JPH06199824A - 新規な置換されたタキサン及びそれらを含有する薬剤組成物 - Google Patents

新規な置換されたタキサン及びそれらを含有する薬剤組成物

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JPH06199824A
JPH06199824A JP4276765A JP27676592A JPH06199824A JP H06199824 A JPH06199824 A JP H06199824A JP 4276765 A JP4276765 A JP 4276765A JP 27676592 A JP27676592 A JP 27676592A JP H06199824 A JPH06199824 A JP H06199824A
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ホサイン・ナディザデ
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Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【目的】 抗白血病及び抗腫瘍剤として有用な新規なタ
キサンを提供する。 【構成】 下記式（３） 〔Ｒ1 及びＲ3 はフェニル、ナフタレン、Ｃ6 Ｈ5 ＣＨ
ＣＨ等から選ばれ、但し、Ｒ1 及びＲ3 は両方共フェニ
ルにはならない、ＱはＣＨ3 −，（ＣＨ3 ）3 Ｃ−，Ｃ
Ｈ3 Ｏ−，Ｃｌ，Ｂｒ，Ｆ，ＮＯ2 等、Ｚは−ＯＴ1 、
Ｔ1 は水素、ヒドロキシル保護基又は−ＣＯＴ2 、Ｔ2
はＨ，Ｃ1 〜Ｃ6 アルキルなど、Ａｃはアセチル、Ｅ1
及びＥ2 は水素及びタキサン誘導体の水への溶解度を増
大させる官能基を示す〕で表されるタキサン誘導体。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、抗白血病及び抗腫瘍剤
として使用効果を有する新規なタキサンを指向する。
【０００２】
【従来技術】タキソールを構成要素とするテルペンのタ
キサン系統は、生物学的及び化学的の両方の分野におい
て、相当の関心を引き付けてきた。タキソールは広い範
囲の抗白血及び腫瘍抑制活性を有する有望な癌化学療法
剤である。タキソールは２'Ｒ、３' Ｓ立体配置を有
し、下記の構造式（化１４）を有する：
【化１４】 式中、Ａｃはアセチルである。タキソールは、この有望
な活性の故に、現在、フランス及びアメリカ合衆国の両
方において臨床試験を受けている。
【０００３】Ｃｏｌｉｎ等は、米国特許４，８１４，４
７０号において、下記の構造式（２）（化１５）を有す
るタキソール誘導体がタキソール（１）に比べて相当に
高い活性を有することを報告した。
【化１５】 化１５の式中、Ｒ' は水素或はアセチルを表わし、Ｒ''
及びＲ''' の内の一方はヒドロキシを表わしかつ他方は
ｔ−ブトキシカルボニルアミノ及びそれらの立体異性形
態、及びそれらの混合物を表わす。Ｒ''がヒドロキシで
あり、Ｒ''' が２' Ｒ、３' Ｓ立体配置を有するｔ−ブ
トキシカルボニルアミノである（２）式の化合物は、一
般にタキソテレ（ｔａｘｏｔｅｒｅ）と呼ばれている。
タキソール及びタキソテレは有望な化学療法剤である
が、それらは全般に有効なわけではない。よって、それ
以上の化学療法剤についての要求が残っている。従っ
て、本発明の目的の内に、有効な抗白血病及び抗腫瘍剤
である新規なタキサン誘導体の提供がある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】従って、本発明は、簡潔
に言うと、下記式（化１６）のタキサン誘導体を指向す
る：
【化１６】 式中、Ｒ1 及びＲ3 は独立にフェニル、ナフチル、Ｃ6
Ｈ5 ＣＨＣＨ−、及び化１７から選ばれる、
【化１７】 但し、Ｒ1 及びＲ3 は両方ともフェニルにはならない；
ＱはＣＨ3 −、（ＣＨ3 ）3 Ｃ−、ＣＨ3 Ｏ−、Ｃｌ、
Ｂｒ、Ｆ、−ＮＯ2 、化１８或は化１９であり、
【化１８】
【化１９】 Ｚは−ＯＴ1 であり、Ｔ1 は水素、ヒドロキシル保護
基、或は−ＣＯＴ2 であり、Ｔ2 はＨ、Ｃ1 〜Ｃ6 アル
キル、Ｃ1 〜Ｃ6 アルケニル、Ｃ1 〜Ｃ6 アルキニル或
は単環式アリールであり、Ａｃはアセチルであり、Ｅ1
及びＥ2 は独立に水素、ヒドロキシ保護基、及びタキサ
ン誘導体の水への溶解度を増大させる官能基から選ばれ
る。本発明のその他の目的及び特徴は、一部明らかであ
りかつ一部本明細書以降に指摘されるものと思う。
【０００５】好ましい実施態様の詳細な説明 本発明に従えば、構造式（３）を有する化合物が、イン
ビトロで顕著な性質を示し、かつ有効な抗白血病及び抗
腫瘍剤になることを見出した。それらの生物学的活性
を、Ｊ．Ｃｅｌｌ Ｂｉｏｌｏｇｙ、９１：４７９〜４
８７頁（１９８１）、Ｐａｒｎｅｓｓ等の方法に従うチ
ューブリンアセイ及びヒト癌細胞株を用いてインビトロ
で求めて、タキソール及びタキソテレが示す生物学的活
性に比較し得る。
【０００６】（３）式を有するタキサン誘導体は、β−
ラクタムとタキサンテトラサイクリック核及びＣ−１３
金属オキシド置換基を有する金属アルコキシドとを反応
させてβ−アミドエステル置換基をＣ−１３に有する化
合物を形成して得ることができる。β−ラクタムは下記
の構造式（化２０）を有する：
【化２０】 式中、Ｒ1 及びＲ3 は前に規定した通りであり、Ｒ2 は
ヒドロキシ保護基である。
【０００７】β−ラクタム（４）は、入手容易な出発原
料から、下記の反応スキーム（化２１）によって例示す
る通りにして、調製することができる：
【化２１】 試薬 （ａ）ＬＤＡ、ＴＨＦ、−７８°〜−５０℃； （ｂ）ＬＨＭＤＳ、ＴＨＦ、−７８°〜０℃； （ｃ）ＴＨＦ、−７８°〜２５℃，（２ｈ）； （ｄ）トリエチルアミン及びアシルクロリド（Ｒ3 ＝化
２２或は化２３）。
【化２２】
【化２３】 上記の反応スキームに示す３−ヒドロキシル保護基は−
ＳｉＲ5 （ここで、Ｒ5 はトリエチルのようなトリアル
キル或はトリアリールである）である。３−ヒドロキシ
ルは、１−エトキシエチル或は２、２、２−トリクロロ
エトキシメチルのような他の標準の保護基で保護しても
よい。それ以上のヒドロキシ保護基及びそれらの合成
は、Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ＆ Ｓｏｎｓ、１９８１、
Ｔ．Ｗ．Ｇｒｅｅｎｅ著「Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ ｇｒ
ｏｕｐｓ ｉｎ ＯｒｇａｎｉｃＳｙｎｔｈｅｓｉｓ」
に見出すことができる。
【０００８】ラセミβ−ラクタムは純鏡像体に溶解した
後に、対応する２−メトキシ−２−（トリフルオロメチ
ル）フェニル錯酸エステルを再晶出させて保護すること
ができる。しかし、本明細書以降に記載するβ−アミド
エステル側鎖を結合させた反応は、極めてジアステレオ
選択性である利点を有し、これより側鎖プリカーサーの
ラセミ混合物を用いることを可能にさせる。
【０００９】タキサンテトラサイクリック核及びＣ−１
３金属オキシド置換基を有する金属アルコキシドは下記
の構造式（化２４）を有する：
【化２４】 式中、Ｚは−ＯＴ1 であり；Ｔ1 は水素、ヒドロキシル
保護基、或は−ＣＯＴ2であり；Ｔ2 はＨ、Ｃ1 〜Ｃ6
アルキル、Ｃ1 〜Ｃ6 アルケニル、Ｃ1 〜Ｃ6 アルキニ
ル或は単環式アリールであり；Ｔ3 はヒドロキシル保護
基であり；Ｍは金属、好ましくはＩＡ族、ＩＩＡ族及び
遷移金属、最も好ましくはＬｉ、Ｍｇ、Ｎａ、Ｋ或はＴ
ｉからなる群より選ぶ金属である。金属アルコキシド
は、タキサンテトラサイクリック核及びＣ−１３ヒドロ
キシル基を有するアルコールと有機金属化合物とを適し
た溶剤中で反応させて製造する。アルコールは保護され
たバッカチンＩＩＩ、特に７−Ｏ−トリエチルシリルバ
ッカチンＩＩＩ（Ｇｒｅｅｎｅ、等がＪＡＣＳ １１
０：５９１７頁（１９８８）に記載する通りにして或は
その他のルートで得ることができる）或は７、１０−ビ
ス−Ｏ−トリエチルシリルバッカチンＩＩＩが好まし
い。
【００１０】Ｇｒｅｅｎｅ、等に報告されている通り
に、１０−デアセチルバッカチンＩＩＩを、下記の反応
スキーム（化２５）に従って、７−Ｏ−トリエチルシリ
ル−１０−デアセチルバッカチンＩＩＩに転化させる：
【化２５】 注意深く最適化された条件と報告されるものの下で、１
０−デアセチルバッカチンＩＩＩに２０当量の（Ｃ2 Ｈ
5 ）3 ＳｉＣｌを、ピリジン５０ｍｌ／１ｍモルの１０
−デアセチルバッカチンＩＩＩの存在においてアルゴン
雰囲気下２３℃で２０時間反応させて７−トリエチルシ
リル−１０−デアセチルバッカチンＩＩＩ（７ａ）を反
応生成物として精製後の収率８４〜８６％で生じる。反
応生成物を、次いで必要に応じて、５当量のＣＨ3 ＣＯ
Ｃｌ及びピリジン２５ｍｌ／１ｍモルの７ａでアルゴン
雰囲気下０℃において４８時間アセチル化して７−Ｏ−
トリエチルシリルバッカチンＩＩＩ（７ｂ）を収率８６
％で生じてもよい。Ｇｒｅｅｎｅ、等、ＪＡＣＳ １１
０、５９１７〜５９１８頁（１９８８）。
【００１１】７−Ｏ−トリエチルシリルバッカチンＩＩ
Ｉ（７ｂ）をｎ−ブチルリチウムのような有機金属化合
物と、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）のような溶媒中
で、下記の反応スキーム（化２６）に示す通りに反応さ
せて金属アルコキシド１３−Ｏ−リチウム−７−Ｏ−ト
リエチルシリルバッカチンＩＩＩ（８）を形成する：
【化２６】
【００１２】下記の反応スキーム（化２７）に示す通り
に、１３−Ｏ−リチウム−７−Ｏ−トリエチルシリルバ
ッカチンＩＩＩ（８）は、Ｒ2 がトリエチルシリルであ
るβ−ラクタム（４）と反応して、Ｃ−７及びＣ−２'
ヒドロキシル基がトリエチルシリル基で保護された中間
体を生じる。次いで、トリエチルシリル基を、エステル
結合或はタキサン置換基を妨げないような温和な条件下
で加水分解させる。
【化２７】 式中、Ｒ1 及びＲ3 は前に規定した通りであり、Ａｃは
アセチルであり、ＴＥＳはトリエチルシリルであり、Ｐ
ｈはフェニルである。アルコールの金属アルコキシドへ
の転化及びタキサン誘導体の終局的な合成は、同じ反応
容器で行うことができる。β−ラクタムは反応容器に、
金属アルコキシドが中で生成した後に、加えるのが好ま
しい。
【００１３】本発明は、また、（３）式の化合物を一種
或はそれ以上の薬理学的に許容し得る、不活性な或は生
理学的に活性な希釈剤或は補助剤と組み合わせて含有す
る薬剤組成物も提供する。これらの組成物は、意図する
投与ルートについて適した任意の形態で与えることがで
きる。非経口ルート、特に静脈内ルートが投与について
好ましいルートである。
【００１４】非経口投与について発明に従う組成物は、
水性或は非水性の無菌の溶液、懸濁液或はエマルション
にすることができる。プロピレングリコール、植物油、
特にオリーブ油及び注射可能な有機エステル、例えばエ
チルオレエートを溶剤或はビヒクルとして用いることが
できる。これらの組成物は、また補助剤、特に湿潤剤、
乳化剤或は分散剤を含有することができる。滅菌はいく
つかの方法で、例えば細菌学的フィルターを使用して、
滅菌剤を組成物に加入することにより、照射することに
より或は加熱することにより、行うことができる。それ
らは、また、滅菌水或はその他の任意の注入可能な滅菌
媒体に溶解或は分散させることができる滅菌固体組成物
の形態にすることができる。
【００１５】一般式（３）の生成物は、一層特には、急
性白血病及び充実腫瘍の治療において、大人について静
脈内（灌注）ルートにより、通常１〜２ｍｇ／ｋｇの毎
日の投与量で、用いる。
【００１６】（３）式の化合物の水への溶解度は、Ｃ
２' 及び／又はＣ７置換基を改質して適当な官能基、Ｅ
1 及びＥ2 を加入することによって改良することができ
る。水への溶解度の増大については、Ｅ1 及びＥ2 は、
独立に水素及び下記にすることができる： −ＣＯＧＣＯＲ1 （式中、Ｇ はエチレン、プロピレン、ＣＨＣＨ、１、
２−シクロヘキサン、及び１、２−フェニレンであり、 Ｒ1 ＝ＯＨ塩基、ＮＲ2 Ｒ3 、ＯＲ3 、ＳＲ3 、ＯＣＨ
2 ＣＯＮＲ4 Ｒ5 、ＯＨ Ｒ2 ＝水素、メチル Ｒ3 ＝（ＣＨ2 ）n ＮＲ6 Ｒ7 ；化２８
【化２８】 ｎ＝１〜３ Ｒ4 ＝水素、炭素１〜４を含有する低級アルキル Ｒ5 ＝水素、炭素１〜４を含有する低級アルキル、ベン
ジル、ヒドロキシエチル、ＣＨ2 ＣＯ2 Ｈ、ジメチルア
ミノエチル Ｒ6 Ｒ7 ＝炭素１或は２を含有する低級アルキル、ベン
ジル或はＲ6 Ｒ7 はＮＲ6 Ｒ7 の窒素原子と一緒になって下記の環
（化２９）を形成する：
【化２９】 Ｒ8 ＝炭素１或は２を含有する低級アルキル、ベンジル 化３０＝ハライド
【化３０】 塩基＝ＮＨ3 、（ＨＯＣ2 Ｈ4 ）3 Ｎ、Ｎ（ＣＨ3 ）
3 、ＣＨ3 Ｎ（Ｃ2 Ｈ4 ＯＨ）2 、ＮＨ2 （ＣＨ2 ）6
ＮＨ2 、Ｎ−メチルグルカミン、ＮａＯＨ、ＫＯＨ）に
することができる。
【００１７】Ｘ1 或はＸ2 が−ＣＯＧＣＯＲ1 である化
合物の製法は、Ｈａｎｇｗｉｔｚの米国特許４，９４
２，１８４号に記載されており、同米国特許を本明細書
中に援用する。下記の例は発明を例示する。
【００１８】
【実施例】例１ ３' −デスフェニル−３' −（１−ナフチル）タキソー
ル（化３１）の調製
【化３１】 化３１式中、Ｎp1は化３２である。
【化３２】 ７−トリエチルシリルバッカチンＩＩＩ（２００ｍｇ、
０．２８６ｍモル）をＴＨＦ２ｍｌに溶解した−４５℃
の溶液に、ｎＢｕＬｉをヘキサンに溶解した１．６３Ｍ
溶液０．１７４ｍｌを滴下した。−４５℃で０．５時間
した後に、シス−１ーベンゾイル−３−トリエチルシリ
ルオキシ−４−（１−ナフチル）アゼチジン−２−オン
（６２０ｍｇ、１．４３ｍモル）をＴＨＦ２ｍｌに溶解
した溶液を混合物に滴下した。溶液を暖めて０℃にし、
その温度に１時間保った後に、ＡｃＯＨをＴＨＦに溶解
した１０％溶液１ｍｌを加えた。その混合物を、飽和水
性ＮａＨＣＯ3 と酢酸エチル／ヘキサン６０／４０との
間で分配させた。有機層を蒸発させて残分を生じ、これ
をシリカゲルに通してろ過して精製して（２' Ｒ、３'
Ｓ）−２' 、７−（ビス）トリエチルシリル−３' −デ
スフェニル−３' −（１−ナフチル）タキソール及び少
量のその（２' Ｓ、３' Ｒ）異性体を含有する混合物３
２５ｍｇを生じた。
【００１９】前の反応から得られた混合物３２５ｍｇ
（０．２８７ｍモル）をアセトニトリル１８ｍｌ及びピ
リジン０．９３ｍｌに溶解した０℃の溶液に、４８％水
性ＨＦ２．８ｍｌを加えた。混合物を０℃で３時間、次
いで２５℃で１３時間攪拌し、飽和水性重炭酸ナトリウ
ムと酢酸エチルとの間で分配させた。酢酸エチル溶液を
蒸発させて物質２６０ｍｇを生じ、これをフラッシュク
ロマトグラフィーで精製して３' −デスフェニル−３'
−（１−ナフチル）タキソール１６６ｍｇ（６４％）を
生じ、これをメタノール／水から再晶出させた。 融点１６４°〜１６５℃；［α］25 Na−５２．６°（ｃ
０．００５、ＣＨＣｌ3）。
【００２０】1 Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ，３００ＭＨ
ｚ）δ８．１１（ｄ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，２Ｈ，ベンゾエ
ートオルト），８．１１（ｍ，３Ｈ，芳香族），７．９
１（ｍ，３Ｈ，芳香族），７．７０（ｍ，２Ｈ，芳香
族），７．６３−７．４６（ｍ，７Ｈ，芳香族），６．
７５（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，１Ｈ，ＮＨ），６．５２
（ｄｄ，Ｊ＝８．８，１．６Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ３' ），
６．２７（ｓ，１Ｈ，１０Ｈ），６．２７（ｄｄ，Ｊ＝
９．１，９．１Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ１３），５．６８（ｄ，
Ｊ＝７．１Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ２β），４．８５（ｄｄ，Ｊ
＝７．６，２．２Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ５），４．９７（ｄ
ｄ，Ｊ＝１．６Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ２' ），４．３９（ｍ，
１Ｈ，Ｈ７），４．２４（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，１Ｈ，
Ｈ２０α），４．１７（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ
２０β），３．８０（ｄ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ
３），３．６５（ｂｒ，１Ｈ，２' ＯＨ），２．５５
（ｍ，１Ｈ，Ｈ６α），２．４８（ｂｒ，１Ｈ，７Ｏ
Ｈ），２．４１（ｓ，３Ｈ，４Ａｃ），２．３８（ｍ，
１Ｈ，Ｈ１４），１．９６（ｓ，３Ｈ，１０Ａｃ），
１．８６（ｍ，１Ｈ，Ｈ６β），１．８０（ｂｒ ｓ，
３Ｈ，Ｍｅ１８），１．７６（ｓ，１Ｈ，１０Ｈ），
１．６９（ｓ，３Ｈ，Ｍｅ１９），１．２８（ｓ，３
Ｈ，Ｍｅ１７），１．１６（ｓ，３Ｈ，Ｍｅ１６）。
【００２１】例２ ３' −デスフェニル−３' −（２−ナフル）タキソール
（化３３）の調製
【化３３】 化３３式中、Ｎp2は化３４ある。
【化３４】 ７−トリエチルシリルバッカチンＩＩＩ（２００ｍｇ、
０．２８６ｍモル）をＴＨＦ２ｍｌに溶解した−４５℃
の溶液に、ｎＢｕＬｉをヘキサンに溶解した１．６３Ｍ
溶液０．１７４ｍｌを滴下した。−４５℃で０．５時間
した後に、シス−１ーベンゾイル−３−トリエチルシリ
ルオキシ−４−（２−ナフチル）アゼチジン−２−オン
（６２０ｍｇ、１．４３ｍモル）をＴＨＦ２ｍｌに溶解
した溶液を混合物に滴下した。溶液を暖めて０℃にし、
その温度に１時間保った後に、ＡｃＯＨをＴＨＦに溶解
した１０％溶液１ｍｌを加えた。その混合物を、飽和水
性ＮａＨＣＯ3 と酢酸エチル／ヘキサン６０／４０との
間で分配させた。有機層を蒸発させて残分を生じ、これ
をシリカゲルに通してろ過して精製して（２' Ｒ、３'
Ｓ）−２' 、７−（ビス）トリエチルシリル−３' −デ
スフェニル−３' −（２−ナフチル）タキソール及び少
量のその（２' Ｓ、３' Ｒ）異性体を含有する混合物３
２０ｍｇを生じた。
【００２２】前の反応から得られた混合物３２０ｍｇ
（０．２８３ｍモル）をアセトニトリル１８ｍｌ及びピ
リジン０．９３ｍｌに溶解した０℃の溶液に、４８％水
性ＨＦ２．８ｍｌを加えた。混合物を０℃で３時間、次
いで２５℃で１３時間攪拌し、飽和水性重炭酸ナトリウ
ムと酢酸エチルとの間で分配させた。酢酸エチル溶液を
蒸発させて物質２５５ｍｇを生じ、これをフラッシュク
ロマトグラフィーで精製して３' −デスフェニル−３'
−（２−ナフチル）タキソール１６６ｍｇ（６４％）を
生じ、これをメタノール／水から再晶出させた。 融点１６４°〜１６５℃；［α］25 Na−５２．６°（ｃ
０．００５、ＣＨＣｌ3）。
【００２３】1 Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ，３００ＭＨ
ｚ）δ８．１４（ｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，２Ｈ，ベンゾエ
ートオルト），７．９６（ｍ，１Ｈ，芳香族），７．９
０（ｍ，１Ｈ，芳香族），７．８５（ｍ，２Ｈ，芳香
族），７．７６（ｍ，２Ｈ，芳香族），７．６０（ｍ，
３Ｈ，芳香族），７．５２（ｍ，４Ｈ，芳香族），７．
４１（ｍ，２Ｈ，芳香族），７．０１（ｄ，Ｊ＝８．８
Ｈｚ，１Ｈ，ＮＨ），６．２７（ｓ，１Ｈ，１０Ｈ），
６．２６（ｄｄ，Ｊ＝９．２，９．２Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ１
３），５．９７（ｄｄ，Ｊ＝８．８，２．５Ｈｚ，１
Ｈ，Ｈ３' ），５．６８（ｄ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，１Ｈ，
Ｈ２β），４．９３（ｍ，１Ｈ，Ｈ５），４．９２
（ｍ，１Ｈ，Ｈ２' ），４．３９（ｍ，１Ｈ，Ｈ７），
４．３０（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ２０α），
４．２０（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ２０β），
３．８１（ｄ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ３），３．６
０（ｄ，Ｊ＝５Ｈｚ，１Ｈ，２' ＯＨ），２．４８
（ｍ，１Ｈ，Ｈ６α），２．４５（ｂｒ，１Ｈ，７Ｏ
Ｈ），２．３９（ｓ，３Ｈ，４Ａｃ），２．３０（ｍ，
１Ｈ，Ｈ１４），２．２４（ｓ，３Ｈ，１０Ａｃ），
１．８３（ｍ，１Ｈ，Ｈ６β），１．８２（ｂｒ ｓ，
３Ｈ，Ｍｅ１８），１．６８（ｓ，１Ｈ，１０Ｈ），
１．６８（ｓ，３Ｈ，Ｍｅ１９），１．２４（ｓ，３
Ｈ，Ｍｅ１７），１．１４（ｓ，３Ｈ，Ｍｅ１６）。
【００２４】例３ ３' −デスフェニル−３' −（４−メトキシフェニル）
タキソール（化３５）の調製
【化３５】 ７−トリエチルシリルバッカチンＩＩＩ（２００ｍｇ、
０．２８６ｍモル）をＴＨＦ２ｍｌに溶解した−４５℃
の溶液に、ｎＢｕＬｉをヘキサンに溶解した１．６３Ｍ
溶液０．１７４ｍｌを滴下した。−４５℃で０．５時間
した後に、シス−１ーベンゾイル−３−トリエチルシリ
ルオキシ−４−（４−メトキシフェニル）アゼチジン−
２−オン（５９０ｍｇ、１．４３ｍモル）をＴＨＦ２ｍ
ｌに溶解した溶液を混合物に滴下した。溶液を暖めて０
℃にし、その温度に１時間保った後に、ＡｃＯＨをＴＨ
Ｆに溶解した１０％溶液１ｍｌを加えた。その混合物
を、飽和水性ＮａＨＣＯ3 と酢酸エチル／ヘキサン６０
／４０との間で分配させた。有機層を蒸発させて残分を
生じ、これをシリカゲルに通してろ過して精製して
（２' Ｒ、３' Ｓ）−２' 、７−（ビス）トリエチルシ
リル−３' −デスフェニル−３' −（４−メトキシフェ
ニル）タキソール及び少量のその（２' Ｓ、３' Ｒ）異
性体を含有する混合物３２０ｍｇを生じた。
【００２５】前の反応から得られた混合物３２０ｍｇ
（０．２８８ｍモル）をアセトニトリル１８ｍｌ及びピ
リジン０．９３ｍｌに溶解した０℃の溶液に、４８％水
性ＨＦ２．８ｍｌを加えた。混合物を０℃で３時間、次
いで２５℃で１３時間攪拌し、飽和水性重炭酸ナトリウ
ムと酢酸エチルとの間で分配させた。酢酸エチル溶液を
蒸発させて物質２５５ｍｇを生じ、これをフラッシュク
ロマトグラフィーで精製して３' −デスフェニル−３'
−（４−メトキシフェニル）タキソール１７２ｍｇ（６
８％）を生じ、これをメタノール／水から再晶出させ
た。 融点１７４°〜１７６℃；［α］25 Na−４８．８６°
（ｃ０．０５、ＣＨＣｌ3）。
【００２６】1 Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ，３００ＭＨ
ｚ）δ８．１２（ｄ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，２Ｈ，ベンゾエ
ートオルト），７．７２（ｍ，２Ｈ，芳香族），７．５
９（ｍ，１Ｈ，芳香族），７．５３−７．３６（ｍ，８
Ｈ，芳香族），６．９６（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，１Ｈ，
ＮＨ），６．９０（ｍ，２Ｈ，芳香族），６．２６
（ｓ，１Ｈ，１０Ｈ），６．２１（ｄｄ，Ｊ＝９．３，
９．３Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ１３），５．７０（ｄｄ，Ｊ＝
８．８，２．７Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ３' ），５．６６（ｄ，
Ｊ＝６．８Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ２β），４．９３（ｄｄ，Ｊ
＝９．９，２．２Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ５），４．７４（ｄ
ｄ，Ｊ＝５．５，２．７Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ２' ），４．３
９（ｍ，１Ｈ，Ｈ７），４．２９（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈ
ｚ，１Ｈ，Ｈ２０α），４．１８（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈ
ｚ，１Ｈ，Ｈ２０β），３．７８（ｄ，Ｊ＝６．８Ｈ
ｚ，１Ｈ，Ｈ３），３．７８（ｓ，３Ｈ，ＡｒＯＭ
ｅ），３．６７（ｄ，Ｊ＝５．５Ｈｚ，１Ｈ，２' Ｏ
Ｈ），２．６１（ｍ，１Ｈ，Ｈ６α），２．５０（ｄ，
Ｊ＝４．４Ｈｚ，１Ｈ，７ＯＨ），２．３７（ｓ，３
Ｈ，４Ａｃ），２．３１（ｍ，２Ｈ，Ｈ１４），２．２
２（ｓ，３Ｈ，１０Ａｃ），１．８４（ｍ，１Ｈ，Ｈ６
β），１．７９（ｂｒ ｓ，３Ｈ，Ｍｅ１８），１．７
９（ｓ，１Ｈ，１０Ｈ），１．６７（ｓ，３Ｈ，Ｍｅ１
９），１．２２（ｓ，３Ｈ，Ｍｅ１７），１．１３
（ｓ，３Ｈ，Ｍｅ１６）。
【００２７】例４ ３' −デスフェニル−３' −（４−クロロフェニル）タ
キソール（化３６）の調製
【化３６】 ７−トリエチルシリルバッカチンＩＩＩ（２００ｍｇ、
０．２８６ｍモル）をＴＨＦ２ｍｌに溶解した−４５℃
の溶液に、ｎＢｕＬｉをヘキサンに溶解した１．６３Ｍ
溶液０．１７４ｍｌを滴下した。−４５℃で０．５時間
した後に、シス−１ーベンゾイル−３−トリエチルシリ
ルオキシ−４−（４−クロロフェニル）アゼチジン−２
−オン（５９５ｍｇ、１．４３ｍモル）をＴＨＦ２ｍｌ
に溶解した溶液を混合物に滴下した。溶液を暖めて０℃
にし、その温度に１時間保った後に、ＡｃＯＨをＴＨＦ
に溶解した１０％溶液１ｍｌを加えた。その混合物を、
飽和水性ＮａＨＣＯ3 と酢酸エチル／ヘキサン６０／４
０との間で分配させた。有機層を蒸発させて残分を生
じ、これをシリカゲルに通してろ過して精製して（２'
Ｒ、３' Ｓ）−２' 、７−（ビス）トリエチルシリル−
３' −デスフェニル−３' −（４−クロロフェニル）タ
キソール及び少量のその（２' Ｓ、３' Ｒ）異性体を含
有する混合物３２０ｍｇを生じた。
【００２８】前の反応から得られた混合物３２０ｍｇ
（０．２８７ｍモル）をアセトニトリル１８ｍｌ及びピ
リジン０．９３ｍｌに溶解した０℃の溶液に、４８％水
性ＨＦ２．８ｍｌを加えた。混合物を０℃で３時間、次
いで２５℃で１３時間攪拌し、飽和水性重炭酸ナトリウ
ムと酢酸エチルとの間で分配させた。酢酸エチル溶液を
蒸発させて物質２５５ｍｇを生じ、これをフラッシュク
ロマトグラフィーで精製して３' −デスフェニル−３'
−（４−クロロフェニル）タキソール１５８ｍｇ（６２
％）を生じ、これをメタノール／水から再晶出させた。 融点１７３°〜１７５℃；［α］25 Na−５０．８°（ｃ
０．０１、ＣＨＣｌ3 ）。
【００２９】1 Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ，３００ＭＨ
ｚ）δ８．１３（ｄ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，２Ｈ，ベンゾエ
ートオルト），７．７２（ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，２Ｈ，
ベンズアミドオルト），７．６５−７．３５（ｍ，１０
Ｈ，芳香族），６．９７（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，１Ｈ，
ＮＨ），６．２７（ｓ，１Ｈ，１０Ｈ），６．２５（ｄ
ｄ，Ｊ＝８．３，８．３Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ１３），５．７
８（ｄｄ，Ｊ＝８．８，２．２Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ３' ），
５．６７（ｄ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ２β），４．
９５（ｄｄ，Ｊ＝８．８，２．２Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ５），
４．７７（ｂｒ ｓ，１Ｈ，Ｈ２' ），４．４０（ｍ，
１Ｈ，Ｈ７），４．３１（ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，１Ｈ，
Ｈ２０α），４．１９（ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ
２０β），３．８０（ｄ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ
３），３．６１（ｂｒ ｓ，１Ｈ，２'ＯＨ），２．５
４（ｍ，１Ｈ，Ｈ６α），２．３８（ｓ，３Ｈ，４Ａ
ｃ），２．３２（ｍ，１Ｈ，Ｈ１４），２．２４（ｓ，
３Ｈ，１０Ａｃ），１．８５（ｍ，１Ｈ，Ｈ６β），
１．８０（ｂｒ ｓ，３Ｈ，Ｍｅ１８），１．６８
（ｓ，３Ｈ，Ｍｅ１９），１．２３（ｓ，３Ｈ，Ｍｅ１
７），１．１４（ｓ，３Ｈ，Ｍｅ１６）。
【００３０】例５ ３' −デスフェニル−３' −（４−ブロモフェニル）タ
キソール（化３７）の調製
【化３７】 ７−トリエチルシリルバッカチンＩＩＩ（２００ｍｇ、
０．２８６ｍモル）をＴＨＦ２ｍｌに溶解した−４５℃
の溶液に、ｎＢｕＬｉをヘキサンに溶解した１．６３Ｍ
溶液０．１７４ｍｌを滴下した。−４５℃で０．５時間
した後に、シス−１ーベンゾイル−３−トリエチルシリ
ルオキシ−４−（４−ブロモフェニル）アゼチジン−２
−オン（６６０ｍｇ、１．４３ｍモル）をＴＨＦ２ｍｌ
に溶解した溶液を混合物に滴下した。溶液を暖めて０℃
にし、その温度に１時間保った後に、ＡｃＯＨをＴＨＦ
に溶解した１０％溶液１ｍｌを加えた。その混合物を、
飽和水性ＮａＨＣＯ3 と酢酸エチル／ヘキサン６０／４
０との間で分配させた。有機層を蒸発させて残分を生
じ、これをシリカゲルに通してろ過して精製して（２'
Ｒ、３' Ｓ）−２' 、７−（ビス）トリエチルシリル−
３' −デスフェニル−３' −（４−ブロモフェニル）タ
キソール及び少量のその（２' Ｓ、３' Ｒ）異性体を含
有する混合物３３０ｍｇを生じた。
【００３１】前の反応から得られた混合物３３０ｍｇ
（０．２８４ｍモル）をアセトニトリル１８ｍｌ及びピ
リジン０．９３ｍｌに溶解した０℃の溶液に、４８％水
性ＨＦ２．８ｍｌを加えた。混合物を０℃で３時間、次
いで２５℃で１３時間攪拌し、飽和水性重炭酸ナトリウ
ムと酢酸エチルとの間で分配させた。酢酸エチル溶液を
蒸発させて物質２６５ｍｇを生じ、これをフラッシュク
ロマトグラフィーで精製して３' −デスフェニル−３'
−（４−ブロモフェニル）タキソール１８６ｍｇ（６４
％）を生じ、これをメタノール／水から再晶出させた。
融点１７０°〜１７２℃；［α］25 Na−５０．９４°
（ｃ０．０１、ＣＨＣｌ3）。
【００３２】1 Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ，３００ＭＨ
ｚ）δ８．１２（ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ，ベンゾエ
ートオルト），７．７１（ｍ，２Ｈ，芳香族），７．６
１（ｍ，１Ｈ，芳香族），７．５０−７．４７（ｍ，６
Ｈ，芳香族），７．３８（ｍ，３Ｈ，芳香族），７．０
４（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，１Ｈ，ＮＨ），６．２７
（ｓ，１Ｈ，１０Ｈ），６．２３（ｄｄ，Ｊ＝８．２，
８．２Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ１３），５．７５（ｄｄ，Ｊ＝
８．８，２．２Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ３' ），５．６６（ｄ，
Ｊ＝７．１Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ２β），４．９４（ｄｄ，Ｊ
＝９．３，１．７Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ５），４．７５（ｄ
ｄ，Ｊ＝２．２Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ２' ），４．３８（ｍ，
１Ｈ，Ｈ７），４．２９（ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，１Ｈ，
Ｈ２０α），４．１８（ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ
２０β），３．７９（ｄ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ
３），３．７（ｂｒ，１Ｈ，２' ＯＨ），２．５３
（ｍ，１Ｈ，Ｈ６α），２．３８（ｂｒ，１Ｈ，７Ｏ
Ｈ），２．３７（ｓ，３Ｈ，４Ａｃ），２．３０（ｍ，
１Ｈ，Ｈ１４），２．２３（ｓ，３Ｈ，１０Ａｃ），
１．８７（ｍ，１Ｈ，Ｈ６β），１．８０（ｂｒ ｓ，
３Ｈ，Ｍｅ１８），１．８０（ｓ，１Ｈ，１０Ｈ），
１．６７（ｓ，３Ｈ，Ｍｅ１９），１．２２（ｓ，３
Ｈ，Ｍｅ１７），１．１３（ｓ，３Ｈ，Ｍｅ１６）。
【００３３】例６ ３' −デスフェニル−３' −（３、４−メチレンジオキ
シフェニル）タキソール（化３８）の調製
【化３８】 ７−トリエチルシリルバッカチンＩＩＩ（２００ｍｇ、
０．２８６ｍモル）をＴＨＦ２ｍｌに溶解した−４５℃
の溶液に、ｎＢｕＬｉをヘキサンに溶解した１．６３Ｍ
溶液０．１７４ｍｌを滴下した。−４５℃で０．５時間
した後に、シス−１ーベンゾイル−３−トリエチルシリ
ルオキシ−４−（３、４−メチレンジオキシフェニル）
アゼチジン−２−オン（６１０ｍｇ、１．４３ｍモル）
をＴＨＦ２ｍｌに溶解した溶液を混合物に滴下した。溶
液を暖めて０℃にし、その温度に１時間保った後に、Ａ
ｃＯＨをＴＨＦに溶解した１０％溶液１ｍｌを加えた。
その混合物を、飽和水性ＮａＨＣＯ3 と酢酸エチル／ヘ
キサン６０／４０との間で分配させた。有機層を蒸発さ
せて残分を生じ、これをシリカゲルに通してろ過して精
製して（２' Ｒ、３' Ｓ）−２' 、７−（ビス）トリエ
チルシリル−３' −デスフェニル−３' −（３、４−メ
チレンジオキシフェニル）タキソール及び少量のその
（２' Ｓ、３' Ｒ）異性体を含有する混合物３２０ｍｇ
を生じた。
【００３４】前の反応から得られた混合物３２０ｍｇ
（０．２８４ｍモル）をアセトニトリル１８ｍｌ及びピ
リジン０．９３ｍｌに溶解した０℃の溶液に、４８％水
性ＨＦ２．８ｍｌを加えた。混合物を０℃で３時間、次
いで２５℃で１３時間攪拌し、飽和水性重炭酸ナトリウ
ムと酢酸エチルとの間で分配させた。酢酸エチル溶液を
蒸発させて物質１１３ｍｇを生じ、これをフラッシュク
ロマトグラフィーで精製して３' −デスフェニル−３'
−（３、４−メチレンジオキシフェニル）タキソール１
６５ｍｇ（６４％）を生じ、これをメタノール／水から
再晶出させた。融点１７８°〜１８０℃；［α］25 Na−
４６．６°（ｃ０．００５、ＣＨＣｌ3）。
【００３５】1 Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ，３００ＭＨ
ｚ）δ８．１４（ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ，ベンゾエ
ートオルト），７．７２（ｍ，２Ｈ，芳香族），７．１
５（ｍ，１Ｈ，芳香族），７．５０（ｍ，２Ｈ，芳香
族），７．３８（ｍ，２Ｈ，芳香族），７．０（ｍ，１
Ｈ，芳香族），６．９４（ｍ，２Ｈ，芳香族），６．８
８（ｄ，Ｊ＝９．１Ｈｚ，１Ｈ，ＮＨ），６．８３
（ｍ，１Ｈ，芳香族），６．２８（ｓ，１Ｈ，Ｈ１
０），６．２３（ｄｄ，Ｊ＝９．１，９．１Ｈｚ，１
Ｈ，Ｈ１３），５．９７（ｓ，２Ｈ，メチレン），５．
６９（ｄｄ，Ｊ＝９．１，２．５Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ３'
），５．６８（ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ２
β），４．９５（ｄｄ，Ｊ＝９．６，２．２Ｈｚ，１
Ｈ，Ｈ５），４．７２（（ｄｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ，１
Ｈ，Ｈ２' ），４．４１（ｍ，１Ｈ，Ｈ７），４．３１
（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ２０α），４．２０
（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ２０β），３．８１
（ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ３），３．６０（ｂ
ｒ，１Ｈ，２' ＯＨ），２．５６（ｍ，１Ｈ，Ｈ６
α），２．４３（ｄ，Ｊ＝４．１Ｈｚ，１Ｈ，７Ｏ
Ｈ），２．３９（ｓ，３Ｈ，４Ａｃ），２．３１（ｍ，
１Ｈ，Ｈ１４），２．２４（ｓ，３Ｈ，１０Ａｃ），
１．８８（ｍ，１Ｈ，Ｈ６β），１．８２（ｂｒ ｓ，
３Ｈ，Ｍｅ１８），１．６９（ｓ，１Ｈ，１０Ｈ），
１．６８（ｓ，３Ｈ，Ｍｅ１９），１．２４（ｓ，３
Ｈ，Ｍｅ１７），１．１５（ｓ，３Ｈ，Ｍｅ１６）。
【００３６】例７ ３' −デスフェニル−３' −（３、４−ジメトキシフェ
ニル）タキソール（化３９）の調製
【化３９】 ７−トリエチルシリルバッカチンＩＩＩ（２００ｍｇ、
０．２８６ｍモル）をＴＨＦ２ｍｌに溶解した−４５℃
の溶液に、ｎＢｕＬｉをヘキサンに溶解した１．６３Ｍ
溶液０．１７４ｍｌを滴下した。−４５℃で０．５時間
した後に、シス−１ーベンゾイル−３−トリエチルシリ
ルオキシ−４−（３、４−ジメトキシフェニル）アゼチ
ジン−２−オン（６３０ｍｇ、１．４３ｍモル）をＴＨ
Ｆ２ｍｌに溶解した溶液を混合物に滴下した。溶液を暖
めて０℃にし、その温度に１時間保った後に、ＡｃＯＨ
をＴＨＦに溶解した１０％溶液１ｍｌを加えた。その混
合物を、飽和水性ＮａＨＣＯ3 と酢酸エチル／ヘキサン
６０／４０との間で分配させた。有機層を蒸発させて残
分を生じ、これをシリカゲルに通してろ過して精製して
（２' Ｒ、３' Ｓ）−２' 、７−（ビス）トリエチルシ
リル−３' −デスフェニル−３' −（３、４−ジメトキ
シフェニル）タキソール及び少量のその（２' Ｓ、３'
Ｒ）異性体を含有する混合物３３０ｍｇを生じた。
【００３７】前の反応から得られた混合物３３０ｍｇ
（０．２８６ｍモル）をアセトニトリル１８ｍｌ及びピ
リジン０．９３ｍｌに溶解した０℃の溶液に、４８％水
性ＨＦ２．８ｍｌを加えた。混合物を０℃で３時間、次
いで２５℃で１３時間攪拌し、飽和水性重炭酸ナトリウ
ムと酢酸エチルとの間で分配させた。酢酸エチル溶液を
蒸発させて物質２６０ｍｇを生じ、これをフラッシュク
ロマトグラフィーで精製して３' −デスフェニル−３'
−（３、４−ジメトキシフェニル）タキソール１７５ｍ
ｇ（６７％）を生じ、これをメタノール／水から再晶出
させた。 融点１６５°〜１６７℃；［α］25 Na−４２．０°（ｃ
０．００５、ＣＨＣｌ3）。
【００３８】1 Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ，３００ＭＨ
ｚ）δ８．１２（ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，２Ｈ，ベンゾエ
ートオルト），７．７３（ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，２Ｈ，
ベンズアミドオルト），７．６５−７．３５（ｍ，６
Ｈ，芳香族），７．１−７．０（ｍ，２Ｈ，芳香族），
６．９４（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，１Ｈ，ＮＨ），６．８
８（ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，２Ｈ，芳香族），６．２７
（ｓ，１Ｈ，Ｈ１０），６．２１（ｄｄ，Ｊ＝９．３，
９．３Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ１３），５．６９（ｍ，２Ｈ，Ｈ
３，Ｈ２β），４．９４（ｄｄ，Ｈｚ，Ｊ＝９．９，
２．２Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ５），４．７７（ｄ，Ｊ＝２．８
Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ２' ），４．３９（ｄｄ，Ｊ＝１１．
０，６．６Ｈｚ，，１Ｈ，Ｈ７），４．３０（ｄ，Ｊ＝
８．５Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ２０α），４．１９（ｄ，Ｊ＝
８．５Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ２０β），３．８８（ｓ，３Ｈ，
ＡｒＯＭｅ），３．８７（ｓ，３Ｈ，ＡｒＯＭｅ），
３．８０（ｄ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ３），３．５
９（ｄ，Ｊ＝４．４Ｈｚ，１Ｈ，２' ＯＨ），２．５４
（ｍ，１Ｈ，Ｈ６α），２．３８（ｓ，３Ｈ，４Ａ
ｃ），２．３６（ｍ，２Ｈ，Ｈ１４α，Ｈ１４β），
２．２３（ｓ，３Ｈ，１０Ａｃ），１．８６（ｍ，１
Ｈ，Ｈ６β），１．８０（ｂｒ ｓ，３Ｈ，Ｍｅ１
８），１．６８（ｓ，３Ｈ，Ｍｅ１９），１．２３
（ｓ，３Ｈ，Ｍｅ１７），１．１４（ｓ，３Ｈ，Ｍｅ１
６）。
【００３９】例８ ３' −デスフェニル−３' −（４−ニトロフェニル）タ
キソール（化４０）の調製
【化４０】 ７−トリエチルシリルバッカチンＩＩＩ（２００ｍｇ、
０．２８６ｍモル）をＴＨＦ２ｍｌに溶解した−４５℃
の溶液に、ｎＢｕＬｉをヘキサンに溶解した１．６３Ｍ
溶液０．１７４ｍｌを滴下した。−４５℃で０．５時間
した後に、シス−１ーベンゾイル−３−トリエチルシリ
ルオキシ−４−（４−ニトロフェニル）アゼチジン−２
−オン（６１０ｍｇ、１．４３ｍモル）をＴＨＦ２ｍｌ
に溶解した溶液を混合物に滴下した。溶液を暖めて０℃
にし、その温度に１時間保った後に、ＡｃＯＨをＴＨＦ
に溶解した１０％溶液１ｍｌを加えた。その混合物を、
飽和水性ＮａＨＣＯ3 と酢酸エチル／ヘキサン６０／４
０との間で分配させた。有機層を蒸発させて残分を生
じ、これをシリカゲルに通してろ過して精製して（２'
Ｒ、３' Ｓ）−２' 、７−（ビス）トリエチルシリル−
３' −デスフェニル−３' −（４−ニトロフェニル）タ
キソール及び少量のその（２' Ｓ、３' Ｒ）異性体を含
有する混合物３２０ｍｇを生じた。
【００４０】前の反応から得られた混合物３２０ｍｇ
（０．２８４ｍモル）をアセトニトリル１８ｍｌ及びピ
リジン０．９３ｍｌに溶解した０℃の溶液に、４８％水
性ＨＦ２．８ｍｌを加えた。混合物を０℃で３時間、次
いで２５℃で１３時間攪拌し、飽和水性重炭酸ナトリウ
ムと酢酸エチルとの間で分配させた。酢酸エチル溶液を
蒸発させて物質２５５ｍｇを生じ、これをフラッシュク
ロマトグラフィーで精製して３' −デスフェニル−３'
−（４−ニトロフェニル）タキソール１４７ｍｇ（５７
％）を生じ、これをメタノール／水から再晶出させた。 融点１８８°〜１９０℃；［α］25 Na−６３．７°（ｃ
０．０１、ＣＨＣｌ3 ）。
【００４１】1 Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ，３００ＭＨ
ｚ）δ８．２６（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，２Ｈ，ベンゾエ
ートオルト），８．２０（ｍ，２Ｈ，芳香族），７．７
３（ｍ，４Ｈ，芳香族），７．６０（ｍ，１Ｈ，芳香
族），７．５２（ｍ，４Ｈ，芳香族），７．４１（ｍ，
１Ｈ，芳香族），７．１５（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，１
Ｈ，ＮＨ），６．２６（ｓ，１Ｈ，Ｈ１０），６．２６
（ｄｄ，Ｊ＝９．３，９．３Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ１３），
５．９３（ｄｄ，Ｊ＝８．８，２．８Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ
３'），５．６６（ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ２
β），４．９４（ｄｄ，Ｊ＝９．３，１．７Ｈｚ，１
Ｈ，Ｈ５），４．８２（（ｄｄ，Ｊ＝３．９，２．８Ｈ
ｚ，１Ｈ，Ｈ２' ），４．３８（ｍ，１Ｈ，Ｈ７），
４．３０（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ２０α），
４．１９（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ２０β），
３．８６（ｄ，Ｊ＝３．９Ｈｚ，１Ｈ，２' ＯＨ），
３．７９（ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ３），２．５
５（ｍ，１Ｈ，Ｈ６α），２．４６（ｄ，Ｊ＝３．８Ｈ
ｚ，１Ｈ，７ＯＨ），２．４１（ｓ，３Ｈ，４Ａｃ），
２．３８（ｍ，２Ｈ，Ｈ１４），２．２３（ｓ，３Ｈ，
１０Ａｃ），１．８２（ｍ，１Ｈ，Ｈ６β），１．８０
（ｂｒ ｓ，３Ｈ，Ｍｅ１８），１．７４（ｓ，１Ｈ，
１０Ｈ），１．６８（ｓ，３Ｈ，Ｍｅ１９），１．２１
（ｓ，３Ｈ，Ｍｅ１７），１．１３（ｓ，３Ｈ，Ｍｅ１
６）。
【００４２】例９ ３' −デスフェニル−３' −（４−フルオロフェニル）
タキソール（化４１）の調製
【化４１】 ７−トリエチルシリルバッカチンＩＩＩ（２００ｍｇ、
０．２８６ｍモル）をＴＨＦ２ｍｌに溶解した−４５℃
の溶液に、ｎＢｕＬｉをヘキサンに溶解した１．６３Ｍ
溶液０．１７４ｍｌを滴下した。−４５℃で０．５時間
した後に、シス−１ーベンゾイル−３−トリエチルシリ
ルオキシ−４−（４−フルオロフェニル）アゼチジン−
２−オン（５７０ｍｇ、１．４３ｍモル）をＴＨＦ２ｍ
ｌに溶解した溶液を混合物に滴下した。溶液を暖めて０
℃にし、その温度に１時間保った後に、ＡｃＯＨをＴＨ
Ｆに溶解した１０％溶液１ｍｌを加えた。その混合物
を、飽和水性ＮａＨＣＯ3 と酢酸エチル／ヘキサン６０
／４０との間で分配させた。有機層を蒸発させて残分を
生じ、これをシリカゲルに通してろ過して精製して
（２' Ｒ、３' Ｓ）−２' 、７−（ビス）トリエチルシ
リル−３' −デスフェニル−３' −（４−フルオロフェ
ニル）タキソール及び少量のその（２' Ｓ、３' Ｒ）異
性体を含有する混合物３１５ｍｇを生じた。
【００４３】前の反応から得られた混合物３１５ｍｇ
（０．２８６ｍモル）をアセトニトリル１８ｍｌ及びピ
リジン０．９３ｍｌに溶解した０℃の溶液に、４８％水
性ＨＦ２．８ｍｌを加えた。混合物を０℃で３時間、次
いで２５℃で１３時間攪拌し、飽和水性重炭酸ナトリウ
ムと酢酸エチルとの間で分配させた。酢酸エチル溶液を
蒸発させて物質２５０ｍｇを生じ、これをフラッシュク
ロマトグラフィーで精製して３' −デスフェニル−３'
−（４−フルオロフェニル）タキソール１６０ｍｇ（６
４％）を生じ、これをメタノール／水から再晶出させ
た。 融点１７１°〜１７３℃；［α］25 Na−４９．０°（ｃ
０．００５、ＣＨＣｌ3）。
【００４４】1 Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ，３００ＭＨ
ｚ）δ８．１３（ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，２Ｈ，ベンゾエ
ートオルト），７．２５（ｍ，２Ｈ，芳香族），７．６
１（ｍ，１Ｈ，芳香族），７．５０（ｍ，４Ｈ，芳香
族），７．４３（ｍ，２Ｈ，芳香族），７．１０（ｍ，
２Ｈ，芳香族），６．９６（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，１
Ｈ，ＮＨ），６．２７（ｓ，１Ｈ，Ｈ１０），６．２５
（ｄｄ，Ｊ＝８．７，８．７Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ１３），
５．７９（ｄｄ，Ｊ＝８．７，２．４Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ
３'），５．６７（ｄ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ２
β），４．４５（ｄｄ，Ｊ＝７．９，１Ｈ，Ｈ５），
４．７６（ｄｄ，Ｊ＝４．８，２．４Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ
２'），４．３９（ｍ，１Ｈ，Ｈ７），４．３１（ｄ，
Ｊ＝８．９Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ２０α），４．２０（ｄ，Ｊ
＝８．９Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ２０β），３．８０（ｄ，Ｊ＝
７．１Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ３），３．５７（ｄ，Ｊ＝４．８
Ｈｚ，１Ｈ，２' ＯＨ），２．５８（ｍ，１Ｈ，Ｈ６
α），２．４３（ｄ，Ｊ＝４．３Ｈｚ，１Ｈ，７Ｏ
Ｈ），２．３８（ｓ，３Ｈ，４Ａｃ），２．３０（ｍ，
２Ｈ，Ｈ１４），２．２４（ｓ，３Ｈ，１０Ａｃ），
１．８５（ｍ，１Ｈ，Ｈ６β），１．８０（ｂｒｓ，３
Ｈ，Ｍｅ１８），１．６９（ｓ，１Ｈ，１０Ｈ），１．
５５（ｓ，３Ｈ，Ｍｅ１９），１．２３（ｓ，３Ｈ，Ｍ
ｅ１７），１．１４（ｓ，３Ｈ，Ｍｅ１６）。
【００４５】例１０ Ｎ−デベンゾイル−Ｎ−（４−クロロベンゾイル）タキ
ソール（化４２）の調製
【化４２】 ７−トリエチルシリルバッカチンＩＩＩ（２００ｍｇ、
０．２８６ｍモル）をＴＨＦ２ｍｌに溶解した−４５℃
の溶液に、ｎＢｕＬｉをヘキサンに溶解した１．６３Ｍ
溶液０．１７４ｍｌを滴下した。−４５℃で０．５時間
した後に、（＋）−シス−１ー（４−クロロベンゾイ
ル）−３−トリエチルシリルオキシ−４−フェニルアゼ
チジン−２−オン（２１５ｍｇ、０．５１５ｍモル）を
ＴＨＦ２ｍｌに溶解した溶液を混合物に滴下した。溶液
を暖めて０℃にし、その温度に２時間保った後に、Ａｃ
ＯＨをＴＨＦに溶解した１０％溶液１ｍｌを加えた。そ
の混合物を、飽和水性ＮａＨＣＯ3 と酢酸エチル／ヘキ
サン６０／４０との間で分配させた。有機層を蒸発させ
て残分を生じ、これをシリカゲルに通してろ過して精製
して粗製（２' Ｒ、３' Ｓ）−２' 、７−（ビス）トリ
エチルシリル−Ｎ−デベンゾイル−Ｎ−（４−クロロベ
ンゾイル）タキソール３２０ｍｇを生じた。
【００４６】この粗製生成物３２０ｍｇ（０．２８６ｍ
モル）をアセトニトリル１８ｍｌ及びピリジン０．９３
ｍｌに溶解した０℃の溶液に、４８％水性ＨＦ２．８ｍ
ｌを加えた。混合物を０℃で３時間、次いで２５℃で１
３時間攪拌し、飽和水性重炭酸ナトリウムと酢酸エチル
との間で分配させた。酢酸エチル溶液を蒸発させて物質
２５２ｍｇを生じ、これをフラッシュクロマトグラフィ
ーで精製してＮ−デベンゾイル−Ｎ−（４−クロロベン
ゾイル）タキソール２１３ｍｇ（８４％）を生じ、これ
をメタノール／水から再晶出させた。 融点１７９°〜１８１℃；［α］25 Na−４９．８°（ｃ
０．０１、ＣＨＣｌ3 ）。
【００４７】1 Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ，３００ＭＨ
ｚ）δ８．１２（ｄ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，２Ｈ，ベンゾエ
ートオルト），７．６４（ｍ，２Ｈ，芳香族），７．６
０（ｍ，１Ｈ，芳香族），７．４９（ｍ，９Ｈ，芳香
族），７．０３（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，１Ｈ，ＮＨ），
６．２６（ｓ，１Ｈ，Ｈ１０），６．２１（ｄｄ，Ｊ＝
８．２，８．２Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ１３），５．７６（ｄ
ｄ，Ｊ＝８．８，２．２Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ３' ），５．６
６（ｄ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ２β），４．９２
（ｄｄ，Ｊ＝９．９，１．１Ｈ，Ｈ５），４．７７（ｄ
ｄ，Ｊ＝５．５，２．２Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ２' ），４．３
８（ｍ，１Ｈ，Ｈ７），４．２９（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈ
ｚ，１Ｈ，Ｈ２０α），４．１８（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈ
ｚ，１Ｈ，Ｈ２０β），３．７８（ｄ，Ｊ＝６．６Ｈ
ｚ，１Ｈ，Ｈ３），３．３５（ｄ，Ｊ＝５．５Ｈｚ，１
Ｈ，２' ＯＨ），２．５５（ｍ，１Ｈ，Ｈ６α），２．
４９（ｄ，Ｊ＝４．２Ｈｚ，１Ｈ，７ＯＨ），２．３６
（ｓ，３Ｈ，４Ａｃ），２．２８（ｍ，２Ｈ，Ｈ１
４），２．２２（ｓ，３Ｈ，１０Ａｃ），１．８５
（ｍ，１Ｈ，Ｈ６β），１．７７（ｂｒ ｓ，３Ｈ，Ｍ
ｅ１８），１．７６（ｓ，１Ｈ，１０Ｈ），１．６７
（ｓ，３Ｈ，Ｍｅ１９），１．２２（ｓ，３Ｈ，Ｍｅ１
７），１．１３（ｓ，３Ｈ，Ｍｅ１６）。
【００４８】例１１ Ｎ−デベンゾイル−Ｎ−（４−ブロモベンゾイル）タキ
ソール（化４３）の調製
【化４３】 ７−トリエチルシリルバッカチンＩＩＩ（２００ｍｇ、
０．２８６ｍモル）をＴＨＦ２ｍｌに溶解した−４５℃
の溶液に、ｎＢｕＬｉをヘキサンに溶解した１．６３Ｍ
溶液０．１７５ｍｌを滴下した。−４５℃で０．５時間
した後に、（＋）−シス−１ー（４−ブロモベンゾイ
ル）−３−トリエチルシリルオキシ−４−フェニルアゼ
チジン−２−オン（２３６ｍｇ、０．５１３ｍモル）を
ＴＨＦ２ｍｌに溶解した溶液を混合物に滴下した。溶液
を暖めて０℃にし、その温度に２時間保った後に、Ａｃ
ＯＨをＴＨＦに溶解した１０％溶液１ｍｌを加えた。そ
の混合物を、飽和水性ＮａＨＣＯ3 と酢酸エチル／ヘキ
サン６０／４０との間で分配させた。有機層を蒸発させ
て残分を生じ、これをシリカゲルに通してろ過して精製
して粗製（２' Ｒ、３' Ｓ）−２' 、７−（ビス）トリ
エチルシリル−Ｎ−デベンゾイル−Ｎ−（４−ブロモベ
ンゾイル）タキソール３２２ｍｇを生じた。
【００４９】この粗製生成物３２２ｍｇをアセトニトリ
ル１２ｍｌ及びピリジン０．６ｍｌに溶解した０℃の溶
液に、４８％水性ＨＦ１．８ｍｌを加えた。混合物を０
℃で３時間、次いで２５℃で１３時間攪拌し、飽和水性
重炭酸ナトリウムと酢酸エチルとの間で分配させた。酢
酸エチル溶液を蒸発させて物質３１２．２ｍｇを生じ、
これをフラッシュクロマトグラフィーで精製してＮ−デ
ベンゾイル−Ｎ−（４−ブロモベンゾイル）タキソール
２５４ｍｇ（９６％）を生じ、これをメタノール／水か
ら再晶出させた。 融点１８２．５°〜１８５℃；［α］25 Na−４７．８°
（ｃ０．００５１、ＣＨＣｌ3 ）。
【００５０】1 Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ，３００ＭＨ
ｚ）δ８．１４（ｄ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，２Ｈ，ベンゾエ
ートオルト），７．７−７．３（ｍ，１２Ｈ，芳香
族），６．９６（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，１Ｈ，ＮＨ），
６．２７（ｓ，１Ｈ，Ｈ１０），６．２２（ｄｄ，Ｊ＝
９．１，９．１Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ１３），５．７７（ｄ
ｄ，Ｊ＝８．８，２．２Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ３' ），５．６
７（ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ２ｂ），４．９４
（ｄｄ，Ｊ＝９．９，１Ｈ，Ｈ５），４．７８（ｄｄ，
Ｊ＝５．０，２．７Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ２' ），４．４０
（ｍ，１Ｈ，Ｈ７），４．３０（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，
１Ｈ，Ｈ２０α），４．１９（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，１
Ｈ，Ｈ２０β），３．７９（ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，１
Ｈ，Ｈ３），３．４８（ｄ，Ｊ＝５．０Ｈｚ，１Ｈ，
２' ＯＨ），２．５４（ｍ，１Ｈ，Ｈ６α），２．４５
（ｄ，Ｊ＝４．５Ｈｚ，１Ｈ，７ＯＨ），２．３７
（ｓ，３Ｈ，４Ａｃ），２．３０（ｍ，２Ｈ，Ｈ１４
α，Ｈ１４β），２．２４（ｓ，３Ｈ，１０Ａｃ），
１．８８（ｍ，１Ｈ，Ｈ６β），１．７８（ｂｒ ｓ，
３Ｈ，Ｍｅ１８），１．６８（ｓ，３Ｈ，Ｍｅ１９），
１．２４（ｓ，３Ｈ，Ｍｅ１７），１．１４（ｓ，３
Ｈ，Ｍｅ１６）。
【００５１】例１２ Ｎ−デベンゾイル−Ｎ−（４−メチルベンゾイル）タキ
ソール（化４４）の調製
【化４４】 ７−トリエチルシリルバッカチンＩＩＩ（２００ｍｇ、
０．２８５ｍモル）をＴＨＦ２ｍｌに溶解した−４５℃
の溶液に、ｎＢｕＬｉをヘキサンに溶解した１．６３Ｍ
溶液０．１７５ｍｌを滴下した。−４５℃で０．５時間
した後に、（＋）−シス−１ー（４−メチルベンゾイ
ル）−３−トリエチルシリルオキシ−４−フェニルアゼ
チジン−２−オン（２０３ｍｇ、０．５１３ｍモル）を
ＴＨＦ２ｍｌに溶解した溶液を混合物に滴下した。溶液
を暖めて０℃にし、その温度に２時間保った後に、Ａｃ
ＯＨをＴＨＦに溶解した１０％溶液１ｍｌを加えた。そ
の混合物を、飽和水性ＮａＨＣＯ3 と酢酸エチル／ヘキ
サン６０／４０との間で分配させた。有機層を蒸発させ
て残分を生じ、これをシリカゲルに通してろ過して精製
して粗製（２' Ｒ、３' Ｓ）−２' 、７−（ビス）トリ
エチルシリル−Ｎ−デベンゾイル−Ｎ−（４−メチルベ
ンゾイル）タキソール３８６ｍｇを生じた。
【００５２】この粗製生成物３８６ｍｇをアセトニトリ
ル６ｍｌ及びピリジン０．３ｍｌに溶解した０℃の溶液
に、４８％水性ＨＦ０．９ｍｌを加えた。混合物を０℃
で３時間、次いで２５℃で１３時間攪拌し、飽和水性重
炭酸ナトリウムと酢酸エチルとの間で分配させた。酢酸
エチル溶液を蒸発させて物質２８３ｍｇを生じ、これを
フラッシュクロマトグラフィーで精製してＮ−デベンゾ
イル−Ｎ−（４−メチルベンゾイル）タキソール２４０
ｍｇ（９７％）を生じ、これをメタノール／水から再晶
出させた。 融点１７５°〜１７６．５℃；［α］25 Na−５０．９°
（ｃ０．００９７５、ＣＨＣｌ3 ）。
【００５３】1 Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ，３００ＭＨ
ｚ）δ８．１３（ｄ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，２Ｈ，ベンゾエ
ートオルト），７．７−７．３（ｍ，１０Ｈ，芳香
族），７．１９（ｄ，Ｊ＝７．７Ｈｚ，２Ｈ，ベンゾエ
ートメタ），６．９４（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，１Ｈ，Ｎ
Ｈ），６．２７（ｓ，１Ｈ，Ｈ１０），６．２２（ｄ
ｄ，Ｊ＝９．３，９．３Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ１３），５．７
７（ｄｄ，Ｊ＝９．３，２．８Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ３' ），
５．６７（ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ２ｂ），４．
９４（ｄｄ，Ｊ＝９．９，１Ｈ，Ｈ５），４．７８（ｄ
ｄ，Ｊ＝４．９，２．８Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ２' ），４．４
２（ｍ，１Ｈ，Ｈ７），４．３０（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈ
ｚ，１Ｈ，Ｈ２０ａ），４．１９（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈ
ｚ，１Ｈ，Ｈ２０ｂ），３．７９（ｄ，Ｊ＝７．２Ｈ
ｚ，１Ｈ，Ｈ３），３．６０（ｄ，Ｊ＝４．９Ｈｚ，１
Ｈ，２' ＯＨ），２．５３（ｍ，１Ｈ，Ｈ６ａ），２．
４６（ｄ，Ｊ＝４．４Ｈｚ，１Ｈ，７ＯＨ），２．３８
（ｓ，３Ｈ，４Ａｃ），２．３７（ｓ，３Ｈ，ＡｒＭ
ｅ），２．３１（ｍ，２Ｈ，Ｈ１４ａ，Ｈ１４ｂ），
２．２３（ｓ，３Ｈ，１０Ａｃ），１．８７（ｍ，１
Ｈ，Ｈ６ｂ），１．７８（ｂｒ ｓ，３Ｈ，Ｍｅ１
８），１．６８（ｓ，３Ｈ，Ｍｅ１９），１．２３
（ｓ，３Ｈ，Ｍｅ１７），１．１４（ｓ，３Ｈ，Ｍｅ１
６）。
【００５４】例１３ Ｎ−デベンゾイル−Ｎ−（４−ｔ−ブチルベンゾイル）
タキソール（化４５）の調製
【化４５】 ７−トリエチルシリルバッカチンＩＩＩ（２００ｍｇ、
０．２８６ｍモル）をＴＨＦ２ｍｌに溶解した−４５℃
の溶液に、ｎＢｕＬｉをヘキサンに溶解した１．６３Ｍ
溶液０．１７４ｍｌを滴下した。−４５℃で０．５時間
した後に、（＋）−シス−１ー（４−ｔ−ブチルベンゾ
イル）−３−トリエチルシリルオキシ−４−フェニルア
ゼチジン−２−オン（２２６ｍｇ、０．５１５ｍモル）
をＴＨＦ２ｍｌに溶解した溶液を混合物に滴下した。溶
液を暖めて０℃にし、その温度に２時間保った後に、Ａ
ｃＯＨをＴＨＦに溶解した１０％溶液１ｍｌを加えた。
その混合物を、飽和水性ＮａＨＣＯ3 と酢酸エチル／ヘ
キサン６０／４０との間で分配させた。有機層を蒸発さ
せて残分を生じ、これをシリカゲルに通してろ過して精
製して粗製（２' Ｒ、３' Ｓ）−２' 、７−（ビス）ト
リエチルシリル−Ｎ−デベンゾイル−Ｎ−（４−ｔ−ブ
チルベンゾイル）タキソール３３０ｍｇを生じた。
【００５５】この粗製生成物３３０ｍｇ（０．２８９ｍ
モル）をアセトニトリル１８ｍｌ及びピリジン０．９３
ｍｌに溶解した０℃の溶液に、４８％水性ＨＦ２．８ｍ
ｌを加えた。混合物を０℃で３時間、次いで２５℃で１
３時間攪拌し、飽和水性重炭酸ナトリウムと酢酸エチル
との間で分配させた。酢酸エチル溶液を蒸発させて物質
２６０ｍｇを生じ、これをフラッシュクロマトグラフィ
ーで精製してＮ−デベンゾイル−Ｎ−（４−ｔ−ブチル
ベンゾイル）タキソール２４０ｍｇ（９２％）を生じ、
これをメタノール／水から再晶出させた。 融点１７１°〜１７３℃；［α］25 Na−４９．１°（ｃ
０．０５、ＣＨＣｌ3 ）。
【００５６】1 Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ，３００ＭＨ
ｚ）δ８．１３（ｄ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，２Ｈ，ベンゾエ
ートオルト），７．７６−７．２５（ｍ，１２Ｈ，芳香
族），６．９８（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，１Ｈ，ＮＨ），
６．２７（ｓ，１Ｈ，Ｈ１０），６．２１（ｄｄ，Ｊ＝
８．８，８．８Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ１３），５．７７（ｄ
ｄ，Ｊ＝８．８，２．７Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ３' ），５．６
７（ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ２β），４．９４
（ｄｄ，Ｊ＝９．３，１．２Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ５），４．
７８（ｄｄ，Ｊ＝４．４，２．７Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ２'
），４．３８（ｍ，１Ｈ，Ｈ７），４．２９（ｄ，Ｊ
＝８．２Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ２０α），４．２０（ｄ，Ｊ＝
８．２Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ２０β），３．７９（ｄ，Ｊ＝
６．６Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ３），３．６５（ｄ，Ｊ＝４．４
Ｈｚ，１Ｈ，２' ＯＨ），２．５７（ｍ，１Ｈ，Ｈ６
α），２．４８（ｄ，Ｊ＝４．１Ｈｚ，１Ｈ，７Ｏ
Ｈ），２．３７（ｓ，３Ｈ，４Ａｃ），２．３１（ｍ，
２Ｈ，Ｈ１４），２．２２（ｓ，３Ｈ，１０Ａｃ），
１．８５（ｍ，１Ｈ，Ｈ６β），１．７９（ｂｒ ｓ，
３Ｈ，Ｍｅ１８），１．６８（ｓ，１Ｈ，１０Ｈ），
１．６８（ｓ，３Ｈ，Ｍｅ１９），１．２９（ｓ，９
Ｈ，Ａｒ tＢｕ），１．２３（ｓ，３Ｈ，Ｍｅ１７），
１．１３（ｓ，３Ｈ，Ｍｅ１６）。
【００５７】例１４ Ｎ−デベンゾイル−Ｎ−（４−メトキシベンゾイル）タ
キソール（化４６）の調製
【化４６】 ７−トリエチルシリルバッカチンＩＩＩ（２００ｍｇ、
０．２８５ｍモル）をＴＨＦ２ｍｌに溶解した−４５℃
の溶液に、ｎＢｕＬｉをヘキサンに溶解した１．６３Ｍ
溶液０．１７５ｍｌを滴下した。−４５℃で０．５時間
した後に、（＋）−シス−１ー（４−メトキシベンゾイ
ル）−３−トリエチルシリルオキシ−４−フェニルアゼ
チジン−２−オン（２１１ｍｇ、０．５１３ｍモル）を
ＴＨＦ２ｍｌに溶解した溶液を混合物に滴下した。溶液
を暖めて０℃にし、その温度に２時間保った後に、Ａｃ
ＯＨをＴＨＦに溶解した１０％溶液１ｍｌを加えた。そ
の混合物を、飽和水性ＮａＨＣＯ3 と酢酸エチル／ヘキ
サン６０／４０との間で分配させた。有機層を蒸発させ
て残分を生じ、これをシリカゲルに通してろ過して精製
して粗製（２' Ｒ、３' Ｓ）−２' 、７−（ビス）トリ
エチルシリル−Ｎ−デベンゾイル−Ｎ−（４−メトキシ
ベンゾイル）タキソール４０６ｍｇを生じた。
【００５８】この粗製生成物４０６ｍｇ（０．１１２ｍ
モル）をアセトニトリル１２ｍｌ及びピリジン０．６ｍ
ｌに溶解した０℃の溶液に、４８％水性ＨＦ１．８ｍｌ
を加えた。混合物を０℃で３時間、次いで２５℃で１３
時間攪拌し、飽和水性重炭酸ナトリウムと酢酸エチルと
の間で分配させた。酢酸エチル溶液を蒸発させて物質３
０８ｍｇを生じ、これをフラッシュクロマトグラフィー
で精製してＮ−デベンゾイル−Ｎ−（４−メトキシベン
ゾイル）タキソール２３６ｍｇ（９４％）を生じ、これ
をメタノール／水から再晶出させた。 融点１７４．５°〜１７６℃；［α］25 Na−４９．５°
（ｃ０．００８４、ＣＨＣｌ3 ）。
【００５９】1 Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ，３００ＭＨ
ｚ）δ８．１３（ｄ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，２Ｈ，ベンゾエ
ートオルト），７．７５−７．３（ｍ，１０Ｈ，芳香
族），６．９０（ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，１Ｈ，ＮＨ），
６．８８（ｄ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，２Ｈ，ベンゾエートメ
タ），６．２７（ｓ，１Ｈ，Ｈ１０），６．２２（ｄ
ｄ，Ｊ＝８．８，８．８Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ１３），５．７
６（ｄｄ，Ｊ＝８．８，２．７Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ３' ），
５．６７（ｄ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ２），４．９
４（ｄｄ，Ｊ＝９．９，２．２Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ５），
４．７８（ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ２' ），４．
４０（ｄｄ，Ｊ＝１１．０，７．１Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ
７），４．３０（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ２０
α），４．１９（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ２０
β），３．８２（ｓ，３Ｈ，ＯＭｅ），３．７９（ｄ，
Ｊ＝７．１Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ３），２．５５（ｍ，１Ｈ，
Ｈ６α），２．３８（ｓ，３Ｈ，４Ａｃ），２．３０
（ｍ，２Ｈ，Ｈ１４α，Ｈ１４β），２．２３（ｓ，３
Ｈ，１０Ａｃ），１．８７（ｍ，１Ｈ，Ｈ６β），１．
７８（ｂｒ ｓ，３Ｈ，Ｍｅ１８），１．６８（ｓ，３
Ｈ，Ｍｅ１９），１．２３（ｓ，３Ｈ，Ｍｅ１７），
１．１４（ｓ，３Ｈ，Ｍｅ１６）。
【００６０】例１５ Ｎ−デベンゾイル−Ｎ−（４−フルオロベンゾイル）−
３' −デスフェニル−３' −（４−フルオロフェニル）
タキソール（化４７）の調製
【化４７】 ７−トリエチルシリルバッカチンＩＩＩ（２００ｍｇ、
０．２８６ｍモル）をＴＨＦ２ｍｌに溶解した−４５℃
の溶液に、ｎＢｕＬｉをヘキサンに溶解した１．６３Ｍ
溶液０．１７４ｍｌを滴下した。−４５℃で０．５時間
した後に、シス−１ー（４−フルオロベンゾイル）−３
−トリエチルシリルオキシ−４−（４−フルオロフェニ
ル）アゼチジン−２−オン（６００ｍｇ、１．４３ｍモ
ル）をＴＨＦ２ｍｌに溶解した溶液を混合物に滴下し
た。溶液を暖めて０℃にし、その温度に１時間保った後
に、ＡｃＯＨをＴＨＦに溶解した１０％溶液１ｍｌを加
えた。その混合物を、飽和水性ＮａＨＣＯ3 と酢酸エチ
ル／ヘキサン６０／４０との間で分配させた。有機層を
蒸発させて残分を生じ、これをシリカゲルに通してろ過
して精製して（２' Ｒ、３' Ｓ）−２' 、７−（ビス）
トリエチルシリル−Ｎ−デベンゾイル−Ｎ−（４−フル
オロベンゾイル）−３' −デスフェニル−３'−（４−
フルオロフェニル）タキソール及び少量の（２' Ｓ、
３' Ｒ）異性体を含有する混合物３１５ｍｇを生じた。
【００６１】前の反応から得られた混合物３１５ｍｇ
（０．２８２ｍモル）をアセトニトリル１８ｍｌ及びピ
リジン０．９３ｍｌに溶解した０℃の溶液に、４８％水
性ＨＦ２．８ｍｌを加えた。混合物を０℃で３時間、次
いで２５℃で１３時間攪拌し、飽和水性重炭酸ナトリウ
ムと酢酸エチルとの間で分配させた。酢酸エチル溶液を
蒸発させて物質２５０ｍｇを生じ、これをフラッシュク
ロマトグラフィーで精製してＮ−デベンゾイル−Ｎ−
（４−フルオロベンゾイル）−３' −デスフェニル−
３' −（４−フルオロフェニル）タキソール１６０ｍｇ
（６３％）を生じ、これをメタノール／水から再晶出さ
せた。 融点１７７°〜１７９℃；［α］25 Na−４８．８°（ｃ
０．００３、ＣＨＣｌ3）。
【００６２】1 Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ，３００ＭＨ
ｚ）δ８．１１（ｄ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，２Ｈ，ベンゾエ
ートオルト），７．７６（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，２Ｈ，
ベンズアミドオルト），７．７３（ｍ，２Ｈ，芳香
族），７．６１（ｍ，１Ｈ，芳香族），７．４８（ｍ，
６Ｈ，芳香族），７．０６（ｍ，２Ｈ，芳香族），７．
０２（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，１Ｈ，ＮＨ），６．２６
（ｓ，１Ｈ，Ｈ１０），６．２２（ｄｄ，Ｊ＝８．８，
８．８Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ１３），５．７４（ｄｄ，Ｊ＝
８．８，２．２Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ３' ），５．６６（ｄ，
Ｊ＝７．１Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ２β），４．９３（ｄｄ，Ｊ
＝９．３，１．１Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ５），４．７４（ｄ
ｄ，Ｊ＝５．０，２．２Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ２' ），４．３
６（ｍ，１Ｈ，Ｈ７），４．２９（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈ
ｚ，１Ｈ，Ｈ２０α），４．１８（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈ
ｚ，１Ｈ，Ｈ２０β），３．７７（ｄ，Ｊ＝７．１Ｈ
ｚ，１Ｈ，Ｈ３），３．７０（ｄ，Ｊ＝５．０Ｈｚ，１
Ｈ，２' ＯＨ），２．７７（ｍ，１Ｈ，Ｈ６α），２．
５２（ｄ，Ｊ＝４．４Ｈｚ，１Ｈ，７ＯＨ），２．３６
（ｓ，３Ｈ，４Ａｃ），２．３０（ｍ，２Ｈ，Ｈ１
４），２．２２（ｓ，３Ｈ，１０Ａｃ），１．８６
（ｍ，１Ｈ，Ｈ６β），１．７８（ｂｒ ｓ，３Ｈ，Ｍ
ｅ１８），１．７７（ｓ，１Ｈ，１０Ｈ），１．６７
（ｓ，３Ｈ，Ｍｅ１９），１．２１（ｓ，３Ｈ，Ｍｅ１
７），１．１３（ｓ，３Ｈ，Ｍｅ１６）。
【００６３】例１６ Ｎ−デベンゾイル−Ｎ−（４−フルオロベンゾイル）タ
キソール（化４８）の調製
【化４８】 ７−トリエチルシリルバッカチンＩＩＩ（２００ｍｇ、
０．２８６ｍモル）をＴＨＦ２ｍｌに溶解した−４５℃
の溶液に、ｎＢｕＬｉをヘキサンに溶解した１．６３Ｍ
溶液０．１７４ｍｌを滴下した。−４５℃で０．５時間
した後に、（＋）−シス−１ー（４−フルオロベンゾイ
ル）−３−トリエチルシリルオキシ−４−フェニルアゼ
チジン−２−オン（２２５ｍｇ、０．５１５ｍモル）を
ＴＨＦ２ｍｌに溶解した溶液を混合物に滴下した。溶液
を暖めて０℃にし、その温度に２時間保った後に、Ａｃ
ＯＨをＴＨＦに溶解した１０％溶液１ｍｌを加えた。そ
の混合物を、飽和水性ＮａＨＣＯ3 と酢酸エチル／ヘキ
サン６０／４０との間で分配させた。有機層を蒸発させ
て残分を生じ、これをシリカゲルに通してろ過して精製
して粗製（２' Ｒ、３' Ｓ）−２' 、７−（ビス）トリ
エチルシリル−Ｎ−デベンゾイル−Ｎ−（４−フルオロ
ゾイル）タキソール３２５ｍｇを生じた。
【００６４】この粗製生成物３２５ｍｇ（０．２８６ｍ
モル）をアセトニトリル１８ｍｌ及びピリジン０．９３
ｍｌに溶解した０℃の溶液に、４８％水性ＨＦ２．８ｍ
ｌを加えた。混合物を０℃で３時間、次いで２５℃で１
３時間攪拌し、飽和水性重炭酸ナトリウムと酢酸エチル
との間で分配させた。酢酸エチル溶液を蒸発させて物質
２６０ｍｇを生じ、これをフラッシュクロマトグラフィ
ーで精製してＮ−デベンゾイル−Ｎ−（４−フルオロベ
ンゾイル）タキソール２４０ｍｇ（９２％）を生じ、こ
れをメタノール／水から再晶出させた。 融点１７５°〜１７７℃；［α］25 Na−５１．２°（ｃ
０．０１、ＣＨＣｌ3 ）。
【００６５】1 Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ，３００ＭＨ
ｚ）δ８．１３（ｄ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，２Ｈ，ベンゾエ
ートオルト），７．７４（ｍ，２Ｈ，芳香族），７．６
２（ｍ，２Ｈ，芳香族），７．４６（ｍ，６Ｈ，芳香
族），７．０６（ｍ，２Ｈ，芳香族），６．９５（ｄ，
Ｊ＝８．８Ｈｚ，１Ｈ，ＮＨ），６．２８（ｓ，１Ｈ，
Ｈ１０），６．２２（ｄｄ，Ｊ＝８．２，８．２Ｈｚ，
１Ｈ，Ｈ１３），５．７６（ｄｄ，Ｊ＝８．８，２．８
Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ３' ），５．６７（ｄ，Ｊ＝７．１Ｈ
ｚ，１Ｈ，Ｈ２β），４．９３（ｄｄ，Ｊ＝９．９，
２．２Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ５），４．７８（ｄｄ，Ｊ＝５．
５，２．８Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ２' ），４．３９（ｍ，１
Ｈ，Ｈ７），４．３０（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ
２０α），４．２２（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ２
０β），３．７９（ｄ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ
３），３．５４（ｄ，Ｊ＝５．５Ｈｚ，１Ｈ，２' Ｏ
Ｈ），２．５４（ｍ，１Ｈ，Ｈ６α），２．４６（ｄ，
Ｊ＝４．４Ｈｚ，１Ｈ，７ＯＨ），２．３７（ｓ，３
Ｈ，４Ａｃ），２．３０（ｍ，２Ｈ，Ｈ１４），２．２
６（ｓ，３Ｈ，１０Ａｃ），１．８７（ｍ，１Ｈ，Ｈ６
β），１．７９（ｂｒ ｓ，３Ｈ，Ｍｅ１８），１．７
９（ｓ，１Ｈ，１０Ｈ），１．６７（ｓ，３Ｈ，Ｍｅ１
９），１．２４（ｓ，３Ｈ，Ｍｅ１７），１．１２
（ｓ，３Ｈ，Ｍｅ１６）。
【００６６】例１７ Ｎ−デベンゾイル−Ｎ−（４−メチルベンゾイル）−
３' −デスフェニル−３' −（４−クロロフェニル）タ
キソール（化４９）の調製
【化４９】 ７−トリエチルシリルバッカチンＩＩＩ（２００ｍｇ、
０．２８５ｍモル）をＴＨＦ２ｍｌに溶解した−４５℃
の溶液に、ｎＢｕＬｉをヘキサンに溶解した１．６３Ｍ
溶液０．１７４ｍｌを滴下した。−４５℃で０．５時間
した後に、シス−１ー（４−メチルベンゾイル）−３−
トリエチルシリルオキシ−４−（４−クロロフェニル）
アゼチジン−２−オン（７１８ｍｇ、１．４３ｍモル）
をＴＨＦ２ｍｌに溶解した溶液を混合物に滴下した。溶
液を暖めて０℃にし、その温度に１時間保った後に、Ａ
ｃＯＨをＴＨＦに溶解した１０％溶液１ｍｌを加えた。
その混合物を、飽和水性ＮａＨＣＯ3 と酢酸エチル／ヘ
キサン６０／４０との間で分配させた。有機層を蒸発さ
せて残分を生じ、これをシリカゲルに通してろ過して精
製して（２' Ｒ、３' Ｓ）−２' 、７−（ビス）トリエ
チルシリル−Ｎ−デベンゾイル−Ｎ−（４−メチルベン
ゾイル）−３' −デスフェニル−３' −（４−クロロフ
ェニル）タキソール及び少量の（２' Ｓ、３' Ｒ）異性
体を含有する混合物３２９ｍｇを生じた。
【００６７】前の反応から得られた混合物３２９ｍｇを
アセトニトリル１２ｍｌ及びピリジン０．６ｍｌに溶解
した０℃の溶液に、４８％水性ＨＦ１．８ｍｌを加え
た。混合物を０℃で３時間、次いで２５℃で１３時間攪
拌し、飽和水性重炭酸ナトリウムと酢酸エチルとの間で
分配させた。酢酸エチル溶液を蒸発させて物質３７６ｍ
ｇを生じ、これをフラッシュクロマトグラフィーで精製
してＮ−デベンゾイル−Ｎ−（４−メチルベンゾイル）
−３' −デスフェニル−３' −（４−クロロフェニル）
タキソール１７５ｍｇ（６８％）を生じ、これをメタノ
ール／水から再晶出させた。 融点１６７．５°〜１７１℃；［α］25 Na−５３．７°
（ｃ０．０１１０５、ＣＨＣｌ3 ）。
【００６８】1 Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ，３００ＭＨ
ｚ）δ８．１２（ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，２Ｈ，ベンゾエ
ートオルト），７．６５−７．３（ｍ，９Ｈ，芳香
族），７．１９（ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，２Ｈ，ベンズエ
ートメタ），６．９７（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，１Ｈ，Ｎ
Ｈ），６．２７（ｓ，１Ｈ，Ｈ１０），６．２２（ｄ
ｄ，Ｊ＝９．９，９．９Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ１３），５．７
６（ｄｄ，Ｊ＝８．８，２．２Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ３' ），
５．６７（ｄ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ２β），４．
９４（ｄｄ，Ｊ＝９．９，２．２Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ５），
４．７６（ｄｄ，Ｊ＝４．４，２．２Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ
２' ），４．３９（ｍ，１Ｈ，Ｈ７），４．３０（ｄ，
Ｊ＝８．８Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ２０α），４．１９（ｄ，Ｊ
＝８．８Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ２０β），３．７９（ｄ，Ｊ＝
７．１Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ３），３．７５（ｄ，Ｊ＝４．４
Ｈｚ，１Ｈ，２' ＯＨ），２．５４（ｍ，１Ｈ，Ｈ６
α），２．４９（ｄ，Ｊ＝４．４Ｈｚ，１Ｈ，７Ｏ
Ｈ），２．３８（ｓ，３Ｈ，４Ａｃ），２．３８（ｓ，
３Ｈ，ＡｒＭｅ），２．３１（ｍ，２Ｈ，Ｈ１４α，Ｈ
１４β），２．２３（ｓ，３Ｈ，１０Ａｃ），１．８７
（ｍ，１Ｈ，Ｈ６α），１．８０（ｂｒｓ，３Ｈ，Ｍｅ
１８），１．６８（ｓ，３Ｈ，Ｍｅ１９），１．２２
（ｓ，３Ｈ，Ｍｅ１７），１．１３（ｓ，３Ｈ，Ｍｅ１
６）。
【００６９】例１８ Ｎ−デベンゾイル−Ｎ−（４−クロロベンゾイル）−
３' −デスフェニル−３' −（４−フルオロフェニル）
タキソール（化５０）の調製
【化５０】 ７−トリエチルシリルバッカチンＩＩＩ（２００ｍｇ、
０．２８６ｍモル）をＴＨＦ２ｍｌに溶解した−４５℃
の溶液に、ｎＢｕＬｉをヘキサンに溶解した１．６３Ｍ
溶液０．１７４ｍｌを滴下した。−４５℃で０．５時間
した後に、シス−１ー（４−クロロベンゾイル）−３−
トリエチルシリルオキシ−４−（４−フルオロフェニ
ル）アゼチジン−２−オン（６３０ｍｇ、１．４３ｍモ
ル）をＴＨＦ２ｍｌに溶解した溶液を混合物に滴下し
た。溶液を暖めて０℃にし、その温度に１時間保った後
に、ＡｃＯＨをＴＨＦに溶解した１０％溶液１ｍｌを加
えた。その混合物を、飽和水性ＮａＨＣＯ3 と酢酸エチ
ル／ヘキサン６０／４０との間で分配させた。有機層を
蒸発させて残分を生じ、これをシリカゲルに通してろ過
して精製して（２' Ｒ、３' Ｓ）−２' 、７−（ビス）
トリエチルシリル−Ｎ−デベンゾイル−Ｎ−（４−クロ
ロベンゾイル）−３' −デスフェニル−３' −（４−フ
ルオロフェニル）タキソール及び少量の（２' Ｓ、３'
Ｒ）異性体を含有する混合物３３０ｍｇを生じた。
【００７０】前の反応から得られた混合物３３０ｍｇ
（０．２８３ｍモル）をアセトニトリル１８ｍｌ及びピ
リジン０．９３ｍｌに溶解した０℃の溶液に、４８％水
性ＨＦ２．８ｍｌを加えた。混合物を０℃で３時間、次
いで２５℃で１３時間攪拌し、飽和水性重炭酸ナトリウ
ムと酢酸エチルとの間で分配させた。酢酸エチル溶液を
蒸発させて物質２５０ｍｇを生じ、これをフラッシュク
ロマトグラフィーで精製してＮ−デベンゾイル−Ｎ−
（４−クロロベンゾイル）−３' −デスフェニル−３'
−（４−フルオロフェニル）タキソール１６６ｍｇ（６
５％）を生じ、これをメタノール／水から再晶出させ
た。 融点１７８°〜１７９℃；［α］25 Na−５１．９°（ｃ
０．０１、ＣＨＣｌ3 ）。
【００７１】1 Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ，３００ＭＨ
ｚ）δ８．１３（ｄ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，２Ｈ，ベンゾエ
ートオルト），７．６４（ｍ，３Ｈ，芳香族），７．４
９（ｍ，４Ｈ，芳香族），７．３６（ｍ，２Ｈ，芳香
族），７．１０（ｍ，２Ｈ，芳香族），６．９７（ｄ，
Ｊ＝８．８Ｈｚ，１Ｈ，ＮＨ），６．２７（ｓ，１Ｈ，
Ｈ１０），６．２１（ｄｄ，Ｊ＝８．８，８．８Ｈｚ，
１Ｈ，Ｈ１３），５．７６（ｄｄ，Ｊ＝８．８，２．２
Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ３' ），５．６７（ｄ，Ｊ＝７．２Ｈ
ｚ，１Ｈ，Ｈ２β），４．９４（ｄｄ，Ｊ＝９．３，
２．２Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ５），４．７５（ｄｄ，Ｊ＝４．
４，２．２Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ２' ），４．３９（ｄｄｄ，
Ｊ＝１１．０，６．６，３．９Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ７），
４．３０（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ２０α），
４．１９（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ２０β），
３．７９（ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ３），３．６
０（ｄ，Ｊ＝４．４Ｈｚ，１Ｈ，２' ＯＨ），２．５４
（ｍ，１Ｈ，Ｈ６α），２．４７（ｄ，Ｊ＝３．９Ｈ
ｚ，１Ｈ，７ＯＨ），２．３８（ｓ，３Ｈ，４Ａｃ），
２．３０（ｍ，２Ｈ，Ｈ１４），２．２８（ｓ，３Ｈ，
１０Ａｃ），１．８７（ｍ，１Ｈ，Ｈ６β），１．７８
（ｂｒ ｓ，３Ｈ，Ｍｅ１８），１．７８（ｓ，１Ｈ，
１０Ｈ），１．６８（ｓ，３Ｈ，Ｍｅ１９），１．２３
（ｓ，３Ｈ，Ｍｅ１７），１．１４（ｓ，３Ｈ，Ｍｅ１
６）。
【００７２】例１９ Ｎ−デベンゾイル−Ｎ−（４−ブロモベンゾイル）−
３' −デスフェニル−３' −（４−フルオロフェニル）
タキソール（化５１）の調製
【化５１】 ７−トリエチルシリルバッカチンＩＩＩ（２００ｍｇ、
０．２８５ｍモル）をＴＨＦ２ｍｌに溶解した−４５℃
の溶液に、ｎＢｕＬｉをヘキサンに溶解した１．６３Ｍ
溶液０．１７４ｍｌを滴下した。−４５℃で０．５時間
した後に、シス−１ー（４−ブロモベンゾイル）−３−
トリエチルシリルオキシ−４−（４−フルオロフェニ
ル）アゼチジン−２−オン（６８４ｍｇ、１．４３ｍモ
ル）をＴＨＦ２ｍｌに溶解した溶液を混合物に滴下し
た。溶液を暖めて０℃にし、その温度に１時間保った後
に、ＡｃＯＨをＴＨＦに溶解した１０％溶液１ｍｌを加
えた。その混合物を、飽和水性ＮａＨＣＯ3 と酢酸エチ
ル／ヘキサン６０／４０との間で分配させた。有機層を
蒸発させて残分を生じ、これをシリカゲルに通してろ過
して精製して（２' Ｒ、３' Ｓ）−２' 、７−（ビス）
トリエチルシリル−Ｎ−デベンゾイル−Ｎ−（４−ブロ
モベンゾイル）−３' −デスフェニル−３' −（４−フ
ルオロフェニル）タキソール及び少量の（２' Ｓ、３'
Ｒ）異性体を含有する混合物４３３ｍｇを生じた。
【００７３】前の反応から得られた混合物４３３ｍｇを
アセトニトリル１２ｍｌ及びピリジン０．６ｍｌに溶解
した０℃の溶液に、４８％水性ＨＦ１．８ｍｌを加え
た。混合物を０℃で３時間、次いで２５℃で１３時間攪
拌し、飽和水性重炭酸ナトリウムと酢酸エチルとの間で
分配させた。酢酸エチル溶液を蒸発させて物質３１７ｍ
ｇを生じ、これをフラッシュクロマトグラフィーで精製
してＮ−デベンゾイル−Ｎ−（４−ブロモベンゾイル）
−３' −デスフェニル−３' −（４−フルオロフェニ
ル）タキソール１８７ｍｇ（６９％）を生じ、これをメ
タノール／水から再晶出させた。 融点１７４．５°〜１７５．５℃；［α］25 Na−４６．
９°（ｃ０．００７３５、ＣＨＣｌ3 ）。
【００７４】1 Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ，３００ＭＨ
ｚ）δ８．１３（ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ，ベンゾエ
ートオルト），７．７−７．４（ｍ，９Ｈ，芳香族），
７．１０（ｄｄ，Ｊ＝８．３，８．３Ｈｚ，２Ｈ，芳香
族），６．９７（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，１Ｈ，ＮＨ），
６．２７（ｓ，１Ｈ，Ｈ１０），６．２３（ｄｄ，Ｊ＝
８．８，８．８Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ１３），５．７６（ｄ
ｄ，Ｊ＝８．８，２．２Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ３' ），５．６
７（ｄ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ２β），４．９４
（ｄｄ，Ｊ＝９．９，２．２Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ５），４．
７５（ｄｄ，Ｊ＝４．４，２．２Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ２'
），４．３９（ｍ，１Ｈ，Ｈ７），４．３１（ｄ，Ｊ
＝８．５Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ２０α），４．１９（ｄ，Ｊ＝
８．５Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ２０β），３．７９（ｄ，Ｊ＝
７．１Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ３），３．５９（ｄ，Ｊ＝４．４
Ｈｚ，１Ｈ，２' ＯＨ），２．５４（ｍ，１Ｈ，Ｈ６
α），２．４７（ｄ，Ｊ＝４．４Ｈｚ，１Ｈ，７Ｏ
Ｈ），２．３６（ｓ，３Ｈ，４Ａｃ），２．３０（ｍ，
２Ｈ，Ｈ１４α，Ｈ１４β），２．２４（ｓ，３Ｈ，１
０Ａｃ），１．８８（ｍ，１Ｈ，Ｈ６α），１．７８
（ｂｒ ｓ，３Ｈ，Ｍｅ１８），１．７４（ｓ，１Ｈ，
１０Ｈ），１．６８（ｓ，３Ｈ，Ｍｅ１９），１．２３
（ｓ，３Ｈ，Ｍｅ１７），１．１４（ｓ，３Ｈ，Ｍｅ１
６）。
【００７５】例２０ Ｎ−デベンゾイル−Ｎ−（４−メチルベンゾイル）−
３' −デスフェニル−３' −（４−フルオロフェニル）
タキソール（化５２）の調製
【化５２】 ７−トリエチルシリルバッカチンＩＩＩ（２００ｍｇ、
０．２８６ｍモル）をＴＨＦ２ｍｌに溶解した−４５℃
の溶液に、ｎＢｕＬｉをヘキサンに溶解した１．６３Ｍ
溶液０．１７４ｍｌを滴下した。−４５℃で０．５時間
した後に、シス−１ー（４−メチルベンゾイル）−３−
トリエチルシリルオキシ−４−（４−フルオロフェニ
ル）アゼチジン−２−オン（５９２ｍｇ、１．４３ｍモ
ル）をＴＨＦ２ｍｌに溶解した溶液を混合物に滴下し
た。溶液を暖めて０℃にし、その温度に１時間保った後
に、ＡｃＯＨをＴＨＦに溶解した１０％溶液１ｍｌを加
えた。その混合物を、飽和水性ＮａＨＣＯ3 と酢酸エチ
ル／ヘキサン６０／４０との間で分配させた。有機層を
蒸発させて残分を生じ、これをシリカゲルに通してろ過
して精製して（２' Ｒ、３' Ｓ）−２' 、７−（ビス）
トリエチルシリル−Ｎ−デベンゾイル−Ｎ−（４−メチ
ルベンゾイル）−３' −デスフェニル−３' −（４−フ
ルオロフェニル）タキソール及び少量の（２' Ｓ、３'
Ｒ）異性体を含有する混合物３３５ｍｇを生じた。
【００７６】前の反応から得られた混合物３３５ｍｇ
（０．３０ｍモル）をアセトニトリル１８ｍｌ及びピリ
ジン０．９３ｍｌに溶解した０℃の溶液に、４８％水性
ＨＦ２．８ｍｌを加えた。混合物を０℃で３時間、次い
で２５℃で１３時間攪拌し、飽和水性重炭酸ナトリウム
と酢酸エチルとの間で分配させた。酢酸エチル溶液を蒸
発させて物質２８０ｍｇを生じ、これをフラッシュクロ
マトグラフィーで精製してＮ−デベンゾイル−Ｎ−（４
−メチルベンゾイル）−３' −デスフェニル−３' −
（４−フルオロフェニル）タキソール１６３ｍｇ（６４
％）を生じ、これをメタノール／水から再晶出させた。 融点１７２°〜１７３℃；［α］25 Na−５２．０°（ｃ
０．０１、ＣＨＣｌ3 ）。
【００７７】1 Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ，３００ＭＨ
ｚ）δ８．１３（ｄ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，２Ｈ，ベンゾエ
ートオルト），７．６１（ｍ，３Ｈ，芳香族），７．４
８（ｍ，４Ｈ，芳香族），７．１８（ｍ，２Ｈ，芳香
族），７．１０（ｍ，２Ｈ，芳香族），６．９５（ｄ，
Ｊ＝８．８Ｈｚ，１Ｈ，ＮＨ），６．２７（ｓ，１Ｈ，
Ｈ１０），６．２１（ｄｄ，Ｊ＝８．８，８．８Ｈｚ，
１Ｈ，Ｈ１３），５．７７（ｄｄ，Ｊ＝８．８，２．２
Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ３' ），５．６７（ｄ，Ｊ＝７．２Ｈ
ｚ，１Ｈ，Ｈ２β），４．９４（ｄｄ，Ｊ＝９．３，
１．７Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ５），４．７５（ｄｄ，Ｊ＝４．
４，２．２Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ２' ），４．３９（ｄｄｄ，
Ｊ＝１１．０，６．６，４．４Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ７），
４．３０（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ２０α），
４．１９（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ２０β），
３．７９（ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ３），３．６
７（ｄ，Ｊ＝４．４Ｈｚ，１Ｈ，２' ＯＨ），２．５４
（ｄｄｄ，Ｊ＝９．３，１４．８，６．６Ｈｚ，１Ｈ，
Ｈ６α），２．４６（ｄ，Ｊ＝４．４Ｈｚ，１Ｈ，７Ｏ
Ｈ），２．３７（ｓ，３Ｈ，４Ａｃ），２．３６（ｓ，
３Ｈ，ＡｒＭｅ），２．３０（ｍ，２Ｈ，Ｈ１４），
２．２３（ｓ，３Ｈ，１０Ａｃ），１．８７（ｄｄｄ，
Ｊ＝１１．０，１４．８，１．７Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ６
β），１．７９（ｂｒ ｓ，３Ｈ，Ｍｅ１８），１．７
９（ｓ，１Ｈ，１０Ｈ），１．６８（ｓ，３Ｈ，Ｍｅ１
９），１．２２（ｓ，３Ｈ，Ｍｅ１７），１．１４
（ｓ，３Ｈ，Ｍｅ１６）。
【００７８】例２１ Ｎ−デベンゾイル−Ｎ−（４−フルオロベンゾイル）−
３' −デスフェニル−３' −（４−メトキシフェニル）
タキソール（化５３）の調製
【化５３】 ７−トリエチルシリルバッカチンＩＩＩ（２００ｍｇ、
０．２８６ｍモル）をＴＨＦ２ｍｌに溶解した−４５℃
の溶液に、ｎＢｕＬｉをヘキサンに溶解した１．６３Ｍ
溶液０．１７４ｍｌを滴下した。−４５℃で０．５時間
した後に、シス−１ー（４−フルオロベンゾイル）−３
−トリエチルシリルオキシ−４−（４−メトキシフェニ
ル）アゼチジン−２−オン（６１０ｍｇ、１．４３ｍモ
ル）をＴＨＦ２ｍｌに溶解した溶液を混合物に滴下し
た。溶液を暖めて０℃にし、その温度に１時間保った後
に、ＡｃＯＨをＴＨＦに溶解した１０％溶液１ｍｌを加
えた。その混合物を、飽和水性ＮａＨＣＯ3 と酢酸エチ
ル／ヘキサン６０／４０との間で分配させた。有機層を
蒸発させて残分を生じ、これをシリカゲルに通してろ過
して精製して（２' Ｒ、３' Ｓ）−２' 、７−（ビス）
トリエチルシリル−Ｎ−デベンゾイル−Ｎ−（４−フル
オロベンゾイル）−３' −デスフェニル−３'−（４−
メトキシフェニル）タキソール及び少量の（２' Ｓ、
３' Ｒ）異性体を含有する混合物３３０ｍｇを生じた。
【００７９】前の反応から得られた混合物３３０ｍｇ
（０．２９２ｍモル）をアセトニトリル１８ｍｌ及びピ
リジン０．９３ｍｌに溶解した０℃の溶液に、４８％水
性ＨＦ２．８ｍｌを加えた。混合物を０℃で３時間、次
いで２５℃で１３時間攪拌し、飽和水性重炭酸ナトリウ
ムと酢酸エチルとの間で分配させた。酢酸エチル溶液を
蒸発させて物質２６０ｍｇを生じ、これをフラッシュク
ロマトグラフィーで精製してＮ−デベンゾイル−Ｎ−
（４−フルオロベンゾイル）−３' −デスフェニル−
３' −（４−メトキシフェニル）タキソール１５５ｍｇ
（６０％）を生じ、これをメタノール／水から再晶出さ
せた。 融点１６９°〜１７０℃；［α］25 Na−５０．９°（ｃ
０．０１、ＣＨＣｌ3 ）。
【００８０】1 Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ，３００ＭＨ
ｚ）δ８．１４（ｄ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，２Ｈ，ベンゾエ
ートオルト），７．５７（ｍ，７Ｈ，芳香族），７．０
６（ｍ，２Ｈ，芳香族），６．９４（ｍ，２Ｈ，芳香
族），６．８５（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，１Ｈ，ＮＨ），
６．２７（ｓ，１Ｈ，Ｈ１０），６．２０（ｄｄ，Ｊ＝
８．８，８．８Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ１３），５．７２（ｄ
ｄ，Ｊ＝８．８，２．８Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ３' ），５．６
７（ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ２β），４．９４
（ｄｄ，Ｊ＝９．３，２．１Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ５），４．
７４（ｄｄ，Ｊ＝４．９，２．８Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ２'
），４．４０（ｄｄｄ，Ｊ＝１１．０，６．６，３．
９Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ７），４．３１（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈ
ｚ，１Ｈ，Ｈ２０α），４．１９（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈ
ｚ，１Ｈ，Ｈ２０β），３．８０（ｄ，Ｊ＝７．２Ｈ
ｚ，１Ｈ，Ｈ３），３．７９（ｓ，３Ｈ，ＡｒＯＭ
ｅ），３．５１（ｄ，Ｊ＝４．９Ｈｚ，１Ｈ，２' Ｏ
Ｈ），２．５４（ｍ，１Ｈ，Ｈ６α），２．５０（ｄ，
Ｊ＝３．９Ｈｚ，１Ｈ，７ＯＨ），２．３７（ｓ，３
Ｈ，４Ａｃ），２．３１（ｍ，２Ｈ，Ｈ１４），２．２
４（ｓ，３Ｈ，１０Ａｃ），１．８７（ｍ，１Ｈ，Ｈ６
β），１．７９（ｂｒ ｓ，３Ｈ，Ｍｅ１８），１．７
９（ｓ，１Ｈ，１０Ｈ），１．６８（ｓ，３Ｈ，Ｍｅ１
９），１．２４（ｓ，３Ｈ，Ｍｅ１７），１．１４
（ｓ，３Ｈ，Ｍｅ１６）。
【００８１】例２２ Ｎ−デベンゾイル−Ｎ−（４−メチルベンゾゾイル）−
３' −デスフェニル−３' −（４−メトキシフェニル）
タキソール（化５４）の調製
【化５４】 ７−トリエチルシリルバッカチンＩＩＩ（２００ｍｇ、
０．２８６ｍモル）をＴＨＦ２ｍｌに溶解した−４５℃
の溶液に、ｎＢｕＬｉをヘキサンに溶解した１．６３Ｍ
溶液０．１７４ｍｌを滴下した。−４５℃で０．５時間
した後に、シス−１ー（４−メチルベンゾイル）−３−
トリエチルシリルオキシ−４−（４−メトキシフェニ
ル）アゼチジン−２−オン（６１０ｍｇ、１．４３ｍモ
ル）をＴＨＦ２ｍｌに溶解した溶液を混合物に滴下し
た。溶液を暖めて０℃にし、その温度に１時間保った後
に、ＡｃＯＨをＴＨＦに溶解した１０％溶液１ｍｌを加
えた。その混合物を、飽和水性ＮａＨＣＯ3 と酢酸エチ
ル／ヘキサン６０／４０との間で分配させた。有機層を
蒸発させて残分を生じ、これをシリカゲルに通してろ過
して精製して（２' Ｒ、３' Ｓ）−２' 、７−（ビス）
トリエチルシリル−Ｎ−デベンゾイル−Ｎ−（４−メチ
ルベンゾイル）−３' −デスフェニル−３' −（４−メ
トキシフェニル）タキソール及び少量の（２' Ｓ、３'
Ｒ）異性体を含有する混合物３２５ｍｇを生じた。
【００８２】前の反応から得られた混合物３２５ｍｇ
（０．２８９ｍモル）をアセトニトリル１８ｍｌ及びピ
リジン０．９３ｍｌに溶解した０℃の溶液に、４８％水
性ＨＦ２．８ｍｌを加えた。混合物を０℃で３時間、次
いで２５℃で１３時間攪拌し、飽和水性重炭酸ナトリウ
ムと酢酸エチルとの間で分配させた。酢酸エチル溶液を
蒸発させて物質２６５ｍｇを生じ、これをフラッシュク
ロマトグラフィーで精製してＮ−デベンゾイル−Ｎ−
（４−メチルベンゾイル）−３' −デスフェニル−３'
−（４−メトキシフェニル）タキソール１６５ｍｇ（６
４％）を生じ、これをメタノール／水から再晶出させ
た。 融点１７３°〜１７４℃；［α］25 Na−５０．２°（ｃ
０．０１、ＣＨＣｌ3 ）。
【００８３】1 Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ，３００ＭＨ
ｚ）δ８．１３（ｄ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，２Ｈ，ベンゾエ
ートオルト），７．６１（ｍ，３Ｈ，芳香族），７．５
１（ｍ，２Ｈ，芳香族），７．４０（ｍ，２Ｈ，芳香
族），７．１９（ｍ，２Ｈ，芳香族），６．９３（ｍ，
２Ｈ，芳香族），６．８６（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，１
Ｈ，ＮＨ），６．２７（ｓ，１Ｈ，Ｈ１０），６．２１
（ｄｄ，Ｊ＝８．８，８．８Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ１３），
５．７０（ｄｄ，Ｊ＝８．８，２．８Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ
３'），５．６６（ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ２
β），４．９４（ｄｄ，Ｊ＝９．９，２．２Ｈｚ，１
Ｈ，Ｈ５），４．７４（ｄｄ，Ｊ＝５．５，２．８Ｈ
ｚ，１Ｈ，Ｈ２' ），４．４０（ｄｄｄ，Ｊ＝１１．
０，６．５，３．８Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ７），４．３０
（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ２０α），４．１９
（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ２０β），３．７９
（ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ３），３．７８（ｓ，
３Ｈ，ＡｒＯＭｅ），３．６３（ｄ，Ｊ＝５．５Ｈｚ，
１Ｈ，２' ＯＨ），２．５４（ｍ，１Ｈ，Ｈ６α），
２．４６（ｄ，Ｊ＝３．８Ｈｚ，１Ｈ，７ＯＨ），２．
３８（ｓ，３Ｈ，ＡｒＭｅ），２．３７（ｓ，３Ｈ，４
Ａｃ），２．３１（ｍ，２Ｈ，Ｈ１４），２．２３
（ｓ，３Ｈ，１０Ａｃ），１．８８（ｍ，１Ｈ，Ｈ６
β），１．８０（ｂｒ ｓ，３Ｈ，Ｍｅ１８），１．８
０（ｓ，１Ｈ，１０Ｈ），１．６８（ｓ，３Ｈ，Ｍｅ１
９），１．２３（ｓ，３Ｈ，Ｍｅ１７），１．１４
（ｓ，３Ｈ，Ｍｅ１６）。
【００８４】例２３ Ｎ−デベンゾイル−Ｎ−（４−フルオロベンゾイル）−
３' −デスフェニル−３' −（４−クロロフェニル）タ
キソール（化５５）の調製
【化５５】 ７−トリエチルシリルバッカチンＩＩＩ（２００ｍｇ、
０．２８６ｍモル）をＴＨＦ２ｍｌに溶解した−４５℃
の溶液に、ｎＢｕＬｉをヘキサンに溶解した１．６３Ｍ
溶液０．１７４ｍｌを滴下した。−４５℃で０．５時間
した後に、シス−１ー（４−フルオロベンゾイル）−３
−トリエチルシリルオキシ−４−（４−クロロフェニ
ル）アゼチジン−２−オン（６２０ｍｇ、１．４３ｍモ
ル）をＴＨＦ２ｍｌに溶解した溶液を混合物に滴下し
た。溶液を暖めて０℃にし、その温度に１時間保った後
に、ＡｃＯＨをＴＨＦに溶解した１０％溶液１ｍｌを加
えた。その混合物を、飽和水性ＮａＨＣＯ3 と酢酸エチ
ル／ヘキサン６０／４０との間で分配させた。有機層を
蒸発させて残分を生じ、これをシリカゲルに通してろ過
して精製して（２' Ｒ、３' Ｓ）−２' 、７−（ビス）
トリエチルシリル−Ｎ−デベンゾイル−Ｎ−（４−フル
オロベンゾイル）−３' −デスフェニル−３' −（４−
クロロフェニル）タキソール及び少量の（２' Ｓ、３'
Ｒ）異性体を含有する混合物３２５ｍｇを生じた。
【００８５】前の反応から得られた混合物３２５ｍｇ
（０．２８６ｍモル）をアセトニトリル１８ｍｌ及びピ
リジン０．９３ｍｌに溶解した０℃の溶液に、４８％水
性ＨＦ２．８ｍｌを加えた。混合物を０℃で３時間、次
いで２５℃で１３時間攪拌し、飽和水性重炭酸ナトリウ
ムと酢酸エチルとの間で分配させた。酢酸エチル溶液を
蒸発させて物質２６０ｍｇを生じ、これをフラッシュク
ロマトグラフィーで精製してＮ−デベンゾイル−Ｎ−
（４−フルオロベンゾイル）−３' −デスフェニル−
３' −（４−クロロフェニル）タキソール１６１ｍｇ
（６２％）を生じ、これをメタノール／水から再晶出さ
せた。 融点１７２°〜１７４℃；［α］25 Na−５６．０°（ｃ
０．０１、ＣＨＣｌ3 ）。
【００８６】1 Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ，３００ＭＨ
ｚ）δ８．１２（ｄ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，２Ｈ，ベンゾエ
ートオルト），７．７３（ｍ，２Ｈ，芳香族），７．６
０（ｍ，１Ｈ，芳香族），７．５０（ｍ，２Ｈ，芳香
族），７．３８（ｍ，４Ｈ，芳香族），７．０６（ｍ，
２Ｈ，芳香族），７．０５（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，１
Ｈ，ＮＨ），６．２７（ｓ，１Ｈ，Ｈ１０），６．２２
（ｄｄ，Ｊ＝７．７，７．７Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ１３），
５．７５（ｄｄ，Ｊ＝８．８，２．８Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ
３'），５．６５（ｄ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ２
β），４．９２（ｄｄ，Ｊ＝９．３，１．６Ｈｚ，１
Ｈ，Ｈ５），４．７５（ｄｄ，Ｊ＝４．９，２．８Ｈ
ｚ，１Ｈ，Ｈ２' ），４．４１（ｍ，１Ｈ，Ｈ７），
４．２９（ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ２０α），
４．１７（ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ２０β），
３．８４（ｄ，Ｊ＝４．４Ｈｚ，１Ｈ，２' ＯＨ），
３．７８（ｄ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ３），２．５
５（ｄ，Ｊ＝４．４Ｈｚ，１Ｈ，７ＯＨ），２．５２
（ｍ，１Ｈ，Ｈ６α），２．３６（ｓ，３Ｈ，４Ａ
ｃ），２．２９（ｍ，２Ｈ，Ｈ１４），２．２１（ｓ，
３Ｈ，１０Ａｃ），１．８６（ｍ，１Ｈ，Ｈ６β），
１．７９（ｂｒ ｓ，３Ｈ，Ｍｅ１８），１．７８
（ｓ，１Ｈ，１０Ｈ），１．６７（ｓ，３Ｈ，Ｍｅ１
９），１．２４（ｓ，３Ｈ，Ｍｅ１７），１．１２
（ｓ，３Ｈ，Ｍｅ１６）。
【００８７】例２４ Ｎ−デベンゾイル−Ｎ−（４−クロロベンゾイル）−
３' −デスフェニル−３' −（４−クロロフェニル）タ
キソール（化５６）の調製
【化５６】 ７−トリエチルシリルバッカチンＩＩＩ（２００ｍｇ、
０．２８６ｍモル）をＴＨＦ２ｍｌに溶解した−４５℃
の溶液に、ｎＢｕＬｉをヘキサンに溶解した１．６３Ｍ
溶液０．１７４ｍｌを滴下した。−４５℃で０．５時間
した後に、シス−１ー（４−クロロベンゾイル）−３−
トリエチルシリルオキシ−４−（４−クロロフェニル）
アゼチジン−２−オン（６４０ｍｇ、１．４３ｍモル）
をＴＨＦ２ｍｌに溶解した溶液を混合物に滴下した。溶
液を暖めて０℃にし、その温度に１時間保った後に、Ａ
ｃＯＨをＴＨＦに溶解した１０％溶液１ｍｌを加えた。
その混合物を、飽和水性ＮａＨＣＯ3 と酢酸エチル／ヘ
キサン６０／４０との間で分配させた。有機層を蒸発さ
せて残分を生じ、これをシリカゲルに通してろ過して精
製して（２' Ｒ、３' Ｓ）−２' 、７−（ビス）トリエ
チルシリル−Ｎ−デベンゾイル−Ｎ−（４−クロロベン
ゾイル）−３' −デスフェニル−３' −（４−クロロフ
ェニル）タキソール及び少量の（２' Ｓ、３' Ｒ）異性
体を含有する混合物３３５ｍｇを生じた。
【００８８】前の反応から得られた混合物３３５ｍｇ
（０．２９１ｍモル）をアセトニトリル１８ｍｌ及びピ
リジン０．９３ｍｌに溶解した０℃の溶液に、４８％水
性ＨＦ２．８ｍｌを加えた。混合物を０℃で３時間、次
いで２５℃で１３時間攪拌し、飽和水性重炭酸ナトリウ
ムと酢酸エチルとの間で分配させた。酢酸エチル溶液を
蒸発させて物質２７０ｍｇを生じ、これをフラッシュク
ロマトグラフィーで精製してＮ−デベンゾイル−Ｎ−
（４−クロロベンゾイル）−３' −デスフェニル−３'
−（４−クロロフェニル）タキソール１５８ｍｇ（６０
％）を生じ、これをメタノール／水から再晶出させた。 融点１８４°〜１８５℃；［α］25 Na−５２．５°（ｃ
０．０１、ＣＨＣｌ3 ）。
【００８９】1 Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ，３００ＭＨ
ｚ）δ８．１３（ｄ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，２Ｈ，ベンゾエ
ートオルト），７．５１（ｍ，１１Ｈ，芳香族），６．
９８（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，１Ｈ，ＮＨ），６．２７
（ｓ，１Ｈ，Ｈ１０），６．２２（ｄｄ，Ｊ＝８．８，
８．８Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ１３），５．７６（ｄｄ，Ｊ＝
８．８，２．２Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ３' ），５．６７（ｄ，
Ｊ＝７．２Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ２β），４．９４（ｄｄ，Ｊ
＝９．９，２．２Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ５），４．７６（ｄ
ｄ，Ｊ＝５．０，２．２Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ２' ），４．３
９（ｄｄｄ，Ｊ＝１０．８，６．５，４．４Ｈｚ，１
Ｈ，Ｈ７），４．３０（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ
２０α），４．１９（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ２
０β），３．７９（ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ
３），３．６８（ｄ，Ｊ＝５．０Ｈｚ，１Ｈ，２'Ｏ
Ｈ），２．５４（ｄｄｄ，Ｊ＝９．９，１４．８，６．
５Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ６α），２．４７（ｄ，Ｊ＝４．４Ｈ
ｚ，１Ｈ，７ＯＨ），２．３７（ｓ，３Ｈ，４Ａｃ），
２．３０（ｍ，２Ｈ，Ｈ１４），２．２３（ｓ，３Ｈ，
１０Ａｃ），１．８７（ｄｄｄ，Ｊ＝１０．８，１４．
８，２．２Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ６β），１．８４（ｂｒ
ｓ，３Ｈ，Ｍｅ１８），１．７９（ｓ，１Ｈ，１０
Ｈ），１．６８（ｓ，３Ｈ，Ｍｅ１９），１．２２
（ｓ，３Ｈ，Ｍｅ１７），１．１４（ｓ，３Ｈ，Ｍｅ１
６）。
【００９０】例２５ Ｎ−デベンゾイル−Ｎ−（４−ブロモベンゾイル）−
３' −デスフェニル−３' −（４−クロロフェニル）タ
キソール（化５７）の調製
【化５７】 ７−トリエチルシリルバッカチンＩＩＩ（２００ｍｇ、
０．２８５ｍモル）をＴＨＦ２ｍｌに溶解した−４５℃
の溶液に、ｎＢｕＬｉをヘキサンに溶解した１．６３Ｍ
溶液０．１７４ｍｌを滴下した。−４５℃で０．５時間
した後に、シス−１ー（４−ブロモベンゾイル）−３−
トリエチルシリルオキシ−４−（４−クロロフェニル）
アゼチジン−２−オン（３５４ｍｇ、０．７１５ｍモ
ル）をＴＨＦ２ｍｌに溶解した溶液を混合物に滴下し
た。溶液を暖めて０℃にし、その温度に１時間保った後
に、ＡｃＯＨをＴＨＦに溶解した１０％溶液１ｍｌを加
えた。その混合物を、飽和水性ＮａＨＣＯ3 と酢酸エチ
ル／ヘキサン６０／４０との間で分配させた。有機層を
蒸発させて残分を生じ、これをシリカゲルに通してろ過
して精製して（２' Ｒ、３' Ｓ）−２' 、７−（ビス）
トリエチルシリル−Ｎ−デベンゾイル−Ｎ−（４−ブロ
モベンゾイル）−３' −デスフェニル−３' −（４−ク
ロロフェニル）タキソール及び少量の（２' Ｓ、３'
Ｒ）異性体を含有する混合物３５５ｍｇを生じた。
【００９１】前の反応から得られた混合物３５５ｍｇを
アセトニトリル１２ｍｌ及びピリジン０．６ｍｌに溶解
した０℃の溶液に、４８％水性ＨＦ１．８ｍｌを加え
た。混合物を０℃で３時間、次いで２５℃で１３時間攪
拌し、飽和水性重炭酸ナトリウムと酢酸エチルとの間で
分配させた。酢酸エチル溶液を蒸発させて物質２８０ｍ
ｇを生じ、これをフラッシュクロマトグラフィーで精製
してＮ−デベンゾイル−Ｎ−（４−ブロモベンゾイル）
−３' −デスフェニル−３' −（４−クロロフェニル）
タキソール１７１ｍｇ（６２％）を生じ、これをメタノ
ール／水から再晶出させた。 融点１８１°〜１８３．５℃；［α］25 Na−５２．８°
（ｃ０．００６４、ＣＨＣｌ3 ）。
【００９２】1 Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ，３００ＭＨ
ｚ）δ８．１２（ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ，ベンゾエ
ートオルト），７．６５−７．３（ｍ，１１Ｈ，芳香
族），７．０３（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，１Ｈ，ＮＨ），
６．２７（ｓ，１Ｈ，Ｈ１０），６．２２（ｄｄ，Ｊ＝
９．３，９．３Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ１３），５．７５（ｄ
ｄ，Ｊ＝８．８，２．２Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ３' ），５．６
６（ｄ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ２β），４．９３
（ｄｄ，Ｊ＝９．９，２．２Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ５），４．
７５（ｄｄ，Ｊ＝５．０，２．２Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ２'
），４．４０（ｍ，１Ｈ，Ｈ７），４．３０（ｄ，Ｊ
＝８．５Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ２０α），４．１８（ｄ，Ｊ＝
８．５Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ２０β），３．７７（ｍ，２Ｈ，
Ｈ３，２' ＯＨ），２．５４（ｍ，１Ｈ，Ｈ６α），
２．５２（ｄ，Ｊ＝４．４Ｈｚ，１Ｈ，７ＯＨ），２．
３６（ｓ，３Ｈ，４Ａｃ），２．２９（ｍ，２Ｈ，Ｈ１
４α，Ｈ１４β），２．２２（ｓ，３Ｈ，１０Ａｃ），
１．８７（ｍ，１Ｈ，Ｈ６α），１．７９（ｂｒ ｓ，
３Ｈ，Ｍｅ１８），１．７３（ｓ，１Ｈ，１０Ｈ），
１．６７（ｓ，３Ｈ，Ｍｅ１９），１．２１（ｓ，３
Ｈ，Ｍｅ１７），１．１３（ｓ，３Ｈ，Ｍｅ１６）。
【００９３】例２６ Ｎ−デベンゾイル−Ｎ−（４−ｔ−ブチルベンゾイル）
−３' −デスフェニル−３' −（４−クロロフェニル）
タキソール（化５８）の調製
【化５８】 ７−トリエチルシリルバッカチンＩＩＩ（２００ｍｇ、
０．２８５ｍモル）をＴＨＦ２ｍｌに溶解した−４５℃
の溶液に、ｎＢｕＬｉをヘキサンに溶解した１．６３Ｍ
溶液０．１７４ｍｌを滴下した。−４５℃で０．５時間
した後に、シス−１ー（４−ｔ−ブチルベンゾイル）−
３−トリエチルシリルオキシ−４−（４−クロロフェニ
ル）アゼチジン−２−オン（６７５ｍｇ、１．４３ｍモ
ル）をＴＨＦ２ｍｌに溶解した溶液を混合物に滴下し
た。溶液を暖めて０℃にし、その温度に１時間保った後
に、ＡｃＯＨをＴＨＦに溶解した１０％溶液１ｍｌを加
えた。その混合物を、飽和水性ＮａＨＣＯ3 と酢酸エチ
ル／ヘキサン６０／４０との間で分配させた。有機層を
蒸発させて残分を生じ、これをシリカゲルに通してろ過
して精製して（２' Ｒ、３' Ｓ）−２' 、７−（ビス）
トリエチルシリル−Ｎ−デベンゾイル−Ｎ−（４−ｔ−
ブチルベンゾイル）−３' −デスフェニル−３' −（４
−クロロフェニル）タキソール及び少量の（２' Ｓ、
３' Ｒ）異性体を含有する混合物３１７ｍｇを生じた。
【００９４】前の反応から得られた混合物３１７ｍｇを
アセトニトリル１２ｍｌ及びピリジン０．６ｍｌに溶解
した０℃の溶液に、４８％水性ＨＦ１．８ｍｌを加え
た。混合物を０℃で３時間、次いで２５℃で１３時間攪
拌し、飽和水性重炭酸ナトリウムと酢酸エチルとの間で
分配させた。酢酸エチル溶液を蒸発させて物質３５４ｍ
ｇを生じ、これをフラッシュクロマトグラフィーで精製
してＮ−デベンゾイル−Ｎ−（４−ｔ−ブチルベンゾイ
ル）−３' −デスフェニル−３' −（４−クロロフェニ
ル）タキソール１８６ｍｇ（６９％）を生じ、これをメ
タノール／水から再晶出させた。 融点１７６．５°〜１７８℃；［α］25 Na−５１．８°
（ｃ０．００９８５、ＣＨＣｌ3 ）。
【００９５】1 Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ，３００ＭＨ
ｚ）δ８．１４（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，２Ｈ，ベンゾエ
ートオルト），７．７−７．３（ｍ，１１Ｈ，芳香
族），６．９４（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，１Ｈ，ＮＨ），
６．２７（ｓ，１Ｈ，Ｈ１０），６．２４（ｄｄ，Ｊ＝
８．３，８．３Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ１３），５．７８（ｄ
ｄ，Ｊ＝９．３，２．２Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ３' ），５．６
７（ｄ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ２β），４．９５
（ｄｄ，Ｊ＝８．８，１．１Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ５），４．
７６（ｄｄ，Ｊ＝５．０，２．２Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ２'
），４．４０（ｍ，１Ｈ，Ｈ７），４．３１（ｄ，Ｊ
＝８．５Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ２０α），４．２０（ｄ，Ｊ＝
８．５Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ２０β），３．８０（ｄ，Ｊ＝
７．１Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ３），３．６４（ｄ，Ｊ＝５．０
Ｈｚ，１Ｈ，２' ＯＨ），２．５５（ｍ，１Ｈ，Ｈ６
α），２．４６（ｄ，Ｊ＝４．４Ｈｚ，１Ｈ，７Ｏ
Ｈ），２．３８（ｓ，３Ｈ，４Ａｃ），２．３２（ｍ，
２Ｈ，Ｈ１４α，Ｈ１４β），２．２３（ｓ，３Ｈ，１
０Ａｃ），１．８８（ｍ，１Ｈ，Ｈ６α），１．８２
（ｂｒ ｓ，３Ｈ，Ｍｅ１８），１．７７（ｓ，１Ｈ，
１０Ｈ），１．６７（ｓ，３Ｈ，Ｍｅ１９），１．３０
（ｓ，３Ｈ，ｔ−Ｂｕ），１．２３（ｓ，３Ｈ，Ｍｅ１
７），１．１４（ｓ，３Ｈ，Ｍｅ１６）。
【００９６】例２７ Ｎ−デベンゾイル−Ｎ−（４−ｔ−ブチルベンゾイル）
−３' −デスフェニル−３' −（４−フルオロフェニ
ル）タキソール（化５９）の調製
【化５９】 ７−トリエチルシリルバッカチンＩＩＩ（２００ｍｇ、
０．２８６ｍモル）をＴＨＦ２ｍｌに溶解した−４５℃
の溶液に、ｎＢｕＬｉをヘキサンに溶解した１．６３Ｍ
溶液０．１７４ｍｌを滴下した。−４５℃で０．５時間
した後に、シス−１ー（４−ｔ−ブチルベンゾイル）−
３−トリエチルシリルオキシ−４−（４−フルオロフェ
ニル）アゼチジン−２−オン（６５０ｍｇ、１．４３ｍ
モル）をＴＨＦ２ｍｌに溶解した溶液を混合物に滴下し
た。溶液を暖めて０℃にし、その温度に１時間保った後
に、ＡｃＯＨをＴＨＦに溶解した１０％溶液１ｍｌを加
えた。その混合物を、飽和水性ＮａＨＣＯ3 と酢酸エチ
ル／ヘキサン６０／４０との間で分配させた。有機層を
蒸発させて残分を生じ、これをシリカゲルに通してろ過
して精製して（２' Ｒ、３' Ｓ）−２' 、７−（ビス）
トリエチルシリル−Ｎ−デベンゾイル−Ｎ−（４−ｔ−
ブチルベンゾイル）−３' −デスフェニル−３' −（４
−フルオロフェニル）タキソール及び少量の（２' Ｓ、
３' Ｒ）異性体を含有する混合物３３０ｍｇを生じた。
【００９７】前の反応から得られた混合物３３０ｍｇ
（０．２８６ｍモル）をアセトニトリル１８ｍｌ及びピ
リジン０．９３ｍｌに溶解した０℃の溶液に、４８％水
性ＨＦ２．８ｍｌを加えた。混合物を０℃で３時間、次
いで２５℃で１３時間攪拌し、飽和水性重炭酸ナトリウ
ムと酢酸エチルとの間で分配させた。酢酸エチル溶液を
蒸発させて物質２６０ｍｇを生じ、これをフラッシュク
ロマトグラフィーで精製してＮ−デベンゾイル−Ｎ−
（４−ｔ−ブチルベンゾイル）−３' −デスフェニル−
３' −（４−フルオロフェニル）タキソール１６８ｍｇ
（６４％）を生じ、これをメタノール／水から再晶出さ
せた。 融点１８０°〜１８２℃；［α］25 Na−４６．３°（ｃ
０．０１、ＣＨＣｌ3 ）。
【００９８】1 Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ，３００ＭＨ
ｚ）δ８．１２（ｄ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，２Ｈ，ベンゾエ
ートオルト），７．６７（ｍ，２Ｈ，芳香族），７．６
０（ｍ，１Ｈ，芳香族），７．４６（ｍ，６Ｈ，芳香
族），７．０８（ｍ，２Ｈ，芳香族），７．００（ｄ，
Ｊ＝８．８Ｈｚ，１Ｈ，ＮＨ），６．２７（ｓ，１Ｈ，
Ｈ１０），６．２３（ｄｄ，Ｊ＝８．８，８．８Ｈｚ，
１Ｈ，Ｈ１３），５．７６（ｄｄ，Ｊ＝８．８，２．７
Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ３' ），５．６７（ｄ，Ｊ＝７．１Ｈ
ｚ，１Ｈ，Ｈ２β），４．９４（ｄｄ，Ｊ＝９．３，
１．７Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ５），４．７５（ｄｄ，Ｊ＝４．
９，２．７Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ２' ），４．３９（ｍ，１
Ｈ，Ｈ７），４．３０（ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ
２０α），４．２２（ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ２
０β），３．７８（ｄ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ
３），３．５５（ｄ，Ｊ＝４．９Ｈｚ，１Ｈ，２' Ｏ
Ｈ），２．５６（ｍ，１Ｈ，Ｈ６α），２．５０（ｄ，
Ｊ＝４．４Ｈｚ，１Ｈ，７ＯＨ），２．３７（ｓ，３
Ｈ，４Ａｃ），２．３０（ｍ，２Ｈ，Ｈ１４），２．２
２（ｓ，３Ｈ，１０Ａｃ），１．８８（ｍ，１Ｈ，Ｈ６
β），１．７９（ｂｒ ｓ，３Ｈ，Ｍｅ１８），１．７
５（ｓ，１Ｈ，１０Ｈ），１．６７（ｓ，３Ｈ，Ｍｅ１
９），１．２９（ｓ，９Ｈ，Ａｒ tＢｕ），１．２２
（ｓ，３Ｈ，Ｍｅ１７），１．１３（ｓ，３Ｈ，Ｍｅ１
６）。
【００９９】例２８ Ｎ−デベンゾイル−Ｎ−（４−メトキシベンゾイル）−
３' −デスフェニル−３' −（４−フルオロフェニル）
タキソール（化６０）の調製
【化６０】 ７−トリエチルシリルバッカチンＩＩＩ（２００ｍｇ、
０．２８５ｍモル）をＴＨＦ２ｍｌに溶解した−４５℃
の溶液に、ｎＢｕＬｉをヘキサンに溶解した１．６３Ｍ
溶液０．１７５ｍｌを滴下した。−４５℃で０．５時間
した後に、シス−１ー（４−メトキシベンゾイル）−３
−トリエチルシリルオキシ−４−（４−フルオロフェニ
ル）アゼチジン−２−オン（６１４ｍｇ、１．４３ｍモ
ル）をＴＨＦ２ｍｌに溶解した溶液を混合物に滴下し
た。溶液を暖めて０℃にし、その温度に１時間保った後
に、ＡｃＯＨをＴＨＦに溶解した１０％溶液１ｍｌを加
えた。その混合物を、飽和水性ＮａＨＣＯ3 と酢酸エチ
ル／ヘキサン６０／４０との間で分配させた。有機層を
蒸発させて残分を生じ、これをシリカゲルに通してろ過
して精製して（２' Ｒ、３' Ｓ）−２' 、７−（ビス）
トリエチルシリル−Ｎ−デベンゾイル−Ｎ−（４−メト
キシベンゾイル）−３' −デスフェニル−３'−（４−
フルオロフェニル）タキソール及び少量の（２' Ｓ、
３' Ｒ）異性体を含有する混合物３６２ｍｇを生じた。
【０１００】前の反応から得られた混合物３６２ｍｇを
アセトニトリル１２ｍｌ及びピリジン０．６ｍｌに溶解
した０℃の溶液に、４８％水性ＨＦ１．８ｍｌを加え
た。混合物を０℃で３時間、次いで２５℃で１３時間攪
拌し、飽和水性重炭酸ナトリウムと酢酸エチルとの間で
分配させた。酢酸エチル溶液を蒸発させて物質２６９ｍ
ｇを生じ、これをフラッシュクロマトグラフィーで精製
してＮ−デベンゾイル−Ｎ−（４−メトキシベンゾイ
ル）−３' −デスフェニル−３' −（４−フルオロフェ
ニル）タキソール１８３ｍｇ（７１％）を生じ、これを
メタノール／水から再晶出させた。 融点１７２．５°〜１７４．５℃；［α］25 Na−４７．
０°（ｃ０．００４４、ＣＨＣｌ3 ）。
【０１０１】1 Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ，３００ＭＨ
ｚ）δ８．１３（ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ，ベンゾエ
ートオルト），７．７−７．４（ｍ，９Ｈ，芳香族），
７．１０（ｄｄ，Ｊ＝８．８，８．８Ｈｚ，２Ｈ，芳香
族），６．９７（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，１Ｈ，ＮＨ），
６．２７（ｓ，１Ｈ，Ｈ１０），６．２３（ｄｄ，Ｊ＝
８．８，８．８Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ１３），５．７６（ｄ
ｄ，Ｊ＝８．８，２．２Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ３' ），５．６
７（ｄ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ２β），４．９４
（ｄｄ，Ｊ＝９．９，２．２Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ５），４．
７５（ｄｄ，Ｊ＝４．４，２．２Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ２'
），４．３９（ｍ，１Ｈ，Ｈ７），４．３１（ｄ，Ｊ
＝８．５Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ２０α），４．１９（ｄ，Ｊ＝
８．５Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ２０β），３．７９（ｄ，Ｊ＝
７．１Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ３），３．５９（ｄ，Ｊ＝４．４
Ｈｚ，１Ｈ，２' ＯＨ），２．５４（ｍ，１Ｈ，Ｈ６
α），２．４７（ｄ，Ｊ＝４．４Ｈｚ，１Ｈ，７Ｏ
Ｈ），２．３６（ｓ，３Ｈ，４Ａｃ），２．３０（ｍ，
２Ｈ，Ｈ１４α，Ｈ１４β），２．２４（ｓ，３Ｈ，１
０Ａｃ），１．８８（ｍ，１Ｈ，Ｈ６α），１．７８
（ｂｒ ｓ，３Ｈ，Ｍｅ１８），１．７４（ｓ，１Ｈ，
１０Ｈ），１．６８（ｓ，３Ｈ，Ｍｅ１９），１．２３
（ｓ，３Ｈ，Ｍｅ１７），１．１４（ｓ，３Ｈ，Ｍｅ１
６）。
【０１０２】例２９ Ｎ−デベンゾイル−Ｎ−（４−クロロベンゾゾイル）−
３' −デスフェニル−３' −（４−メトキシフェニル）
タキソール（化６１）の調製
【化６１】 ７−トリエチルシリルバッカチンＩＩＩ（２００ｍｇ、
０．２８６ｍモル）をＴＨＦ２ｍｌに溶解した−４５℃
の溶液に、ｎＢｕＬｉをヘキサンに溶解した１．６３Ｍ
溶液０．１７４ｍｌを滴下した。−４５℃で０．５時間
した後に、シス−１ー（４−クロロベンゾイル）−３−
トリエチルシリルオキシ−４−（４−メトキシフェニ
ル）アゼチジン−２−オン（６３８ｍｇ、１．４３ｍモ
ル）をＴＨＦ２ｍｌに溶解した溶液を混合物に滴下し
た。溶液を暖めて０℃にし、その温度に１時間保った後
に、ＡｃＯＨをＴＨＦに溶解した１０％溶液１ｍｌを加
えた。その混合物を、飽和水性ＮａＨＣＯ3 と酢酸エチ
ル／ヘキサン６０／４０との間で分配させた。有機層を
蒸発させて残分を生じ、これをシリカゲルに通してろ過
して精製して（２' Ｒ、３' Ｓ）−２' 、７−（ビス）
トリエチルシリル−Ｎ−デベンゾイル−Ｎ−（４−クロ
ロベンゾイル）−３' −デスフェニル−３' −（４−メ
トキシフェニル）タキソール及び少量の（２' Ｓ、３'
Ｒ）異性体を含有する混合物３２８ｍｇを生じた。
【０１０３】前の反応から得られた混合物３２８ｍｇ
（０．２８６ｍモル）をアセトニトリル１８ｍｌ及びピ
リジン０．９３ｍｌに溶解した０℃の溶液に、４８％水
性ＨＦ２．８ｍｌを加えた。混合物を０℃で３時間、次
いで２５℃で１３時間攪拌し、飽和水性重炭酸ナトリウ
ムと酢酸エチルとの間で分配させた。酢酸エチル溶液を
蒸発させて物質２７０ｍｇを生じ、これをフラッシュク
ロマトグラフィーで精製してＮ−デベンゾイル−Ｎ−
（４−クロロベンゾイル）−３' −デスフェニル−３'
−（４−メトキシフェニル）タキソール１７０ｍｇ（６
５％）を生じ、これをメタノール／水から再晶出させ
た。 融点１６９°〜１７１℃；［α］25 Na−５１．１°（ｃ
０．０３５、ＣＨＣｌ3）。
【０１０４】1 Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ，３００ＭＨ
ｚ）δ８．１２（ｄ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，２Ｈ，ベンゾエ
ートオルト），７．６５（ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，２Ｈ，
ベンズアミドオルト），７．５１（ｍ，２Ｈ，芳香
族），７．３６（ｍ，５Ｈ，芳香族），６．９１（ｍ，
２Ｈ，芳香族），６．９０（ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，１
Ｈ，ＮＨ），６．２６（ｓ，１Ｈ，Ｈ１０），６．２１
（ｄｄ，Ｊ＝７．７，８．９Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ１３），
５．６９（ｄｄ，Ｊ＝８．２，２．８Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ
３' ），５．６７（ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ２
β），４．９４（ｄｄ，Ｊ＝９．９，２．２Ｈｚ，１
Ｈ，Ｈ５），４．７４（ｄｄ，Ｊ＝４．９，２．８Ｈ
ｚ，１Ｈ，Ｈ２' ），４．３９（ｄｄｄ，Ｊ＝１１．
０，６．６，３．８Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ７），４．３０
（ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ２０α），４．１９
（ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ２０β），３．７９
（ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ３），３．７９（ｓ，
３Ｈ，ＡｒＯＭｅ），３．５７（ｄ，Ｊ＝４．９Ｈｚ，
１Ｈ，２' ＯＨ），２．５３（ｄｄｄ，Ｊ＝９．９，１
４．４，６．６Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ６α），２．４７（ｄ，
Ｊ＝３．８Ｈｚ，１Ｈ，７ＯＨ），２．３６（ｓ，３
Ｈ，４Ａｃ），２．３３（ｍ，２Ｈ，Ｈ１４），２．２
３（ｓ，３Ｈ，１０Ａｃ），１．８８（ｄｄｄ，Ｊ＝１
１．０，１４．４，２．２Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ６β），１．
７９（ｂｒ ｓ，３Ｈ，Ｍｅ１８），１．７８（ｓ，１
Ｈ，１０Ｈ），１．６８（ｓ，３Ｈ，Ｍｅ１９），１．
２３（ｓ，３Ｈ，Ｍｅ１７），１．１４（ｓ，３Ｈ，Ｍ
ｅ１６）。
【０１０５】例３０ Ｎ−デベンゾイル−Ｎ−（４−ブロモベンゾゾイル）−
３' −デスフェニル−３' −（４−メトキシフェニル）
タキソール（化６２）の調製
【化６２】 ７−トリエチルシリルバッカチンＩＩＩ（２００ｍｇ、
０．２８５ｍモル）をＴＨＦ２ｍｌに溶解した−４５℃
の溶液に、ｎＢｕＬｉをヘキサンに溶解した１．６３Ｍ
溶液０．１７４ｍｌを滴下した。−４５℃で０．５時間
した後に、シス−１ー（４−ブロモベンゾイル）−３−
トリエチルシリルオキシ−４−（４−メトキシフェニ
ル）アゼチジン−２−オン（６９６ｍｇ、１．４３ｍモ
ル）をＴＨＦ２ｍｌに溶解した溶液を混合物に滴下し
た。溶液を暖めて０℃にし、その温度に１時間保った後
に、ＡｃＯＨをＴＨＦに溶解した１０％溶液１ｍｌを加
えた。その混合物を、飽和水性ＮａＨＣＯ3 と酢酸エチ
ル／ヘキサン６０／４０との間で分配させた。有機層を
蒸発させて残分を生じ、これをシリカゲルに通してろ過
して精製して（２' Ｒ、３' Ｓ）−２' 、７−（ビス）
トリエチルシリル−Ｎ−デベンゾイル−Ｎ−（４−ブロ
モベンゾイル）−３' −デスフェニル−３' −（４−メ
トキシフェニル）タキソール及び少量の（２' Ｓ、３'
Ｒ）異性体を含有する混合物３２１ｍｇを生じた。
【０１０６】前の反応から得られた混合物３５１ｍｇを
アセトニトリル１２ｍｌ及びピリジン０．６ｍｌに溶解
した０℃の溶液に、４８％水性ＨＦ１．８ｍｌを加え
た。混合物を０℃で３時間、次いで２５℃で１３時間攪
拌し、飽和水性重炭酸ナトリウムと酢酸エチルとの間で
分配させた。酢酸エチル溶液を蒸発させて物質３２０ｍ
ｇを生じ、これをフラッシュクロマトグラフィーで精製
してＮ−デベンゾイル−Ｎ−（４−ブロモベンゾイル）
−３' −デスフェニル−３' −（４−メトキシフェニ
ル）タキソール１８９ｍｇ（６９％）を生じ、これをメ
タノール／水から再晶出させた。 融点１７３．５°〜１７６℃；［α］25 Na−４８．９°
（ｃ０．００６５、ＣＨＣｌ3 ）。
【０１０７】1 Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ，３００ＭＨ
ｚ）δ８．１３（ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ，ベンゾエ
ートオルト），７．７−７．３（ｍ，９Ｈ，芳香族），
６．９３（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，２Ｈ，芳香族），６．
９３（ｄ，Ｊ＝９．３Ｈｚ，１Ｈ，ＮＨ），６．２７
（ｓ，１Ｈ，Ｈ１０），６．２１（ｄｄ，Ｊ＝８．８，
８．８Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ１３），５．６８（ｍ，２Ｈ，Ｈ
３' ，Ｈ２β），４．９４（ｄｄ，Ｊ＝８．８，１．７
Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ５），４．７４（ｄｄ，Ｊ＝４．９，
２．８Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ２' ），４．４０（ｍ，１Ｈ，Ｈ
７），４．３１（ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ２０
α），４．１９（ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ２０
β），３．８０（ｄ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ３），
３．８０（ｓ，３Ｈ，ＡｒＯＭｅ），３．５１（ｄ，Ｊ
＝４．９Ｈｚ，１Ｈ，２' ＯＨ），２．５４（ｍ，１
Ｈ，Ｈ６α），２．４６（ｄ，Ｊ＝４．４Ｈｚ，１Ｈ，
７ＯＨ），２．３７（ｓ，３Ｈ，４Ａｃ），２．３１
（ｍ，２Ｈ，Ｈ１４α，Ｈ１４β），２．２４（ｓ，３
Ｈ，１０Ａｃ），１．８７（ｍ，１Ｈ，Ｈ６β），１．
７９（ｂｒｓ，３Ｈ，Ｍｅ１８），１．７４（ｓ，１
Ｈ，１０Ｈ），１．６８（ｓ，３Ｈ，Ｍｅ１９），１．
２３（ｓ，３Ｈ，Ｍｅ１７），１．１４（ｓ，３Ｈ，Ｍ
ｅ１６）。
【０１０８】例３１ Ｎ−デベンゾイル−Ｎ−（４−ｔ−ブチルベンゾイル）
−３' −デスフェニル−３' −（４−メトキシフェニ
ル）タキソール（化６３）の調製
【化６３】 ７−トリエチルシリルバッカチンＩＩＩ（２００ｍｇ、
０．２８６ｍモル）をＴＨＦ２ｍｌに溶解した−４５℃
の溶液に、ｎＢｕＬｉをヘキサンに溶解した１．６３Ｍ
溶液０．１７４ｍｌを滴下した。−４５℃で０．５時間
した後に、シス−１ー（４−ｔ−ブチルベンゾイル）−
３−トリエチルシリルオキシ−４−（４−メトキシフェ
ニル）アゼチジン−２−オン（６７０ｍｇ、１．４３ｍ
モル）をＴＨＦ２ｍｌに溶解した溶液を混合物に滴下し
た。溶液を暖めて０℃にし、その温度に１時間保った後
に、ＡｃＯＨをＴＨＦに溶解した１０％溶液１ｍｌを加
えた。その混合物を、飽和水性ＮａＨＣＯ3 と酢酸エチ
ル／ヘキサン６０／４０との間で分配させた。有機層を
蒸発させて残分を生じ、これをシリカゲルに通してろ過
して精製して（２' Ｒ、３' Ｓ）−２' 、７−（ビス）
トリエチルシリル−Ｎ−デベンゾイル−Ｎ−（４−ｔ−
ブチルベンゾイル）−３' −デスフェニル−３' −（４
−メトキシフェニル）タキソール及び少量の（２' Ｓ、
３' Ｒ）異性体を含有する混合物３４０ｍｇを生じた。
【０１０９】前の反応から得られた混合物３４０ｍｇ
（０．２９１ｍモル）をアセトニトリル１８ｍｌ及びピ
リジン０．９３ｍｌに溶解した０℃の溶液に、４８％水
性ＨＦ２．８ｍｌを加えた。混合物を０℃で３時間、次
いで２５℃で１３時間攪拌し、飽和水性重炭酸ナトリウ
ムと酢酸エチルとの間で分配させた。酢酸エチル溶液を
蒸発させて物質２７５ｍｇを生じ、これをフラッシュク
ロマトグラフィーで精製してＮ−デベンゾイル−Ｎ−
（４−ｔ−ブチルベンゾイル）−３' −デスフェニル−
３' −（４−メトキシフェニル）タキソール１８８ｍｇ
（７０％）を生じ、これをメタノール／水から再晶出さ
せた。 融点１８４°〜１８５℃；［α］25 Na−５０．４°（ｃ
０．０１、ＣＨＣｌ3 ）。
【０１１０】1 Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ，３００ＭＨ
ｚ）δ８．１３（ｄ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，２Ｈ，ベンゾエ
ートオルト），７．５３（ｍ，９Ｈ，芳香族），６．９
２（ｍ，２Ｈ，芳香族），６．８８（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈ
ｚ，１Ｈ，ＮＨ），６．２７（ｓ，１Ｈ，Ｈ１０），
６．２１（ｄｄ，Ｊ＝８．８，８．８Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ１
３），５．７２（ｄｄ，Ｊ＝８．８，２．８Ｈｚ，１
Ｈ，Ｈ３' ），５．６７（ｄ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，１Ｈ，
Ｈ２β），４．９５（ｄｄ，Ｊ＝９．８，２．２Ｈｚ，
１Ｈ，Ｈ５），４．７４（ｄｄ，Ｊ＝５．５，２．８Ｈ
ｚ，１Ｈ，Ｈ２' ），４．４０（ｄｄｄ，Ｊ＝１１．
０，６．６，３．８Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ７），４．３０
（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ２０α），４．１９
（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ２０β），３．８０
（ｄ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ３），３．７９（ｓ，
３Ｈ，ＡｒＯＭｅ），３．６３（ｄ，Ｊ＝５．５Ｈｚ，
１Ｈ，２' ＯＨ），２．５４（ｍ，１Ｈ，Ｈ６α），
２．４６（ｄ，Ｊ＝３．８Ｈｚ，１Ｈ，７ＯＨ），２．
３８（ｓ，３Ｈ，４Ａｃ），２．３２（ｍ，２Ｈ，Ｈ１
４），２．２３（ｓ，３Ｈ，１０Ａｃ），１．８７（ｄ
ｄｄ，Ｊ＝１１．０，１４．７，２．２Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ
６β），１．８１（ｂｒ ｓ，３Ｈ，Ｍｅ１８），１．
８０（ｓ，１Ｈ，１０Ｈ），１．６８（ｓ，３Ｈ，Ｍｅ
１９），１．３０（ｓ，９Ｈ，Ａｒ tＢｕ），１．２３
（ｓ，３Ｈ，Ｍｅ１７），１．１４（ｓ，３Ｈ，Ｍｅ１
６）。
【０１１１】例３２ Ｎ−デベンゾイル−Ｎ−（４−メトキシベンゾゾイル）
−３' −デスフェニル−３' −（４−メトキシフェニ
ル）タキソール（化６４）の調製
【化６４】 ７−トリエチルシリルバッカチンＩＩＩ（２００ｍｇ、
０．２８６ｍモル）をＴＨＦ２ｍｌに溶解した−４５℃
の溶液に、ｎＢｕＬｉをヘキサンに溶解した１．６３Ｍ
溶液０．１７４ｍｌを滴下した。−４５℃で０．５時間
した後に、シス−１ー（４−メトキシベンゾイル）−３
−トリエチルシリルオキシ−４−（４−メトキシフェニ
ル）アゼチジン−２−オン（６３０ｍｇ、１．４３ｍモ
ル）をＴＨＦ２ｍｌに溶解した溶液を混合物に滴下し
た。溶液を暖めて０℃にし、その温度に１時間保った後
に、ＡｃＯＨをＴＨＦに溶解した１０％溶液１ｍｌを加
えた。その混合物を、飽和水性ＮａＨＣＯ3 と酢酸エチ
ル／ヘキサン６０／４０との間で分配させた。有機層を
蒸発させて残分を生じ、これをシリカゲルに通してろ過
して精製して（２' Ｒ、３' Ｓ）−２' 、７−（ビス）
トリエチルシリル−Ｎ−デベンゾイル−Ｎ−（４−メト
キシベンゾイル）−３' −デスフェニル−３'−（４−
メトキシフェニル）タキソール及び少量の（２' Ｓ、
３' Ｒ）異性体を含有する混合物３３０ｍｇを生じた。
【０１１２】前の反応から得られた混合物３３０ｍｇ
（０．２８９ｍモル）をアセトニトリル１８ｍｌ及びピ
リジン０．９３ｍｌに溶解した０℃の溶液に、４８％水
性ＨＦ２．８ｍｌを加えた。混合物を０℃で３時間、次
いで２５℃で１３時間攪拌し、飽和水性重炭酸ナトリウ
ムと酢酸エチルとの間で分配させた。酢酸エチル溶液を
蒸発させて物質２５５ｍｇを生じ、これをフラッシュク
ロマトグラフィーで精製してＮ−デベンゾイル−Ｎ−
（４−メトキシベンゾイル）−３' −デスフェニル−
３' −（４−メトキシフェニル）タキソール１８３ｍｇ
（７０％）を生じ、これをメタノール／水から再晶出さ
せた。 融点１７４°〜１７５℃；［α］25 Na−５０．６°（ｃ
０．０１、ＣＨＣｌ3 ）。
【０１１３】1 Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ，３００ＭＨ
ｚ）δ８．１３（ｄ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，２Ｈ，ベンゾエ
ートオルト），７．６９（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，２Ｈ，
ベンズアミドオルト），７．６２（ｍ，１Ｈ，芳香
族），７．５１（ｍ，２Ｈ，芳香族），７．３９（ｍ，
２Ｈ，芳香族），６．９０（ｍ，４Ｈ，芳香族），６．
８２（ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，１Ｈ，ＮＨ），６．２７
（ｓ，１Ｈ，Ｈ１０），６．２０（ｄｄ，Ｊ＝８．８，
８．８Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ１３），５．６９（ｄｄ，Ｊ＝
８．２，２．７Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ３' ），５．６７（ｄ，
Ｊ＝６．６Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ２β），４．９５（ｄｄ，Ｊ
＝７．７，１．６Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ５），４．７３（ｄ
ｄ，Ｊ＝５．５，２．７Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ２' ），４．４
０（ｄｄｄ，Ｊ＝１１．０，６．６，４．４Ｈｚ，１
Ｈ，Ｈ７），４．３０（ｄ，Ｊ＝８．２４Ｈｚ，１Ｈ，
Ｈ２０α），４．１９（ｄ，Ｊ＝８．２４Ｈｚ，１Ｈ，
Ｈ２０β），３．８１（ｓ，３Ｈ，ＡｒＯＭｅ），３．
８０（ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ３），３．７８
（ｓ，３Ｈ，ＡｒＯＭｅ），３．７１（ｄ，Ｊ＝５．５
Ｈｚ，１Ｈ，２' ＯＨ），２．５４（ｄｄｄ，Ｊ＝７．
７，１４．３，６．６Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ６α），２．４７
（ｄ，Ｊ＝４．４Ｈｚ，１Ｈ，７ＯＨ），２．３７
（ｓ，３Ｈ，４Ａｃ），２．３１（ｍ，２Ｈ，Ｈ１
４），２．２３（ｓ，３Ｈ，１０Ａｃ），１．８９（ｄ
ｄｄ，Ｊ＝１１．０，１４．３，１．６Ｈｚ，１Ｈ，Ｈ
６β），１．７９（ｂｒ ｓ，３Ｈ，Ｍｅ１８），１．
６９（ｓ，１Ｈ，１０Ｈ），１．６７（ｓ，３Ｈ，Ｍｅ
１９），１．２３（ｓ，３Ｈ，Ｍｅ１７），１．１３
（ｓ，３Ｈ，Ｍｅ１６）。
【０１１４】例３３ 前の例からの化合物を用い、実質的にＰａｒｎｅｓｓ
等、Ｊ．Ｃｅｌｌ Ｂｉｏｌｏｇｙ ９１：４７９〜４
８７頁（１９８１）に記載されている通りにして、チュ
ーブリン結合アセイを行ないかつタキソール及びタキソ
テレに比べた。結果を表１に提示する。
【表１】
【０１１５】例３４ Ｎａｔｉｏｎａｌ Ｃａｎｃｅｒ Ｉｎｓｔｉｔｕｔｅ
から入手し得るヒト癌細胞株（ＨＣＴ １１６）、及び
タキソールを含む、種々の疎水性剤に耐性のマルチドラ
ッグ耐性細胞株（ＨＣＴ／ＶＭ４６）に関し、ＩＣ50デ
ータをインビトロで得た。ＨＣＴ１１６及びＨＣＴ Ｖ
Ｍ４６ヒト結腸癌腫細胞における細胞毒性作用を、ＸＴ
Ｔ（２、３−ビス（２−メトキシ−４−ニトロ−５−ス
ルホフェニル）−５−［（フェニルアミノ）カルボニ
ル］−２Ｈ−テトラゾリウムヒドロキシドアセイ（Ｓｃ
ｕｄｉｅｒｏ等、「Ｅｖａｌｕａｔｉｏｎ ｏｆ ａ
ｓｏｌｕｂｌｅ ｔｅｔｒａｚｏｌｉｕｍ／ｆｏｒｍａ
ｚａｎ ａｓｓａｙ ｆｏｒｃｅｌｌ ｇｒｏｗｔｈ
ａｎｄ ｄｒｕｇ ｓｅｎｓｉｔｉｖｉｔｙ ｉｎｃｕ
ｌｔｕｒｅ ｕｓｉｎｇ ｈｕｍａｎ ａｎｄ ｏｔｈ
ｅｒ ｔｕｍｏｒｃｅｌｌ ｌｉｎｅｓ」、Ｃａｎｃｅ
ｒ Ｒｅｓ．４８：４８２７〜４８３３頁、１９８８）
によって評価した。細胞を９６ウエルマイクロフィルタ
ープレートにおいて４０００細胞／ウエルで平板培養
し、２４時間した後に、薬剤を加え、階段希釈した。細
胞を３７℃で７２時間インキュベートし、テトラゾリウ
ム染料ＸＴＴを加えた。生細胞中のデヒドロゲナーゼ酵
素はＸＴＴを還元して分光測光法により定量することが
できる４５０ｎｍにおける光を吸収する形態にさせる。
吸光度が大きい程、生細胞の数が多くなる。結果を、細
胞増殖（すなわち、４５０ｎｍにおける吸光度）を未処
理の対照細胞の増殖の５０％に抑制するのに要する薬剤
濃度であるＩＣ50として表わす。結果を表２に提示す
る。
【０１１６】
【表２】
【０１１７】数が小さい程、活性が大きいことを示す。
上記を鑑みると、発明のいくつかの目的が達成されるこ
とが分かるものと思う。上記の組成物において、種々の
変更を発明の範囲から逸脱しないで為し得るから、上記
の記載に含まれるあらゆるものは、例示と解釈すべきで
あって、制限する意味で解釈すべきでない。
フロントページの続き (72)発明者 ホサイン・ナディザデ アメリカ合衆国フロリダ州タラハシー、イ ースト・ポール・ディラク・ドライブ2035 (72)発明者 セオクチャン・キム アメリカ合衆国フロリダ州タラハシー、イ ースト・ポール・ディラク・ドライブ2035

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 下記式（化１）のタキサン誘導体： 【化１】 式中、Ｒ1 及びＲ3 は独立にフェニル、ナフチル、Ｃ6
    Ｈ5 ＣＨＣＨ−、及び化２から選ばれる、 【化２】 但し、Ｒ1 及びＲ3 は両方ともフェニルにはならない；
    ＱはＣＨ3 −、（ＣＨ3 ）3 Ｃ−、ＣＨ3 Ｏ−、Ｃｌ、
    Ｂｒ、Ｆ、ＮＯ2 、化３或は化４であり； 【化３】 【化４】 Ｚは−ＯＴ1 であり；Ｔ1 は水素、ヒドロキシル保護
    基、或は−ＣＯＴ2 であり；Ｔ2 はＨ、Ｃ1 〜Ｃ6 アル
    キル、Ｃ1 〜Ｃ6 アルケニル、Ｃ1 〜Ｃ6 アルキニル或
    は単環式アリールであり；Ａｃはアセチルであり；Ｅ1
    及びＥ2 は独立に水素及びタキサン誘導体の水への溶解
    度を増大させる官能基から選ばれる。
  2. 【請求項２】 Ｒ1 がフェニルである請求項１のタキサ
    ン誘導体。
  3. 【請求項３】 Ｒ1 がフェニルであり、Ｚが−ＯＣＯＣ
    Ｈ3 であり、タキサンが２' Ｒ、３' Ｓ立体配置を有す
    る請求項１のタキサン誘導体。
  4. 【請求項４】 Ｒ1 がフェニルであり、Ｚが−ＯＣＯＣ
    Ｈ3 であり、タキサンが２' Ｒ、３' Ｓ立体配置を有
    し、Ｅ1 及びＥ2 の内の少なくとも一つが下記である： −ＣＯＧＣＯＲ1 （式中、Ｇはエチレン、プロピレン、ＣＨＣＨ、１、２
    −シクロヘキサン、及び１、２−フェニレンであり、 Ｒ1 ＝ＯＨ塩基、ＮＲ2 Ｒ3 、ＯＲ3 、ＳＲ3 、ＯＣＨ
    2 ＣＯＮＲ4 Ｒ5 、ＯＨ Ｒ2 ＝水素、メチル Ｒ3 ＝（ＣＨ2 ）n ＮＲ6 Ｒ7 ；化５ 【化５】 ｎ＝１〜３ Ｒ4 ＝水素、炭素１〜４を含有する低級アルキル Ｒ5 ＝水素、炭素１〜４を含有する低級アルキル、ベン
    ジル、ヒドロキシエチル、ＣＨ2 ＣＯ2 Ｈ、ジメチルア
    ミノエチル Ｒ6 Ｒ7 ＝炭素１或は２を含有する低級アルキル、ベン
    ジル或はＲ6 Ｒ7 はＮＲ6 Ｒ7 の窒素原子と一緒になって下記の環
    （化６）を形成する： 【化６】 Ｒ8 ＝炭素１或は２を含有する低級アルキル、ベンジル 化７＝ハライド 【化７】 塩基＝ＮＨ3 、（ＨＯＣ2 Ｈ4 ）3 Ｎ、Ｎ（ＣＨ3 ）
    3 、ＣＨ3 Ｎ（Ｃ2 Ｈ4 ＯＨ）2 、ＮＨ2 （ＣＨ2 ）6
    ＮＨ2 、Ｎ−メチルグルカミン、ＮａＯＨ、ＫＯＨ） 請求項１のタキサン誘導体。
  5. 【請求項５】 Ｒ3 がフェニルであり、Ｚが−ＯＣＯＣ
    Ｈ3 であり、タキサンが２' Ｒ、３' Ｓ立体配置を有
    し、Ｅ1 及びＥ2 の内の少なくとも一つが下記である： −ＣＯＧＣＯＲ1 （式中、Ｇはエチレン、プロピレン、ＣＨＣＨ、１、２
    −シクロヘキサン、及び１、２−フェニレンであり、 Ｒ1 ＝ＯＨ塩基、ＮＲ2 Ｒ3 、ＯＲ3 、ＳＲ3 、ＯＣＨ
    2 ＣＯＮＲ4 Ｒ5 、ＯＨ Ｒ2 ＝水素、メチル Ｒ3 ＝（ＣＨ2 ）n ＮＲ6 Ｒ7 ；化８ 【化８】 ｎ＝１〜３ Ｒ4 ＝水素、炭素１〜４を含有する低級アルキル Ｒ5 ＝水素、炭素１〜４を含有する低級アルキル、ベン
    ジル、ヒドロキシエチル、ＣＨ2 ＣＯ2 Ｈ、ジメチルア
    ミノエチル Ｒ6 Ｒ7 ＝炭素１或は２を含有する低級アルキル、ベン
    ジル或はＲ6 Ｒ7 はＮＲ6 Ｒ7 の窒素原子と一緒になって下記の環
    （化９）を形成する： 【化９】 Ｒ8 ＝炭素１或は２を含有する低級アルキル、ベンジル 化１０＝ハライド 【化１０】 塩基＝ＮＨ3 、（ＨＯＣ2 Ｈ4 ）3 Ｎ、Ｎ（ＣＨ3 ）
    3 、ＣＨ3 Ｎ（Ｃ2 Ｈ4 ＯＨ）2 、ＮＨ2 （ＣＨ2 ）6
    ＮＨ2 、Ｎ−メチルグルカミン、ＮａＯＨ、ＫＯＨ） 請求項１のタキサン誘導体。
  6. 【請求項６】 請求項１のタキサン誘導体及び一種或は
    それ以上の薬理学的に許容し得る、不活性な或は生理学
    的に活性な希釈剤或は補助剤を含有する薬剤組成物。
  7. 【請求項７】 Ｒ1 がフェニルである請求項６の組成
    物。
  8. 【請求項８】 Ｒ1 がフェニルであり、Ｚが−ＯＣＯＣ
    Ｈ3 であり、Ｅ1 及びＥ2 が水素である請求項６の組成
    物。
  9. 【請求項９】 Ｒ1 がフェニルであり、Ｚが−ＯＣＯＣ
    Ｈ3 であり、Ｅ1 及びＥ2 が水素であり、タキサン誘導
    体が２' Ｒ、３' Ｓ立体配置を有する請求項６の組成
    物。
  10. 【請求項１０】 Ｒ1 がフェニルであり、Ｚが−ＯＣＯ
    ＣＨ3 であり、タキサンが２' Ｒ、３' Ｓ立体配置を有
    し、Ｅ1 及びＥ2 の内の少なくとも一つが下記である： −ＣＯＧＣＯＲ1 （式中、Ｇはエチレン、プロピレン、ＣＨＣＨ、１、２
    −シクロヘキサン、及び１、２−フェニレンであり、 Ｒ1 ＝ＯＨ塩基、ＮＲ2 Ｒ3 、ＯＲ3 、ＳＲ3 、ＯＣＨ
    2 ＣＯＮＲ4 Ｒ5 、ＯＨ Ｒ2 ＝水素、メチル Ｒ3 ＝（ＣＨ2 ）n ＮＲ6 Ｒ7 ；化１１ 【化１１】 ｎ＝１〜３ Ｒ4 ＝水素、炭素１〜４を含有する低級アルキル Ｒ5 ＝水素、炭素１〜４を含有する低級アルキル、ベン
    ジル、ヒドロキシエチル、ＣＨ2 ＣＯ2 Ｈ、ジメチルア
    ミノエチル Ｒ6 Ｒ7 ＝炭素１或は２を含有する低級アルキル、ベン
    ジル或はＲ6 Ｒ7 はＮＲ6 Ｒ7 の窒素原子と一緒になって下記の環
    （化１２）を形成する： 【化１２】 Ｒ8 ＝炭素１或は２を含有する低級アルキル、ベンジル 化１３＝ハライド 【化１３】 塩基＝ＮＨ3 、（ＨＯＣ2 Ｈ4 ）3 Ｎ、Ｎ（ＣＨ3 ）
    3 、ＣＨ3 Ｎ（Ｃ2 Ｈ4 ＯＨ）2 、ＮＨ2 （ＣＨ2 ）6
    ＮＨ2 、Ｎ−メチルグルカミン、ＮａＯＨ、ＫＯＨ）請
    求項６の組成物。
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