JPH06199920A - クロム触媒組成物 - Google Patents
クロム触媒組成物Info
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- JPH06199920A JPH06199920A JP5253142A JP25314293A JPH06199920A JP H06199920 A JPH06199920 A JP H06199920A JP 5253142 A JP5253142 A JP 5253142A JP 25314293 A JP25314293 A JP 25314293A JP H06199920 A JPH06199920 A JP H06199920A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F10/00—Homopolymers and copolymers of unsaturated aliphatic hydrocarbons having only one carbon-to-carbon double bond
-
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
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- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 オレフィン重合用のクロム触媒組成物が提供
される。 【構成】 これらのクロム触媒組成物は、少なくとも2
種のクロム触媒系を含み、この少なくとも2種のクロム
触媒系はクロムおよび支持体を含み、該少なくとも2種
のクロム触媒系の支持体はシリカを含み、かつ、得られ
るコポリマーの比較的高分子量部分に非−エチレンコモ
ノマーを優先的に導入するのに十分な平均細孔半径差を
有する。得られる重合生成物は、高い密度および高い耐
環境応力亀裂性のような改良された性質を兼備してい
る。
される。 【構成】 これらのクロム触媒組成物は、少なくとも2
種のクロム触媒系を含み、この少なくとも2種のクロム
触媒系はクロムおよび支持体を含み、該少なくとも2種
のクロム触媒系の支持体はシリカを含み、かつ、得られ
るコポリマーの比較的高分子量部分に非−エチレンコモ
ノマーを優先的に導入するのに十分な平均細孔半径差を
有する。得られる重合生成物は、高い密度および高い耐
環境応力亀裂性のような改良された性質を兼備してい
る。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、クロム触媒組成物の分
野に関する。
野に関する。
【0002】
【従来の技術】ポリオレフィン組成物の密度の増加に伴
い化学的耐性、引張強さおよび剛さは増加するが、透過
性、靭性および耐環境応力亀裂性が減少することは当業
界において公知である。このことは、例えば高密度およ
び高い耐環境応力亀裂性の両者を所望の場合に問題にな
る。
い化学的耐性、引張強さおよび剛さは増加するが、透過
性、靭性および耐環境応力亀裂性が減少することは当業
界において公知である。このことは、例えば高密度およ
び高い耐環境応力亀裂性の両者を所望の場合に問題にな
る。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、競合する性
能因子のこの問題の解決方法を提供する。
能因子のこの問題の解決方法を提供する。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明の一態様におい
て、新規のクロム触媒組成物が提供される。これらの触
媒組成物は、少なくとも2種のクロム触媒系を含む。こ
れらのクロム触媒系は、クロムおよび支持体から成り、
該支持体はシリカを含み、少なくとも2種の系の支持体
は、得られるコポリマーの比較的高分子量部分中に非−
エチレンコモノマーを優先的に導入するのに十分な平均
細孔半径差を有する。
て、新規のクロム触媒組成物が提供される。これらの触
媒組成物は、少なくとも2種のクロム触媒系を含む。こ
れらのクロム触媒系は、クロムおよび支持体から成り、
該支持体はシリカを含み、少なくとも2種の系の支持体
は、得られるコポリマーの比較的高分子量部分中に非−
エチレンコモノマーを優先的に導入するのに十分な平均
細孔半径差を有する。
【0005】本発明の一態様によって、クロム触媒組成
物(以後「態様X」と称する)が提供される。これらの
クロム触媒組成物は、少なくとも2種のクロム触媒系を
含む。これらのクロム触媒系は、クロムおよび支持体か
ら成り、該支持体はシリカおよびチタニアから本質的に
成り、かつ、少なくとも2種の支持体は約25Åの平均
細孔半径差を有する。
物(以後「態様X」と称する)が提供される。これらの
クロム触媒組成物は、少なくとも2種のクロム触媒系を
含む。これらのクロム触媒系は、クロムおよび支持体か
ら成り、該支持体はシリカおよびチタニアから本質的に
成り、かつ、少なくとも2種の支持体は約25Åの平均
細孔半径差を有する。
【0006】本発明の他の態様によって、クロム触媒組
成物(以後「態様Y」と称する)が提供される。これら
のクロム触媒組成物は少なくとも2種のクロム触媒系を
含み;
成物(以後「態様Y」と称する)が提供される。これら
のクロム触媒組成物は少なくとも2種のクロム触媒系を
含み;
【0007】(a)これらのクロム触媒系の一つはクロ
ムおよび支持体から成り、該支持体がシリカおよびチタ
ニアから本質的に成り、該支持体が約85Å未満の平均
細孔半径、および約1.2cm3 /g未満の細孔容積を有
するものであり、そして、このクロム触媒系は次の処
理:(1)還元および再酸化、(2)チタン(tita
nated)および(3)高温度での活性化の少なくと
も一つに処し;
ムおよび支持体から成り、該支持体がシリカおよびチタ
ニアから本質的に成り、該支持体が約85Å未満の平均
細孔半径、および約1.2cm3 /g未満の細孔容積を有
するものであり、そして、このクロム触媒系は次の処
理:(1)還元および再酸化、(2)チタン(tita
nated)および(3)高温度での活性化の少なくと
も一つに処し;
【0008】(b)これらのクロム触媒系の一つは、ク
ロムおよび支持体から成り、該支持体がシリカから本質
的に成り、かつ、該支持体が約85Å以上の平均細孔半
径および約1.5cm3 /g以上の細孔容積を有するもの
であり、そして、このクロム触媒系は次の処理:(1)
低温度での活性化および(2)弗素化合物との接触の少
なくとも一つに処する。
ロムおよび支持体から成り、該支持体がシリカから本質
的に成り、かつ、該支持体が約85Å以上の平均細孔半
径および約1.5cm3 /g以上の細孔容積を有するもの
であり、そして、このクロム触媒系は次の処理:(1)
低温度での活性化および(2)弗素化合物との接触の少
なくとも一つに処する。
【0009】本発明の別態様によってクロム触媒組成物
(以後「態様Z」と称する)が提供される。これらのク
ロム触媒組成物は少なくとも2種のクロム触媒系を含
み;
(以後「態様Z」と称する)が提供される。これらのク
ロム触媒組成物は少なくとも2種のクロム触媒系を含
み;
【0010】(a)これらのクロム触媒系の一つは、ク
ロムおよび支持体から成り、該支持体がシリカおよびチ
タニアから本質的に成り、該支持体が約85Å以上の平
均細孔半径および約2cm3 /g以上の細孔容積を有する
ものであり、そしてこのクロム触媒系を次の処理;
(1)還元および再酸化、(2)チタン化および(3)
高温度での活性化の少なくとも一つの処し;
ロムおよび支持体から成り、該支持体がシリカおよびチ
タニアから本質的に成り、該支持体が約85Å以上の平
均細孔半径および約2cm3 /g以上の細孔容積を有する
ものであり、そしてこのクロム触媒系を次の処理;
(1)還元および再酸化、(2)チタン化および(3)
高温度での活性化の少なくとも一つの処し;
【0011】(b)これらのクロム触媒系の一つはクロ
ムおよび支持体から成り、該支持体がシリカから本質的
に成り、該支持体が約85Å未満の平均細孔半径および
約1.7cm3 /g未満の細孔容積を要するものであり、
そしてこのクロム触媒系を還元する。
ムおよび支持体から成り、該支持体がシリカから本質的
に成り、該支持体が約85Å未満の平均細孔半径および
約1.7cm3 /g未満の細孔容積を要するものであり、
そしてこのクロム触媒系を還元する。
【0012】「本質的に成る」の用語は、触媒支持体が
該触媒系に付与された所望特性に著しい影響を及ぼす任
意の成分を含まないことを意味する積りである。
該触媒系に付与された所望特性に著しい影響を及ぼす任
意の成分を含まないことを意味する積りである。
【0013】本発明の他の態様において、上記の触媒組
成物の各々は、重合条件下で1種以上の異なるオレフィ
ンと接触させてポリマーまたはコポリマーを生成させる
ことができる。
成物の各々は、重合条件下で1種以上の異なるオレフィ
ンと接触させてポリマーまたはコポリマーを生成させる
ことができる。
【0014】本明細書に開示されているこの発明は、本
明細書に開示されていない任意の工程、部材、化合物ま
たは成分の不存在下で好適に実施できる。
明細書に開示されていない任意の工程、部材、化合物ま
たは成分の不存在下で好適に実施できる。
【0015】本発明において使用されるクロム触媒組成
物は、一般に、少なくとも2種のクロム触媒系を含む。
これらのクロム触媒系はクロム成分およびシリカを含む
支持体成分から成る。「支持体成分」の用語は、クロム
触媒系の不活性成分と解釈される意味ではない。
物は、一般に、少なくとも2種のクロム触媒系を含む。
これらのクロム触媒系はクロム成分およびシリカを含む
支持体成分から成る。「支持体成分」の用語は、クロム
触媒系の不活性成分と解釈される意味ではない。
【0016】本発明のクロム触媒系において使用される
支持体は: (1)シリカを含む (2)シリカおよびチタニアから本質的に成る、または (3)シリカから本質的に成るである。
支持体は: (1)シリカを含む (2)シリカおよびチタニアから本質的に成る、または (3)シリカから本質的に成るである。
【0017】これらの支持体は当業界において公知であ
り、かつ、U.S.P.2,825,721;3,22
5,023;3,226,205;3,622,52
1;3,625,864;3,780,011;3,8
87,494;3,900,457;3,947,43
3;4,053,436;4,081,407;4,1
51,122;4,177,162;4,294,72
4;4,296,001;4,392,990;4,4
02,864;4,405,501;4,434,24
3;4,454,557;4,735,931;4,9
81,831;5,037,911に開示されている。
しかし、これらの種類の支持体は、W.R.Grace
CorporationのDavison Chem
icalDivisionから商用として入手できるこ
とも留意すべきである。
り、かつ、U.S.P.2,825,721;3,22
5,023;3,226,205;3,622,52
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81,831;5,037,911に開示されている。
しかし、これらの種類の支持体は、W.R.Grace
CorporationのDavison Chem
icalDivisionから商用として入手できるこ
とも留意すべきである。
【0018】支持体中に存在するシリカの量は、一般
に、支持体の重量に基づいて約80重量%である。しか
し、支持体中におけるシリカの量は、約90〜約100
重量%が好ましい。存在する場合の残余部分は、アルミ
ナ、チタニア、ボリア、マグネシア、トリア、ジルコニ
アおよびこれら2種以上の混合物から選ぶことができ
る。
に、支持体の重量に基づいて約80重量%である。しか
し、支持体中におけるシリカの量は、約90〜約100
重量%が好ましい。存在する場合の残余部分は、アルミ
ナ、チタニア、ボリア、マグネシア、トリア、ジルコニ
アおよびこれら2種以上の混合物から選ぶことができ
る。
【0019】支持体がシリカおよびチタニアから本質的
に成る場合には、支持体中のシリカの量は、一般に、支
持体重量に基づいて約80重量%以上である。しかし、
支持体に使用されるチタニアの量が約0.1重量%以上
であることも好ましい。使用されるチタニアの量は、約
1〜約20重量%がさらに好ましく、この量は約1〜約
10重量%が最も好ましい。
に成る場合には、支持体中のシリカの量は、一般に、支
持体重量に基づいて約80重量%以上である。しかし、
支持体に使用されるチタニアの量が約0.1重量%以上
であることも好ましい。使用されるチタニアの量は、約
1〜約20重量%がさらに好ましく、この量は約1〜約
10重量%が最も好ましい。
【0020】本発明の「態様X」において、クロム触媒
組成物は少なくとも2種のクロム触媒系を含む。これら
のクロム触媒系は、クロムおよびシリカ並びにチタニア
から本質的に成る支持体から成る。これらの支持体は、
少なくとも約25Åの平均細孔半径差を有しなければな
らない。しかし、平均細孔半径差は約25〜約400Å
であるのが好ましく、平均細孔半径差が50〜300Å
である場合が最も好ましい。各支持体の平均細孔半径
は、当業界の熟練者によって窒素収着法によって測定で
きる。例えば、S.T.GreggおよびK.S.W.
Singによる「Adsorption,Surfac
e Area and Porosity」、Acad
emic Press,London(1982);お
よびS.Lowell.J.による「Introduc
tion to Powder Surface Ar
ea」、J.Wiley & Sons,New Yo
rk.NY.(1979)のような文献が利用できる。
組成物は少なくとも2種のクロム触媒系を含む。これら
のクロム触媒系は、クロムおよびシリカ並びにチタニア
から本質的に成る支持体から成る。これらの支持体は、
少なくとも約25Åの平均細孔半径差を有しなければな
らない。しかし、平均細孔半径差は約25〜約400Å
であるのが好ましく、平均細孔半径差が50〜300Å
である場合が最も好ましい。各支持体の平均細孔半径
は、当業界の熟練者によって窒素収着法によって測定で
きる。例えば、S.T.GreggおよびK.S.W.
Singによる「Adsorption,Surfac
e Area and Porosity」、Acad
emic Press,London(1982);お
よびS.Lowell.J.による「Introduc
tion to Powder Surface Ar
ea」、J.Wiley & Sons,New Yo
rk.NY.(1979)のような文献が利用できる。
【0021】本発明の「態様Y」においては、クロム触
媒組成物は少なくとも2種のクロム触媒系が含まれる。
これらのクロム触媒系の一つは、クロムおよびシリカ並
びにチタニアから本質的に成る支持体が含まれる。これ
らのクロム触媒系の他のものは、クロムおよびシリカか
ら本質的に成る支持体が含まれる。
媒組成物は少なくとも2種のクロム触媒系が含まれる。
これらのクロム触媒系の一つは、クロムおよびシリカ並
びにチタニアから本質的に成る支持体が含まれる。これ
らのクロム触媒系の他のものは、クロムおよびシリカか
ら本質的に成る支持体が含まれる。
【0022】「態様Y」において使用される支持体はさ
らに次のように記述される:
らに次のように記述される:
【0023】(1)シリカおよびチタニアから本質的に
成る支持体は、約85Å未満の平均細孔半径を有しなけ
ればならない;しかし、これらが約25〜約85Åの平
均細孔半径を有するのが好ましく、これらが30〜80
Åの平均細孔半径を有するのが最も好ましい;
成る支持体は、約85Å未満の平均細孔半径を有しなけ
ればならない;しかし、これらが約25〜約85Åの平
均細孔半径を有するのが好ましく、これらが30〜80
Åの平均細孔半径を有するのが最も好ましい;
【0024】さらに、シリカおよびチタニアから本質的
に成る支持体は、約1.2cm3 /g未満の細孔容積を有
しなければならない;しかし、これらが約0.6〜約
1.2cm3 /gの細孔容積を有するのが好ましく、これ
らが0.8〜1.15cm3 /gの細孔容積を有するのが
最も好ましい;
に成る支持体は、約1.2cm3 /g未満の細孔容積を有
しなければならない;しかし、これらが約0.6〜約
1.2cm3 /gの細孔容積を有するのが好ましく、これ
らが0.8〜1.15cm3 /gの細孔容積を有するのが
最も好ましい;
【0025】以後、この種の支持体を「タイプA支持
体」と云う。
体」と云う。
【0026】シリカから本質的に成る支持体は、約85
Å以上の平均細孔半径を有しなければならない;しか
し、これらが約85〜約1000Åの平均細孔半径を有
するのが好ましく、これらが90〜500Åの平均細孔
半径を有するのが最も好ましい;
Å以上の平均細孔半径を有しなければならない;しか
し、これらが約85〜約1000Åの平均細孔半径を有
するのが好ましく、これらが90〜500Åの平均細孔
半径を有するのが最も好ましい;
【0027】さらに、シリカから本質的に成る支持体
は、約1.5cm3 /g以上の細孔容積を有しなければな
らない;しかし、これらが1.5〜約4cm3 /gの細孔
容積を有するのが好ましく、これらが1.5〜3cm3 /
gの細孔容積を有するのが最も好ましい;
は、約1.5cm3 /g以上の細孔容積を有しなければな
らない;しかし、これらが1.5〜約4cm3 /gの細孔
容積を有するのが好ましく、これらが1.5〜3cm3 /
gの細孔容積を有するのが最も好ましい;
【0028】以後、この種の支持体を「タイプB支持
体」と称する。
体」と称する。
【0029】本発明の「態様Z」においては、クロム触
媒組成物は少なくとも2種のクロム触媒系を含む。これ
らのクロム触媒系の一つは、クロムおよびシリカ並びに
チタニアから本質的に成る支持体を含む。これらのクロ
ム触媒系の他のものは、クロムおよびシリカから本質的
に成る支持体を含む。
媒組成物は少なくとも2種のクロム触媒系を含む。これ
らのクロム触媒系の一つは、クロムおよびシリカ並びに
チタニアから本質的に成る支持体を含む。これらのクロ
ム触媒系の他のものは、クロムおよびシリカから本質的
に成る支持体を含む。
【0030】「態様Z」において使用される支持体はさ
らに次のように記述される:
らに次のように記述される:
【0031】(1)シリカおよびチタニアから本質的に
成る支持体は、約85Å以上の平均細孔半径を有しなけ
ればならない;しかし、これらが約85〜約1000Å
の平均細孔半径を有するのが好ましく、そしてこれらが
90〜500Åの平均細孔半径を有するのが最も好まし
い;
成る支持体は、約85Å以上の平均細孔半径を有しなけ
ればならない;しかし、これらが約85〜約1000Å
の平均細孔半径を有するのが好ましく、そしてこれらが
90〜500Åの平均細孔半径を有するのが最も好まし
い;
【0032】さらに、シリカおよびチタニアから本質的
に成る支持体は、約2cm3 /g以上の細孔容積を有しな
ければならない;しかし、これらが約2〜約4cm3 /g
の細孔容積を有するのが好ましく、そして、これらが2
〜3cm3 /gの細孔容積を有するのが最も好ましい;
に成る支持体は、約2cm3 /g以上の細孔容積を有しな
ければならない;しかし、これらが約2〜約4cm3 /g
の細孔容積を有するのが好ましく、そして、これらが2
〜3cm3 /gの細孔容積を有するのが最も好ましい;
【0033】以後これらの種類の支持体を「タイプC」
と称する;
と称する;
【0034】(2)シリカから本質的に成る支持体は、
約85Å未満の平均細孔半径を有しなければならない;
しかし、これらが約25〜約85Åの平均細孔半径を有
するのが好ましく、そして、これらが30〜80Åの平
均細孔半径を有するのが最も好ましい;
約85Å未満の平均細孔半径を有しなければならない;
しかし、これらが約25〜約85Åの平均細孔半径を有
するのが好ましく、そして、これらが30〜80Åの平
均細孔半径を有するのが最も好ましい;
【0035】さらに、シリカから本質的に成る支持体
は、約1.7cm3 /g未満の細孔容積を有しなければな
らない;しかし、これらが約0.6〜約1.7cm3 /g
の細孔容積を有するのが好ましく、そして、これらが
0.8〜1.3cm3 /gの細孔容積を有するのが最も好
ましい;以後、これらの種類の支持体を「タイプD支持
体」と称する。
は、約1.7cm3 /g未満の細孔容積を有しなければな
らない;しかし、これらが約0.6〜約1.7cm3 /g
の細孔容積を有するのが好ましく、そして、これらが
0.8〜1.3cm3 /gの細孔容積を有するのが最も好
ましい;以後、これらの種類の支持体を「タイプD支持
体」と称する。
【0036】本発明のクロム触媒組成物の一部であるク
ロム触媒系のクロム成分は、オレフィンの重合を容易に
する任意の好適なクロム化合物でよい。クロム化合物の
好適な例には、これらに限定されないが、硝酸クロム、
酢酸クロム、三酸化クロム、およびこれらのクロム化合
物2種以上の混合物が含まれる。支持体と組合せるクロ
ム化合物の量は、約0.1〜約5重量%である。約0.
2〜約5重量%の量が好ましく、0.5〜2重量%の量
が最も好ましい。(重量%はクロム化合物および支持体
の重量に基づく。)
ロム触媒系のクロム成分は、オレフィンの重合を容易に
する任意の好適なクロム化合物でよい。クロム化合物の
好適な例には、これらに限定されないが、硝酸クロム、
酢酸クロム、三酸化クロム、およびこれらのクロム化合
物2種以上の混合物が含まれる。支持体と組合せるクロ
ム化合物の量は、約0.1〜約5重量%である。約0.
2〜約5重量%の量が好ましく、0.5〜2重量%の量
が最も好ましい。(重量%はクロム化合物および支持体
の重量に基づく。)
【0037】クロム化合物は、当業界において公知の任
意の方法によって支持体と組合せることができる。クロ
ム化合物と支持体とを組合せる例は、上記に引用した特
許に記載されている。クロム化合物と支持体とを組合せ
る好ましい方法は、U.S.P.3,976,632;
4,248,735;4,297,460および4,3
97,766に開示されている。これらの特許には無水
クロム化合物で支持体を含浸する方法が開示されてい
る。
意の方法によって支持体と組合せることができる。クロ
ム化合物と支持体とを組合せる例は、上記に引用した特
許に記載されている。クロム化合物と支持体とを組合せ
る好ましい方法は、U.S.P.3,976,632;
4,248,735;4,297,460および4,3
97,766に開示されている。これらの特許には無水
クロム化合物で支持体を含浸する方法が開示されてい
る。
【0038】本発明の「態様Y」においては、クロムお
よび「タイプA支持体」を含むクロム触媒系を(1)還
元および再酸化、(2)チタン化および(または)高温
度での活性化が含まれる。これに加えて、本発明の「態
様Y」においては、クロムおよび「タイプB支持体」を
含むクロム触媒系を(1)低温度での活性化および(ま
たは)(2)弗素化合物と接触させる。本発明のこの態
様において使用されるクロムの少なくとも一部は、六価
状態にあるのが好ましい。
よび「タイプA支持体」を含むクロム触媒系を(1)還
元および再酸化、(2)チタン化および(または)高温
度での活性化が含まれる。これに加えて、本発明の「態
様Y」においては、クロムおよび「タイプB支持体」を
含むクロム触媒系を(1)低温度での活性化および(ま
たは)(2)弗素化合物と接触させる。本発明のこの態
様において使用されるクロムの少なくとも一部は、六価
状態にあるのが好ましい。
【0039】本発明の「態様Z」においては、クロムお
よび「タイプC支持体」を含むクロム触媒系を(1)還
元および再酸化、(2)チタン化および(または)
(3)高温度での活性化を行う。これに加えて、本発明
の「態様Z」においては、クロムおよび「タイプD支持
体」を含むクロム触媒系を還元する。「タイプC支持
体」と共に使用されるクロムの少なくとも一部は六価状
態にあるのが好ましい。これに反して、「タイプD支持
体」と共に利用されるクロムの少なくとも一部は二価状
態にあるのが好ましい。
よび「タイプC支持体」を含むクロム触媒系を(1)還
元および再酸化、(2)チタン化および(または)
(3)高温度での活性化を行う。これに加えて、本発明
の「態様Z」においては、クロムおよび「タイプD支持
体」を含むクロム触媒系を還元する。「タイプC支持
体」と共に使用されるクロムの少なくとも一部は六価状
態にあるのが好ましい。これに反して、「タイプD支持
体」と共に利用されるクロムの少なくとも一部は二価状
態にあるのが好ましい。
【0040】本発明において使用されるクロム触媒系
は、クロムの少なくとも一部を比較的低い原子価状態に
まで還元し、次いでクロムの少なくとも一部を比較的高
い原子価状態にまで再酸化する当業界において公知の任
意の方法によって還元および再酸化できる。この種の方
法の好適な例は、U.S.P.4,151,122およ
び4,177,162に見出すことができる。
は、クロムの少なくとも一部を比較的低い原子価状態に
まで還元し、次いでクロムの少なくとも一部を比較的高
い原子価状態にまで再酸化する当業界において公知の任
意の方法によって還元および再酸化できる。この種の方
法の好適な例は、U.S.P.4,151,122およ
び4,177,162に見出すことができる。
【0041】本発明において使用されるクロム触媒系
は、チタン化合物とクロム触媒系とを組合せる当業界に
おいて公知の任意の方法によってチタン化することがで
きる。この種の方法の好適な例は、U.S.P.3,6
22,521;3,625,864;3,780,01
1;4,368,303;4,402,864;4,4
24,320;4,429,744および4,434,
243に見出すことができる。
は、チタン化合物とクロム触媒系とを組合せる当業界に
おいて公知の任意の方法によってチタン化することがで
きる。この種の方法の好適な例は、U.S.P.3,6
22,521;3,625,864;3,780,01
1;4,368,303;4,402,864;4,4
24,320;4,429,744および4,434,
243に見出すことができる。
【0042】本発明において使用されるクロム触媒系
は、クロムの少なくとも一部を比較的低い酸化状態まで
還元する当業界において公知の任意の方法によって還元
できる。この種の方法の好適な例は、U.S.P.4,
735,931に見出すことができる。還元用組成物は
一酸化炭素が好ましい。
は、クロムの少なくとも一部を比較的低い酸化状態まで
還元する当業界において公知の任意の方法によって還元
できる。この種の方法の好適な例は、U.S.P.4,
735,931に見出すことができる。還元用組成物は
一酸化炭素が好ましい。
【0043】本発明において使用されるクロム触媒系
は、弗素をクロム触媒上またはこの中に配合させる当業
界において公知の任意の方法によって弗素化合物と接触
させることができる。この種の方法の好適な例は、U.
S.P.2,825,721;4,806,513;お
よび5,037,911に見出すことができる。
は、弗素をクロム触媒上またはこの中に配合させる当業
界において公知の任意の方法によって弗素化合物と接触
させることができる。この種の方法の好適な例は、U.
S.P.2,825,721;4,806,513;お
よび5,037,911に見出すことができる。
【0044】本発明において使用されるクロム触媒系
は、酸素含有雰囲気とクロム触媒系とを接触させる当業
界において公知の任意の方法によって活性化させること
ができる。この種の方法の好適な例は、U.S.P.
3,887,494;3,900,457;4,05
3,436;4,081,407;4,296,00
1;4,392,990;4,405,501;4,9
81,831に見出すことができる。
は、酸素含有雰囲気とクロム触媒系とを接触させる当業
界において公知の任意の方法によって活性化させること
ができる。この種の方法の好適な例は、U.S.P.
3,887,494;3,900,457;4,05
3,436;4,081,407;4,296,00
1;4,392,990;4,405,501;4,9
81,831に見出すことができる。
【0045】一般に、高温度での活性化は、約700℃
以上の温度で行なわれ、そして、低温度での活性化は約
700℃以下の温度で行なわれる。しかし、高温度での
活性化は、約750〜約900℃の間の温度で行うのが
好ましく;800〜900℃の間の温度で行うのが最も
好ましい。低温度での活性化は、約450〜約700℃
の間の温度で行うのが好ましく、500〜650℃の間
の温度で行うのが最も好ましい。
以上の温度で行なわれ、そして、低温度での活性化は約
700℃以下の温度で行なわれる。しかし、高温度での
活性化は、約750〜約900℃の間の温度で行うのが
好ましく;800〜900℃の間の温度で行うのが最も
好ましい。低温度での活性化は、約450〜約700℃
の間の温度で行うのが好ましく、500〜650℃の間
の温度で行うのが最も好ましい。
【0046】クロム触媒系が製造された後には、当業界
において公知の任意の方法で一緒に組合せることができ
る。例えば、これらはミキサー中において一緒に乾式混
合するかまたは反応器に導入する供給流に添加すること
ができる。クロム触媒組成物中に含まれる各クロム触媒
系の量を変化させることによって、得られるコポリマー
組成物中へ配合されるコモノマーの量を変えることがで
きることは重要な点である。さらに、クロム触媒組成物
中に含まれる各クロム触媒系の量を変化させることによ
って、得られるポリマーの密度をこの種のクロム触媒系
に関して従来知られていたよりはるかにメルトインデッ
クスに依存することなく変更することができる。これに
加えて、クロム触媒組成物中に含まれる各クロム触媒系
の量を変えることによって、またはクロム触媒組成物中
の支持体間の平均細孔半径差を変化させることによっ
て、得られるポリマーの比較的高分子量部分中への非−
エチレンコモノマーを優先的に導入することができる。
高分子量部分は、一般に、商用として容易に入手できる
装置を使用するゲル透過クロマトグラフィーを使用する
ことによって集めたデータを使用して測定できる。高分
子量部分は、重量平均分子量より高い部分である。得ら
れるコポリマーの高分子量部分中への非エチレンコモノ
マーの優先的導入は、コモノマーの主要部分が比較的高
分子量部分に存在させることを意味する。これはポリマ
ー中における短鎖アルキル分枝の数を計算することによ
って測定できる。例えば、エチレンと1−ヘキセンとの
コポリマーにおいて、ブチル分枝の数はポリマー中へ配
合された1−ヘキセンコモノマーの量の証拠となる。
において公知の任意の方法で一緒に組合せることができ
る。例えば、これらはミキサー中において一緒に乾式混
合するかまたは反応器に導入する供給流に添加すること
ができる。クロム触媒組成物中に含まれる各クロム触媒
系の量を変化させることによって、得られるコポリマー
組成物中へ配合されるコモノマーの量を変えることがで
きることは重要な点である。さらに、クロム触媒組成物
中に含まれる各クロム触媒系の量を変化させることによ
って、得られるポリマーの密度をこの種のクロム触媒系
に関して従来知られていたよりはるかにメルトインデッ
クスに依存することなく変更することができる。これに
加えて、クロム触媒組成物中に含まれる各クロム触媒系
の量を変えることによって、またはクロム触媒組成物中
の支持体間の平均細孔半径差を変化させることによっ
て、得られるポリマーの比較的高分子量部分中への非−
エチレンコモノマーを優先的に導入することができる。
高分子量部分は、一般に、商用として容易に入手できる
装置を使用するゲル透過クロマトグラフィーを使用する
ことによって集めたデータを使用して測定できる。高分
子量部分は、重量平均分子量より高い部分である。得ら
れるコポリマーの高分子量部分中への非エチレンコモノ
マーの優先的導入は、コモノマーの主要部分が比較的高
分子量部分に存在させることを意味する。これはポリマ
ー中における短鎖アルキル分枝の数を計算することによ
って測定できる。例えば、エチレンと1−ヘキセンとの
コポリマーにおいて、ブチル分枝の数はポリマー中へ配
合された1−ヘキセンコモノマーの量の証拠となる。
【0047】本発明において使用されるクロム触媒組成
物は、重合条件下で1種以上のオレフィンと接触させて
ホモポリマーまたはコポリマー組成物を製造できる。好
適なオレフィンには、これらに限定されないが、エチレ
ン、プロピレン、1−ブテン、3−メチル−1−ブテ
ン、1−ペンテン、3−メチル−1−ペンテン、4−メ
チル−1−ペンテン、1−ヘキセン、3−エチレン−1
−ヘキセン、1−オクテン、1−デセンおよび前記オレ
フィン2種以上の混合物が含まれる。特に好ましいのは
エチレンである。これに加えて、使用するためオレフィ
ンの特に好ましい組合せは、エチレンと1−ヘキセンで
ある。これらの2種のオレフィンはこれらのオレフィン
が本発明において開示するクロム触媒組成物で特に良好
に共重合するために現在のところ特に好ましい。
物は、重合条件下で1種以上のオレフィンと接触させて
ホモポリマーまたはコポリマー組成物を製造できる。好
適なオレフィンには、これらに限定されないが、エチレ
ン、プロピレン、1−ブテン、3−メチル−1−ブテ
ン、1−ペンテン、3−メチル−1−ペンテン、4−メ
チル−1−ペンテン、1−ヘキセン、3−エチレン−1
−ヘキセン、1−オクテン、1−デセンおよび前記オレ
フィン2種以上の混合物が含まれる。特に好ましいのは
エチレンである。これに加えて、使用するためオレフィ
ンの特に好ましい組合せは、エチレンと1−ヘキセンで
ある。これらの2種のオレフィンはこれらのオレフィン
が本発明において開示するクロム触媒組成物で特に良好
に共重合するために現在のところ特に好ましい。
【0048】種々の重合方式が当業界において公知であ
る。例えば、U.S.P.2,825,721;3,1
52,872;3,172,737;3,203,76
6;3,225,023;3,226,205;3,2
42,150;3,248,179および4,121,
029には数種の重合方式が開示されている。特に好ま
しい重合方式は、スラリーまたは粒子形状重合方法であ
る。この方法は、例えばU.S.P.3,248,17
9に開示されている。2種の好ましいスラリー重合方法
は、ループ反応器を使用する方法および直列、並列また
はこれらの組合せのいずれかの複数のかく拌反応器を使
用する方法である。
る。例えば、U.S.P.2,825,721;3,1
52,872;3,172,737;3,203,76
6;3,225,023;3,226,205;3,2
42,150;3,248,179および4,121,
029には数種の重合方式が開示されている。特に好ま
しい重合方式は、スラリーまたは粒子形状重合方法であ
る。この方法は、例えばU.S.P.3,248,17
9に開示されている。2種の好ましいスラリー重合方法
は、ループ反応器を使用する方法および直列、並列また
はこれらの組合せのいずれかの複数のかく拌反応器を使
用する方法である。
【0049】[例] この例は、当業界の熟練者が本発
明をさらに理解する一助として示す。特定の反応体、触
媒および条件は、本発明を全般的に例示するためのもの
であって、本発明の合理的な範囲を不当に限定する積り
はない。
明をさらに理解する一助として示す。特定の反応体、触
媒および条件は、本発明を全般的に例示するためのもの
であって、本発明の合理的な範囲を不当に限定する積り
はない。
【0050】重合は、87リットル、直径15.2cmの
パイプループ反応器で行った。ポリマーはフラッシュ室
中において回収した。ポリマーの乾燥にはVulcan
ドライヤーを使用した。
パイプループ反応器で行った。ポリマーはフラッシュ室
中において回収した。ポリマーの乾燥にはVulcan
ドライヤーを使用した。
【0051】アルミナ上で乾燥させたエチレンを、重合
モノマーとして使用した。分別によって脱気し、かつ、
アルミナ上で乾燥させたイソブタンを重合稀釈剤として
使用した。トリエチル硼素を助触媒として使用した。
モノマーとして使用した。分別によって脱気し、かつ、
アルミナ上で乾燥させたイソブタンを重合稀釈剤として
使用した。トリエチル硼素を助触媒として使用した。
【0052】支持体の平均細孔半径および細孔容積の測
定には、「Quantachrome Autosor
b−6 Nitrogen Pore Size De
stribution Instrument」を使用
した。その測定器は、Quantachrome Co
rporation,Syosset,New Yor
kから購入した。平均細孔半径は次式を使用して計算し
た:
定には、「Quantachrome Autosor
b−6 Nitrogen Pore Size De
stribution Instrument」を使用
した。その測定器は、Quantachrome Co
rporation,Syosset,New Yor
kから購入した。平均細孔半径は次式を使用して計算し
た:
【0053】
【数1】
【0054】実験番号1においては、次のクロム触媒組
成物を使用した:
成物を使用した:
【0055】(1)W.R.Grace Corpor
ationから購入した商用として入手できるクロム触
媒系。このクロム触媒系は、Magnapore Ca
talystであった。これは、約94Åの平均細孔半
径および約2.1cm3 /gの細孔容積を有していた。こ
の触媒はまた、クロム触媒系重量に基づいて約1重量%
のクロム含量を有していた。このクロム触媒系を約84
5℃の温度で還元し、次いで約650℃の温度で再酸化
した;
ationから購入した商用として入手できるクロム触
媒系。このクロム触媒系は、Magnapore Ca
talystであった。これは、約94Åの平均細孔半
径および約2.1cm3 /gの細孔容積を有していた。こ
の触媒はまた、クロム触媒系重量に基づいて約1重量%
のクロム含量を有していた。このクロム触媒系を約84
5℃の温度で還元し、次いで約650℃の温度で再酸化
した;
【0056】(2)W.R.Grace Corpor
ationから購入した商用として入手できるクロム触
媒系。このクロム触媒系は、969ID触媒であった。
この触媒は、約78Åの平均細孔半径および約1.1cm
3 /gの細孔容積を有していた。これはまた、クロム触
媒系重量に基づいて約1重量%のクロム含量を有してい
た。このクロム触媒系を、約540℃の温度で活性化
し、次いで約370℃の温度で一酸化炭素を使用して還
元した。この触媒系は、エチレンの重合の間にモノ−1
−ヘキセンを生成した。
ationから購入した商用として入手できるクロム触
媒系。このクロム触媒系は、969ID触媒であった。
この触媒は、約78Åの平均細孔半径および約1.1cm
3 /gの細孔容積を有していた。これはまた、クロム触
媒系重量に基づいて約1重量%のクロム含量を有してい
た。このクロム触媒系を、約540℃の温度で活性化
し、次いで約370℃の温度で一酸化炭素を使用して還
元した。この触媒系は、エチレンの重合の間にモノ−1
−ヘキセンを生成した。
【0057】次いで、これらの2種の触媒系を一緒に混
合し、かつ、エチレンの重合に使用した。この重合に関
する追加の情報および得られた結果を表E1に示す。
合し、かつ、エチレンの重合に使用した。この重合に関
する追加の情報および得られた結果を表E1に示す。
【0058】
【表1】 表E1 1.反応器滞留時間 1.23時間 2.反応器温度 107℃ 3.イソブタン稀釈剤に基づく トリエチル硼素量(重量ppm) 2.7 4.ASTM−D−1238による コポリマーのメルトインデックス 0.35g/10分 5.ASTM−D−1505による コポリマーの密度 0.9555g/cc 6.ASTM−D−1693による コポリマーの耐環境応力亀裂性 220時間
【0059】実験番号2においては、次のクロム触媒組
成物を使用した:
成物を使用した:
【0060】(1)W.R.Grace Corpor
ationから購入した商用として入手できるクロム触
媒系。このクロム触媒系は、Magnapore Ca
talystであった。この触媒系は、約94Åの平均
細孔半径および約2.1cm3/gの細孔容積を有してい
た。これはまた、クロム触媒系重量に基づいて約1重量
%のクロム含量を有していた。このクロム触媒系を、約
870℃の温度で還元し、次いで約590℃の温度で再
酸化した。
ationから購入した商用として入手できるクロム触
媒系。このクロム触媒系は、Magnapore Ca
talystであった。この触媒系は、約94Åの平均
細孔半径および約2.1cm3/gの細孔容積を有してい
た。これはまた、クロム触媒系重量に基づいて約1重量
%のクロム含量を有していた。このクロム触媒系を、約
870℃の温度で還元し、次いで約590℃の温度で再
酸化した。
【0061】(2)W.R.Grace Corpor
ationから購入した商用として入手できるクロム触
媒系。このクロム触媒系は、969ID触媒であった。
この触媒系は、約78Åの平均細孔半径および約1.1
cm3 /gの細孔容積を有していた。これはまた、クロム
触媒系重量に基づいて約1重量%のクロム含量を有して
いた。このクロム触媒系を、約650℃の温度で活性化
し、次いで約370℃の温度で一酸化炭素を使用して還
元した。この触媒系は、エチレンの重合の間に、モノ−
1−ヘキセンを生成した。
ationから購入した商用として入手できるクロム触
媒系。このクロム触媒系は、969ID触媒であった。
この触媒系は、約78Åの平均細孔半径および約1.1
cm3 /gの細孔容積を有していた。これはまた、クロム
触媒系重量に基づいて約1重量%のクロム含量を有して
いた。このクロム触媒系を、約650℃の温度で活性化
し、次いで約370℃の温度で一酸化炭素を使用して還
元した。この触媒系は、エチレンの重合の間に、モノ−
1−ヘキセンを生成した。
【0062】次いで、これらの2種の触媒系を混合し、
かつ、エチレンおよびモノ−1−ヘキセンの共重合に使
用した。この重合に関する追加の情報および得られた結
果を表E2に示す。
かつ、エチレンおよびモノ−1−ヘキセンの共重合に使
用した。この重合に関する追加の情報および得られた結
果を表E2に示す。
【0063】
【表2】 表E2 1.反応器滞留時間 1.22時間 2.反応器温度 96℃ 3.イソブタン稀釈剤に基づく トリエチル硼素量(重量ppm) 2.57 4.ASTM−D−1238によるコポリマーの メルトインデックス 0.09g/10分 5.ASTM−D−1505によるコポリマーの 密度 0.9551g/cc 6.ASTM−D−1693によるコポリマーの 耐環境応力亀裂性 262時間
【0064】比較の目的で、商用として入手できるクロ
ム触媒をDavison Corporationから
得た(商標名 969MS)。この触媒は、約94Åの
平均細孔半径および約1.5cm3 /gの細孔容積を有し
ていた。上記と同様な重合条件下で、この触媒で次の特
性のコポリマーが生成された:
ム触媒をDavison Corporationから
得た(商標名 969MS)。この触媒は、約94Åの
平均細孔半径および約1.5cm3 /gの細孔容積を有し
ていた。上記と同様な重合条件下で、この触媒で次の特
性のコポリマーが生成された:
【0065】
【表3】 メルトインデックス 0.3g/10分 密度 0.957g/cc ESCR(耐環境応力亀裂性) 100時間
【0066】上記から、高密度および高い耐環境応力亀
裂性の両者を有するコポリマーが本発明を使用すること
によって得られることが分かる。このことは、969M
S触媒から生成されたコポリマーと本発明によって生成
されたコポリマーとを比較したときに特に明らかであ
る。
裂性の両者を有するコポリマーが本発明を使用すること
によって得られることが分かる。このことは、969M
S触媒から生成されたコポリマーと本発明によって生成
されたコポリマーとを比較したときに特に明らかであ
る。
フロントページの続き (72)発明者 マックス ポール マックダニエル アメリカ合衆国オクラホマ州バートルスビ ル,メルマート ドライブ 1601
Claims (28)
- 【請求項1】 少なくとも2種のクロム触媒系の各々が
クロムおよびシリカを含む支持体から成り、前記の少な
くとも2種のクロム触媒系の支持体が、得られるコポリ
マーの比較的高い分子量部分に非−エチレンコモノマー
を優先的に導入するのに十分な平均細孔半径差を有する
ことを特徴とする少なくとも2種のクロム触媒系を含む
オレフィン重合用クロム触媒組成物。 - 【請求項2】 前記の支持体が、該支持体の重量に基づ
いて少なくとも80重量%のシリカを含む請求項1に記
載のクロム触媒組成物。 - 【請求項3】 前記の支持体が、該支持体の重量に基づ
いて少なくとも90重量%のシリカを含む請求項2に記
載のクロム触媒組成物。 - 【請求項4】 前記のクロムが、約0.1〜約5重量%
の量で前記のクロム触媒系中に存在する請求項1〜3の
任意の1項に記載のクロム触媒組成物。 - 【請求項5】 前記の支持体の少なくとも一つが、シリ
カおよびチタニアから本質的に成る請求項1〜4の任意
の1項に記載のクロム触媒組成物。 - 【請求項6】 前記の支持体が、該支持体の重量に基づ
いて少なくとも80重量%のシリカおよび少なくとも
0.1重量%のチタニアから本質的に成る請求項5に記
載のクロム触媒組成物。 - 【請求項7】 前記の支持体が、該支持体の重量に基づ
いて少なくとも90重量%のシリカおよび少なくとも1
重量%のチタニアから本質的に成る請求項6に記載のク
ロム触媒組成物。 - 【請求項8】 前記の支持体の各々が、シリカおよびチ
タニアから本質的に成り、かつ、少なくとも2種の支持
体が、少なくとも約25Åの平均細孔半径差を有する請
求項5〜7の任意の1項に記載のクロム触媒組成物。 - 【請求項9】 前記の平均細孔半径差が、約25〜約4
00Åである請求項8に記載のクロム触媒組成物。 - 【請求項10】 前記の平均細孔半径差が、50〜30
0Åである請求項9に記載のクロム触媒組成物。 - 【請求項11】 前記の少なくとも2種のクロム触媒系
の少なくとも一つの支持体が、シリカおよびチタニアか
ら本質的に成り、該支持体が約85Å未満の平均細孔半
径および約1.2cm3 /g未満の細孔容積を有するもの
であり、このクロム触媒系を次の処理:(1)還元およ
び再酸化、(2)チタン化および(3)高温度での活性
化の少なくとも一つに処し;そして前記の少なくとも2
種のクロム触媒系の少なくとも他の触媒系の支持体がシ
リカから本質的に成り、該支持体が約85Å以上の平均
細孔半径および約1.5cm3 /g以上の細孔容積を有す
るものであり、このクロム触媒系を次の処理:(1)低
温度での活性化および(2)弗素化合物との接触の少な
くとも一つに処する請求項1〜7の任意の1項に記載の
クロム触媒組成物。 - 【請求項12】 前記のシリカ−チタニア支持体が、約
25〜約85Åの平均細孔半径を有する請求項11に記
載のクロム触媒組成物。 - 【請求項13】 前記のシリカ−チタニア支持体が、3
0〜80Åの平均細孔半径を有する請求項12に記載の
クロム触媒組成物。 - 【請求項14】 前記のシリカ−チタニア支持体が、約
0.6〜約1.2cm 3 /gの細孔容積を有する請求項1
1〜13の任意の1項に記載のクロム触媒組成物。 - 【請求項15】 前記のシリカ−チタニア支持体が、
0.8〜1.15cm3/gの細孔容積を有する請求項1
4に記載のクロム触媒組成物。 - 【請求項16】 前記のシリカ支持体が、約85〜約1
000Åの平均細孔半径を有する請求項11〜15の任
意の1項に記載のクロム触媒組成物。 - 【請求項17】 前記のシリカ支持体が、90〜500
Åの平均細孔半径を有する請求項16に記載のクロム触
媒組成物。 - 【請求項18】 前記のシリカ支持体が、約1.5〜約
4cm3 /gの細孔容積を有する請求項11〜17の任意
の1項に記載のクロム触媒組成物。 - 【請求項19】 前記のシリカ支持体が、1.5〜3cm
3 /gの細孔容積を有する請求項18に記載のクロム触
媒組成物。 - 【請求項20】 前記の少なくとも2種のクロム触媒系
の少なくとも一つの支持体がシリカおよびチタニアから
本質的に成り、該支持体が約85Å以上の平均細孔半径
および約2cm3 /g以上の細孔容積を有するものであ
り、このクロム触媒系を次の処理:(1)還元および再
酸化、(2)チタン化および(または)(3)高温度で
の活性化の少なくとも一つに処し;そして、前記の少な
くとも2種のクロム触媒系の少なくとも他の支持体がシ
リカから本質的に成り、該支持体が約85Å未満の平均
細孔半径および約1.7cm3 /g未満の細孔容積を有す
るものであり、このクロム触媒系を還元する請求項1〜
7の任意の1項に記載のクロム触媒組成物。 - 【請求項21】 前記のシリカ−チタニア支持体が、約
85〜約1000Åの平均細孔半径を有する請求項20
に記載のクロム触媒組成物。 - 【請求項22】 前記のシリカ−チタニア支持体が、9
0〜500Åの平均細孔半径を有する請求項21に記載
のクロム触媒組成物。 - 【請求項23】 前記のシリカ−チタニア支持体が、約
2〜約4cm3 /gの細孔容積を有する請求項20〜22
の任意の1項に記載のクロム触媒組成物。 - 【請求項24】 前記のシリカ−チタニア支持体が、2
〜3cm3 /gの細孔容積を有する請求項23に記載のク
ロム触媒組成物。 - 【請求項25】 前記のシリカ支持体が、約25〜約8
5Åの平均細孔半径を有する請求項20〜24の任意の
1項に記載のクロム触媒組成物。 - 【請求項26】 前記のシリカ支持体が、30〜80Å
の平均細孔半径を有する請求項25に記載のクロム触媒
組成物。 - 【請求項27】 前記のシリカ支持体が、約0.6〜約
1.7cm3 /gの細孔容積を有する請求項20〜26の
任意の1項に記載のクロム触媒組成物。 - 【請求項28】 前記のシリカ支持体が、0.8〜1.
3cm3 /gの細孔容積を有する請求項27に記載のクロ
ム触媒組成物。
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