JPH06201501A - Pressure measuring device - Google Patents

Pressure measuring device

Info

Publication number
JPH06201501A
JPH06201501A JP34825592A JP34825592A JPH06201501A JP H06201501 A JPH06201501 A JP H06201501A JP 34825592 A JP34825592 A JP 34825592A JP 34825592 A JP34825592 A JP 34825592A JP H06201501 A JPH06201501 A JP H06201501A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
pressure
drift
diaphragm
bridge circuit
measuring device
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP34825592A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Masahiro Hirata
昌洋 平田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sony Corp filed Critical Sony Corp
Priority to JP34825592A priority Critical patent/JPH06201501A/en
Publication of JPH06201501A publication Critical patent/JPH06201501A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Measuring Fluid Pressure (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Pressure Sensors (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】分解能以下の圧力においてブリッジ回路の平衡
からのドリフト量を検知し正確な圧力を測定することの
できる圧力測定装置を提供する。 【構成】圧力の変化に応じて変位するダイヤフラムと該
ダイヤフラムに対向して配設された電極との間にコンデ
ンサ10,11が形成され且つ上記ダイヤフラムの変位
の限界以下の圧力において平衡になるように構成されて
なるブリッジ回路3を備えた圧力測定装置において、測
定室内の圧力が上記ダイヤフラムの変位の限界以下の時
上記ブリッジ回路3の平衡からのドリフト量を検知する
ドリフト検知手段2を備える。
(57) [Abstract] [Purpose] To provide a pressure measuring device capable of detecting a drift amount from the equilibrium of a bridge circuit at a pressure lower than a resolution and measuring an accurate pressure. A capacitor 10, 11 is formed between a diaphragm that is displaced according to a change in pressure and an electrode that is disposed so as to face the diaphragm, so that equilibrium is achieved at a pressure below the displacement limit of the diaphragm. The pressure measuring device having the bridge circuit 3 configured as described above is provided with the drift detecting means 2 for detecting the drift amount from the equilibrium of the bridge circuit 3 when the pressure in the measurement chamber is equal to or less than the displacement limit of the diaphragm.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、圧力測定装置に係り、
特に静電容量型の圧力測定装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a pressure measuring device,
Particularly, it relates to a capacitance type pressure measuring device.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体装置の製造工程には、減圧CVD
(化学気相成長)装置等のように半導体装置を一定の減
圧状態にしてプロセスガスを導入してウェハーを処理す
る工程がある。この時、半導体製造装置内の圧力を所定
の圧力で高精度に維持して、ウェハーを処理することが
歩留り向上のために重要である。そのために通常半導体
装置内には圧力制御装置が備えられている。
2. Description of the Related Art In a semiconductor device manufacturing process, low pressure CVD is used.
(Chemical Vapor Deposition) There is a step of treating a wafer by introducing a process gas while keeping a semiconductor device in a constant depressurized state. At this time, it is important to maintain the pressure in the semiconductor manufacturing apparatus at a predetermined pressure with high accuracy and process the wafers in order to improve the yield. Therefore, a pressure control device is usually provided in the semiconductor device.

【0003】図4は半導体製造装置の構成図である。図
4に示すように、半導体製造装置には、反応室であるチ
ャンバー104内の圧力を測定するための圧力測定装置
100とチャンバー104内を排気するための真空ポン
プ103と、チャンバー104の排気を制御するための
コンダクタンスバルブ102と、コンダクタンスバルブ
102の開閉を制御するための圧力制御装置101とが
配設されている。圧力測定装置100で測定したチャン
バー104内の圧力を直流の0〜10Vの電圧に変換
し、圧力制御装置101に出力する。圧力制御装置10
1では、入力された電圧に応じてコンダクタンスバルブ
102の開閉量を制御し、所定の電圧に維持することに
よりチャンバー104内の圧力を所望の圧力に保持す
る。そしてチャンバー104内にプロセスガスを導入し
ながらウェハーに対して処理を行う。
FIG. 4 is a block diagram of a semiconductor manufacturing apparatus. As shown in FIG. 4, the semiconductor manufacturing apparatus includes a pressure measuring device 100 for measuring the pressure in the chamber 104, which is a reaction chamber, a vacuum pump 103 for exhausting the chamber 104, and an exhaust of the chamber 104. A conductance valve 102 for controlling and a pressure control device 101 for controlling opening / closing of the conductance valve 102 are arranged. The pressure in the chamber 104 measured by the pressure measuring device 100 is converted into a DC voltage of 0 to 10 V and output to the pressure control device 101. Pressure control device 10
In No. 1, the open / close amount of the conductance valve 102 is controlled according to the input voltage, and the pressure inside the chamber 104 is maintained at a desired pressure by maintaining the voltage at a predetermined value. Then, the wafer is processed while introducing the process gas into the chamber 104.

【0004】図5は圧力測定装置100の圧力センサの
構成図である。図5に示すように、圧力センサは十分に
張力を与えた金属からなるダイヤフラム30で仕切られ
た2つの部屋から構成されている。測定側35はプロセ
スガスを導入するため、耐腐食性の優れた金属だけでで
きている。もう一方のリファレンス側36はダイヤフラ
ム30の変位を感知するために電極31,32が配設さ
れており、ゲッタポンプ34により高真空(10-6To
rr)で排気・密封し、高真空状態を保持している。導
入端子33には高周波交流電圧が印加される。
FIG. 5 is a block diagram of a pressure sensor of the pressure measuring device 100. As shown in FIG. 5, the pressure sensor is composed of two chambers partitioned by a diaphragm 30 made of a metal that is sufficiently tensioned. Since the process gas is introduced into the measuring side 35, it is made of only a metal having excellent corrosion resistance. The other reference side 36 is provided with electrodes 31 and 32 for sensing the displacement of the diaphragm 30, and a high vacuum (10 −6 To
It is evacuated and sealed with rr) to maintain a high vacuum state. A high frequency AC voltage is applied to the introduction terminal 33.

【0005】圧力センサは絶対圧力の変化によりダイヤ
フラム30が動くと、ダイヤフラム30と電極31と3
2の間の静電容量が変化し、その信号を電圧の変化とし
て取り出し信号処理し0〜10Vとの電圧に変換して、
圧力制御装置101へ出力する。
In the pressure sensor, when the diaphragm 30 moves due to a change in absolute pressure, the diaphragm 30, the electrodes 31 and 3
The capacitance between the two changes, the signal is taken out as a change in the voltage, signal processing is performed, and the signal is converted to a voltage of 0 to 10 V.
Output to the pressure control device 101.

【0006】図6は従来の圧力測定装置の回路構成図で
ある。図6に示すコンデンサ10,11は図5に示した
ダイヤフラム30と電極31,32との間で形成される
コンデンサである。コンデンサ10,11と抵抗12,
13との間ではブリッジ回路が構成されている。ブリッ
ジ回路にはコントローラ14の交流基準電圧発生器15
により高周波交流電圧が供給され、ブリッジ回路から出
力される交流電圧を検波・増幅回路16により0〜10
Vの直流電圧に変換し、圧力制御装置101へ出力す
る。
FIG. 6 is a circuit diagram of a conventional pressure measuring device. Capacitors 10 and 11 shown in FIG. 6 are capacitors formed between the diaphragm 30 and electrodes 31 and 32 shown in FIG. Capacitors 10, 11 and resistors 12,
A bridge circuit is configured between the bridge circuit 13 and the circuit 13. The bridge circuit includes an AC reference voltage generator 15 of the controller 14.
Is supplied with a high frequency AC voltage, and the detection / amplification circuit 16 detects the AC voltage output from the bridge circuit from 0 to 10
It is converted into a DC voltage of V and output to the pressure control device 101.

【0007】次にブリッジ回路の動作を説明する。ブリ
ッジ回路は図5に示した測定側35の圧力がダイヤフラ
ム30の変位の限界(以下分解能と呼ぶ)以下の圧力に
なったとき、平衡状態(C2×R2=C1×R1)とな
り、ブリッジ回路A,B間の電圧が0(以下基準電圧と
呼ぶ)となるように設計されている。測定側35が圧力
センサの分解能以上の圧力になると、ブリッジ回路は平
衡状態からずれ、A,B間に交流電圧が発生する。この
交流電圧を基準電圧からの差として、検波・増幅回路1
6に入力して、信号処理を行うことにより測定側35の
圧力が求められる。
Next, the operation of the bridge circuit will be described. The bridge circuit enters an equilibrium state (C2 × R2 = C1 × R1) when the pressure on the measurement side 35 shown in FIG. 5 becomes equal to or lower than the displacement limit (hereinafter referred to as resolution) of the diaphragm 30, and the bridge circuit A , B is designed to be 0 (hereinafter referred to as reference voltage). When the pressure on the measurement side 35 exceeds the resolution of the pressure sensor, the bridge circuit shifts from the equilibrium state, and an AC voltage is generated between A and B. This AC voltage is used as the difference from the reference voltage, and the detection / amplification circuit 1
The pressure on the measurement side 35 is obtained by inputting to 6 and performing signal processing.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】上述したように、図4
に示したチャンバー104内の圧力は、ブリッジ回路か
ら出力される交流電圧を検波・増幅回路16により信号
処理して求められるが、ダイヤフラム30がプロセスガ
スによるチャンバー104内の温度変化あるいは湿度変
化等により変形し、測定側35の分解能以下の圧力にお
いて基準電圧が0でなくなる、いわゆるゼロポイントの
ドリフト(drift)現象が起こる。ゼロポイントがドリ
フトすると、ドリフトした分チャンバー104内の圧力
測定に誤差が発生し、正確な圧力がモニタできなくなり
問題となる。ダイヤフラム30の温度変化によるゼロポ
イントのドリフトに対しては温度補正する方法が一般的
に用いられているが、フィードバックによる遅延制御で
あり、しかも湿度等の他の環境要因およびランニングに
よるダイヤフラム30の歪によるゼロポイントの補正は
行われず、正確な圧力をモニタすることが困難である。
As described above, as shown in FIG.
The pressure in the chamber 104 shown in FIG. 2 is obtained by performing signal processing on the AC voltage output from the bridge circuit by the detection / amplification circuit 16, but the diaphragm 30 changes due to temperature change or humidity change in the chamber 104 due to process gas. A so-called zero point drift phenomenon occurs in which the reference voltage becomes non-zero at a pressure below the resolution of the measurement side 35 due to deformation. If the zero point drifts, an error will occur in the pressure measurement in the chamber 104 due to the drift, and it will become a problem that an accurate pressure cannot be monitored. A method of temperature correction is generally used for the zero point drift due to the temperature change of the diaphragm 30, but delay control by feedback is used, and further, the distortion of the diaphragm 30 due to other environmental factors such as humidity and running. Since the zero point is not corrected by, it is difficult to monitor the accurate pressure.

【0009】そこで本発明は、分解能以下の圧力におい
てブリッジ回路の平衡からのドリフト量を検知し正確な
圧力を測定することのできる圧力測定装置を提供するこ
とを目的とする。
Therefore, an object of the present invention is to provide a pressure measuring device capable of detecting a drift amount from the equilibrium of a bridge circuit at a pressure lower than the resolution and measuring the pressure accurately.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】上記課題は本発明によれ
ば、圧力の変化に応じて変位するダイヤフラムと該ダイ
ヤフラムに対向して配設された電極との間にコンデンサ
が形成され且つ前記ダイヤフラムの変位の限界以下の圧
力において平衡になるように構成されてなるブリッジ回
路を備えた圧力測定装置において、測定室内の圧力が前
記ダイヤフラムの変位の限界以下の時前記ブリッジ回路
の平衡からのドリフト量を検知するドリフト検知手段を
備えてなることを特徴とする圧力測定装置によって解決
される。
According to the present invention, a capacitor is formed between a diaphragm that is displaced in response to a change in pressure and an electrode that is disposed so as to face the diaphragm, and the diaphragm is used. In a pressure measuring device provided with a bridge circuit configured to be in equilibrium at a pressure equal to or lower than the displacement limit, the amount of drift from equilibrium of the bridge circuit when the pressure in the measurement chamber is equal to or lower than the displacement limit of the diaphragm. It is solved by a pressure measuring device comprising a drift detecting means for detecting

【0011】また上記課題は本発明によれば、前記ドリ
フト検知手段が、前記ブリッジ回路の平衡からのドリフ
ト量が所定の範囲にあるか否かを判定するドリフト量判
別手段と、前記ドリフト量が所定の範囲を越えたとき、
前記ブリッジ回路からの出力をカットしあるいは異常を
指示する異常報知手段とを備えてなることを特徴とする
圧力測定装置によって好適に解決される。
Further, according to the present invention, the above-mentioned problem is that the drift detecting means determines whether the drift amount from the equilibrium of the bridge circuit is within a predetermined range, and the drift amount is When the specified range is exceeded,
The present invention is preferably solved by a pressure measuring device including an abnormality notifying unit that cuts an output from the bridge circuit or indicates an abnormality.

【0012】[0012]

【作用】本発明によれば、図1に示すように圧力測定装
置は図5に示すダイヤフラム30の変位の限界(分解
能)以下の圧力におけるドリフト量を検知するためのド
リフト検知回路2を備えている。
According to the present invention, as shown in FIG. 1, the pressure measuring device is provided with a drift detecting circuit 2 for detecting a drift amount at a pressure below the displacement limit (resolution) of the diaphragm 30 shown in FIG. There is.

【0013】ブリッジ回路3からドリフト検知回路2に
交流電圧が入力され、図2または図3に示す比較器5
2,53により電圧値が所定の許容範囲内にあるか否か
が判定される。交流電圧値が許容範囲内にあれば、図2
に示すようにスイッチ57がオンしブリッジ回路3から
の出力が出力され、許容範囲外であればスイッチ57が
オフしブリッジ回路3からの出力がカットされ、圧力制
御することが不可能となりドリフト異常を報知すること
ができる。同様に、交流電圧の電圧値が許容範囲外であ
れば、図3に示すように表示灯59を点灯することによ
ってドリフト異常を報知することができる。
An AC voltage is input from the bridge circuit 3 to the drift detection circuit 2, and the comparator 5 shown in FIG.
2, 53, it is determined whether the voltage value is within a predetermined allowable range. If the AC voltage value is within the allowable range,
As shown in (4), the switch 57 is turned on and the output from the bridge circuit 3 is output. If it is outside the allowable range, the switch 57 is turned off and the output from the bridge circuit 3 is cut, pressure control becomes impossible, and a drift abnormality occurs. Can be notified. Similarly, if the voltage value of the AC voltage is outside the allowable range, the drift abnormality can be notified by turning on the indicator lamp 59 as shown in FIG.

【0014】[0014]

【実施例】以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明
する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0015】図1は本発明に係る圧力測定装置の一実施
例による回路構成図である。図1に示すように、圧力測
定装置は、図5に示す圧力センサのダイヤフラム30と
電極31,32との間に形成されるコンデンサ10,1
1と抵抗12,13とから構成されるブリッジ回路3と
コントローラ1とから構成される。
FIG. 1 is a circuit diagram of an embodiment of the pressure measuring device according to the present invention. As shown in FIG. 1, the pressure measuring device includes a capacitor 10, 1 formed between a diaphragm 30 and electrodes 31, 32 of the pressure sensor shown in FIG.
1 and resistors 12 and 13 and a bridge circuit 3 and a controller 1.

【0016】ブリッジ回路3には、コントローラ1内の
交流基準電圧発生器15により高周波電圧が供給され
る。ブリッジ回路3のA,B間の交流電圧がコントロー
ラ1内のドリフト検知回路2に入力される。ドリフト検
知回路2では、図5に示す測定側35内の圧力が分解能
以下において、ゼロポイントのドリフト量x(mV)を
検出し、このドリフト量が許容範囲(−y(mV)〜y
(mV))に入るか否かを判断し、許容範囲外であれば
ブリッジ回路3から検波・増幅回路16への出力をカッ
トするかもしくは異常を表示するように構成されてい
る。コントローラ1内の検波・増幅回路16ではブリッ
ジ回路3から出力された交流電圧を検波および増幅し0
〜10Vの直流電圧に変換して図4に示す圧力制御装置
101へ出力する。
A high frequency voltage is supplied to the bridge circuit 3 by an AC reference voltage generator 15 in the controller 1. The AC voltage between A and B of the bridge circuit 3 is input to the drift detection circuit 2 in the controller 1. The drift detection circuit 2 detects the drift amount x (mV) at the zero point when the pressure inside the measurement side 35 shown in FIG. 5 is below the resolution, and this drift amount is within the allowable range (−y (mV) to y).
(MV)), and if it is outside the allowable range, the output from the bridge circuit 3 to the detection / amplification circuit 16 is cut or an abnormality is displayed. The detection / amplification circuit 16 in the controller 1 detects and amplifies the AC voltage output from the bridge circuit 3 and
It is converted into a DC voltage of 10 V and output to the pressure control device 101 shown in FIG.

【0017】そして、従来例で示したように図4に示す
圧力制御装置101では入力された電圧値に従って、コ
ンダクタンスバルブ102の開閉量を制御し、真空ポン
プ103によりチャンバー104内を排気しながら所望
の圧力に保持する。
As shown in the conventional example, in the pressure control device 101 shown in FIG. 4, the opening / closing amount of the conductance valve 102 is controlled according to the input voltage value, and the vacuum pump 103 exhausts the inside of the chamber 104 to obtain a desired value. Hold at pressure.

【0018】図2は第1実施例によるドリフト検知回路
2の構成図である。図2に示すように、ブリッジ回路3
のA,B(図1)から差動器51に入力される。差動器
51ではブリッジ回路A,B間の交流電圧が得られる。
差動器51は比較器52,53に入力される。比較器5
2では、交流電圧の最大値が−y(mV)以上y(m
V)以下の時、Low電圧‘0’を出力し、それ以外の
時High電圧‘1’を出力する。比較器53では交流
電圧の最小値が−y(mV)以上y(mV)以下の時、
Low電圧‘0’を出力し、それ以外の時High電圧
‘1’を出力する。比較器52,53はNOR54に入
力され、以下表1に示す値を出力する。
FIG. 2 is a block diagram of the drift detection circuit 2 according to the first embodiment. As shown in FIG. 2, the bridge circuit 3
Are input to the differential device 51 from A and B (FIG. 1). In the differential device 51, an AC voltage between the bridge circuits A and B is obtained.
The differential device 51 is input to the comparators 52 and 53. Comparator 5
2, the maximum value of the AC voltage is -y (mV) or more and y (m
V) When it is less than or equal to, the Low voltage '0' is output, and at other times, the High voltage '1' is output. In the comparator 53, when the minimum value of the AC voltage is −y (mV) or more and y (mV) or less,
It outputs Low voltage "0", and outputs High voltage "1" at other times. The comparators 52 and 53 are input to the NOR 54 and output the values shown in Table 1 below.

【0019】[0019]

【表1】 [Table 1]

【0020】従ってブリッジ回路3のA,B間の電圧の
最大電圧値と最小電圧値がそれぞれ−y(mV)以上y
(mV)以下の時にNOR54からHigh‘1’が出
力され、それ以外の時にLow‘0’が出力される。
Therefore, the maximum voltage value and the minimum voltage value of the voltage between A and B of the bridge circuit 3 are -y (mV) or more and y, respectively.
NOR 54 outputs High “1” when the voltage is (mV) or less, and Low “0” is output at other times.

【0021】つまり、NOR54から‘1’が出力され
る時はゼロポイントのドリフト量が許容範囲内として正
常であることを意味し、‘0’が出力される時は異常で
あることを意味する。NOR54はラッチ回路55に接
続され、NOR54からの出力が保持される。ラッチ回
路55はスイッチ回路56に接続され、ラッチ回路55
の出力が‘0’である時にスイッチ57がオフし、差動
器51と検波・増幅回路16とが分離され、ラッチ回路
55の出力が‘1’である時スイッチ57がオンし差動
器51と検波・増幅回路16が接続される。スイッチ回
路56はゼロポイントのドリフト量の検出の前後を識別
するためのモード入力端子58に接続され、ゼロポイン
トのドリフト量の検出前であればスイッチ57がオン
し、ゼロポイントのドリフト量の検出後であればスイッ
チ57がオフするようになされている。
That is, when the NOR 54 outputs "1", it means that the drift amount at the zero point is normal within the allowable range, and when "0" is output, it means that it is abnormal. . The NOR 54 is connected to the latch circuit 55 and holds the output from the NOR 54. The latch circuit 55 is connected to the switch circuit 56, and the latch circuit 55
The switch 57 is turned off when the output of is 0, the differential device 51 and the detection / amplification circuit 16 are separated, and when the output of the latch circuit 55 is 1, the switch 57 is turned on and the differential device 51 and the detection / amplification circuit 16 are connected. The switch circuit 56 is connected to a mode input terminal 58 for identifying before and after the detection of the zero point drift amount, and the switch 57 is turned on before the detection of the zero point drift amount to detect the zero point drift amount. If it is later, the switch 57 is turned off.

【0022】次に、上述のドリフト検知回路の動作を説
明する。
Next, the operation of the above drift detection circuit will be described.

【0023】まずモード入力端子58によりゼロポイン
トのドリフト量検知前モードを入力する。スイッチ57
がオンし、ブリッジ回路3からの出力が検波・増幅回路
16に入力され、圧力制御装置101に0〜10Vの電
圧が出力され、コンダクタンスバルブ102が全開され
チャンバー104内が分解能以下の圧力になるまで真空
ポンプ103により真空排気される。図2に示したよう
に、差動器51により比較器52,53に出力され、N
OR54によりゼロポイントのドリフト異常がなければ
‘1’が、あれば‘0’が出力される。NOR54に接
続されたラッチ回路55によりNOR54の出力が保持
される。チャンバー104内の圧力が分解能以下の圧力
になるとモード入力端子58によりゼロポイントのドリ
フト量検知後モードが入力され、スイッチ57はラッチ
回路55の出力に応じてオンまたはオフする。
First, the mode input terminal 58 inputs the zero point drift amount pre-detection mode. Switch 57
Is turned on, the output from the bridge circuit 3 is input to the detection / amplification circuit 16, a voltage of 0 to 10 V is output to the pressure control device 101, the conductance valve 102 is fully opened, and the pressure in the chamber 104 is below the resolution. Is evacuated by the vacuum pump 103. As shown in FIG. 2, the differential device 51 outputs the data to the comparators 52 and 53,
The OR 54 outputs "1" if there is no zero point drift abnormality, and outputs "0" if there is. The output of the NOR 54 is held by the latch circuit 55 connected to the NOR 54. When the pressure in the chamber 104 becomes equal to or lower than the resolution, the mode after the drift amount detection at the zero point is input by the mode input terminal 58, and the switch 57 is turned on or off according to the output of the latch circuit 55.

【0024】次に、チャンバー104内にプロセスガス
を導入し圧力を上げてゆく。この時、スイッチ57がオ
フしているときは検波・増幅回路16への出力がカット
され、圧力制御装置101へは何も出力されないのでゼ
ロポイントのドリフト異常が判別される。
Next, the process gas is introduced into the chamber 104 to increase the pressure. At this time, when the switch 57 is off, the output to the detection / amplification circuit 16 is cut and nothing is output to the pressure control device 101, so that the zero point drift abnormality is determined.

【0025】図3は第2実施例によるドリフト検知回路
構成図である。本第2実施例はゼロポイントのドリフト
異常の有無を表示灯59の点灯により判別するものであ
る。図3に示すように、第1実施例と同様に差動器5
1,比較器52,53,およびラッチ回路55が配設さ
れている。OR63によりゼロポイントのドリフト異常
があれば‘1’,なければ‘0’が出力される。OR6
3はラッチ回路55に接続されている。ラッチ回路55
はスイッチ回路60に入力されている。スイッチ回路6
0には、ゼロポイントのドリフト量検出の前後を識別す
るためのモード入力端子62が接続され、ゼロポイント
のドリフト量検出前の時はスイッチ61がオフし、ドリ
フト量検出後においてスイッチ61がオンし、ラッチ回
路55と表示灯59が接続されラッチ回路55から
‘1’が出力されたとき、つまりゼロポイントのドリフ
ト異常が出力された時、初めて表示灯59が点灯し、そ
れ以外のときは表示灯59は点灯しないので表示灯59
の点灯によりゼロポイントのドリフト異常が判別され
る。
FIG. 3 is a block diagram of the drift detection circuit according to the second embodiment. In the second embodiment, the presence or absence of a zero point drift abnormality is determined by turning on the indicator lamp 59. As shown in FIG. 3, as in the first embodiment, the differential 5
1, comparators 52 and 53, and a latch circuit 55 are provided. The OR 63 outputs "1" if there is a zero point drift abnormality and "0" if not. OR6
3 is connected to the latch circuit 55. Latch circuit 55
Is input to the switch circuit 60. Switch circuit 6
A mode input terminal 62 for identifying before and after the zero-point drift amount detection is connected to 0. The switch 61 is turned off before the zero-point drift amount detection, and the switch 61 is turned on after the drift amount detection. However, when the latch circuit 55 and the indicator lamp 59 are connected and "1" is output from the latch circuit 55, that is, when the zero-point drift abnormality is output, the indicator lamp 59 is turned on for the first time, and otherwise. Since the indicator light 59 does not light, the indicator light 59
A zero point drift abnormality is determined by lighting.

【0026】[0026]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によればゼ
ロポイントのドリフト異常が検出できるので正確な測定
ができるようになり、また圧力センサの交換のタイミン
グが予測できるようになり Preventive Maintenane が
可能となる。
As described above, according to the present invention, since the zero point drift abnormality can be detected, accurate measurement can be performed, and the timing of pressure sensor replacement can be predicted to prevent Preventive Maintenane. It will be possible.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】実施例による圧力測定装置回路構成図である。FIG. 1 is a circuit configuration diagram of a pressure measuring device according to an embodiment.

【図2】第1実施例によるドリフト検知回路構成図であ
る。
FIG. 2 is a configuration diagram of a drift detection circuit according to the first embodiment.

【図3】第2実施例によるドリフト検知回路構成図であ
る。
FIG. 3 is a configuration diagram of a drift detection circuit according to a second embodiment.

【図4】半導体製造装置構成図である。FIG. 4 is a configuration diagram of a semiconductor manufacturing apparatus.

【図5】圧力センサ構成図である。FIG. 5 is a block diagram of a pressure sensor.

【図6】従来の圧力測定装置回路構成図である。FIG. 6 is a circuit configuration diagram of a conventional pressure measuring device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 コントローラ 2 ドリフト検知回路 3 ブリッジ回路 10,11 コンデンサ 12,13 抵抗 14 コントローラ 15 交流基準電圧発生器 16,17 検波・増幅回路 30 ダイヤフラム 31,32 電極 33 導入端子 34 ゲッタポンプ 35 測定側 36 リファレンス側 51 差動器 52,53 比較器 54 NOR 55 ラッチ回路 56,60 スイッチ回路 57,61 スイッチ 58,62 モード入力端子 59 表示灯 63 OR 100 圧力測定装置 101 圧力制御装置 102 コンダクタンスバルブ 103 真空ポンプ 104 チャンバー 1 Controller 2 Drift Detection Circuit 3 Bridge Circuit 10, 11 Capacitor 12, 13 Resistance 14 Controller 15 AC Reference Voltage Generator 16, 17 Detection / Amplification Circuit 30 Diaphragm 31, 32 Electrode 33 Introduction Terminal 34 Getter Pump 35 Measurement Side 36 Reference Side 51 Differential device 52,53 Comparator 54 NOR 55 Latch circuit 56,60 Switch circuit 57,61 Switch 58,62 Mode input terminal 59 Indicator light 63 OR 100 Pressure measuring device 101 Pressure control device 102 Conductance valve 103 Vacuum pump 104 Chamber

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 圧力の変化に応じて変位するダイヤフラ
ムと該ダイヤフラムに対向して配設された電極との間に
コンデンサが形成され且つ前記ダイヤフラムの変位の限
界以下の圧力において平衡になるように構成されてなる
ブリッジ回路を備えた圧力測定装置において、 測定室内の圧力が前記ダイヤフラムの変位の限界以下の
時前記ブリッジ回路の平衡からのドリフト量を検知する
ドリフト検知手段を備えてなることを特徴とする圧力測
定装置。
1. A capacitor is formed between a diaphragm that displaces in response to a change in pressure and an electrode that is disposed so as to face the diaphragm, and is balanced at a pressure below a displacement limit of the diaphragm. A pressure measuring device having a bridge circuit configured, wherein the pressure measuring device comprises drift detecting means for detecting a drift amount from the equilibrium of the bridge circuit when the pressure in the measurement chamber is equal to or less than a displacement limit of the diaphragm. And pressure measuring device.
【請求項2】 前記ドリフト検知手段が、前記ブリッジ
回路の平衡からのドリフト量が所定の範囲にあるか否か
を判定するドリフト量判別手段と、 前記ドリフト量が所定の範囲を越えたとき、前記ブリッ
ジ回路からの出力をカットしあるいは異常を指示する異
常報知手段とを備えてなることを特徴とする請求項1記
載の圧力測定装置。
2. A drift amount determining means for determining whether or not a drift amount from equilibrium of the bridge circuit is within a predetermined range, and the drift detecting means, when the drift amount exceeds a predetermined range, The pressure measuring device according to claim 1, further comprising an abnormality notifying unit that cuts an output from the bridge circuit or indicates an abnormality.
JP34825592A 1992-12-28 1992-12-28 Pressure measuring device Pending JPH06201501A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP34825592A JPH06201501A (en) 1992-12-28 1992-12-28 Pressure measuring device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP34825592A JPH06201501A (en) 1992-12-28 1992-12-28 Pressure measuring device

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH06201501A true JPH06201501A (en) 1994-07-19

Family

ID=18395804

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP34825592A Pending JPH06201501A (en) 1992-12-28 1992-12-28 Pressure measuring device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH06201501A (en)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2005113969A1 (en) * 2004-05-20 2005-12-01 Honda Motor Co., Ltd. Device and method for determining trouble of cylinder pressure sensor
JP2009210482A (en) * 2008-03-05 2009-09-17 Ulvac Japan Ltd Vacuum treatment device
JP2010525324A (en) * 2007-04-16 2010-07-22 エム ケー エス インストルメンツ インコーポレーテッド Capacitance manometer and method for automatic drift correction
US20200248305A1 (en) * 2019-02-04 2020-08-06 Tokyo Electron Limited Exhaust device, processing system, and processing method

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2005113969A1 (en) * 2004-05-20 2005-12-01 Honda Motor Co., Ltd. Device and method for determining trouble of cylinder pressure sensor
US7757545B2 (en) 2004-05-20 2010-07-20 Honda Motor Co., Ltd. Device and method for determining trouble of cylinder pressure sensor
JP2010525324A (en) * 2007-04-16 2010-07-22 エム ケー エス インストルメンツ インコーポレーテッド Capacitance manometer and method for automatic drift correction
JP2009210482A (en) * 2008-03-05 2009-09-17 Ulvac Japan Ltd Vacuum treatment device
US20200248305A1 (en) * 2019-02-04 2020-08-06 Tokyo Electron Limited Exhaust device, processing system, and processing method
US11807938B2 (en) * 2019-02-04 2023-11-07 Tokyo Electron Limited Exhaust device, processing system, and processing method

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100922091B1 (en) Capacitive pressure sensor
TWI618922B (en) Method and arrangement for measuring vacuum pressure with a measurement cell arrangement
US5394755A (en) Flow quantity test system for mass flow controller
KR100267580B1 (en) Semiconductor device manufacturing apparatus and load lock chamber, and semiconductor device manufacturing method using the semiconductor device manufacturing apparatus
US4383431A (en) Auto-zero system for pressure transducers
US6290829B1 (en) Gas sensor
JP2009258088A (en) Electrostatic capacitance diaphragm vacuum gauge and vacuum processing apparatus
US9677964B2 (en) Apparatus and method for automatic detection of diaphragm coating or surface contamination for capacitance diaphragm gauges
KR20090034343A (en) Capacitive pressure sensor
US5382911A (en) Reaction chamber interelectrode gap monitoring by capacitance measurement
US12442710B2 (en) Method for monitoring the function of a capacitive pressure measuring cell
US5808176A (en) Solving production downtime with parallel low pressure sensors
JPH06201501A (en) Pressure measuring device
JPH06242044A (en) Environment sensor
US5951834A (en) Vacuum processing apparatus
US5808175A (en) Solving production down time with parallel low pressure sensors
JP3252366B2 (en) Odor measuring device
KR100536601B1 (en) Plasma deposition facility
KR100441663B1 (en) Micro pH sensor with temperature sensor for measuring pH with the micro pH sensor
US20240328881A1 (en) Method For Compensating a Temperature Shock at a Capacitive Pressure Measuring Cell
JP2972678B2 (en) Sputtering apparatus and leak detection method
JP2004273682A (en) Processing equipment
JP2001029772A (en) Substrate processing equipment
SU567985A1 (en) Method of detecting influx of air into a high-vacuum system
JPH0722401A (en) Plasma etching apparatus