A,Bに配列
されたボンディングパッド12a,12bを、互いに配
列方向に沿って相対的に偏位させて、いわゆる千鳥状に
配列させることもできる。このように配列させた場合に
は、上段部Aと下段部Bに配列させたボンディングパッ
ド12a,12b同士の間隔が広がるため、形成方向に
沿って隣り合うワイヤー20、20´同士の間隔L3も
広げることができる(図5(b)参照)。
を図3に示す。図1の場合には、ボンディングパッド
を、段差部11の上段部Aと下段部Bに同じ位置関係で
配列させたが、図3に示すように、各段部A,Bに配列
されたボンディングパッド12a,12bを、互いに配
列方向に沿って相対的に偏位させて、いわゆる千鳥状に
配列させることもできる。このように配列させた場合に
は、上段部Aと下段部Bに配列させたボンディングパッ
ド12a,12b同士の間隔が広がるため、形成方向に
沿って隣り合うワイヤー20、20´同士の間隔L3も
広げることができる(図5(b)参照)。
【0016】以上説明した実施例では、半導体チップ1
0の周囲の4辺に沿って環状に段差部11を形成した例
を示したが、この例に限定するものではなく、任意の辺
に沿ってのみ段差部を形成することもできる。また、半
導体チップ11の外縁部を低く形成して段差部11を形
成する例を示したが、図4に示すように、チップ上の他
の面にくらべて高くなるような段差部11を形成し、こ
の上段部A、及びこの外側に位置する下段部Bに、それ
ぞれボンディングパッド12a,12bを配列させるこ
ともできる。さらに、本実施例では、段差部を利用して
ボンディングパッドを2列に配列させる例を示したが、
この段差部を複数箇所に形成し、外側が順に低くなるよ
うないわゆるひな段状に構成し、各段にボンディングパ
ッドを配列させることも可能である。
0の周囲の4辺に沿って環状に段差部11を形成した例
を示したが、この例に限定するものではなく、任意の辺
に沿ってのみ段差部を形成することもできる。また、半
導体チップ11の外縁部を低く形成して段差部11を形
成する例を示したが、図4に示すように、チップ上の他
の面にくらべて高くなるような段差部11を形成し、こ
の上段部A、及びこの外側に位置する下段部Bに、それ
ぞれボンディングパッド12a,12bを配列させるこ
ともできる。さらに、本実施例では、段差部を利用して
ボンディングパッドを2列に配列させる例を示したが、
この段差部を複数箇所に形成し、外側が順に低くなるよ
うないわゆるひな段状に構成し、各段にボンディングパ
ッドを配列させることも可能である。
【0017】
【発明の効果】以上説明したように、本発明にかかる半
導体チップは、このチップの外縁部に、内側に比べて外
側が低く形成される段差部を備え、この段差部を境とす
る上段部と下段部にそれぞれボンディングパッドを配列
させることとしたので、外側に配列されたボンディング
パッドは、その内側に配列されたボンディングパッドに
比べて低い位置に形成される。したがって、上段に配列
されたボンディングパッドと下段に配列されたボンディ
ングパッドとの間には、この段差部の高さに相当する間
隔を形成することができ、これによって、ワイヤーボン
ディングを施した際に、接続されたワイヤー同士の間隔
が広がり、隣り合うワイヤー同士が接触することを回避
することができる。
導体チップは、このチップの外縁部に、内側に比べて外
側が低く形成される段差部を備え、この段差部を境とす
る上段部と下段部にそれぞれボンディングパッドを配列
させることとしたので、外側に配列されたボンディング
パッドは、その内側に配列されたボンディングパッドに
比べて低い位置に形成される。したがって、上段に配列
されたボンディングパッドと下段に配列されたボンディ
ングパッドとの間には、この段差部の高さに相当する間
隔を形成することができ、これによって、ワイヤーボン
ディングを施した際に、接続されたワイヤー同士の間隔
が広がり、隣り合うワイヤー同士が接触することを回避
することができる。
【0018】このため、限られた範囲内に、従来よりも
多数のボンディングパッドを配列させた場合にも、確実
にワイヤーボンディングを施すことができ、半導体チッ
プのより一層の集積化を進めることができる。
多数のボンディングパッドを配列させた場合にも、確実
にワイヤーボンディングを施すことができ、半導体チッ
プのより一層の集積化を進めることができる。
【図1】本発明にかかる半導体チップを示す斜視図であ
る。
る。
【図2】半導体チップの一部を縦断して示す断面図であ
る。
る。
【図3】半導体チップの他の実施例を示す斜視図であ
る。
る。
【図4】半導体チップの他の実施例を示し、その一部を
縦断して示す断面図である。
縦断して示す断面図である。
【図5】(a)は従来の半導体チップ、及び各ボンディ
ングパッドに接続されたワイヤーを示す平面図、(b)
はボンディングパッドを同一面上に2列に配列した場合
の例を示す平面図である。
ングパッドに接続されたワイヤーを示す平面図、(b)
はボンディングパッドを同一面上に2列に配列した場合
の例を示す平面図である。
10…半導体チップ、11…段差部、12a,12b…
ボンディングパッド、20…ワイヤー、A…上段部、B
…下段部。
ボンディングパッド、20…ワイヤー、A…上段部、B
…下段部。
Claims (2)
- 【請求項1】 複数のボンディングパッドを有する半導
体チップにおいて、 前記半導体チップの外縁部には、この内側に比べて外側
が低く形成される段差部を備えており、この段差部を境
とする上段部と下段部には、この段差部に沿ってそれぞ
れ前記ボンディングパッドを配列させてなる半導体チッ
プ。 - 【請求項2】 前記段差部は、半導体チップの全周に亘
って形成されたものであることを特徴とする請求項1記
載の半導体チップ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4325504A JPH06177199A (ja) | 1992-12-04 | 1992-12-04 | 半導体チップ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4325504A JPH06177199A (ja) | 1992-12-04 | 1992-12-04 | 半導体チップ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06177199A true JPH06177199A (ja) | 1994-06-24 |
Family
ID=18177619
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4325504A Pending JPH06177199A (ja) | 1992-12-04 | 1992-12-04 | 半導体チップ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06177199A (ja) |
-
1992
- 1992-12-04 JP JP4325504A patent/JPH06177199A/ja active Pending
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