JPH06181048A - 管球および管球への被膜形成方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【目的】表面に被膜を形成したバルブの少なくとも一端
に封止部を形成してなる管球において、封止部近傍のバ
ルブ部分をも含み均一厚さの被膜が形成できる管球およ
び膜厚さを均一にできる被膜形成方法を提供する。 【構成】バルブ１内部にフィラメント２あるいは放電電
極を封入し端部に封止部４を形成するとともにバルブ１
外表面に被膜７形成してなる管球Ｌにおいて、上記封止
部４は中央部に比べ周縁に向かうにしたがい薄肉とした
りあるいはバルブ１部分と封止部４との間の連接部に切
欠部８を形成している。また、上記封止部４を有する管
球ＬをチャンバＢＸ内に水平または傾斜して支持させバ
ルブ１の外表面に被膜７を形成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、ハロゲン電球など管球
のガラスバルブの表面に、可視光透過赤外線反射膜のよ
うな多層干渉膜などの被膜を形成した管球およびこの管
球の製造方法に係わり、特にこの管球の封止部構造ない
しこの封止部を有する管球への膜形成方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】省エネルギー化の一環として管球分野に
おいても種々の工夫がなされており、たとえばハロゲン
電球においては、バルブの外表面に可視光透過赤外線反
射膜を形成することによって、フィラメントから放射さ
れた赤外線をこの反射膜で反射してフィラメントに帰還
させ、これによってフィラメントを加熱して発光効率を
高めることが知られている。このような可視光透過赤外
線反射膜としては、酸化チタン（ＴｉＯ2 ）などからな
る高屈折率層と酸化珪素（ＳｉＯ2 ）などからなる低屈
折率層とを交互に積層して多層化し、層数や層の厚さを
適宜選ぶことにより光の干渉を利用して、所望の波長域
の光を選択的に透過および反射させるものである。

【０００３】この電球においては、膜の層数が多いほど
赤外線の反射率を高くすることができ省電力の効果も大
きい。

【０００４】この可視光透過赤外線反射膜の形成方法と
しては、浸漬法、蒸着法、イオンプレーティング法、ス
パッタ法などがある。

【０００５】これらの膜形成方法としては、バルブを被
膜形成用溶液に浸漬して引上げる方法が簡単でコストも
安く多く採用されているが、厳密な膜厚さが要求される
場合あるいはバルブが直状でなく曲面や凹凸面がある場
合などには、形成された被膜の膜厚が不均一になったり
膜が形成されない部分が生じたりして、所定の特性が得
られないことがある。

【０００６】また、上記のように曲面や凹凸面があるバ
ルブを蒸着法などにより膜を形成する場合は、均一の膜
厚さを得るために被加工物であるバルブを回転させなが
ら被膜することが行なわれている。

【０００７】しかしながら、たとえば一端封止形のハロ
ゲン電球では端部を溶融し圧潰した近傍には曲面部がで
きるとともに、圧潰部にはモリブデン箔などの封着体を
埋設しているため偏平な略長方体形状の封止部が形成さ
れている。このため、このような電球を蒸着法などによ
り回転させながら膜形成をしようとしても、圧潰封止部
の角部が邪魔して上記曲面部への膜材料の飛来を妨害
し、バルブ外表面全体へ均一な厚さの膜形成が困難であ
る。

【０００８】また、このような方法の場合、通常膜材料
は一箇所で蒸発されバルブ周囲の全方向から飛来するも
のではないから、バルブの下方に膜材料の蒸発源を配置
しバルブの中心軸を水平固定してバルブを回転させて
も、バルブ端部の圧潰封止部の角部が邪魔して影をつく
り封止部近傍の曲面部への被膜を妨害し、膜厚の薄い部
分が生じランプ特性の低下を招く。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】本発明は上記の事情に
鑑み、管球の圧潰封止部の形状を変えることにより解決
を図ったもので、その形状としてはたとえば特開平１−
２８１６５４号公報に見られるような形状をしている。
この公報に記載されているものは、バルブ軸と交差する
方向の圧潰封止部の横断面が通常の管球では略同厚の長
方形状をしているのに対して、中央部が厚く端部側に向
かうにしたがい薄肉のものである。しかし、この特開平
１−２８１６５４号公報のものは、封止部の成形に当た
り溶融したガラスがモリブデン箔を不所望に押圧して電
極軸を曲げる等の不具合を防止するためになされたもの
で、管球バルブの表面に被膜を形成するなどのことには
全く配慮されていないものである。

【００１０】本発明は表面に被膜を形成したバルブの少
なくとも一端に封止部を形成してなる管球に、バルブ表
面に被膜を形成してなる管球において、封止部近傍のバ
ルブ部分も均一厚さの被膜が形成できる管球および膜厚
を均一にできる被膜形成方法を提供することを目的とす
る。

【００１１】

【課題を解決するための手段】本願の請求項１に記載の
第一の発明は、バルブ内部にフィラメントあるいは放電
電極を封入し端部に封止部を形成するとともにバルブ外
表面に被膜を形成してなる管球において、上記封止部は
中央部を最大肉厚部としバルブ軸と平行する周縁に向か
うにしたがい薄肉としたことを特徴としている。

【００１２】また、本願の請求項２に記載の第二の発明
は、バルブ内部にフィラメントあるいは放電電極を封入
し端部に封止部を形成するとともにバルブ外表面に被膜
を形成してなる管球において、上記フィラメントあるい
は放電電極を封入したバルブ部分と封止部との間の連接
部には切欠部が形成されていることを特徴としている。
また、本願の請求項３に記載の第三の発明は、上記封
止部のバルブ軸と直交する方向の横断面が、円形状、偏
平な長円形状や長菱形状であることを特徴としている。

【００１３】また、本願の請求項４に記載の第四の発明
は、上記フィラメントあるいは放電電極を封入したバル
ブ部分は球形や円形などの曲面部を有していることを特
徴としている。

【００１４】さらにまた、本願の請求項５に記載の第五
の発明は、チャンバ内において上記請求項１ないし請求
項４に記載の封止部を有する管球を、上記チャンバ内に
水平または傾斜して支持させバルブの外表面に被膜を形
成するようにしたことを特徴としている。

【００１５】

【作用】本願の請求項１ないし請求項４に記載の発明に
ついては、封止部を含む管球バルブに蒸発や噴射霧化な
どにより飛来した材料の進行を阻む凸部などがないの
で、バルブの外表面に形成した可視光透過赤外線反射膜
などのような多層干渉膜の被膜の膜厚を略均一にでき管
球の特性を向上できる。また、本願の請求項５に記載の
発明については、封止部を含む管球バルブに蒸発や噴射
霧化などにより飛来した材料の進行を阻む角部などがな
いので、バルブに向かい飛散した材料の殆どはバルブに
被着し、バルブに対する可視光透過赤外線反射膜などの
ような多層干渉膜の被膜の膜厚を略均一にできる。

【００１６】

【実施例】以下、本願第一ないし第五の発明の実施例を
図面を参照して説明する。図１（ａ），（ｂ）は小形投
光用のハロゲン電球Ｌの一部断面正面図，図２（ａ）、
（ｂ）は図１（ａ）の電球Ｌの圧潰封止部の下面図であ
る。

【００１７】図１（ａ）の電球Ｌは、石英ガラスからな
る略球形をなすバルブ１内にフィラメント２およびハロ
ゲンを含むアルゴンなどの不活性ガスが封入してある。
フィラメント２を支持する内部導線３，３はこのバルブ
１の一端部を圧潰して形成した封止部４内に封止された
モリブデン箔５，５に接続されている。また，各モリブ
デン箔５，５の他端側には外部導線６，６が接続されて
いる。７はバルブ１の外表面に形成されている被膜であ
るたとえば可視光透過赤外線反射膜を構成する多層干渉
膜である。

【００１８】また、このバルブ１軸と交差する方向の圧
潰封止部４における横断面は、図２に示す通り偏平な長
円形状（ａ）や長菱形状（ｂ）である。

【００１９】また、図１（ｂ）は他の実施例を示す電球
Ｌで図１と同一部分には同一の符号を付してその説明は
省略する。この電球Ｌは球形をなすバルブ１部分と圧潰
封止部４との連接部にこの封止部４に食い込んで切欠部
８，８が設けられている。

【００２０】図１（ａ）および図２に示す電球Ｌのバル
ブ１へ多層干渉膜７をイオンプレーティング方法にて形
成する方法を図３を参照して説明する。

【００２１】図３においてＢＸはチャンバで，このチェ
ンバＢＸには真空ポンプＶＰに接続する排気管Ｅ，アル
ゴンガスＡｒを供給するためのアルゴンガス供給管Ａ，
酸素ガスＯ2 を供給するための酸素ガス供給管Ｏが連結
されており、これら各管Ｅ、Ａ、Ｏにはそれぞれ弁Ｅ
Ｃ、ＡＣ、ＯＣが設けられている。

【００２２】また，チャンバＢＸ内の底部には蒸着物質
を収容するルツボＲが設けられ，このルツボＲの上方に
は螺旋状の高周波コイルＣが配置されている。この高周
波コイルＣの上方には複数層からなる可視光透過赤外線
反射膜を形成するための電球Ｌのバルブ１が治具（図示
しない）によりバルブ軸を傾斜θ（０〜３０度）させた
状態で、かつ矢印Ｘ方向に自転するとともに矢印Ｙ方向
に公転するように、駆動装置（図示しない）により支持
されている。

【００２３】さらにまた、ＨＦは高周波発信器でマッチ
ングボックスＭを介し上記高周波コイルＣに接続され、
ＥＳは可変直流電源で負極側をバルブ１に接続してい
る。なお、ＨはチェンバＢＸ内の上方に設けられたヒー
タである。

【００２４】上記装置を用いた電球Ｌのバルブ１外表面
への被膜の形成方法を述べる。まず、バルブ１への被膜
形成前の表面処理はチェンバＢＸ内の図示しない治具
に、電球Ｌのバルブ１をバルブ軸がθ度（０〜３０度）
傾斜させた状態で支持させる。この状態で弁ＥＣを開放
しチェンバＢＸ内を排気管Ｅを通じ排気し、所定の真空
度とする。

【００２５】この後、駆動装置を介して上記バルブ１を
矢印Ｘ方向に自転させるとともに矢印Ｙ方向に公転さ
せ、かつ，チェンバＢＸ内の上方に設けたヒータＨによ
りバルブ１の外表面温度を３００〜３５０℃程度となる
ように加熱する。

【００２６】つぎに、弁ＥＣを閉止し、弁ＡＣを開放し
アルゴンガス供給管Ａを通じてチェンバＢＸ内にアルゴ
ンガスＡｒを供給する。このチェンバＢＸ内のアルゴン
ガスＡｒ圧力は、０．０１ないし０．１トールとする。

【００２７】この状態で高周波発信器ＨＦから高周波コ
イルＣに１〜２０ＭＨｚ、０．５〜２ ＫＷ程度の高周
波電力を供給する。

【００２８】すると、チャンバＢＸ内のアルゴンガスＡ
ｒは高周波プラズマによりイオン化され、このアルゴン
イオンは負に帯電されているバルブ１の表面に引かれ
て、バルブ１の外表面に衝突する。このアルゴンイオン
の衝突による運動エネルギーでバルブ１の外表面はエッ
チングされ表面に付着していた塵埃が除去されるととも
に凸面が浸蝕され、よって表面が高精度な平滑面とな
り、これによりバルブ１の表面処理がなされる。

【００２９】この処理が終了したら、つぎに上記バルブ
１の表面に多層干渉膜７からなる可視光透過赤外線反射
膜の形成に入る。まず、多層干渉膜７の第一層としてた
とえば高屈折率層膜７Ｈを作る材料としてルツボＲ内に
金属チタン（Ｔｉ）を収容する。

【００３０】同様に、バルブ１を図示しない駆動装置を
介して矢印Ｘ方向に自転させるとともに矢印Ｙ方向に公
転させ，かつ，チェンバＢＸ内の上部に設けたヒータＨ
によりバルブ１の外表面温度を約３００〜３５０℃とな
るように加熱する。そして、弁ＯＣを開放し酸素ガス供
給管Ｏを通じてチャンバＢＸ内に酸素ガスＯ2 を供給
し、このチャンバＢＸ内の酸素Ｏ2 分圧を２．０×１０
-4 トール程度にする。この状態で高周波発信器ＨＦか
ら高周波コイルＣに１３．５６ＭＨｚ、３００Ｗ程度の
高周波電力を供給する。

【００３１】このようにすると、ルツボＲで蒸発したＴ
ｉの蒸気が高周波プラズマによりイオン化され、このイ
オンは負に帯電されているバルブ１の表面に引かれて、
バルブ１の外表面にＴｉＯ2 の蒸着膜が付着する。

【００３２】つぎに、低屈折率層膜７Ｌを作る材料とし
てルツボＲ内にＳｉＯ2 粉末を収容して、上記と同様に
ＳｉＯ2 を蒸発させれば上記ＴｉＯ2 の蒸着膜７Ｈ上に
ＳｉＯ2 の蒸着膜７Ｌが付着される。そして、高屈折率
層膜７Ｈ，…を作るＴｉＯ2と低屈折率層膜７Ｌ，…を
作るＳｉＯ2 とを交互に繰り返えし所定層積層して蒸着
させれば、図５に示す多層干渉膜７を形成したハロゲン
電球Ｌが得られる。

【００３３】このようにして被膜７を形成した図１
（ａ）に示す電球Ｌは、圧潰封止部４の端部が肉薄であ
るため図４（ａ），（ｂ）のように蒸発して飛来する被
膜材料Ｍを遮蔽するような突出した角部がなく、下方の
ルツボＲから蒸発したガス状の被膜材料Ｍがこの封止部
４を含むバルブ１の外表面にまんべんなく流れ、一様の
厚さの被膜が形成される。なお、この種の電球Ｌにおい
て上記圧潰封止部４に付着した多層干渉膜７は電球Ｌの
特性にあまり影響を与えるものではなく、上記封止部４
の被膜７の均一度は無視でき、また、被膜されなくても
よい。

【００３４】なお、上記実施例では一つのルツボＲ内に
交互に被膜材料を入れたが、チェンバＢＸ内に予め異種
の被膜材料を入れた複数個のルツボＲを用意し、交互に
蒸発させるようにしてもよい。

【００３５】また、上記実施例では高屈折率層膜７Ｈ，
…材料として金属チタン（Ｔｉ）を用いたが酸化チタン
（ＴｉＯ2 ）を用いてもよい。しかし、イオン化し易い
金属チタン（Ｔｉ）を用いた場合の方が、反応性、イオ
ン化度が高くできあがったＴｉＯ2 層の結晶性、緻密
性、密着性も高い。また、その他下記に示すように透過
率がほぼ同等でも高い屈折率が得られる。

【００３６】因みに、高屈折率層膜７Ｈ，…材料として
金属チタン（Ｔｉ）を用いた場合と、酸化チタン（Ｔｉ
Ｏ2 ）を用いた場合とを比較すると、酸化チタン（Ｔｉ
Ｏ2）の屈折率ないし透過率がそれぞれ２．４０、９
３．７％であるのに対し、金属チタン（Ｔｉ）ではそれ
ぞれ２．４０、９３．７％となる。また、酸化チタン
（ＴｉＯ2 ）の初期のカット率ないしカット幅は、それ
ぞれ９２．６％、２５０ｎｍまた熱処理後のカット率な
いしカット幅は、それぞれ９４．６％、２３８ｎｍであ
るのに対し、金属チタン（Ｔｉ）では初期のカット率な
いしカット幅は、それぞれ９６．２％、２８０ｎｍ、ま
た熱処理後のカット率ないしカット幅は、それぞれ９
７．１％、２６０ｎｍとなる。（なお、カット率とは１
−最小透過率、カット幅とは最大透過率の１／２の位置
の透過率曲線の谷の幅をいう。）上記の高屈折率層を形
成する膜材料と低屈折率層を形成するＳｉＯ2 とで可視
光透過赤外線反射膜を構成した場合、金属チタン（Ｔ
ｉ）を用いた方が酸化チタン（ＴｉＯ2 ）を用いたもの
より初期においても熱処理後においてもカット率、カッ
ト幅がすぐれている。したがって、金属チタン（Ｔｉ）
を用いて可視光透過赤外線反射膜を形成すると、赤外線
域の波長を多く反射しフィラメントに戻すことで、多く
の熱線をカットし効率が向上できるとともに耐熱性にも
すぐれたハロゲン電球などを提供できる。

【００３７】本発明者等の実験では、高屈折率層を形成
する膜材料を変えて１０層の可視光透過赤外線反射膜を
形成したハロゲン電球Ｌの諸特性はつぎの通りで金属チ
タン（Ｔｉ）を用いた電球Ｌがすぐれていた。すなわ
ち、被膜材料がない場合の電力比（％）、光束比（％）
ないし効率比（％）をそれぞれ１００％、１００％、１
００％とすると、酸化チタン（ＴｉＯ2 ）の場合のそれ
はそれぞれ９６．８％、１３２．０％ないし１３６．４
％であるのに対し、金属チタン（Ｔｉ）のそれは９４．
６％、１４８．３％ないし１５６．８％である。

【００３８】また、図１（ｂ）に示す電球Ｌは、たとえ
ば上記と同様の装置、方法により膜形成を行った場合、
球形をなすバルブ１部分と圧潰封止部４との連接部に食
い込んで設けた切欠部８，８に蒸発した膜材料が流れ込
むとともにこの切欠部８，８が実際に光放射する球形バ
ルブ１部分の面積を増加させることになり電球の効率向
上が図れることになる。

【００３９】図６は平行容量結合型プラズマＣＶＤ法に
よる被膜の形成を示し、図中図３と同一部分には同一の
符号を付してその説明は省略する。

【００４０】図６においてチャンバＢＸ内には一対の放
電電極ＥＲ，ＥＲが対向して設けられている。Ｔ１は一
端をアルゴンガスＡｒボンベ（図示しない）に接続し，
他端を高屈折率層を形成するＴｉ（ＯＲ）4 や低屈折率
層を形成するＳｉ（ＯＲ）4などからなる被膜形成材料
を収容した容器ＭＣ内に挿入された給気管、Ｔ２はこの
容器ＭＣと上記チャンバＢＸとを接続する材料供給管で
ある。また、ＨＦは上記放電電極ＥＲ，ＥＲに接続した
プラズマ発生用の高周波電源、ＴＯはチャンバＢＸ内に
酸素ガスＱ2 を供給する酸素ガス供給管である。

【００４１】そして、上記対向している一対の放電電極
ＥＲ，ＥＲの間に被膜を形成すべき電球Ｌをバルブ１軸
を膜材料Ｍが送られてくる方向に対し傾斜して支持具
（図示しない）に支持させる。つぎに、バルブ１軸およ
び封止部４を中心として電球Ｌを自転および公転させな
がら，給気管Ｔ１からアルゴンガスＡｒを流したとえば
容器ＣＭ内のＴｉ（ＯＲ）4 を吸上げて材料供給管Ｔ２
を通じチャンバＢＸ内にガス状の材料を導入する。この
ときチャンバＢＸ内の圧力は数トール〜数１００トール
に保つておく。この状態で電極ＥＲ，ＥＲに高周波電圧
を加え，高周波グロー放電を行う。このときガス温度と
電子温度の大幅に異なる準平衡プラズマ状態が発生す
る。このグロー放電のエネルギによってＴｉ（ＯＲ）4
は分解され、電球Ｌのバルブ１外表面にはＴｉが堆積し
Ｔｉ膜を形成する。

【００４２】この後、Ｔｉ（ＯＲ）4 に代えてチャンバ
ＢＸ内に酸素ガス供給管ＴＯから酸素Ｏ2 を流しなが
ら、上記と同様にして高周波グロー放電を行なわせてバ
ルブ１の外表面にＴｉＯ2 膜７Ｈを形成させる。

【００４３】つぎに、上記したと同様にして今度は膜材
料Ｍを低屈折率層を形成するＳｉ（ＯＲ）4 に変えて膜
形成する。そして、図５に示すように上記の高屈折率層
を形成するＴｉ（ＯＲ）4 ７Ｈ，…および低屈折率層を
形成するＳｉ（ＯＲ）4 ７Ｌ，…の被膜を交互に所定層
積層してハロゲン電球Ｌを完成させる。

【００４４】このようにして被膜を形成した電球Ｌも，
圧潰封止部４の端部が肉薄であるため遮蔽するような突
出した角部がなく、ガス状の被膜材料がこの封止部４を
含むバルブ１の外表面にまんべんなく流れ一様の厚さの
被膜が形成される。

【００４５】この方法（装置）によりハロゲン電球の封
止部形状を図２（ａ）としたバルブにＴｉＯ2 −ＳｉＯ
2 からなる８層の可視光透過赤外線反射膜を形成した場
合、膜を全く形成しない電球に比べ従来の封止部形状の
ものが１２％の効率向上に対し１８％の効率向上が得ら
れた。

【００４６】また、封止部形状を図７（ｂ）としたバル
ブにＴｉＯ2 −ＳｉＯ2 からなる可視光透過赤外線反射
膜を形成した場合、膜を全く形成しない電球に比べ従来
の偏平な封止部形状のものが２２％の効率向上で封止部
温度が３２０℃に対し、２９％の効率向上でかつ封止部
温度を２９５℃と下げることができた封止部のクラック
や外部導線の酸化の少ない品質の高い電球が得られた。

【００４７】なお，本願の発明は上記実施例に限定され
ない。たとえば，ランプはバルブの一端に封止部を形成
したハロゲン電球に限らず，他の用途の電球や放電ラン
プでもよく，また，封止部がバルブの両端部に設けてあ
るものでもよい。

【００４８】また，封止部の形状も図２のように偏平状
に圧潰したものに限らない。図７（ａ），（ｂ）はモリ
ブデン箔５，５を重層して封止部４の幅を狭めた横断面
が円形状（ａ）や略円形状（ｂ）をなす大電流用やバル
ブが小径の管球に適用されているもので、この管球の封
止部４はバルブ１径に比べて小さくできるので、バルブ
１の外表面に被膜を形成する場合に膜材料の流れに障害
を生ぜず膜厚を均一にできる。また、この形のものはモ
リブデン箔５，５の間にバルブ１を構成すると同じ材質
のガラス板が介在していて両モリブデン箔５，５の間に
はリークや電気的導通などの虞れはない。

【００４９】また、本願発明の管球のバルブ形状は図示
のものに限らず管状や楕円形状など他の形状であっても
もちろんよく、その材質も石英ガラスに限らず他の材質
のガラスであっても差支えなく、上記実施例では予めバ
ルブの外表面を処理してから多層干渉膜を形成したが、
予め行うバルブの外表面処理は必須のことではない。

【００５０】さらに、上記実施例ではバルブの外表面に
可視光透過赤外線反射膜の作用をなす多層干渉膜を形成
する場合について述べたが、本発明は他の作用をなす多
層干渉膜、単なる光や熱の反射膜、着色膜などを成膜す
る場合にももちろん適用が可能である。

【００５１】さらにまた、成膜方法としては上述の方法
に限らず、蒸着法やスパッタ法などによる方法でもよ
い。

【００５２】

【発明の効果】以上詳述したように本願の第一ないし第
四の発明については、封止部を含む管球バルブに蒸発や
噴射霧化などにより飛来した材料の進行を阻む凸部など
がないので、バルブの外表面に形成した可視光透過赤外
線反射膜などのような多層干渉膜の被膜の膜厚を略均一
にでき管球の特性を向上できる。また、本願の第五の発
明については、封止部を含む管球バルブに蒸発や噴射霧
化などにより飛来した材料の進行を阻む角部などがない
ので、バルブに向かい飛散した材料の殆どはバルブに被
着し、バルブに対する可視光透過赤外線反射膜などのよ
うな多層干渉膜の被膜の膜厚を略均一にできる。

【図面の簡単な説明】

【図１】（ａ），（ｂ）とも投光用ハロゲン電球の正面
図。

【図２】（ａ），（ｂ）とも図１のＺ−Ｚ線に沿って断
面した拡大断面図。

【図３】管球への被膜形成装置の説明図。

【図４】（ａ）ないし（ｂ）は被膜形成経過を示す説明
図。

【図５】管球のバルブ外表面に形成された被膜の断面
図。

【図６】他の実施例の被膜形成装置の説明図。

【図７】（ａ），（ｂ）とも他の実施例の管球の封止部
の拡大断面図。

【符号の説明】

Ｌ…管球（電球）、１…バルブ、２…フィラメント（放
電電極）、４…封止部 ７…被膜（多層干渉膜）、８…切欠部、ＢＸ…チャン
バ。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁵ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｋ 1/32 Ｂ 9172−5Ｅ

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】バルブ内部にフィラメントあるいは放電電
   極を封入し端部に封止部を形成するとともにバルブ外表
   面に被膜を形成してなる管球において、上記封止部は中
   央部を最大肉厚部としバルブ軸と平行する周縁に向かう
   にしたがい薄肉としたことを特徴とする管球。
2. 【請求項２】バルブ内部にフィラメントあるいは放電電
   極を封入し端部に封止部を形成するとともにバルブ外表
   面に被膜を形成してなる管球において、上記フィラメン
   トあるいは放電電極を封入したバルブ部分と封止部との
   間の連接部には切欠部が形成されていることを特徴とす
   る管球。
3. 【請求項３】上記封止部のバルブ軸と直交する方向の横
   断面は、円形状、偏平な長円形状や長菱形状であること
   を特徴とする請求項１または請求項２に記載の管球。
4. 【請求項４】上記フィラメントあるいは放電電極を封入
   したバルブ部分は球形や円形などの曲面部を有している
   ことを特徴とする請求項１ないし請求項３に記載の管
   球。
5. 【請求項５】チャンバ内において上記請求項１ないし請
   求項４に記載の封止部を有する管球を、上記チャンバ内
   に水平または傾斜して支持させバルブの外表面に被膜を
   形成するようにしたことを特徴とする管球への被膜形成
   方法。