JPH06194266A - レンズメーター - Google Patents
レンズメーターInfo
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- JPH06194266A JPH06194266A JP27341193A JP27341193A JPH06194266A JP H06194266 A JPH06194266 A JP H06194266A JP 27341193 A JP27341193 A JP 27341193A JP 27341193 A JP27341193 A JP 27341193A JP H06194266 A JPH06194266 A JP H06194266A
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- Japan
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- lens
- pattern
- projected
- light
- mask
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Abstract
(57)【要約】
【目的】光検出手段上に投影されている測定視標を測定
者に識別し得るようにしたレンズメーターを提供するこ
と。 【構成】マスクパターンP1,P2を検出器５上に投影する
ための視標投影手段Ａを有するレンズメーターにおい
て、光検出器５上に投影されている測定視標を識別させ
る識別手段を設けたレンズメーター。
者に識別し得るようにしたレンズメーターを提供するこ
と。 【構成】マスクパターンP1,P2を検出器５上に投影する
ための視標投影手段Ａを有するレンズメーターにおい
て、光検出器５上に投影されている測定視標を識別させ
る識別手段を設けたレンズメーター。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、眼鏡レンズ等の光学特
性、すなわち球面度数、円柱軸角度等を測定するために
用いるレンズメーターに関するものである。
性、すなわち球面度数、円柱軸角度等を測定するために
用いるレンズメーターに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】オートレンズメーターの従来例の１つと
して、本願出願人が先に出願した特開昭57−29923号公
報に開示された装置がある。この従来例は、光源からの
光をコリメータレンズで平行投射光束として被検レンズ
に向けて投影し、被検レンズで屈折透過された光束を所
定形状を有するマスクパターンで選択透過させ、二次元
エリアCCDから成る光検手段上に投影し、この投影パタ
ーンと前記マスクパターンの形状あるいは位置変化から
被検レンズの屈折特性を測定するものである。マスクパ
ターンとしては円環型、交差二直線型、三直線三交差型
などが使われている。
して、本願出願人が先に出願した特開昭57−29923号公
報に開示された装置がある。この従来例は、光源からの
光をコリメータレンズで平行投射光束として被検レンズ
に向けて投影し、被検レンズで屈折透過された光束を所
定形状を有するマスクパターンで選択透過させ、二次元
エリアCCDから成る光検手段上に投影し、この投影パタ
ーンと前記マスクパターンの形状あるいは位置変化から
被検レンズの屈折特性を測定するものである。マスクパ
ターンとしては円環型、交差二直線型、三直線三交差型
などが使われている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】従来の装置では被検レ
ンズに投射される平行光束径とマスクパターンが大きい
ため、多重焦点レンズの小玉や、累進多進点レンズの近
用指定部あるいはソフトコンタクトレンズまたは累進コ
ンタクトレンズなど、屈折特性値が均一な被測定領域が
狭い被検レンズは測定が困難であった。
ンズに投射される平行光束径とマスクパターンが大きい
ため、多重焦点レンズの小玉や、累進多進点レンズの近
用指定部あるいはソフトコンタクトレンズまたは累進コ
ンタクトレンズなど、屈折特性値が均一な被測定領域が
狭い被検レンズは測定が困難であった。
【０００４】この問題を解決するために、複数種類の測
定視標を光検出手段上に選択的に投影するための視標投
影手段を有するレンズメーターであって、被検レンズの
被測定領域の大きさに応じて前記複数の測定視標の内の
いずれか一つの測定視標を選択する指標選択手段が設け
られたレンズメーターが考えられている。
定視標を光検出手段上に選択的に投影するための視標投
影手段を有するレンズメーターであって、被検レンズの
被測定領域の大きさに応じて前記複数の測定視標の内の
いずれか一つの測定視標を選択する指標選択手段が設け
られたレンズメーターが考えられている。
【０００５】この様なレンズメーターにおいては、光検
出手段上に投影されている測定視標の種類が「多重焦点
レンズの小玉や、累進多進点レンズの近用指定部あるい
はソフトコンタクトレンズまたは累進コンタクトレンズ
等の視標であるか、或は普通の被検レンズの測定視標で
あるか等」を分かるようにしておくことにより、測定作
業をより容易に進めることができる。従って、光検出手
段上に投影されている測定視標の種類が測定者に分かる
ようにしておくのが望ましい。
出手段上に投影されている測定視標の種類が「多重焦点
レンズの小玉や、累進多進点レンズの近用指定部あるい
はソフトコンタクトレンズまたは累進コンタクトレンズ
等の視標であるか、或は普通の被検レンズの測定視標で
あるか等」を分かるようにしておくことにより、測定作
業をより容易に進めることができる。従って、光検出手
段上に投影されている測定視標の種類が測定者に分かる
ようにしておくのが望ましい。
【０００６】そこで、この発明は係る要望に沿うもの
で、光検出手段上に投影されている測定視標が測定者に
識別できるようにしたレンズメーターを提供することを
目的とするものである。
で、光検出手段上に投影されている測定視標が測定者に
識別できるようにしたレンズメーターを提供することを
目的とするものである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するた
め、この発明は、測定視標を光検出手段上に投影するた
めの視標投影手段を有するレンズメーターにおいて、前
記光検出手段上に投影されている測定視標を識別させる
識別手段を設けたレンズメーターとしたことを特徴とす
る。
め、この発明は、測定視標を光検出手段上に投影するた
めの視標投影手段を有するレンズメーターにおいて、前
記光検出手段上に投影されている測定視標を識別させる
識別手段を設けたレンズメーターとしたことを特徴とす
る。
【０００８】
【実施例】以下、この発明を図面に基づいて説明する。
【０００９】[第１実施例]図１乃至図５は本発明の第１
実施例を示すもので、１は発光ダイオードからなる光源
で、この光源１から射出された光束はコリメータレンズ
２で平行光束とされてレンズ受台３に載置された被検レ
ンズＬに投射される。
実施例を示すもので、１は発光ダイオードからなる光源
で、この光源１から射出された光束はコリメータレンズ
２で平行光束とされてレンズ受台３に載置された被検レ
ンズＬに投射される。
【００１０】この投射された平行光束は被検レンズＬの
屈折特性に応じて屈折透過され、この透過した光束はレ
ンズ受台３の開口3aを介してマスク板４に投射される。
そして、この投射された光束は、マスク板４のマスクパ
ターン（測定視標）の形状に応じて一部が選択透過さ
れ、 エリア CCDからなる検出素子５に投影される。エ
リアCCD５は被検レンズＬの焦点Ｆより内側(レンズ受台
３側)に配置されている。尚、この光源１，コリメータ
レンズ２及びマスク板４は、測定視標を検出素子５に投
影する視標投影手段Ａを構成している。
屈折特性に応じて屈折透過され、この透過した光束はレ
ンズ受台３の開口3aを介してマスク板４に投射される。
そして、この投射された光束は、マスク板４のマスクパ
ターン（測定視標）の形状に応じて一部が選択透過さ
れ、 エリア CCDからなる検出素子５に投影される。エ
リアCCD５は被検レンズＬの焦点Ｆより内側(レンズ受台
３側)に配置されている。尚、この光源１，コリメータ
レンズ２及びマスク板４は、測定視標を検出素子５に投
影する視標投影手段Ａを構成している。
【００１１】マイクロプロセッサを主体として構成され
た製御演算回路６はエリアCCDを走査し、投影パターン
の形状の変化を検出し、それに基づいて被検レンズＬの
屈折特性を求め表示器８で表示する。また制御演算回路
６には例えばRAMから構成される記憶装置９が接続され
ており、制御演算回路６により走査された光検出器５か
らの投影パターンの画像情報が記憶装置９に記億され
る。
た製御演算回路６はエリアCCDを走査し、投影パターン
の形状の変化を検出し、それに基づいて被検レンズＬの
屈折特性を求め表示器８で表示する。また制御演算回路
６には例えばRAMから構成される記憶装置９が接続され
ており、制御演算回路６により走査された光検出器５か
らの投影パターンの画像情報が記憶装置９に記億され
る。
【００１２】そして必要に応じ制御演算回路６を介して
表示器８（識別手段）に投影パターンの画像を画像表示
させることにより、測定者は、この表示画像の形状や位
置により光検出器７上への投影パターンの投影状態を知
ることができ測定の信頼性の向上や被検レンズＬのアラ
イメンが容易になる。特に被検レンズＬがソフトコンタ
クトレンズの場合は測定中にその形状が変形しやすい
が、上述のように投影パターンの表示画像を知ることに
より、事前に変形の有無を知ることができる。
表示器８（識別手段）に投影パターンの画像を画像表示
させることにより、測定者は、この表示画像の形状や位
置により光検出器７上への投影パターンの投影状態を知
ることができ測定の信頼性の向上や被検レンズＬのアラ
イメンが容易になる。特に被検レンズＬがソフトコンタ
クトレンズの場合は測定中にその形状が変形しやすい
が、上述のように投影パターンの表示画像を知ることに
より、事前に変形の有無を知ることができる。
【００１３】なお、本実施例では光検出器７はマスクパ
タ−ンからの透過光を非結像状態で検出しているため、
その投影パタ−ンは光検出器７上ではぼけた像となる。
しかし後述するようにパタ−ンの中心線を制御演算回路
６で計算し求めそのデ−タを記憶装置９に記億させるこ
とにより、表示器８の投影パタ−ンの表示画像は、その
中心線に基づく画像が得られる。
タ−ンからの透過光を非結像状態で検出しているため、
その投影パタ−ンは光検出器７上ではぼけた像となる。
しかし後述するようにパタ−ンの中心線を制御演算回路
６で計算し求めそのデ−タを記憶装置９に記億させるこ
とにより、表示器８の投影パタ−ンの表示画像は、その
中心線に基づく画像が得られる。
【００１４】図２（A）は上述したマスク板４の構成を
示すものでマスク板４は液晶素子で構成されている。マ
スク板42は、長さXの太い直線部Ａと長さXの細い直線B
が交点Ｃで角度θで交わるように構成されたパターン電
極41、及び、このパターン電極41よりその大きさは小さ
いが相似形を有するパターン電極42を前面に有してい
る。パターン電極41は切換手段であるスイッチ71のａ側
接点に電気接続されており、他方パターン電極42はスイ
ッチ71のｂ側接点に電気接続されている。液晶素子から
成るマスク板４の裏面には共通電極43が設けられ、共通
電極43は駆動回路７の直流電源72の(＋)側に接続されて
いる。電源72の(−)側はスイッチ71の可動接片ｄに接続
されている。スチッチ71の切換は制御演算回路６からの
制御信号ｓでおこなわれる。さらに、マスク板４の裏面
には図中斜線で示すようにパターン電極41,42の部分以
外は光を遮光するようにパターン電極41,42と同一形状
の開口を有する遮光板44が密着されている。このように
パターン電極41,42がマスクパターンＰ1またはＰ2（測
定視標）を駆動し被検レンズＬからの光を選択透過す
る。
示すものでマスク板４は液晶素子で構成されている。マ
スク板42は、長さXの太い直線部Ａと長さXの細い直線B
が交点Ｃで角度θで交わるように構成されたパターン電
極41、及び、このパターン電極41よりその大きさは小さ
いが相似形を有するパターン電極42を前面に有してい
る。パターン電極41は切換手段であるスイッチ71のａ側
接点に電気接続されており、他方パターン電極42はスイ
ッチ71のｂ側接点に電気接続されている。液晶素子から
成るマスク板４の裏面には共通電極43が設けられ、共通
電極43は駆動回路７の直流電源72の(＋)側に接続されて
いる。電源72の(−)側はスイッチ71の可動接片ｄに接続
されている。スチッチ71の切換は制御演算回路６からの
制御信号ｓでおこなわれる。さらに、マスク板４の裏面
には図中斜線で示すようにパターン電極41,42の部分以
外は光を遮光するようにパターン電極41,42と同一形状
の開口を有する遮光板44が密着されている。このように
パターン電極41,42がマスクパターンＰ1またはＰ2（測
定視標）を駆動し被検レンズＬからの光を選択透過す
る。
【００１５】今、図２(A)に示すようにチイッチ71のａ
側点が閉成されているとマスクパターンＰ1のみが被検
レンズＬからの光束を透過しエリアCCD５にその透過光
束を投影する。エリアCCD５は図２(B)に示すように投影
パターンP´1を検出し、制御演算回路は投影パターンP
´1の直線A´、B´の長さX ´、X ´及びθ´から被検
レンズＬの屈折特性を計算し、これを求める。この計算
方法については、前述の特開昭57−29923号に詳述した
ので参照されたい。
側点が閉成されているとマスクパターンＰ1のみが被検
レンズＬからの光束を透過しエリアCCD５にその透過光
束を投影する。エリアCCD５は図２(B)に示すように投影
パターンP´1を検出し、制御演算回路は投影パターンP
´1の直線A´、B´の長さX ´、X ´及びθ´から被検
レンズＬの屈折特性を計算し、これを求める。この計算
方法については、前述の特開昭57−29923号に詳述した
ので参照されたい。
【００１６】スイッチ71をｂ側接点に切換えればマスク
パターンP2からのみ被検レンズ通過光を選択透過でき、
狭い被測定領域の屈折特性がマスタパターンP1のとき同
様に測定できる。
パターンP2からのみ被検レンズ通過光を選択透過でき、
狭い被測定領域の屈折特性がマスタパターンP1のとき同
様に測定できる。
【００１７】図３はマスク板４に形成されるマスクパタ
ーン（測定視標）の他の例を示すもので、マスクパター
ンP1（測定視標）は一本線の直線部101、二本線の直線
部102、及び三本線の直線部103とが三つの交点104,105,
106をもつように構成されている。マスクパターン P
2（測定視標）はマスクパターンP1と同一構成で相似形
をなし、その大きさが小さくされている点は図２(A)の
場合と同じである。この図３の構成によればその投影パ
ターンP1´をエリアCCD５を走査することにより１つの
直線投影パターンにつき少なくとも２点が検出できれ
ば、即ち、直線部101については点101a,101b、直線部10
2については点102a,102b、直線部103については点103a,
103bが検出できれば、各直線101,102,103の投影パター
ンの直線方程式が決定でき、この三つの直線方程式から
投影パターンP1´の交点位置が決定できるため、直線10
1と102の投影パターンのそれぞれの長さ及び交差角を知
ることができる。
ーン（測定視標）の他の例を示すもので、マスクパター
ンP1（測定視標）は一本線の直線部101、二本線の直線
部102、及び三本線の直線部103とが三つの交点104,105,
106をもつように構成されている。マスクパターン P
2（測定視標）はマスクパターンP1と同一構成で相似形
をなし、その大きさが小さくされている点は図２(A)の
場合と同じである。この図３の構成によればその投影パ
ターンP1´をエリアCCD５を走査することにより１つの
直線投影パターンにつき少なくとも２点が検出できれ
ば、即ち、直線部101については点101a,101b、直線部10
2については点102a,102b、直線部103については点103a,
103bが検出できれば、各直線101,102,103の投影パター
ンの直線方程式が決定でき、この三つの直線方程式から
投影パターンP1´の交点位置が決定できるため、直線10
1と102の投影パターンのそれぞれの長さ及び交差角を知
ることができる。
【００１８】図４は、マスク板４のマスクパターンP1，
P2（測定視標）の他の例を示すものでマスクパターンP1
は４本の直線201,202,203及び204が４つの仮想交点Ｑ，
Ｕ，Ｖ及びＷをもつように構成されている。マスタパタ
ーンP2はP1と同一構成で相似形をなし、その大きさが小
さい。この例では、図３の例と同様に投影パターンの各
投影直線上の少なくとも２点の座標を知ることにより、
各投影直線の直線方程式を知り、投影パターンの交点Ｕ
´，Ｖ´，Ｗ´，Ｑ´の座標を知ることができる。
P2（測定視標）の他の例を示すものでマスクパターンP1
は４本の直線201,202,203及び204が４つの仮想交点Ｑ，
Ｕ，Ｖ及びＷをもつように構成されている。マスタパタ
ーンP2はP1と同一構成で相似形をなし、その大きさが小
さい。この例では、図３の例と同様に投影パターンの各
投影直線上の少なくとも２点の座標を知ることにより、
各投影直線の直線方程式を知り、投影パターンの交点Ｕ
´，Ｖ´，Ｗ´，Ｑ´の座標を知ることができる。
【００１９】マスクパターンの仮想交点Ｑ，Ｕ，Ｖ，Ｗ
から投影パターンの仮想交差Ｑ´，Ｕ´，Ｖ´，Ｗ´へ
の変化から被検レンズの屈折特性をもとめる。この屈折
特性の求め方は、本出願人が先に出願した特開昭57−19
9933号公報に詳述されているのでそれを参照されたい。
から投影パターンの仮想交差Ｑ´，Ｕ´，Ｖ´，Ｗ´へ
の変化から被検レンズの屈折特性をもとめる。この屈折
特性の求め方は、本出願人が先に出願した特開昭57−19
9933号公報に詳述されているのでそれを参照されたい。
【００２０】図５はマスク板４のマスクパターン（測定
視標）のさらに他の構成を示すものでマスクパターンP1
（測定視標）は大きい円環状をなしマスクパターンP
2（測定視標）はP1と同心の小さい円環状を成してい
る。この円環状パターンP1またはP2で選択透過された被
検レンズからの光は、エリアCCD5上に被検レンズLが乱
視であれば楕円として投影される。この楕円投影パター
ン上の少なくとも５点の座標を検出すれば被検レンズＬ
の屈折特性をもとめることができる。この求め方は前述
の特開昭57−29923号公報に開示したのでそれを参照さ
れたい。
視標）のさらに他の構成を示すものでマスクパターンP1
（測定視標）は大きい円環状をなしマスクパターンP
2（測定視標）はP1と同心の小さい円環状を成してい
る。この円環状パターンP1またはP2で選択透過された被
検レンズからの光は、エリアCCD5上に被検レンズLが乱
視であれば楕円として投影される。この楕円投影パター
ン上の少なくとも５点の座標を検出すれば被検レンズＬ
の屈折特性をもとめることができる。この求め方は前述
の特開昭57−29923号公報に開示したのでそれを参照さ
れたい。
【００２１】以上、説明したように、マスク板４を液晶
素子で構成しそのパターン電極の形状でマスクパターン
を特定することによりパターン電極への通電選択でマス
クパターンの選択ができる。なお、本実施例ではマスク
パターンは大小２つとしたが、これに限らず、３つある
いは４つと必要に応じてその数を増減してもよい。
素子で構成しそのパターン電極の形状でマスクパターン
を特定することによりパターン電極への通電選択でマス
クパターンの選択ができる。なお、本実施例ではマスク
パターンは大小２つとしたが、これに限らず、３つある
いは４つと必要に応じてその数を増減してもよい。
【００２２】[第２実施例]図６(A)及び図６(B)は本発明
の第２実施例を示すもので、マスク板４をマスクパター
ン板301と液晶シャッター板302とから構成した例であ
る。 マスクパターン板301は、上述した光透過マスク
パターンP1及びP2（測定視標）をガラス基板303の一面
上にアルミ真空蒸着により形成したものである。液晶シ
ャッター板302はガラス基板303の他面側に設けられてい
て、この液晶シャッター302の両面にはマスクパターンP
1に対応したシャッター電極 311とマスクパターンP2 に
対応したシャッター電極 312が形成されている。シャッ
ター電極311はスイッチ71のa側接点に、シャッター電極
312はスイッチ71のｂ側接点に各々電気接続されてい
る。
の第２実施例を示すもので、マスク板４をマスクパター
ン板301と液晶シャッター板302とから構成した例であ
る。 マスクパターン板301は、上述した光透過マスク
パターンP1及びP2（測定視標）をガラス基板303の一面
上にアルミ真空蒸着により形成したものである。液晶シ
ャッター板302はガラス基板303の他面側に設けられてい
て、この液晶シャッター302の両面にはマスクパターンP
1に対応したシャッター電極 311とマスクパターンP2 に
対応したシャッター電極 312が形成されている。シャッ
ター電極311はスイッチ71のa側接点に、シャッター電極
312はスイッチ71のｂ側接点に各々電気接続されてい
る。
【００２３】この構成によりスイッチ71を切換えること
によりマスクパターンP1，P2を択一的に選び被検レンズ
通過光をエリアCCD５とに選択投影する。
によりマスクパターンP1，P2を択一的に選び被検レンズ
通過光をエリアCCD５とに選択投影する。
【００２４】本実施例はマスクパターンが例えば図３の
ように複雑な場合、マスクパターンをパターン電極で形
成するのが難しい場合有用である。
ように複雑な場合、マスクパターンをパターン電極で形
成するのが難しい場合有用である。
【００２５】[第３実施例]図７、図８(A)及び図８(B)は
本発明の第３実施例を示すものである。
本発明の第３実施例を示すものである。
【００２６】レンズ受台３には、選択遮光板241を有す
る補助レンズ受台240が脱着可能に嵌着される。この補
助レンズ受台240はマスク板４のマスクパターン（測定
視標）に応じて複数個用意される。１つの補助レンズ受
台の遮光板241aは、図８(A)に斜線で示すように、ガラ
ス基板上に外側にアルミ真空蒸着で環状に形成した遮光
部242を有する。この遮光部242は大きいマスクパターン
P1（測定視標）へ向う被検レンズ通過光束PXaを遮光し
得るように形成されている。
る補助レンズ受台240が脱着可能に嵌着される。この補
助レンズ受台240はマスク板４のマスクパターン（測定
視標）に応じて複数個用意される。１つの補助レンズ受
台の遮光板241aは、図８(A)に斜線で示すように、ガラ
ス基板上に外側にアルミ真空蒸着で環状に形成した遮光
部242を有する。この遮光部242は大きいマスクパターン
P1（測定視標）へ向う被検レンズ通過光束PXaを遮光し
得るように形成されている。
【００２７】他方の補助レンズ受台(図示せず)の遮光板
241bは、図８(B)に斜線で示すように、ガラス基板の内
面上にアルミ真空蒸着により形成した円形状の遮光部24
3を有する。この遮光部243は小さいマスクパターンP
2（測定視標）へ向う被検レンズ通過光PXbを遮光し得る
様に形成されている。
241bは、図８(B)に斜線で示すように、ガラス基板の内
面上にアルミ真空蒸着により形成した円形状の遮光部24
3を有する。この遮光部243は小さいマスクパターンP
2（測定視標）へ向う被検レンズ通過光PXbを遮光し得る
様に形成されている。
【００２８】この構成により複数の補助レンズ受台40を
択一にレンズ受台３に挿着することにより、マスク板４
の複数のマスクパターンのいずれか１つのマスクパター
ンのみに被検レンズＬから通過光を導びくことができ
る。
択一にレンズ受台３に挿着することにより、マスク板４
の複数のマスクパターンのいずれか１つのマスクパター
ンのみに被検レンズＬから通過光を導びくことができ
る。
【００２９】[第４実施例]図９(A)及び図９(B)は本発明
の第４実施例を示すもので、図９(A)に示すように光源
を互いに異なる発光波長を有する２つの光源1a,及び1b
で構成し、コリメーターレンズ２の前方に光源1aからの
光を反射し、光源1bからの光を透過する波長選択特性を
もつハーフミラー400が配置されている。この光源1a，1
b、ハーフミラー400、コリメータレンズ２等は、測定視
標を検出素子５に投影する視標投影手段Ａを構成してい
る。
の第４実施例を示すもので、図９(A)に示すように光源
を互いに異なる発光波長を有する２つの光源1a,及び1b
で構成し、コリメーターレンズ２の前方に光源1aからの
光を反射し、光源1bからの光を透過する波長選択特性を
もつハーフミラー400が配置されている。この光源1a，1
b、ハーフミラー400、コリメータレンズ２等は、測定視
標を検出素子５に投影する視標投影手段Ａを構成してい
る。
【００３０】一方、マスク板４は、図９(B)に示すよう
にそのマスクパターンP1，P2（測定視標）を波長選択透
過型のフィルターで構成し大きいマスクパターンP1は光
源1bかにの光のみを透過でき、小さいマスクパターンP2
は光源1aからの光のみを透過できるように構成されてい
る。なお、斜線をほどこしていない401部分は当然に光
源1a,1bの両方の光を遮光する。
にそのマスクパターンP1，P2（測定視標）を波長選択透
過型のフィルターで構成し大きいマスクパターンP1は光
源1bかにの光のみを透過でき、小さいマスクパターンP2
は光源1aからの光のみを透過できるように構成されてい
る。なお、斜線をほどこしていない401部分は当然に光
源1a,1bの両方の光を遮光する。
【００３１】しかも、スイッチ71を切換えることにより
光源1a，1bが選択的に発光されマスクパターン P1， P2
のいずれかを被検レンズＬからの光が通過し、エリアCC
D５に投影されることとなる。
光源1a，1bが選択的に発光されマスクパターン P1， P2
のいずれかを被検レンズＬからの光が通過し、エリアCC
D５に投影されることとなる。
【００３２】[第５実施例]図10に示す本発明の図５実施
例はレンズ受台３とマスク板４（測定視標）の間にリレ
ーレンズ500を配置したもので、本実施例によればマス
ク板４及びエリアCCD５がリレーレンズ500によりその光
学的共役位置４´，５´に位置するように作用する。
例はレンズ受台３とマスク板４（測定視標）の間にリレ
ーレンズ500を配置したもので、本実施例によればマス
ク板４及びエリアCCD５がリレーレンズ500によりその光
学的共役位置４´，５´に位置するように作用する。
【００３３】
【効果】この発明は、以上説明したように、測定視標を
光検出手段上に投影するための視標投影手段を有するレ
ンズメーターにおいて、前記光検出手段上に投影されて
いる測定視標を識別させる識別手段を設けた構成とした
ので、光検出手段上に投影されている測定視標の種類又
は形状等が「多重焦点レンズの小玉や、累進多進点レン
ズの近用指定部あるいはソフトコンタクトレンズまたは
累進コンタクトレンズ等の視標であるか、或は普通の被
検レンズの測定視標であるか等」を知ることができ、測
定作業をより容易に進めることができる。
光検出手段上に投影するための視標投影手段を有するレ
ンズメーターにおいて、前記光検出手段上に投影されて
いる測定視標を識別させる識別手段を設けた構成とした
ので、光検出手段上に投影されている測定視標の種類又
は形状等が「多重焦点レンズの小玉や、累進多進点レン
ズの近用指定部あるいはソフトコンタクトレンズまたは
累進コンタクトレンズ等の視標であるか、或は普通の被
検レンズの測定視標であるか等」を知ることができ、測
定作業をより容易に進めることができる。
【図１】本発明のオートレンズメーターの第１の実施例
を示す光学配置図である。
を示す光学配置図である。
【図２】(A)は第１実施例のマスク板４の構成を示す平
面図、(B)は検出手段上の投影パターンの一例を示す図
である。
面図、(B)は検出手段上の投影パターンの一例を示す図
である。
【図３】マスクパターンの他の例を示す図である。
【図４】マスクパターンのさらに他の例を示す図であ
る。
る。
【図５】マスクパターンのさらに他の例を示す図であ
る。
る。
【図６】(A)は本発明の第２の実施例であるマスク板の
構成を示す平面図、(B)はその縦正中断面図である。
構成を示す平面図、(B)はその縦正中断面図である。
【図７】本発明の第３実施例を示す断面図である。
【図８】(A)及び(B)は第３実施例の遮光板の構成を示す
平面図である。
平面図である。
【図９】(A)は本発明の第４実施例を示す光学配置図、
(B)は第４実施例のマスク板の構成を示す図である。
(B)は第４実施例のマスク板の構成を示す図である。
【図１０】本発明の第５実施例を示す光学配置図であ
る。
る。
１,1a,1b…光源 ２…コリメーターレンズ ３…レンズ受台 ４…マスク板（測定視標） ５…検出器(光検出手段) 41,42…パターン電極 40…補助レンズ受台 71…スイッチ 242,243…遮光部 302…液晶シャッター Ｌ…被検レンズ P1，P2…マスクパターン（測定視標）
Claims (1)
- 【請求項１】 測定視標を光検出手段上に投影するため
の視標投影手段を有するレンズメーターにおいて、 前記光検出手段上に投影されている測定視標を識別させ
る識別手段を設けたことを特徴とするレンズメーター。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5273411A JPH0718775B2 (ja) | 1993-10-01 | 1993-11-01 | レンズメーター |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5273411A JPH0718775B2 (ja) | 1993-10-01 | 1993-11-01 | レンズメーター |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61069132A Division JPH06100518B2 (ja) | 1986-03-27 | 1986-03-27 | オ−トレンズメ−タ− |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06194266A true JPH06194266A (ja) | 1994-07-15 |
| JPH0718775B2 JPH0718775B2 (ja) | 1995-03-06 |
Family
ID=17527521
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5273411A Expired - Fee Related JPH0718775B2 (ja) | 1993-10-01 | 1993-11-01 | レンズメーター |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0718775B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5872625A (en) * | 1997-05-09 | 1999-02-16 | Nidek Co., Ltd. | Apparatus for measuring an optical characteristic of an examined lens |
| US5896194A (en) * | 1996-12-20 | 1999-04-20 | Kabushiki Kaisha Topcon | Lens meter |
| US5910836A (en) * | 1996-09-30 | 1999-06-08 | Kabushiki Kaisha Topcon | Lens meter |
| JP2002181664A (ja) * | 2000-12-15 | 2002-06-26 | Tomey Corp | オートレンズメータ |
| CN1325894C (zh) * | 2001-10-01 | 2007-07-11 | 株式会社拓普康 | 镜片测量仪 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5894831A (ja) * | 1981-11-23 | 1983-06-06 | エシロ−ル・アンテルナシオナル（コンパニイ・ジエネラル・ドプテイク） | ヒトの不正視眼の度の自動的屈折率測定方法及び装置 |
-
1993
- 1993-11-01 JP JP5273411A patent/JPH0718775B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5894831A (ja) * | 1981-11-23 | 1983-06-06 | エシロ−ル・アンテルナシオナル（コンパニイ・ジエネラル・ドプテイク） | ヒトの不正視眼の度の自動的屈折率測定方法及び装置 |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| US5910836A (en) * | 1996-09-30 | 1999-06-08 | Kabushiki Kaisha Topcon | Lens meter |
| US6236453B1 (en) * | 1996-09-30 | 2001-05-22 | Kabushiki Kaisha Topcon | Lens meter |
| US5896194A (en) * | 1996-12-20 | 1999-04-20 | Kabushiki Kaisha Topcon | Lens meter |
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| CN1325894C (zh) * | 2001-10-01 | 2007-07-11 | 株式会社拓普康 | 镜片测量仪 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0718775B2 (ja) | 1995-03-06 |
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|---|---|---|---|
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