JPH0618213Y2 - 瓦乾燥装置 - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本考案は焼成前の瓦を短時間で能率良く乾燥させること
ができる瓦乾燥装置の改良に関するものである。

（従来の技術） 瓦の乾燥装置としては、例えば実公昭６３−３５３３７
号公報に示されるように、乾燥炉の中央に瓦移送装置を
設けるとともに、炉内の両側壁に熱風吹き出し及び吸い
込み用ファンを設け、移送される瓦に熱風を吹付けるこ
とにより瓦の表面から水分を蒸発させるようにしたもの
が知られている。

ところが瓦の表面に高温の熱風を吹き付けると瓦の表層
部のみが乾燥して切れや割れなどが発生し易いという問
題があり、急速乾燥を行わせることができないために、
従来は水分含有率が20％の瓦を水分含有率が２％となる
まで乾燥させるのに30時間という長時間を必要とする欠
点があった。

（考案が解決しようとする課題） 本考案はこのような従来の欠点を解決して、瓦を表面切
れや割れを生じさせることなく従来よりもはるかに短時
間で乾燥することができる瓦乾燥装置を目的として完成
されたものである。

（課題を解決するための手段） 上記の課題を達成するためになされた本考案は中央部に
瓦移送装置を備えた炉体の内部を両側壁から内向きに突
出する仕切板によって炉の長手方向に多数の区画に分割
し、各区画の天井部に上下方向の循環気流を形成する熱
風循環装置を取り付けるとともに、ひとつ置きの区画の
両側壁に赤外線ヒーターを取り付けたことを特徴とする
ものである。

（実施例） 次に本考案を図示の実施例によって詳細に説明する。

図中(1)はトンネル状の炉体であり、(2)は炉体(1)の中
央部に設けられた瓦移送装置である。実施例の瓦移送装
置(2)はレール(3)と台車(4)とを含み、水分が20％程度
の瓦を台車(4)上に多段に積載して炉体(1)の入口から出
口に向かって移送する構造のものであるが、瓦移送装置
(2)の構造はコンベア式とするなど適宜変更が可能であ
る。

この炉体(1)の内部は、両側壁(5)から内向きに突出する
仕切板(6)によって炉の長手方向に多数の区画に分割さ
れている。(7)は各区画の天井部に取り付けられた熱風
循環装置であって、ケーシング(8)の内部に設けられた
ファン(9)により各区画の内部に図示のような上下方向
の循環気流を形成する。またひとつ置きの区画の両側壁
(5)には赤外線ヒーター(10)が多数個取り付けられてお
り、その区画の内部の温度が70℃程度となるよう加熱し
ている。しかし赤外線ヒーター(10)が取り付けられてい
ない区画内の温度は40℃前後に保たれている。(1)は炉
体(1)の天井部に適宜設けられた排気口であり、図示の
実施例では各区画の循環部分に設けられているが、必ず
しもこれに限定されるものではない。

なお各区画における循環気流の下降流と上昇流とを明確
に分離するため、炉体内に第３図の隔壁(12)を設けても
よく、この場合には赤外線ヒーター(10)は隔壁(12)の内
側に配置されている。

（作用） このように構成された本考案の瓦乾燥装置は、瓦移送装
置(2)の台車(4)に瓦を積載し、炉体(1)の内部を移動さ
せつつ赤外線ヒータ(10)からの輻射と熱風循環装置(7)
による対流とにより乾燥を行わせるものであることは従
来のものと同様である。しかし本考案においては炉体
(1)の内部がその両側壁(5)から内向きに突出する仕切り
板(6)によって多数の区画に分割され、そのひとつ置き
の区画に赤外線ヒータ(10)が取り付けられた高温区画と
されているため、瓦は低温区画と高温区画を交互に連続
して通過する。この高温区画を通る際には赤外線ヒータ
(10)の輻射を受けるとともに循環する約70℃の熱風に曝
され、瓦表面は急速に温度が上がり乾燥される。しか
し、内部は昇温が遅れるため表面と内部の温度差が大と
なり、水分が表面に向って拡散していく。ところが、あ
る程度表面の乾燥が進むと表面に境界層を形成してしま
うので、逆に水分の揮散を妨げてしまう。ついで、瓦が
これに隣接する低温区画に入ったときには、約40℃の風
が瓦表面に吹き付け、表面の境界層を取除いてしまうの
で瓦の内部の水分拡散作用が促進されて表層への水分移
動が行われ、表面に移動した水分は次の高温区画におい
て急速に瓦の表面から除去される。このように本考案に
よれば、瓦表面からの強力な水分除去作用と、瓦内部の
水分拡散作用とが交互に繰り返されることとなるので、
一定温度で連続的に乾燥を行っていた従来の装置に比較
して、瓦の内部まで乾燥させるに要する時間ははるかに
短くなる。しかも本考案によれば、高温区画で表面の温
度上昇及び乾燥、低温区画で瓦内部の温度分布の均一化
及び水分の拡散が交互に繰返されるので内部が多量の水
分を含んだ状態で瓦表面のみが急速に乾燥されることが
ないために、乾燥中に瓦の表面に割れや切れが発生する
ことがない。

この結果、水分含有率が20％の瓦を水分含有率が２％と
なるまで乾燥させるに要する時間は従来の30時間から３
時間へと大幅に短縮することが可能となった。

なお、多量の水分が蒸発する前半部では排気口(11)の開
度を大きくして水蒸気の排出を促し、蒸発量が減少する
後半部では開度を小さくして熱の放散を防ぎ、熱効率の
向上を図ることが好ましい。また赤外線ヒータ(10)とし
てニクロム線等の抵抗発熱体をセラミック板の内部に埋
設したものを使用すれば、湿気に強いうえに熱容量が大
で冷めにくく、設定温度に対する温度変動幅が小さくな
って均一な乾燥を行わせるに好都合である。

（考案の効果） 本考案は以上に説明したように、表面に割れや切れを生
じさせることなく瓦を従来よりもはるかに短時間で乾燥
させることができるものであり、瓦製造工程の合理化に
効果的なものである。よって本考案は従来の欠点を解決
した瓦乾燥装置として、その実用的価値は極めて大きい
ものがある。

【図面の簡単な説明】

第１図は本考案の実施例を示す水平断面図、第２図はそ
の垂直断面図、第３図は他の実施例を示す垂直断面図で
ある。 (1)：炉体、(2)：瓦移送装置、(5)：両側壁、(6)：仕切
板、(7)：熱風循環装置、(10)：赤外線ヒーター。

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 【請求項１】中央部に瓦移送装置(2)を備えた炉体(1)の
   内部を両側壁(5)から内向きに突出する仕切板(6)によっ
   て炉の長手方向に多数の区画に分割し、各区画の天井部
   に上下方向の循環気流を形成する熱風循環装置(7)を取
   り付けるとともに、ひとつ置きの区画の両側壁(5)に赤
   外線ヒーター(10)を取り付けたことを特徴とする瓦乾燥
   装置。