JPH06190236A - 気体の清浄方法及び装置 - Google Patents
気体の清浄方法及び装置Info
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- JPH06190236A JPH06190236A JP4357380A JP35738092A JPH06190236A JP H06190236 A JPH06190236 A JP H06190236A JP 4357380 A JP4357380 A JP 4357380A JP 35738092 A JP35738092 A JP 35738092A JP H06190236 A JPH06190236 A JP H06190236A
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- ozone
- gas
- air
- harmful
- oxide catalyst
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02A—TECHNOLOGIES FOR ADAPTATION TO CLIMATE CHANGE
- Y02A50/00—TECHNOLOGIES FOR ADAPTATION TO CLIMATE CHANGE in human health protection, e.g. against extreme weather
- Y02A50/20—Air quality improvement or preservation, e.g. vehicle emission control or emission reduction by using catalytic converters
Landscapes
- Separation Of Gases By Adsorption (AREA)
- Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)
- Treating Waste Gases (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 有害ガスによる汚染に対して有効で、効果的
な気体の清浄方法と装置を提供する。 【構成】 有害ガスを含む気体8の清浄方法において、
該気体8をオゾン発生装置11から発生するオゾンと接
触させた後、オゾン分解能及び有害物質吸着能をもつ複
合酸化物系触媒12と接触させることとしたものであ
る。
な気体の清浄方法と装置を提供する。 【構成】 有害ガスを含む気体8の清浄方法において、
該気体8をオゾン発生装置11から発生するオゾンと接
触させた後、オゾン分解能及び有害物質吸着能をもつ複
合酸化物系触媒12と接触させることとしたものであ
る。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、気体の清浄方法及び装
置に関する。本発明の清浄方法及び装置は、事務所、家
庭、病院、ホテルなどにおける空気清浄、下排水、廃棄
物処理場などの各種工業における排ガスや工場内雰囲気
の清浄化、地下駐車場やトンネル換気排ガスの清浄化、
あるいは電子工業、薬品工業、食品工業、農林産業、医
療、精密機械工業などにおけるクリーンルーム、クリー
ンブース、クリーントンネル、クリーンベンチ、安全キ
ャビネット、バイオクリーンボックス、無菌室、パスボ
ックス、貴重品の保管庫(ストッカ)、搬送空間、エア
カーテン、エアナイフ、乾燥工程、生産ラインへの供給
気体の製造装置などにおける空気、窒素、酸素などの気
体の清浄化に利用できる。
置に関する。本発明の清浄方法及び装置は、事務所、家
庭、病院、ホテルなどにおける空気清浄、下排水、廃棄
物処理場などの各種工業における排ガスや工場内雰囲気
の清浄化、地下駐車場やトンネル換気排ガスの清浄化、
あるいは電子工業、薬品工業、食品工業、農林産業、医
療、精密機械工業などにおけるクリーンルーム、クリー
ンブース、クリーントンネル、クリーンベンチ、安全キ
ャビネット、バイオクリーンボックス、無菌室、パスボ
ックス、貴重品の保管庫(ストッカ)、搬送空間、エア
カーテン、エアナイフ、乾燥工程、生産ラインへの供給
気体の製造装置などにおける空気、窒素、酸素などの気
体の清浄化に利用できる。
【0002】
【従来の技術】事務所等における有害ガスによる悪臭汚
染には、酸性ガス(例、アルデヒド、硫化水素、酢酸、
脂肪酸、メルカプタン類)、アルカリ性ガス(例、アン
モニア、トリメチルアミン)、中性ガス(例、サルファ
イド類)が混合して悪臭を放つような複合臭があり、具
体的にはタバコ臭、トイレ臭、腐敗臭、料理臭がある。
染には、酸性ガス(例、アルデヒド、硫化水素、酢酸、
脂肪酸、メルカプタン類)、アルカリ性ガス(例、アン
モニア、トリメチルアミン)、中性ガス(例、サルファ
イド類)が混合して悪臭を放つような複合臭があり、具
体的にはタバコ臭、トイレ臭、腐敗臭、料理臭がある。
【0003】タバコ臭を例に説明すると、タバコ臭は、
著しく多種の成分(1,000種以上と言われている)
からなる典型的な複合臭汚染であり、それらの主要成分
であるアルデヒド、ニコチンなどには発ガン性、あるい
は毒性があることから、タール分、微粒子(煙)ととも
に、その捕集・除去の要求は強い。このようなタバコ臭
の除去は、活性炭、植物精油類など種々の捕集・除去材
料を用いた方法やマスキング効果を狙った芳香剤が提案
されているが、いずれも効果が十分ではなく、タバコ臭
除去の要求を満たすものとはなっていない。このため、
効果のある脱臭方法や装置が要望されている。
著しく多種の成分(1,000種以上と言われている)
からなる典型的な複合臭汚染であり、それらの主要成分
であるアルデヒド、ニコチンなどには発ガン性、あるい
は毒性があることから、タール分、微粒子(煙)ととも
に、その捕集・除去の要求は強い。このようなタバコ臭
の除去は、活性炭、植物精油類など種々の捕集・除去材
料を用いた方法やマスキング効果を狙った芳香剤が提案
されているが、いずれも効果が十分ではなく、タバコ臭
除去の要求を満たすものとはなっていない。このため、
効果のある脱臭方法や装置が要望されている。
【0004】次に、NOxによる汚染については、NO
xは有害なガスであり、従来から除去に対する要望が強
いが、効果的な除去法は現在までに存在しない。半導体
工業のクリーンルームにおける有害ガスによる汚染につ
いては、従来のクリーンルームの空気清浄方法あるいは
その装置を大別すると、 (1)機械的ろ過方法(例えばHEPAフィルター) (2)静電的に微粒子の捕集を行う高電圧による荷電及
び導電性フィルターによるろ過方式(例えばHESAフ
ィルター) があるが、これらの方式は、いずれも微粒子(粒子状物
質)除去を目的としており、炭化水素(H.C),NO
x,NH3 のようなガス状の汚染物(有害成分)の除去
には効果がない欠点があった。
xは有害なガスであり、従来から除去に対する要望が強
いが、効果的な除去法は現在までに存在しない。半導体
工業のクリーンルームにおける有害ガスによる汚染につ
いては、従来のクリーンルームの空気清浄方法あるいは
その装置を大別すると、 (1)機械的ろ過方法(例えばHEPAフィルター) (2)静電的に微粒子の捕集を行う高電圧による荷電及
び導電性フィルターによるろ過方式(例えばHESAフ
ィルター) があるが、これらの方式は、いずれも微粒子(粒子状物
質)除去を目的としており、炭化水素(H.C),NO
x,NH3 のようなガス状の汚染物(有害成分)の除去
には効果がない欠点があった。
【0005】ガス状の汚染物(有害成分)であるH.
C.の除去法としては、燃焼分解法、触媒分解法、O3
分解法などが知られている。しかし、これらの方法はク
リーンルームへの導入空気に含有する極低濃度H.C.
除去には効果がない。クリーンルームにおいては、自動
車排ガスに起因するような導入空気中の低濃度のH.
C.も汚染質として問題となる。また、クリーンルーム
における作業で生じた各種の溶剤(例えば、アルコー
ル、ケトン類等)も汚染質として問題となる。
C.の除去法としては、燃焼分解法、触媒分解法、O3
分解法などが知られている。しかし、これらの方法はク
リーンルームへの導入空気に含有する極低濃度H.C.
除去には効果がない。クリーンルームにおいては、自動
車排ガスに起因するような導入空気中の低濃度のH.
C.も汚染質として問題となる。また、クリーンルーム
における作業で生じた各種の溶剤(例えば、アルコー
ル、ケトン類等)も汚染質として問題となる。
【0006】また、H.C.以外の有害成分としては、
NOx,NH3 などがあり、これらの除去法としては適
宜のアルカリ性物質や酸性物質を用いた中和反応や酸化
反応に基づく方法などが知られている。しかし、これら
の方法も、成分濃度がクリーンルームへの導入空気に含
有するような極低濃度の場合には効果が少ない。
NOx,NH3 などがあり、これらの除去法としては適
宜のアルカリ性物質や酸性物質を用いた中和反応や酸化
反応に基づく方法などが知られている。しかし、これら
の方法も、成分濃度がクリーンルームへの導入空気に含
有するような極低濃度の場合には効果が少ない。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、前記したよ
うな各種要望を満足できる有害ガスによる汚染に対して
効果的な気体の清浄方法及び装置を提供することを課題
とする。
うな各種要望を満足できる有害ガスによる汚染に対して
効果的な気体の清浄方法及び装置を提供することを課題
とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明では、有害ガスを含む気体の清浄方法におい
て、該気体をオゾンと接触させた後、オゾン分解能及び
有害物質吸着能をもつ複合酸化物系触媒と接触させるこ
ととしたものである。また、本発明では、有害成分を含
む気体の清浄装置において、該気体通路にオゾン接触部
と複合酸化物触媒層とを順次設けることとしたものであ
る。
に、本発明では、有害ガスを含む気体の清浄方法におい
て、該気体をオゾンと接触させた後、オゾン分解能及び
有害物質吸着能をもつ複合酸化物系触媒と接触させるこ
ととしたものである。また、本発明では、有害成分を含
む気体の清浄装置において、該気体通路にオゾン接触部
と複合酸化物触媒層とを順次設けることとしたものであ
る。
【0009】本発明で用いるオゾンは、周知のオゾン発
生装置から発生させたオゾンが利用できる。該オゾン発
生装置は、オゾンを効果的に長時間安定して発生、供給
できるものであれば、何れでも周知の方式が利用でき
る。例えば、放電式、放射線照射式がある。このうち、
放電式のものが長時間安定して供給し得ることから好ま
しい。また、利用分野によっては、電気集塵装置を用い
ると、その集塵性能とオゾン発生性能の両方が利用でき
るので好ましい。
生装置から発生させたオゾンが利用できる。該オゾン発
生装置は、オゾンを効果的に長時間安定して発生、供給
できるものであれば、何れでも周知の方式が利用でき
る。例えば、放電式、放射線照射式がある。このうち、
放電式のものが長時間安定して供給し得ることから好ま
しい。また、利用分野によっては、電気集塵装置を用い
ると、その集塵性能とオゾン発生性能の両方が利用でき
るので好ましい。
【0010】オゾンによる有害ガスの分解、処理作用
は、オゾン自体による作用では少ないが、下記複合酸化
物系触媒上でオゾンを分解した時に生ずるオゾンよりも
桁違いに活性な酸素活性種(活性な酸素原子や励起状態
にある酸素分子などで例えば・OH,O2 - ・,HO2
・,(O))を用いた場合に顕著に効果的に起こる。本
発明による有害ガス除去の機構は、十分解明されていな
いが、次のように考えられる。すなわち、生成した酸素
活性種は、共存する有害ガス(例えば、NH3 ,H
2 S,NOx,CH3 CHO)を触媒に吸着されやすい
状態に活性化し、複合酸化物触媒上で変質あるいは分解
する。
は、オゾン自体による作用では少ないが、下記複合酸化
物系触媒上でオゾンを分解した時に生ずるオゾンよりも
桁違いに活性な酸素活性種(活性な酸素原子や励起状態
にある酸素分子などで例えば・OH,O2 - ・,HO2
・,(O))を用いた場合に顕著に効果的に起こる。本
発明による有害ガス除去の機構は、十分解明されていな
いが、次のように考えられる。すなわち、生成した酸素
活性種は、共存する有害ガス(例えば、NH3 ,H
2 S,NOx,CH3 CHO)を触媒に吸着されやすい
状態に活性化し、複合酸化物触媒上で変質あるいは分解
する。
【0011】次に、本発明で使用する複合酸化物系触媒
としては、オゾン分解性能及び有害ガスと酸素活性種を
含む気体を通すことにより、該表面で吸着、分解できる
ものであれば何れでもよい。このような複合酸化物系触
媒の例として、二酸化マンガン系触媒例えばMnO2 /
TiO2 −C、MnO2 /ZrO−Cがある。二酸化マ
ンガン系触媒は、その粉末をペレット状に焼結したも
の、あるいはペレット状、ハニカム状成形物、ハニカム
状の基材や繊維状の基材に担持させたものとすることが
できる。また劣化の抑制、低温域での性能低下の防止や
活性の向上のために適宜の金属や金属化合物を付加した
二酸化マンガンを用いることができる。
としては、オゾン分解性能及び有害ガスと酸素活性種を
含む気体を通すことにより、該表面で吸着、分解できる
ものであれば何れでもよい。このような複合酸化物系触
媒の例として、二酸化マンガン系触媒例えばMnO2 /
TiO2 −C、MnO2 /ZrO−Cがある。二酸化マ
ンガン系触媒は、その粉末をペレット状に焼結したも
の、あるいはペレット状、ハニカム状成形物、ハニカム
状の基材や繊維状の基材に担持させたものとすることが
できる。また劣化の抑制、低温域での性能低下の防止や
活性の向上のために適宜の金属や金属化合物を付加した
二酸化マンガンを用いることができる。
【0012】また、上記の複合酸化物系触媒に、装置の
適用先、装置種類、形状、対象成分の種類や濃度、効
果、経済性などにより周知の有害ガス捕集材、例えば、
活性炭、活性炭素繊維、ゼオライト、モレキュラシー
ブ、シリカゲル、イオン交換繊維やフィルター及び/又
は除湿材を適宜予備試験を行って併用することができ
る。本発明はオゾンからの活性な酸素活性種と有害ガス
を複合酸化物系触媒上で反応させることによりオゾンと
有害ガスを効果的に分解・処理するものである。
適用先、装置種類、形状、対象成分の種類や濃度、効
果、経済性などにより周知の有害ガス捕集材、例えば、
活性炭、活性炭素繊維、ゼオライト、モレキュラシー
ブ、シリカゲル、イオン交換繊維やフィルター及び/又
は除湿材を適宜予備試験を行って併用することができ
る。本発明はオゾンからの活性な酸素活性種と有害ガス
を複合酸化物系触媒上で反応させることによりオゾンと
有害ガスを効果的に分解・処理するものである。
【0013】オゾンから活性な酸素活性種への変換は、
通常、複合酸化物系触媒上で実施するが、利用分野によ
りオゾン濃度を高めて実施する場合や、大規模な処理の
場合発生オゾンの1部から予め酸素活性種を作っても良
い。この方法として、電子、光、高周波、熱の利用があ
る。例えば、電子によるオゾン分解には、低温プラズマ
による式1の方法、 (式1) O3 +e → O2 +(O) また、光によるオゾン分解には紫外線(254nm)を用
いる方法があり、適宜用いることができる。
通常、複合酸化物系触媒上で実施するが、利用分野によ
りオゾン濃度を高めて実施する場合や、大規模な処理の
場合発生オゾンの1部から予め酸素活性種を作っても良
い。この方法として、電子、光、高周波、熱の利用があ
る。例えば、電子によるオゾン分解には、低温プラズマ
による式1の方法、 (式1) O3 +e → O2 +(O) また、光によるオゾン分解には紫外線(254nm)を用
いる方法があり、適宜用いることができる。
【0014】これについては、装置の適用分野、規模、
発生オゾン濃度、有害ガス種類、濃度等により、適宜予
備試験を行い決めることができる。特に、オゾン濃度を
高くして実施する場合効果的である。有害ガス濃度に対
するオゾン濃度は、化学量論量として0.5〜100倍
量、好ましくは、1.0〜20倍量であり、被処理気体
に相当するオゾン濃度を含む場合は該オゾンが利用でき
る。
発生オゾン濃度、有害ガス種類、濃度等により、適宜予
備試験を行い決めることができる。特に、オゾン濃度を
高くして実施する場合効果的である。有害ガス濃度に対
するオゾン濃度は、化学量論量として0.5〜100倍
量、好ましくは、1.0〜20倍量であり、被処理気体
に相当するオゾン濃度を含む場合は該オゾンが利用でき
る。
【0015】被処理有害ガス濃度に対するオゾン濃度
は、利用分野、装置種類、形状、対象成分、要求性能な
どにより、適宜予備試験を行い、決めることができる。
被処理気体にオゾンを含まない場合、あるいは共存オゾ
ン濃度が低い場合は、後述実施例1〜5のごとく、オゾ
ン発生装置から発生させたオゾンを被処理気体に添加し
て実施する。
は、利用分野、装置種類、形状、対象成分、要求性能な
どにより、適宜予備試験を行い、決めることができる。
被処理気体にオゾンを含まない場合、あるいは共存オゾ
ン濃度が低い場合は、後述実施例1〜5のごとく、オゾ
ン発生装置から発生させたオゾンを被処理気体に添加し
て実施する。
【0016】
【作用】本発明において、オゾンと複合酸化物系触媒と
を併用して有害ガスを除去して気体を清浄化する機構は
十分に解明されていないが、有害ガスと、生成した酸素
活性種による反応、及び有害ガスと該酸素活性種を含む
気体を複合酸化物系触媒に通すことによる該複合酸化物
系触媒表面における吸着・分解作用により、気体中の有
害ガスが効果的に分解除去され、清浄化される。
を併用して有害ガスを除去して気体を清浄化する機構は
十分に解明されていないが、有害ガスと、生成した酸素
活性種による反応、及び有害ガスと該酸素活性種を含む
気体を複合酸化物系触媒に通すことによる該複合酸化物
系触媒表面における吸着・分解作用により、気体中の有
害ガスが効果的に分解除去され、清浄化される。
【0017】なお、オゾンは上述のように、活性な物質
に変換され出口気体にはオゾンは含まれない。すなわ
ち、本発明の清浄方法では、オゾンによる酸素活性種発
生と、オゾン分解性能、有害ガスに対する吸着・分解性
能を併せ持つ複合酸化物系触媒を組合せたことにより、
有害成分が効果的に除去できるものである。
に変換され出口気体にはオゾンは含まれない。すなわ
ち、本発明の清浄方法では、オゾンによる酸素活性種発
生と、オゾン分解性能、有害ガスに対する吸着・分解性
能を併せ持つ複合酸化物系触媒を組合せたことにより、
有害成分が効果的に除去できるものである。
【0018】
【実施例】以下、本発明を実施例により具体的に説明す
るが、本発明はこれら実施例に限定されない。 実施例1 医院の待合室にタバコ臭を脱臭するガス状有害成分除去
装置を設置した概略構成図を図1に示す。図1におい
て、待合室1には、喫煙2によりタバコ煙3が発生して
おり、空気清浄装置4が設置されてタバコ臭が脱臭され
る。該装置4は、主に前処理フィルタ部5、タバコ臭成
分の捕集・分解部6及びファン部7より構成されてお
り、タバコ臭3を含む被処理空気8は装置4内を矢印9
の方向に流れ、脱臭処理された清浄空気が矢印10の方
向に吐出される。
るが、本発明はこれら実施例に限定されない。 実施例1 医院の待合室にタバコ臭を脱臭するガス状有害成分除去
装置を設置した概略構成図を図1に示す。図1におい
て、待合室1には、喫煙2によりタバコ煙3が発生して
おり、空気清浄装置4が設置されてタバコ臭が脱臭され
る。該装置4は、主に前処理フィルタ部5、タバコ臭成
分の捕集・分解部6及びファン部7より構成されてお
り、タバコ臭3を含む被処理空気8は装置4内を矢印9
の方向に流れ、脱臭処理された清浄空気が矢印10の方
向に吐出される。
【0019】夫々の構成部について説明する。前処理フ
ィルタ部5では、主にタバコ煙中のタール分や粒子状物
質の捕集・除去を行う。該フィルタ部5の構成材として
は、ガラス繊維や天然繊維、合成繊維を適宜の形状で充
填したり、あるいはそれらを紙状に抄いたもの、またそ
れらの織布や紙を用いることができる。この例では、紙
状に抄いたガラス繊維を波形に成形して用いている。タ
ールや粒子状物質の後方への流出は、後方の捕集分解部
6の構成材を劣化させるので、極力少なくすることが好
ましい。
ィルタ部5では、主にタバコ煙中のタール分や粒子状物
質の捕集・除去を行う。該フィルタ部5の構成材として
は、ガラス繊維や天然繊維、合成繊維を適宜の形状で充
填したり、あるいはそれらを紙状に抄いたもの、またそ
れらの織布や紙を用いることができる。この例では、紙
状に抄いたガラス繊維を波形に成形して用いている。タ
ールや粒子状物質の後方への流出は、後方の捕集分解部
6の構成材を劣化させるので、極力少なくすることが好
ましい。
【0020】捕集分解部6は、オゾン発生器11及び複
合酸化物系触媒12により構成され、タバコ臭成分がこ
こで除去される。この例ではオゾン発生器11は放電式
によるもので、また複合酸化物系触媒はハニカム状二酸
化マンガン系触媒(MnO2/TiO2 −C)を用いて
いる。ファン部7には、ファンが設置されており、被処
理空気8を吸引し、処理された清浄化空気を吐出するも
のである。このように、オゾン及び複合酸化物触媒によ
り、上述のごとくガス状有害成分が効果的に処理され
る。また、オゾンによりタバコ臭が脱臭される効果があ
り、ガス状有害物質が除去され、かつ脱臭された清浄空
気が矢印10の方向に得られる。
合酸化物系触媒12により構成され、タバコ臭成分がこ
こで除去される。この例ではオゾン発生器11は放電式
によるもので、また複合酸化物系触媒はハニカム状二酸
化マンガン系触媒(MnO2/TiO2 −C)を用いて
いる。ファン部7には、ファンが設置されており、被処
理空気8を吸引し、処理された清浄化空気を吐出するも
のである。このように、オゾン及び複合酸化物触媒によ
り、上述のごとくガス状有害成分が効果的に処理され
る。また、オゾンによりタバコ臭が脱臭される効果があ
り、ガス状有害物質が除去され、かつ脱臭された清浄空
気が矢印10の方向に得られる。
【0021】実施例2 クリーンルーム内に空気清浄装置を設置し、有害ガスを
除去する概略構成図を図2に示す。図2において、クラ
ス10000(>0.1μm)のクリーンルーム21に
は、作業22によりNOx,NH3 ,H2 S等の有害ガ
スと微粒子23が発生しており、空気清浄装置4が設置
され、該有害ガスと微粒子の捕集・除去が行われてい
る。該装置4は、主に前処理フィルタ部5、ファン部
7、有害ガスの分解部6及び微粒子捕集フィルタ13に
より構成されており、有害ガスを含む被処理空気8はフ
ァン部7のファンにより、装置4内を矢印9の方向に流
れ、処理された清浄空気は矢印10の方向に吐出され
る。
除去する概略構成図を図2に示す。図2において、クラ
ス10000(>0.1μm)のクリーンルーム21に
は、作業22によりNOx,NH3 ,H2 S等の有害ガ
スと微粒子23が発生しており、空気清浄装置4が設置
され、該有害ガスと微粒子の捕集・除去が行われてい
る。該装置4は、主に前処理フィルタ部5、ファン部
7、有害ガスの分解部6及び微粒子捕集フィルタ13に
より構成されており、有害ガスを含む被処理空気8はフ
ァン部7のファンにより、装置4内を矢印9の方向に流
れ、処理された清浄空気は矢印10の方向に吐出され
る。
【0022】夫々の構成部について説明する。前処理フ
ィルタ部5は、粗フィルタが充填されており、吸引空気
8中の荒い粒子が除去される。ここでは空気抵抗の少な
いガラス繊維を主体としたフィルタが用いられている。
有害ガスの分解部6は、放電式のオゾン発生器11、複
合酸化物系触媒(MnO2 /TiO2 −C)12により
構成されており、NOx,NH3 ,H2 S等の発生有害
ガス及び空気中H.C.がオゾン発生器から発生された
オゾンと複合酸化物系触媒の作用により除去される。
ィルタ部5は、粗フィルタが充填されており、吸引空気
8中の荒い粒子が除去される。ここでは空気抵抗の少な
いガラス繊維を主体としたフィルタが用いられている。
有害ガスの分解部6は、放電式のオゾン発生器11、複
合酸化物系触媒(MnO2 /TiO2 −C)12により
構成されており、NOx,NH3 ,H2 S等の発生有害
ガス及び空気中H.C.がオゾン発生器から発生された
オゾンと複合酸化物系触媒の作用により除去される。
【0023】また、微粒子捕集フィルタ部13には、U
LPAフィルタが充填されており、吸引空気8中の微粒
子及びファン部7や有害ガスの分解部6からの発生微粒
子(粒子状物質)が除去される。このようにして、清浄
化された空気10は、有害ガスと微粒子が除去されクラ
ス10以下となり、NOx,NH3 ,H2 S,HCのよ
うな有害ガスは通常の大気濃度レベルの1/10以下ま
で除去されている。この空気は上述のごとく有害成分
(有害ガス及び微粒子)が除去されているので、ウェハ
や液晶基板に暴露しておくと表面汚染が防止できる。
LPAフィルタが充填されており、吸引空気8中の微粒
子及びファン部7や有害ガスの分解部6からの発生微粒
子(粒子状物質)が除去される。このようにして、清浄
化された空気10は、有害ガスと微粒子が除去されクラ
ス10以下となり、NOx,NH3 ,H2 S,HCのよ
うな有害ガスは通常の大気濃度レベルの1/10以下ま
で除去されている。この空気は上述のごとく有害成分
(有害ガス及び微粒子)が除去されているので、ウェハ
や液晶基板に暴露しておくと表面汚染が防止できる。
【0024】本例は、半導体のクリーンルームにおける
空気清浄に利用したものである。実施例1、2における
各構成部の位置は何ら限定されるものでなく、利用分
野、装置規模、構成部の使用条件、形状などにより、適
宜の位置に設置できる。ファン部7の位置は、実施例2
のごとく、半導体のような先端産業における空間の清浄
化に用いる場合少なくとも除塵部(ULPAフィルタ)
の前方が好ましい。すなわち、先端産業ではファンの作
動により発生する微粒子も除去対象となるためである。
また、実施例1、2におけるオゾン発生器の位置は、空
気清浄装置内部に設置したが、利用分野、装置規模、形
状などによっては、該装置の外部に設置して発生オゾン
を供給するようにしても良い。
空気清浄に利用したものである。実施例1、2における
各構成部の位置は何ら限定されるものでなく、利用分
野、装置規模、構成部の使用条件、形状などにより、適
宜の位置に設置できる。ファン部7の位置は、実施例2
のごとく、半導体のような先端産業における空間の清浄
化に用いる場合少なくとも除塵部(ULPAフィルタ)
の前方が好ましい。すなわち、先端産業ではファンの作
動により発生する微粒子も除去対象となるためである。
また、実施例1、2におけるオゾン発生器の位置は、空
気清浄装置内部に設置したが、利用分野、装置規模、形
状などによっては、該装置の外部に設置して発生オゾン
を供給するようにしても良い。
【0025】実施例3 図3は、実施例2の図2において、二酸化マンガン系触
媒の後方に、更に活性炭16を設置した場合の概略構成
図を示す。16以外の符号は、図2と同じ意味を有す
る。発生有害ガスに中性ガスを多量に含む場合など活性
炭層を設けると効果的である。
媒の後方に、更に活性炭16を設置した場合の概略構成
図を示す。16以外の符号は、図2と同じ意味を有す
る。発生有害ガスに中性ガスを多量に含む場合など活性
炭層を設けると効果的である。
【0026】実施例4 図4は、実施例2において、オゾン発生器の後方に低温
プラズマ部17を設置した場合の概略構成図を示す。1
7以外の符号は、図2と同じ意味を有する。オゾン発生
濃度を高くして行う場合や大規模処理を行う場合、低温
プラズマ部を設置すると効果的である。
プラズマ部17を設置した場合の概略構成図を示す。1
7以外の符号は、図2と同じ意味を有する。オゾン発生
濃度を高くして行う場合や大規模処理を行う場合、低温
プラズマ部を設置すると効果的である。
【0027】実施例5 トンネル換気排ガス中の有害ガス(主にNOx,H.
C.)を除去する清浄装置の概略構成図を図5に示す。
トンネル換気排ガス14は、集塵器18、オゾン発生器
11、有害ガスとオゾンの混合部19、複合酸化物系触
媒12、ファン7よりなる排ガス処理装置により処理さ
れ、清浄化された空気15が得られる。集塵器18で
は、排ガス中の粒子状物質、例えばカーボン類摩耗タイ
ヤ微粉体、土壌成分などがろ過収集方式により捕集され
る。次いで、排ガス中有害ガス(主にNOx,H.
C.)が放電式のオゾン発生器11からのオゾンと混合
部19で混合され、複合酸化物系触媒(MnO2 /Ti
O2 −C)12でNOx及びH.C.が分解、除去され
て清浄化される。
C.)を除去する清浄装置の概略構成図を図5に示す。
トンネル換気排ガス14は、集塵器18、オゾン発生器
11、有害ガスとオゾンの混合部19、複合酸化物系触
媒12、ファン7よりなる排ガス処理装置により処理さ
れ、清浄化された空気15が得られる。集塵器18で
は、排ガス中の粒子状物質、例えばカーボン類摩耗タイ
ヤ微粉体、土壌成分などがろ過収集方式により捕集され
る。次いで、排ガス中有害ガス(主にNOx,H.
C.)が放電式のオゾン発生器11からのオゾンと混合
部19で混合され、複合酸化物系触媒(MnO2 /Ti
O2 −C)12でNOx及びH.C.が分解、除去され
て清浄化される。
【0028】実施例6 図6は、実施例5の図5において、集塵器18がオゾン
発生器11を兼ねる場合であり、電気集塵器20を用い
ることにより、集塵(カーボン類等)とオゾン発生の両
方を行う清浄装置の概略構成図である。20以外の符号
は、図5と同じ意味を有する。装置がコンパクト化する
ので、利用分野、装置規模などによっては好ましい。
発生器11を兼ねる場合であり、電気集塵器20を用い
ることにより、集塵(カーボン類等)とオゾン発生の両
方を行う清浄装置の概略構成図である。20以外の符号
は、図5と同じ意味を有する。装置がコンパクト化する
ので、利用分野、装置規模などによっては好ましい。
【0029】実施例7 図1の有害成分除去装置を用いた脱臭効果を以下に示
す。用いたオゾン発生器は放電式のもので発生オゾン濃
度は8〜10ppm であり、複合酸化物系触媒は二酸化マ
ンガン系触媒で、MnO2 /TiO2 −Cである。空気
清浄装置4を設置した待合室1の体積は約30m3 であ
り、該装置内の空気流量は0.5m3 /分とした。前処
理フィルタ5の直下約1mの位置で10本タバコを喫煙
したとき、該フィルタ直前の位置8で採取したサンプル
空気の臭気濃度は官能試験(3点比較臭袋法)で500
であった。また、NH3 とNOxを測定したところ夫々
5ppm 、2ppm であった。
す。用いたオゾン発生器は放電式のもので発生オゾン濃
度は8〜10ppm であり、複合酸化物系触媒は二酸化マ
ンガン系触媒で、MnO2 /TiO2 −Cである。空気
清浄装置4を設置した待合室1の体積は約30m3 であ
り、該装置内の空気流量は0.5m3 /分とした。前処
理フィルタ5の直下約1mの位置で10本タバコを喫煙
したとき、該フィルタ直前の位置8で採取したサンプル
空気の臭気濃度は官能試験(3点比較臭袋法)で500
であった。また、NH3 とNOxを測定したところ夫々
5ppm 、2ppm であった。
【0030】この空気を空気清浄装置を運転して清浄化
すると、装置出口直後の位置10における空気の臭気濃
度は官能試験で最大でも10以下であった。また、ここ
での吐出空気には目視ではタバコ煙は認められなかっ
た。またNH3 とNOx濃度は、夫々<0.1ppm 、<
0.05ppm であった。上述の如き臭気濃度500のタ
バコ臭が空気清浄装置により最大でも10以下になると
いうことは、無臭空気により50倍以上に希釈したもの
と同等と言え、本装置がタバコ臭及びタバコ煙の除去に
有効であることが分かる。
すると、装置出口直後の位置10における空気の臭気濃
度は官能試験で最大でも10以下であった。また、ここ
での吐出空気には目視ではタバコ煙は認められなかっ
た。またNH3 とNOx濃度は、夫々<0.1ppm 、<
0.05ppm であった。上述の如き臭気濃度500のタ
バコ臭が空気清浄装置により最大でも10以下になると
いうことは、無臭空気により50倍以上に希釈したもの
と同等と言え、本装置がタバコ臭及びタバコ煙の除去に
有効であることが分かる。
【0031】実施例8 図2に示した空気清浄装置を液晶工場における乾燥用装
置の供給空気の清浄化に適用した例を示す。空気清浄装
置は、クラス10,000の室に設置され、近傍では、
酸及びアルカリ洗浄によりNH3 ,NOxが発生してい
る。この様なクリーンルーム内空気を、液晶製造プロセ
スの乾燥工程への供給空気用に精製(清浄化)するため
に図2の空気清浄装置が設置されており、微粒子や有害
ガスによる汚染の程度をガラス基板への接触角の増加で
調べた。
置の供給空気の清浄化に適用した例を示す。空気清浄装
置は、クラス10,000の室に設置され、近傍では、
酸及びアルカリ洗浄によりNH3 ,NOxが発生してい
る。この様なクリーンルーム内空気を、液晶製造プロセ
スの乾燥工程への供給空気用に精製(清浄化)するため
に図2の空気清浄装置が設置されており、微粒子や有害
ガスによる汚染の程度をガラス基板への接触角の増加で
調べた。
【0032】接触角とは、表面の汚染の程度を示すもの
であり、表面のぬれ性を表わす角度で表現され、接触角
が高いと汚染されており、逆に接触角が低いと汚染され
ていない。 ppm濃度レベルのNH3 やNOx及び室内濃
度レベルのH.C.は、接触角増加をもたらす。 クリーンルーム : クラス10,000(>0.1μ
m) 粗フィルタ : ガラス繊維製前処理用フィルタ オゾン発生器と供給オゾン濃度 : 放電式、20〜4
0ppm
であり、表面のぬれ性を表わす角度で表現され、接触角
が高いと汚染されており、逆に接触角が低いと汚染され
ていない。 ppm濃度レベルのNH3 やNOx及び室内濃
度レベルのH.C.は、接触角増加をもたらす。 クリーンルーム : クラス10,000(>0.1μ
m) 粗フィルタ : ガラス繊維製前処理用フィルタ オゾン発生器と供給オゾン濃度 : 放電式、20〜4
0ppm
【0033】複合酸化物系触媒 : 二酸化マンガン系
触媒(MnO2 /TiO2 −C) 空気清浄装置大きさ : 30×30×40cm 室内のNH3 とNOx濃度(発生源より3m) NH
3 : 10ppm NOx: 5ppm 室内のH.C.濃度 : ノンメタンとして0.5〜
0.8ppm 効果の判定は、空気清浄装置出口の空気をガラス基板に
暴露し、接触角計を用いて、基板上の接触角増加につい
て調べることで行った。
触媒(MnO2 /TiO2 −C) 空気清浄装置大きさ : 30×30×40cm 室内のNH3 とNOx濃度(発生源より3m) NH
3 : 10ppm NOx: 5ppm 室内のH.C.濃度 : ノンメタンとして0.5〜
0.8ppm 効果の判定は、空気清浄装置出口の空気をガラス基板に
暴露し、接触角計を用いて、基板上の接触角増加につい
て調べることで行った。
【0034】結 果 本発明により処理した空気を200時間ガラス基板に暴
露したときの接触角(○印)を図7に示す。図7には、
比較としてクリーンルームの空気をそのまま暴露したも
の(●印)、又は図7から二酸化マンガン系触媒のみを
外したもの(△印)を併せて示す。なお、図7中↓は検
出限界4度以下を示す。
露したときの接触角(○印)を図7に示す。図7には、
比較としてクリーンルームの空気をそのまま暴露したも
の(●印)、又は図7から二酸化マンガン系触媒のみを
外したもの(△印)を併せて示す。なお、図7中↓は検
出限界4度以下を示す。
【0035】実施例9 図5に示した排ガス処理装置をトンネル換気排ガスの処
理に適用した例を示す。排ガス処理装置にNOxを含む
トンネルからの換気排ガスを0.5m3 /分で流し、N
Oxの除去性能をケミカル式のNOx測定計で調べた。 NOx濃度 : 1〜3ppm 排ガス処理装置の大きさ : 50×50×60cm 複合酸化物系触媒 : MnO2 /TiO2 −C オゾン発生器と供給オゾン濃度 : 放電式、10〜3
0ppm 集塵器 : ろ過式
理に適用した例を示す。排ガス処理装置にNOxを含む
トンネルからの換気排ガスを0.5m3 /分で流し、N
Oxの除去性能をケミカル式のNOx測定計で調べた。 NOx濃度 : 1〜3ppm 排ガス処理装置の大きさ : 50×50×60cm 複合酸化物系触媒 : MnO2 /TiO2 −C オゾン発生器と供給オゾン濃度 : 放電式、10〜3
0ppm 集塵器 : ろ過式
【0036】結 果 装置出口のNOx濃度は、0.1〜0.2ppm 以下であ
った。なお、装置出口のオゾン濃度を測定したところ不
検出(0.01ppm 以下)であった。実施例では、オゾ
ン以外の有害ガスを処理する場合について記載したが、
有害ガスがオゾン単味である場合、オゾンが上述の触媒
により効果的に処理できることはいうまでもなく、本発
明は排オゾン処理にも有効に利用できる。また、被処理
気体に既にオゾンが共存する場合は、該オゾンを利用す
ることができる。この場合オゾンとオゾン以外の有害ガ
スが処理できる。
った。なお、装置出口のオゾン濃度を測定したところ不
検出(0.01ppm 以下)であった。実施例では、オゾ
ン以外の有害ガスを処理する場合について記載したが、
有害ガスがオゾン単味である場合、オゾンが上述の触媒
により効果的に処理できることはいうまでもなく、本発
明は排オゾン処理にも有効に利用できる。また、被処理
気体に既にオゾンが共存する場合は、該オゾンを利用す
ることができる。この場合オゾンとオゾン以外の有害ガ
スが処理できる。
【0037】
【発明の効果】本発明によれば、次のような効果を奏す
る。 (1)気体を清浄化するに当り、該気体をオゾンと接触
させた後、複合酸化物系触媒に通すことにより、 (a)気体中の有害ガスが、オゾン及びオゾンからの
酸素活性種による該活性物質との反応、複合酸化物系
触媒との吸着・分解反応、複合酸化物系触媒上での酸
素活性種との分解反応などにより効果的に処理(除去)
された。 (b)上記より、オゾンや酸素活性種を含むので殺菌さ
れた気体となる。 (c)オゾンにより、脱臭された気体となる。 (d)超高清浄な気体が得られた。
る。 (1)気体を清浄化するに当り、該気体をオゾンと接触
させた後、複合酸化物系触媒に通すことにより、 (a)気体中の有害ガスが、オゾン及びオゾンからの
酸素活性種による該活性物質との反応、複合酸化物系
触媒との吸着・分解反応、複合酸化物系触媒上での酸
素活性種との分解反応などにより効果的に処理(除去)
された。 (b)上記より、オゾンや酸素活性種を含むので殺菌さ
れた気体となる。 (c)オゾンにより、脱臭された気体となる。 (d)超高清浄な気体が得られた。
【0038】(2)オゾン発生源に放電式のオゾン発生
装置を用いると大規模処理、例えば産業排ガスやトンネ
ル排ガス、地下駐車場排ガス等の処理排ガス量が多い利
用先での処理ができ、実用性が向上し、利用分野が広が
った。 (3)被処理気体にオゾンを含む場合、オゾンとオゾン
以外の有害ガスの両方が同時に処理できたので、実用上
有効な処理となった。 (4)利用分野によっては排オゾン処理にも利用でき
た。
装置を用いると大規模処理、例えば産業排ガスやトンネ
ル排ガス、地下駐車場排ガス等の処理排ガス量が多い利
用先での処理ができ、実用性が向上し、利用分野が広が
った。 (3)被処理気体にオゾンを含む場合、オゾンとオゾン
以外の有害ガスの両方が同時に処理できたので、実用上
有効な処理となった。 (4)利用分野によっては排オゾン処理にも利用でき
た。
【図1】実施例1に用いた装置の概略構成図。
【図2】実施例2に用いた装置の概略構成図。
【図3】実施例3に用いた装置の概略構成図。
【図4】実施例4に用いた装置の概略構成図。
【図5】実施例5に用いた装置の概略構成図。
【図6】実施例6に用いた装置の概略構成図。
【図7】暴露時間と接触角の関係を示すグラフ。
1:待合室、2:タバコ、3:タバコ煙、4:空気清浄
装置、5:前処理フィルタ部、6:捕集・分解部、7:
ファン部、8、14:被処理空気、9:空気流れ、1
0、15:清浄空気、11:オゾン発生器、12:複合
酸化物系触媒、13:微粒子捕集フィルタ、16:活性
炭層、17:低温プラズマ部、21:クリーンルーム、
22:作業、23:有害ガス、18:集塵器、19:有
害ガスとオゾンの混合部、20:電気集塵器
装置、5:前処理フィルタ部、6:捕集・分解部、7:
ファン部、8、14:被処理空気、9:空気流れ、1
0、15:清浄空気、11:オゾン発生器、12:複合
酸化物系触媒、13:微粒子捕集フィルタ、16:活性
炭層、17:低温プラズマ部、21:クリーンルーム、
22:作業、23:有害ガス、18:集塵器、19:有
害ガスとオゾンの混合部、20:電気集塵器
Claims (2)
- 【請求項1】 有害ガスを含む気体の清浄方法におい
て、該気体をオゾンと接触させた後、オゾン分解能及び
有害物質吸着能をもつ複合酸化物系触媒と接触させるこ
とを特徴とする気体の清浄方法。 - 【請求項2】 有害ガスを含む気体の清浄装置におい
て、該気体通路にオゾン接触部と複合酸化物触媒層とを
順次設けたことを特徴とする気体の清浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4357380A JPH06190236A (ja) | 1992-12-24 | 1992-12-24 | 気体の清浄方法及び装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4357380A JPH06190236A (ja) | 1992-12-24 | 1992-12-24 | 気体の清浄方法及び装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06190236A true JPH06190236A (ja) | 1994-07-12 |
Family
ID=18453835
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4357380A Pending JPH06190236A (ja) | 1992-12-24 | 1992-12-24 | 気体の清浄方法及び装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06190236A (ja) |
Cited By (12)
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1992
- 1992-12-24 JP JP4357380A patent/JPH06190236A/ja active Pending
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