JPH06200391A - 電解用電極 - Google Patents
電解用電極Info
- Publication number
- JPH06200391A JPH06200391A JP43A JP36003892A JPH06200391A JP H06200391 A JPH06200391 A JP H06200391A JP 43 A JP43 A JP 43A JP 36003892 A JP36003892 A JP 36003892A JP H06200391 A JPH06200391 A JP H06200391A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- electrode
- layer
- underlayer
- electrolysis
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 title claims abstract description 15
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 37
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 37
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 claims abstract description 25
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 23
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 claims abstract description 20
- 238000003754 machining Methods 0.000 claims abstract description 16
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims abstract description 14
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims abstract description 5
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims abstract description 5
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 7
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 7
- 229910001092 metal group alloy Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract description 49
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 12
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 11
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 abstract description 11
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 abstract description 11
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 abstract description 6
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 abstract description 5
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 abstract description 5
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract description 4
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 abstract description 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 abstract description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 abstract description 3
- -1 platinum group metals Chemical class 0.000 abstract description 3
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 abstract description 2
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 abstract 2
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 abstract 1
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 abstract 1
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 229910003446 platinum oxide Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 22
- 239000002585 base Substances 0.000 description 20
- 239000008151 electrolyte solution Substances 0.000 description 15
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 11
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 11
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 6
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 6
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 5
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 5
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 3
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 3
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000978 Pb alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 2
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 2
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 238000005280 amorphization Methods 0.000 description 1
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- LFYJSSARVMHQJB-QIXNEVBVSA-N bakuchiol Chemical compound CC(C)=CCC[C@@](C)(C=C)\C=C\C1=CC=C(O)C=C1 LFYJSSARVMHQJB-QIXNEVBVSA-N 0.000 description 1
- 239000010953 base metal Substances 0.000 description 1
- 230000001680 brushing effect Effects 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000011889 copper foil Substances 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000009760 electrical discharge machining Methods 0.000 description 1
- 238000005246 galvanizing Methods 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 230000008595 infiltration Effects 0.000 description 1
- 238000001764 infiltration Methods 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 1
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 238000005554 pickling Methods 0.000 description 1
- 230000000171 quenching effect Effects 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Electrodes For Compound Or Non-Metal Manufacture (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 酸素発生用の電極として長時間使用しても、
基体に電解液が接触することがない電解用電極を提供す
る。 【構成】 Ti、Ta、Nb、Zr、Hf、V、Mo、
W等の弁金属により構成される基体1の表面に、該基体
1を構成する弁金属以外の種類の弁金属又は弁金属の酸
化物を、放電加工により被覆して下地層2を形成する。
そして、上記下地層2の表面にブタノールを担持液とし
た白金、酸化セリウム等の混合液を塗布して加熱、乾燥
後、貴金属酸化物を触媒として、酸化雰囲気中で熱分解
法により被覆して被覆層3を形成する。さらに、上記被
覆層3の表面に白金族金属又は白金族金属の酸化物を化
成、電解若しくは蒸着等の公知手法によるメッキにより
被覆して表面層4を形成する。
基体に電解液が接触することがない電解用電極を提供す
る。 【構成】 Ti、Ta、Nb、Zr、Hf、V、Mo、
W等の弁金属により構成される基体1の表面に、該基体
1を構成する弁金属以外の種類の弁金属又は弁金属の酸
化物を、放電加工により被覆して下地層2を形成する。
そして、上記下地層2の表面にブタノールを担持液とし
た白金、酸化セリウム等の混合液を塗布して加熱、乾燥
後、貴金属酸化物を触媒として、酸化雰囲気中で熱分解
法により被覆して被覆層3を形成する。さらに、上記被
覆層3の表面に白金族金属又は白金族金属の酸化物を化
成、電解若しくは蒸着等の公知手法によるメッキにより
被覆して表面層4を形成する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、水溶液等の電気分解
に用いられる電解用電極であって、特に陽極に酸素発生
を伴う電極に適した電極に関する。
に用いられる電解用電極であって、特に陽極に酸素発生
を伴う電極に適した電極に関する。
【0002】
【従来の技術】塩素イオンを含む電解液等を電気分解す
る際の塩素発生用電極として、弁金属に代表される高耐
食性金属を基体にして表面に白金族金属や白金族金属酸
化物を被覆処理した電極が用いられている。この電極
は、基体には主として弁金属のうちのチタンが用いら
れ、その表面に熱分解により白金族金属等の被覆処理が
行なわれて表面層が形成されている。そして、上記表面
層が上記弁金属の表面を腐食等から保護し電気的な活性
状態を維持して、長時間の電気分解を可能としている。
この種のチタン製不溶性金属電極は塩素発生用電極(陽
極)としてグラファイト電極を駆逐し、ソーダ電解工業
の製法技術を水銀法からイオン隔膜法へと転換させた。
る際の塩素発生用電極として、弁金属に代表される高耐
食性金属を基体にして表面に白金族金属や白金族金属酸
化物を被覆処理した電極が用いられている。この電極
は、基体には主として弁金属のうちのチタンが用いら
れ、その表面に熱分解により白金族金属等の被覆処理が
行なわれて表面層が形成されている。そして、上記表面
層が上記弁金属の表面を腐食等から保護し電気的な活性
状態を維持して、長時間の電気分解を可能としている。
この種のチタン製不溶性金属電極は塩素発生用電極(陽
極)としてグラファイト電極を駆逐し、ソーダ電解工業
の製法技術を水銀法からイオン隔膜法へと転換させた。
【0003】ところで、近年では、塩素発生用電極とし
て開発されたこのチタン製不溶性電極を、自動車用鋼板
の亜鉛メッキやエレクトロニクス分野での電解銅箔、鉄
箔など酸素発生を伴う表面処理技術へも実用化を図るべ
く、鋭意研究されている。なお、酸素発生用電極として
は鉛合金製不溶性電極が存在しており、安定性、加工
性、コスト面等を比較した場合には、該鉛合金製不溶性
電極に対してチタン製電極は必ずしも有利とは言えな
い。しかし、完全不溶性電極の開発に対する工業上の要
望は根強く、早期の実用化が切望されている。
て開発されたこのチタン製不溶性電極を、自動車用鋼板
の亜鉛メッキやエレクトロニクス分野での電解銅箔、鉄
箔など酸素発生を伴う表面処理技術へも実用化を図るべ
く、鋭意研究されている。なお、酸素発生用電極として
は鉛合金製不溶性電極が存在しており、安定性、加工
性、コスト面等を比較した場合には、該鉛合金製不溶性
電極に対してチタン製電極は必ずしも有利とは言えな
い。しかし、完全不溶性電極の開発に対する工業上の要
望は根強く、早期の実用化が切望されている。
【0004】ところが、上述したような、弁金属基体に
白金族金属等を被覆した構造では、白金族金属等からな
る表面層は基体の表面上に熱分解により形成されている
ので、該表面層には無数のクラックが発生した状態にあ
る。そして、上記亜鉛メッキ等の表面処理は硫酸やフッ
化水素酸等の無機酸の電解液中で行なわれるため、上記
クラックから電解液が入り込み、該電解液が基体に直接
触れてしまって、該基体が腐食するおそれがあった。
白金族金属等を被覆した構造では、白金族金属等からな
る表面層は基体の表面上に熱分解により形成されている
ので、該表面層には無数のクラックが発生した状態にあ
る。そして、上記亜鉛メッキ等の表面処理は硫酸やフッ
化水素酸等の無機酸の電解液中で行なわれるため、上記
クラックから電解液が入り込み、該電解液が基体に直接
触れてしまって、該基体が腐食するおそれがあった。
【0005】また、上記電気分解時には、陽極で酸素が
発生するため、上記クラックから入り込んだ電解液によ
り上記基体の表面上で酸素が発生することがあり、該基
体と表面層との間で酸化が進行し、このため該表面層が
剥離するおそれがあった。そして、上記基体の表面の酸
化により上記電極が不動態化してしまい、電圧上昇を起
こしたり通電不能の状態になるおそれがあった。
発生するため、上記クラックから入り込んだ電解液によ
り上記基体の表面上で酸素が発生することがあり、該基
体と表面層との間で酸化が進行し、このため該表面層が
剥離するおそれがあった。そして、上記基体の表面の酸
化により上記電極が不動態化してしまい、電圧上昇を起
こしたり通電不能の状態になるおそれがあった。
【0006】このため、上記基体と表面層との間に、弁
金属からなる下地層を形成する構造が知られている。こ
の構造によれば、表面層のクラックから電解液が入り込
んでも、上記下地層が存在することにより電解液が基体
に接触することが防止され、該基体の耐食や酸化を防ぐ
ことができる。
金属からなる下地層を形成する構造が知られている。こ
の構造によれば、表面層のクラックから電解液が入り込
んでも、上記下地層が存在することにより電解液が基体
に接触することが防止され、該基体の耐食や酸化を防ぐ
ことができる。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記下
地層は基体の表面上に弁金属が熱分解により被覆されて
形成されており、該下地層の表面にさらに熱分解により
前記表面層が形成されているので、該表面層のクラック
から入り込んだ電解液が上記下地層の表面に達し、長時
間の使用により、該電解液は下地層のクラックから入り
込み前記基体の表面に達してしまうおそれがある。この
ため、上記電極を酸素発生用電極として長時間使用する
と、基体の表面が酸化され、電圧が上昇したり電極が不
動態化してしまうおそれがある。
地層は基体の表面上に弁金属が熱分解により被覆されて
形成されており、該下地層の表面にさらに熱分解により
前記表面層が形成されているので、該表面層のクラック
から入り込んだ電解液が上記下地層の表面に達し、長時
間の使用により、該電解液は下地層のクラックから入り
込み前記基体の表面に達してしまうおそれがある。この
ため、上記電極を酸素発生用電極として長時間使用する
と、基体の表面が酸化され、電圧が上昇したり電極が不
動態化してしまうおそれがある。
【0008】そこで、この発明は、酸素発生用の電極と
して長時間使用しても、基体に電解液が接触することが
ない電解用電極を提供することを目的とする。
して長時間使用しても、基体に電解液が接触することが
ない電解用電極を提供することを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
めの手段として、本発明に係る電解用電極は、弁金属か
らなる基体の表面に、該基体を形成する弁金属とは異な
る弁金属又は該弁金属の酸化物を放電加工により被覆し
て下地層を形成し、上記下地層の表面に、白金族金属又
は白金族金属合金をメッキして表面層を形成したことを
主たる特徴としており、さらに上記下地層の表面に貴金
属族酸化物の1つ又は複数を触媒にして多層からなる被
覆層を形成し、上記被覆層の表面に白金族金属又は白金
族金属合金をメッキして表面層を形成したことも特徴と
している。
めの手段として、本発明に係る電解用電極は、弁金属か
らなる基体の表面に、該基体を形成する弁金属とは異な
る弁金属又は該弁金属の酸化物を放電加工により被覆し
て下地層を形成し、上記下地層の表面に、白金族金属又
は白金族金属合金をメッキして表面層を形成したことを
主たる特徴としており、さらに上記下地層の表面に貴金
属族酸化物の1つ又は複数を触媒にして多層からなる被
覆層を形成し、上記被覆層の表面に白金族金属又は白金
族金属合金をメッキして表面層を形成したことも特徴と
している。
【0010】以下、本発明を詳細に説明する。
【0011】この発明に用いられる基体1には、耐食性
や導電性を有するTi、Ta、Nb、Zr、Hf、V、
Mo、W等の弁金属であればいずれであっても構わな
い。また、該基体1の形状は、板形状、有孔板、棒形状
等、適宜なもので構わない。
や導電性を有するTi、Ta、Nb、Zr、Hf、V、
Mo、W等の弁金属であればいずれであっても構わな
い。また、該基体1の形状は、板形状、有孔板、棒形状
等、適宜なもので構わない。
【0012】そして、第1工程として上記基体1の表面
に鋼球によるショットブラストを行ない、アセトンによ
り脱脂し、必要に応じて表面の酸化物、汚れ等を除去す
る。除去する方法は、酸洗い、アルカリ洗い、溶剤洗浄
等の公知の手法のいかんを問わないが、表面に有害な物
質のないクリーンな表面にする必要がある。この基体1
を熱蓚酸液中で浸漬加温し、水洗し、乾燥させる。
に鋼球によるショットブラストを行ない、アセトンによ
り脱脂し、必要に応じて表面の酸化物、汚れ等を除去す
る。除去する方法は、酸洗い、アルカリ洗い、溶剤洗浄
等の公知の手法のいかんを問わないが、表面に有害な物
質のないクリーンな表面にする必要がある。この基体1
を熱蓚酸液中で浸漬加温し、水洗し、乾燥させる。
【0013】次いで、第2工程として、上記基体1を陰
極とし、該基体1を形成したもの以外の弁金属を棒状の
電極としてこれを走査しつつ、陽極あるいはこの逆とし
て、大気、油、無酸化性ガス、例えば、Ar、N2、時
としてはH2等の中で、媒体を選ばずに通電し、放電加
工を行ない、上記基体1の表面に、上記陽極あるいはそ
の逆の陰極として用いられた弁金属により被覆を行なっ
て、下地層2を形成する(図1示)。これにより、下地
処理として従来知られる機械的、化学的粗面形成と異な
る三次元的複雑な形状を持つ粗面が下地層2に形成され
る。
極とし、該基体1を形成したもの以外の弁金属を棒状の
電極としてこれを走査しつつ、陽極あるいはこの逆とし
て、大気、油、無酸化性ガス、例えば、Ar、N2、時
としてはH2等の中で、媒体を選ばずに通電し、放電加
工を行ない、上記基体1の表面に、上記陽極あるいはそ
の逆の陰極として用いられた弁金属により被覆を行なっ
て、下地層2を形成する(図1示)。これにより、下地
処理として従来知られる機械的、化学的粗面形成と異な
る三次元的複雑な形状を持つ粗面が下地層2に形成され
る。
【0014】上記下地層2は、放電加工により被覆され
るので、クラックを有することはない。また、上記放電
加工により、上記基体1の表面は物理的結合を強化して
いる方法であって他の方法では考えられない粗面化が図
れ、上記下地層2は該基体1の表面に緊密に被覆される
ことになると同時に、界面の薄い合金化と基金属の急冷
効果により結晶の乱れや時としてアモルファス化させる
ことになり、以後の処理に当って強固な結合を与え、活
性化を図ることができる。このため、上記基体1と下地
層2との間に電解液が入り込むことはない。
るので、クラックを有することはない。また、上記放電
加工により、上記基体1の表面は物理的結合を強化して
いる方法であって他の方法では考えられない粗面化が図
れ、上記下地層2は該基体1の表面に緊密に被覆される
ことになると同時に、界面の薄い合金化と基金属の急冷
効果により結晶の乱れや時としてアモルファス化させる
ことになり、以後の処理に当って強固な結合を与え、活
性化を図ることができる。このため、上記基体1と下地
層2との間に電解液が入り込むことはない。
【0015】次いで、第3工程として、ブタノールを担
持液とした白金、イリジウム、タンタル等の化合物、例
えば塩化物の混合液を上記下地層2の表面に塗布する。
そして、この表面を加熱し乾燥させた後、酸化雰囲気中
で加熱保持して熱分解によって貴金属酸化物を触媒とし
た被覆層3を形成する。この被覆層3は、電極に要求さ
れる耐久性に応じて適宜に形成すればよい。すなわち、
高い耐食性を必要とする場合には、上記塗布と熱分解の
工程を繰り返して、該被覆層3を多層にして形成するこ
とにより、上記下地層2に生じた特異な三次元的空間に
入り込み、このアンカー作用によって、密着強度の強
化、下地層2の均質化等が図られ、画期的な耐久性を得
ることができる。
持液とした白金、イリジウム、タンタル等の化合物、例
えば塩化物の混合液を上記下地層2の表面に塗布する。
そして、この表面を加熱し乾燥させた後、酸化雰囲気中
で加熱保持して熱分解によって貴金属酸化物を触媒とし
た被覆層3を形成する。この被覆層3は、電極に要求さ
れる耐久性に応じて適宜に形成すればよい。すなわち、
高い耐食性を必要とする場合には、上記塗布と熱分解の
工程を繰り返して、該被覆層3を多層にして形成するこ
とにより、上記下地層2に生じた特異な三次元的空間に
入り込み、このアンカー作用によって、密着強度の強
化、下地層2の均質化等が図られ、画期的な耐久性を得
ることができる。
【0016】さらに、第4工程として、上記被覆層3の
表面に、触媒としての機能を有する白金族又は白金族の
合金を用いて、化成、電解若しくは蒸着等の公知手法に
よるメッキを行ない表面層4を形成する。該電極を加熱
して、焼鈍等の熱処理を行なうことは妨げない。上記表
面層4は、緻密なメッキ被膜により形成されるものであ
るので、該表面層4からの電解液の浸入を極力抑制する
ことができる。また、上記被覆層3を形成した場合に
は、該被覆層3と前記下地層2との結合を確実にするこ
とができる。さらに、白金族又は白金族の合金を用いた
メッキにより、表面の腐食や酸化を防止することができ
る。なお、必要に応じ、この工程の順序は第1工程と第
2工程の逆でも良い。
表面に、触媒としての機能を有する白金族又は白金族の
合金を用いて、化成、電解若しくは蒸着等の公知手法に
よるメッキを行ない表面層4を形成する。該電極を加熱
して、焼鈍等の熱処理を行なうことは妨げない。上記表
面層4は、緻密なメッキ被膜により形成されるものであ
るので、該表面層4からの電解液の浸入を極力抑制する
ことができる。また、上記被覆層3を形成した場合に
は、該被覆層3と前記下地層2との結合を確実にするこ
とができる。さらに、白金族又は白金族の合金を用いた
メッキにより、表面の腐食や酸化を防止することができ
る。なお、必要に応じ、この工程の順序は第1工程と第
2工程の逆でも良い。
【0017】上記した電解用電極を酸素発生用電極とし
て長時間使用した場合、電解液は前記表面層4のクラッ
クから僅かに浸入するが、前記被覆層3及び下地層2を
透過することは極めて困難となる。このため、前記基体
1の表面に電解液が接触するおそれはなくなり、この電
極の腐食や酸化が極力防止される。
て長時間使用した場合、電解液は前記表面層4のクラッ
クから僅かに浸入するが、前記被覆層3及び下地層2を
透過することは極めて困難となる。このため、前記基体
1の表面に電解液が接触するおそれはなくなり、この電
極の腐食や酸化が極力防止される。
【0018】
【実施例】以下、本発明を図示した実施例により具体的
に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【0019】{実施例1}大きさ 15mm×180mm、厚さ2
mmのTi基板を基体1としてその片面に対し、鋼球によ
るショットブラストを行なった後、アセトンにより脱脂
する。このTi基板を、5〜10%、60〜80℃の熱蓚酸液
中に3時間ないし5時間浸漬加温し、水洗して乾燥を行
ない、Ti基板表面の活性化処理を行なう。
mmのTi基板を基体1としてその片面に対し、鋼球によ
るショットブラストを行なった後、アセトンにより脱脂
する。このTi基板を、5〜10%、60〜80℃の熱蓚酸液
中に3時間ないし5時間浸漬加温し、水洗して乾燥を行
ない、Ti基板表面の活性化処理を行なう。
【0020】上記活性化処理が行なわれたTi基板を放
電加工装置に取り付け、該Ti基板を陰極として、また
バルブ金属の一つであるWの電極棒を陽極として、大気
中で放電加工を行なう。なお、この放電加工は、上記T
i基板の片面の15mm×15mmについて行なわれており、こ
れにより当該箇所に下地層2が形成される。
電加工装置に取り付け、該Ti基板を陰極として、また
バルブ金属の一つであるWの電極棒を陽極として、大気
中で放電加工を行なう。なお、この放電加工は、上記T
i基板の片面の15mm×15mmについて行なわれており、こ
れにより当該箇所に下地層2が形成される。
【0021】そして、金属換算量10g/lのH2PtCl4
を溶解させたブタノール液を上記下地層2の表面にハケ
により塗布し、下地層2が形成された該Ti基板を50〜
70℃で乾燥させ、酸化雰囲気としてのハロゲン炉中にお
いて500±10 ℃で30分間焼付けを行なう。これにより被
覆層3が形成される。
を溶解させたブタノール液を上記下地層2の表面にハケ
により塗布し、下地層2が形成された該Ti基板を50〜
70℃で乾燥させ、酸化雰囲気としてのハロゲン炉中にお
いて500±10 ℃で30分間焼付けを行なう。これにより被
覆層3が形成される。
【0022】上記Ptを焼き付けた後、H2IrCl6と
Ta(OC2H9)5、CeOとを6.8:3.0:0.2のモル組
成になるよう調整した混合液を、上記被覆層3の表面に
ハケにより塗布し、該Ti基板を50〜70℃で乾燥させ、
酸化雰囲気としてのハロゲン炉中において500±10 ℃で
30分間焼付けを行なう。そして、上記混合液を塗布し、
乾燥させ、焼き付ける操作を合計6回行なう。これによ
り表面層4が形成される。
Ta(OC2H9)5、CeOとを6.8:3.0:0.2のモル組
成になるよう調整した混合液を、上記被覆層3の表面に
ハケにより塗布し、該Ti基板を50〜70℃で乾燥させ、
酸化雰囲気としてのハロゲン炉中において500±10 ℃で
30分間焼付けを行なう。そして、上記混合液を塗布し、
乾燥させ、焼き付ける操作を合計6回行なう。これによ
り表面層4が形成される。
【0023】{実施例2}大きさ 15mm×180mm、厚さ2
mmのTi基板を基体1としてその片面に対し、鋼球によ
るショットブラストを行なった後、アセトンにより脱脂
する。このTi基板を放電加工装置に取り付け、該Ti
基板を陰極として、またバルブ金属の一つであるWの電
極棒を陽極として、大気中で放電加工を行なう。なお、
この放電加工は、上記Ti基板の片面の15mm×15mmにつ
いて行なわれており、これにより当該箇所に下地層2が
形成される。
mmのTi基板を基体1としてその片面に対し、鋼球によ
るショットブラストを行なった後、アセトンにより脱脂
する。このTi基板を放電加工装置に取り付け、該Ti
基板を陰極として、またバルブ金属の一つであるWの電
極棒を陽極として、大気中で放電加工を行なう。なお、
この放電加工は、上記Ti基板の片面の15mm×15mmにつ
いて行なわれており、これにより当該箇所に下地層2が
形成される。
【0024】下地層2が形成された上記Ti基板を、5
〜10%、60〜80℃の熱蓚酸液中に3時間ないし5時間浸
漬加温し、水洗して乾燥を行ない、下地層2の表面の活
性化処理を行なう。この活性化処理が行なわれた下地層
2に、前記実施例1と同様にして被覆層3及び表面層4
を形成する。
〜10%、60〜80℃の熱蓚酸液中に3時間ないし5時間浸
漬加温し、水洗して乾燥を行ない、下地層2の表面の活
性化処理を行なう。この活性化処理が行なわれた下地層
2に、前記実施例1と同様にして被覆層3及び表面層4
を形成する。
【0025】{実施例3}前記実施例1において下地層
2を形成する際に用いた放電加工の陽極としてのWの電
極棒を、Taの電極棒に変更して、上記実施例1と同様
にTi基板(基体1)に下地層2と被覆層3、表面層4
とを形成する。
2を形成する際に用いた放電加工の陽極としてのWの電
極棒を、Taの電極棒に変更して、上記実施例1と同様
にTi基板(基体1)に下地層2と被覆層3、表面層4
とを形成する。
【0026】{実施例4}前記実施例2において下地層
2を形成する際に用いた放電加工の陽極としてのWの電
極棒を、Taの電極棒に変更して、上記実施例2と同様
にTi基板(基体1)に下地層2と被覆層3、表面層4
とを形成する。
2を形成する際に用いた放電加工の陽極としてのWの電
極棒を、Taの電極棒に変更して、上記実施例2と同様
にTi基板(基体1)に下地層2と被覆層3、表面層4
とを形成する。
【0027】また、本発明と比較するために、放電加工
を行なわないもの、すなわち焼き付けのみによる方法で
試料を調製した。 {比較例}大きさ 15mm×180mm、厚さ2mmのTi基板を
基体としてその片面に対し、鋼球によるショットブラス
トを行なった後、アセトンにより脱脂する。このTi基
板を、5〜10%、60〜80℃の熱蓚酸液中に3時間ないし
5時間浸潰加温し、水洗して乾燥を行ない、Ti基板表
面の活性化処理を行なう。
を行なわないもの、すなわち焼き付けのみによる方法で
試料を調製した。 {比較例}大きさ 15mm×180mm、厚さ2mmのTi基板を
基体としてその片面に対し、鋼球によるショットブラス
トを行なった後、アセトンにより脱脂する。このTi基
板を、5〜10%、60〜80℃の熱蓚酸液中に3時間ないし
5時間浸潰加温し、水洗して乾燥を行ない、Ti基板表
面の活性化処理を行なう。
【0028】上記活性化処理が行なわれたTi基板に、
前記実施例1と同様に被覆層と表面層とを焼き付け処理
により形成する。
前記実施例1と同様に被覆層と表面層とを焼き付け処理
により形成する。
【0029】上述した実施例1ないし実施例4及び比較
例により調製された試料について通電腐食試験を行なっ
た。なお、陽極には調製したTi基板、陰極には白金を
用いて、表1に示す条件下で行なった。
例により調製された試料について通電腐食試験を行なっ
た。なお、陽極には調製したTi基板、陰極には白金を
用いて、表1に示す条件下で行なった。
【0030】そして、上記通電腐食試験により得た結果
を、表2に示す。さらに、この結果を図2のグラフに示
す。同図に示すように、実施例2の試料では約5250時間
で電圧上昇が生じ、以下、実施例4の試料では約4800時
間、実施例1の試料では約3500時間、実施例3の試料で
は約3200時間、比較例の試料では約2000時間でそれぞれ
電圧上昇が生じた。
を、表2に示す。さらに、この結果を図2のグラフに示
す。同図に示すように、実施例2の試料では約5250時間
で電圧上昇が生じ、以下、実施例4の試料では約4800時
間、実施例1の試料では約3500時間、実施例3の試料で
は約3200時間、比較例の試料では約2000時間でそれぞれ
電圧上昇が生じた。
【表1】
【表2】
【0031】
【発明の効果】以上説明したように、本発明に係る電解
用電極によれば、基体の表面に放電加工により下地層を
形成するので、該基体と下地層との結合面が滑面でなく
なって粗面化されるので、強固な結合が得られる。しか
も、放電加工によって該下地層の表面も公知の粗面形成
法では得られないような粗面を形成し、このため該下地
層とこの上に形成される被覆層あるいは表面層との結合
が緊密となる。さらに、放電加工によって形成された下
地層にはクラックが存在しない。このため、該下地層の
表面から該下地層と上記基体との間に電解液が浸入する
ことが防止できる。したがって、酸素発生用電極として
長時間使用しても、該基体が腐食により劣化することは
なく、該基体の酸化によって電圧上昇や通電不能などの
事態が起こることがない。
用電極によれば、基体の表面に放電加工により下地層を
形成するので、該基体と下地層との結合面が滑面でなく
なって粗面化されるので、強固な結合が得られる。しか
も、放電加工によって該下地層の表面も公知の粗面形成
法では得られないような粗面を形成し、このため該下地
層とこの上に形成される被覆層あるいは表面層との結合
が緊密となる。さらに、放電加工によって形成された下
地層にはクラックが存在しない。このため、該下地層の
表面から該下地層と上記基体との間に電解液が浸入する
ことが防止できる。したがって、酸素発生用電極として
長時間使用しても、該基体が腐食により劣化することは
なく、該基体の酸化によって電圧上昇や通電不能などの
事態が起こることがない。
【0032】また、処理後の表面は滑面でなく有効表面
積が同時に増加するため、酸素発生用電極として陽極に
用いた場合に、より能率的になることが期待される。
積が同時に増加するため、酸素発生用電極として陽極に
用いた場合に、より能率的になることが期待される。
【図1】この電極の概略の構造を示す断面図である。
【図2】通電腐食試験の結果を示す図である。
1 基体 2 下地層 3 被覆層 4 表面層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 今 西 克 司 千葉県柏市新十余二17番地1 ヨシザワエ ルエー株式会社内 (72)発明者 田 代 久 郎 東京都中央区八重洲一丁目3番8号 日鉄 ハード株式会社内 (72)発明者 武 波 正 憲 東京都中央区八重洲一丁目3番8号 日鉄 ハード株式会社内
Claims (2)
- 【請求項1】 弁金属からなる基体の表面に、該基体を
形成する弁金属とは異なる弁金属または該弁金属の酸化
物を放電加工により被覆して下地層を形成し、 上記下地層の表面に、白金族金属または白金族金属合金
をメッキして表面層を形成したことを特徴とする電解用
電極。 - 【請求項2】 弁金属からなる基体の表面に、該基体を
形成する弁金属とは異なる弁金属または該弁金属の酸化
物を放電加工により被覆して下地層を形成し、 上記下地層の表面に、貴金属族酸化物の1つまたは複数
を触媒にして多層からなる被覆層を形成し、 上記被覆層の表面に、白金族金属または白金族金属合金
をメッキして表面層を形成したことを特徴とする電解用
電極。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP43A JPH06200391A (ja) | 1992-12-28 | 1992-12-28 | 電解用電極 |
| TW83105805A TW239168B (ja) | 1992-12-28 | 1994-06-27 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP43A JPH06200391A (ja) | 1992-12-28 | 1992-12-28 | 電解用電極 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06200391A true JPH06200391A (ja) | 1994-07-19 |
Family
ID=18467584
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP43A Withdrawn JPH06200391A (ja) | 1992-12-28 | 1992-12-28 | 電解用電極 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06200391A (ja) |
| TW (1) | TW239168B (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006009094A (ja) * | 2004-06-25 | 2006-01-12 | Furuya Kinzoku:Kk | 耐食材及びその製造方法 |
| JP2018524470A (ja) * | 2015-06-23 | 2018-08-30 | インドゥストリエ・デ・ノラ・ソチエタ・ペル・アツィオーニ | 電解過程のための電極 |
-
1992
- 1992-12-28 JP JP43A patent/JPH06200391A/ja not_active Withdrawn
-
1994
- 1994-06-27 TW TW83105805A patent/TW239168B/zh active
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006009094A (ja) * | 2004-06-25 | 2006-01-12 | Furuya Kinzoku:Kk | 耐食材及びその製造方法 |
| JP2018524470A (ja) * | 2015-06-23 | 2018-08-30 | インドゥストリエ・デ・ノラ・ソチエタ・ペル・アツィオーニ | 電解過程のための電極 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| TW239168B (ja) | 1995-01-21 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR100196094B1 (ko) | 산소발생전극 | |
| CN113337845B (zh) | 一种能够极性反转的电极及其用途 | |
| US3684543A (en) | Recoating of electrodes | |
| WO2003078694A1 (fr) | Electrode utilisee pour la production d'hydrogene | |
| KR100790767B1 (ko) | 전해용 전극 및 이의 제조방법 | |
| JP4986267B2 (ja) | 電極製造方法 | |
| JPS6363636B2 (ja) | ||
| JP2574699B2 (ja) | 酸素発生陽極及びその製法 | |
| JP3653296B2 (ja) | 電解用電極及びその製造方法 | |
| JPH0762585A (ja) | 電解用電極基体及びその製造方法 | |
| JPH06200391A (ja) | 電解用電極 | |
| JP4209801B2 (ja) | 電解用電極及びその製造方法 | |
| JPH08225977A (ja) | 電解用電極及びその製造方法 | |
| KR0126997Y1 (ko) | 전해용 전극 | |
| JPH0647749B2 (ja) | 耐久性を有する電解用電極及びその製造方法 | |
| JP3463966B2 (ja) | 電解用電極の製造方法 | |
| JP3832645B2 (ja) | 電解用電極及びその製造方法 | |
| JPH08170187A (ja) | 海水電解用電極及びその製造方法 | |
| JPH01312096A (ja) | 電解用電極及びその製造方法 | |
| JPH1161496A (ja) | 不溶性電極およびその製造方法 | |
| JP3259870B2 (ja) | 電解用電極基体及びその製造方法 | |
| JP3422884B2 (ja) | 電解用電極 | |
| JPH0754182A (ja) | 電解用電極基体及びその製造方法 | |
| JPH11335887A (ja) | 高耐久性電極の製造方法 | |
| JPH05156481A (ja) | 海水電解用電極及びその製造法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20000307 |