JPH06202247A - フルフレーム／パノラマ写真印画装置および方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 フルフレームあるいはパノラマ形式に選択的
に露光された陰画を含むフィルムロールから両形式の印
画を処理するための写真印画装置を提供する。 【構成】 フィルムロールから露光された陰画を選択的
に受け入れる焼き付けステーション16と、その陰画上の
多数の検知点においてステーション内の各陰画の濃度を
電気光学的に決定する構成とを有している。形式ステー
タス決定手段38が各種の検知点での陰画の濃度に応答
し、陰画がいずれの形式の画像を含んでいるか、また
は、空白あるいは全体的に曇っているかを決定する。ス
テーションの特定の陰画がフルフレーム画像を含むと決
定されると、印画装置はフルフレーム形式に印画を作成
し、また、パノラマ画像を含むと決定されると、パノラ
マ形式に印画が作成される。他方、陰画が空白あるいは
全体的に曇っていると決定されると、装置は、印画を作
成せずに、その陰画をステーションから搬出する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、一般的に、写真印画装
置およびその動作方法に関し、特に、フルフレームある
いはパノラマ形式に選択的に露光されている陰画を含む
フィルムロールからフルフレームおよびパノラマ焼き付
けの両方を自動的に処理するための写真印画装置に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】パノラマ写真は、コダック社のFunsaver
Panoramicカメラにより、広く普及しつつある。これ
は、短焦点距離レンズと、標準の２４ｍｍ×３６ｍｍフ
ィルムフレームの上部および下部のフィルムに達する光
を阻止するマスクとを有する使い捨てのカメラ(single
use camera) である。そこで、露光面積は、その高さよ
りも２倍以上幅が広くなる。これは、より狭い陰画マス
ク(negative mask) と、より大きい倍率と、より幅の広
い印画面(paper aperture)とを用いた業者処理を必要と
することになる。そのフィルムは、カメラハウジング上
に書かれている指示、あるいは、陰画上の狭い露光面積
という目に見える合図に従って、業者において分類され
る。この作業は自動化されていない。

【０００３】同様な陰画を生成する他の再使用可能なカ
メラが市販されており、その場合は、全フィルムロール
がパノラマ形式に露光されている。典型的には、撮影者
のために、パノラマ露光のロールとして識別することが
できるように、フィルムカートリッジに適用されるラベ
ルが設けられる。これらの露光に対しても、同じ業者処
理プロセスが用いられる。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】多くのカメラメーカ
は、ユーザが任意にフルフレームからパノラマ形式に、
あるいは、その逆に切り換えられるカメラを導入するこ
とを考えている。その結果、一つのフィルムロール上に
フルフレーム露光およびパノラマ露光が混在することと
なる。このことは、処理業者が既存の機器によって処理
することを困難にし、そのために、遅れを生じ、かつ、
かなりのコスト増を招くこととなる。

【０００５】

【課題を解決するための手段】フルフレームおよびパノ
ラマ形式のいずれにも切り換えられるカメラを導入する
ことに伴うこの問題点を解消するために、本発明は、フ
ルフレームあるいはパノラマ形式のいずれかに選択的に
露光されている陰画を含むフィルムロールから、フルフ
レームおよびパノラマ焼き付けの両方ともを自動的に処
理するための技術を提供する。より詳細には後述するよ
うに、この技術は、与えられた陰画を受け入れるための
焼き付けステーションを定義する手段と、その与えられ
た陰画が焼き付けステーションに置かれると、その陰画
上の多くの検知点における陰画の濃度を電気光学的に決
定するための手段とを備えている、ここに開示された装
置に組み込まれている。

【０００６】この装置は、また、それらの検知点におけ
る与えられた陰画の濃度に依存して、その陰画がフルフ
レーム画像あるいはパノラマ画像を含んでいるか、ある
いは、空白あるいは全体的に曇っており、したがって、
画像が含まれていないかを決定するための、検知点にお
ける陰画の濃度に応答する形式ステータス決定手段を備
えている。その手段により与えられた陰画がフルフレー
ム画像を含んでいると決定されると、焼き付け装置はそ
の陰画からフルフレーム形式により印画を自動的に作成
する手段を準備し、あるいは、その印画がパノラマ画像
を含んでいると決定されると、同じ手段がパノラマ形式
により印画を作成することとなる。他方、その印画が空
白あるいは全体的に曇っていると決定されると、印画を
作成することなく、その陰画を焼き付けステーション外
に自動的に移動させる手段が準備される。

【０００７】そこで、本発明は、単一のフィルムロール
からフルフレームおよびパノラマ画像を自動的に識別す
ることができる写真印画装置を提供し、特に、自動的に
フルフレームおよびパノラマ形式の焼き付けをともに準
備するための情報を利用することのできる装置を提供す
る。

【０００８】

【実施例】図面を参照し、まず図１に着目すれば、それ
は本発明に従って設計された写真印画装置を概念的に例
示している。この装置は、参照符号１０により全体が指
示されており、１６により全体的に示されている焼き付
けステーションを通って、矢印１８により示されている
ように、一連の連続する露光された陰画１４ａ、１４
ｂ、１４ｃ等（図２参照）を移動させるための１２によ
り全体的に指示された適当な手段を有している。図２に
例示されているように、そこに示されている露光された
フィルムはフルフレームおよびパノラマ形式の露光が混
在したものを含んでいる。特に陰画１４ａおよび１４ｄ
として例示されているフルフレーム形式の露光は、パノ
ラマ形式の陰画１４ｂおよび１４ｃよりも実質的に大き
い幅を持っていることに特に注目される。事実、実際の
実施例においては、標準のフルフレーム露光は２４ｍｍ
×３６ｍｍであるが、パノラマ露光は１２ｍｍ×３６ｍ
ｍである。

【０００９】陰画１４の各々が焼き付けステーション１
６内に連続して配置されて、この装置が特定の陰画がフ
ルフレームあるいはパノラマ画像を含んでいるか、ある
いは、空白あるいは全体的に曇っており、したがって、
画像が含まれていないかを決定するために十分長い時間
の間、手段１２によって後述される態様で、そこに静止
状態に保持される。陰画が空白あるいは全体的に曇って
いることが決定されると、手段１２はその陰画を焼き付
けステーション１６の外に移動させ、そして、ステーシ
ョン内に次の連続する陰画を移動させる。他方、焼き付
けステーション内の陰画がフルフレーム画像あるいはパ
ノラマ画像のいずれかを含んでいることが決定される
と、装置１０はその陰画から適当な印画を作成する。そ
のために、適当な光源１５がステーション１６に隣接し
て設けられており、図１に示されているように、処理さ
れるべき特定の陰画を透過して露光ビーム２０を投射す
る。そのビームは協働するレンズ２２によりレンズ作用
を与えられ、それは、その陰画からの画像を、静止ミラ
ー２６に反射し、そして、協働する印画マスク２８を通
って、写真印画紙２４の待機部分上に集束させるように
働く。

【００１０】上述した構成要素に加えて、写真印画装置
１０は通常のもので、かつ、容易に手に入れられる分類
用スキャナ(classification scanner)３２を備えてお
り、それは、焼き付けステーション１６に関して位置決
めされた多素子センサを有し、配列された点あるいはス
ポットにおいて、焼き付けステーション内の陰画の濃度
を同時に検知する。これらのスポットの位置関係が図３
に例示されており、そこでは、或る陰画３６が焼き付け
ステーション１６内にある時、それらのスポットがその
陰画３６の全面にわたって重ね合わされるように例示さ
れている。

【００１１】分類用スキャナ３２の一機能は、ステーシ
ョン１６内の処理されるべき陰画が画像を含んでいるか
どうか、あるいは、空白あるいは全体的に曇っており、
したがって、画像を含んでいないかどうかを決定するこ
とである。このために、スキャナの一部を構成する多素
子センサが各濃度検知点３４における陰画の濃度を測定
し、対応する電気信号をその出力に発生する。これらの
信号は焼き付け制御器３８に入力され、それは、それら
の信号を処理し、そうして処理された情報に基づいて、
陰画が画像を含んでいるか、空白であるか、あるいは、
全体的に曇っているかを決定するための適当な回路およ
びアルゴリズムを有している。適当なアルゴリズムを用
いてこれを実現する既知の方法の一つは、異なるスポッ
ト３４における濃度を互いに比較することである。それ
らの濃度が予め定められた微差以内で均衡しておれば、
陰画は画像を含んでおらず、したがって、空白あるいは
全体的に曇っていると判断される。他方、任意の二つの
スポット間に大きな差が見出されれば、その陰画はまさ
に画像を含んでいると判断される。

【００１２】前者、すなわち、陰画が画像を含んでいな
いことが見出されたとすると、焼き付け制御器３８は陰
画駆動手段１２と連携する手段を設けて、印画を作成す
ることなく、その陰画を焼き付けステーションの外に移
動させ、そして、ステーション内に次の連続する陰画を
移動させる。他方、ステーションにおける陰画が画像を
含んでいると判断されると、焼き付け制御器３８は、手
段１２とともに、ランプ１５と、また、手段３０と連携
する手段を設けて、まずその陰画から印画を処理（すな
わち露光）し、そして、そのように処理された陰画を焼
き付けステーション外へ移動させ、そこで、新しい陰画
がそこに配置されることとなる。

【００１３】上述したように、写真印画装置１０は通常
のものであり、事実、現在市販されているNoritsu 1201
Automatic Minilab印画装置において実現されている。
すなわち、Noritsu Minilab 印画装置は、良好な陰画
（これらは画像を含んでいる）を自動的に焼き付け、不
良な陰画（これらは空白あるいは全体的に曇っている）
を通過させるための上述した各種の構成要素を備えてい
る。しかしながら、上述したように、装置１０は、与え
られたフィルムロールからフルフレーム形式に焼き付け
られるべき良好な陰画と、同じロールからパノラマ形式
に焼き付けられるべき良好な陰画との間を自動的に判別
することはできない。これは、Noritsu 1201 Automatic
Minilab印画装置についても、等しく真実である。そこ
で、上述したように、装置１０あるいはNoritsu 印画装
置のいずれも、フルフレームあるいはパノラマ形式のい
ずれかに選択的に露出されている陰画を含んでいるフィ
ルムロールを、効率的に処理することはできない。以下
に示されるように、次に詳細に説明される写真印画装置
１０は、実際、通常の写真印画装置とも、また、Norits
u 印画装置とも異なっており、特にそこでは、フルフレ
ームおよびパノラマ画像の間を効率的かつ自動的に判別
することができ、そして、単一のフィルムロールから両
方のタイプの陰画を効率的かつ自動的に焼き付けること
が可能とされている。

【００１４】再び図１を参照すれば、装置１０は、次の
点において、通常の印画装置と異なっている。まず、そ
のレンズ２２は、通常の容易に手に入れることのできる
ズームレンズであり、焼き付け制御器３８に好適かつ容
易に結合されて、その焼き付け制御器によってフルフレ
ーム形式の倍率状態とパノラマ形式の倍率状態との間に
駆動される。同様な態様で、印画紙マスク２８も、通常
の容易に手に入れることのできるタイプであり、焼き付
け制御器に結合されて、それによって、その開口がフル
フレーム形式に対応する第１の条件と、その開口がパノ
ラマ形式に対応する第２の条件との間に駆動される。写
真印画紙給送手段３０もまた焼き付け制御器に結合され
ており、その焼き付け制御器３８により指示されて、フ
ルフレームあるいはパノラマ画像のいずれが焼き付けら
れるかに依存して、異なった長さの印画紙を給送するこ
とができるように構成されている。

【００１５】ここに記載された各種の特徴点、すなわ
ち、３００ｍレンズ２２、印画紙マスク２８および印画
紙給送手段３０は、Noritsu 印画装置にも物理的には搭
載されているが、本発明におけるように、フルフレーム
およびパノラマの両方の形式の陰画を処理するためのも
のではない。むしろ、Noritsu 印画装置は、フルフレー
ムおよびパノラマ形式を含む異なった形式に、全フィル
ムロールを処理するように設計されている。Noritsu 印
画装置は、単一のフィルムロール中におけるそれら二つ
の形式の間を判別する手段を有してはいない。

【００１６】ここに述べた相違に加えて、装置１０は次
の重要な点において、従来技術と異なっている。焼き付
け制御器３８は、パノラマ画像を含む陰画からフルフレ
ーム画像を含む陰画を判別させ、かつ、各々を適当に処
理させるように、分類用スキャナ３２により供給される
多点濃度情報に作用するソフトウェアを有するように設
計されている。これは、焼き付け制御器内に適当なソフ
トウェアを組み込むことによって実現され、そのソフト
ウェアは、以下により詳細に説明されるように、図４に
示されているフローチャートにより例示されている。

【００１７】写真印画装置１０の全体が説明されたが、
ここで、フルフレームあるいはパノラマ形式に選択的に
露光された陰画を含むフィルムロールから、フルフレー
ムおよびパノラマ形式の印画をともに処理する点に注目
する。このために、図１乃至図３に関連して、図４を参
照する。しかしながら、最初に、特に図３にまず注目す
る。そこに示されているように、濃度測定点３４の列は
三つのグループに配列されており、第１すなわち上部グ
ループ３４ａは最上列の点３４からなり、第２すなわち
下部グループ３４ｂは最下列の点からなり、そして、第
３すなわち中間グループ３４ｃは三つの中央の列の点か
らなっている。そこで、点３４ａは陰画の上端部を完全
に横切って延び、点３４ｂはその陰画の下端部を完全に
横切って延び、そして、点３４ｃはそれらの上端部およ
び下端部間の陰画を完全に横切って延びている。

【００１８】濃度測定点３４がステーション１６内の陰
画上に分割される方法について述べたが、装置１０が動
作する方法に注目する。新しい陰画が焼き付けステーシ
ョン１６に内に移動してくると、図４に例示されている
フローチャートのブロック４０に示されているように、
分類用スキャナ３２が各種の点３４における陰画の濃度
を決定する。それらの異なった濃度を表す各種の電気信
号は焼き付け制御器３８に供給され、そこで、図４のブ
ロック４２に示されているように、それらの信号が比較
され、それによって、各種の濃度点が比較される。任意
の二点間の最大の濃度差が予め選定された微差Δより大
きくなければ、そこで、フローチャートのブロック４４
および４６に示されているように、焼き付け制御器３８
はその陰画が空白あるいは全体的に曇っていると結論
し、印画を処理することなしに、手段１２に次の陰画を
導入させる。

【００１９】他方、最大の偏差がΔよりも大きいなら
ば、そこで、ブロック４８に示されているように、焼き
付け制御器３８はその陰画が画像を含んでいると結論
し、上部グループ３４ａ内の全ての濃度点と下部グルー
プ内の全ての濃度点とを比較する。それらの点のいずれ
かの間における濃度差がΔよりも大きくなければ、ブロ
ック５０および５２に示されているように、焼き付け制
御器３８はパノラマ画像であると結論し、陰画をパノラ
マ形式に焼き付ける。このことは、焼き付け制御器がズ
ームレンズ２２および印画紙マスク２８をパノラマ形式
に配設し、適当な長さの写真印画紙２４が手段３０から
給送されることを意味する。その後、焼き付け制御器は
ランプ１５に印画を作成させ、最後に、手段１２にその
処理された陰画を焼き付けステーション外へ移動させる
とともに、同時に、次に続く陰画を焼き付けステーショ
ン内に搬入させる。

【００２０】更に、図１乃至図３に関連しつつ、図４を
参照すれば，焼き付け制御器３８がグループ３４ａおよ
び３４ｂにおける任意の二つの点間の最大偏差が予め選
定された偏差Δよりも大きいと決定した場合、ブロック
５０および５４に示されているように、ステーション１
６における陰画がフルフレーム形式に焼き付けられるこ
ととなる。結果として、焼き付け制御器３８はズームレ
ンズ２２および印画紙マスクをそれらのフルフレーム形
式用に配設し、かつ、写真印画紙２４を適当な長さほど
供給し、その後、その陰画が焼き付けられ、それから、
ステーション１６外へ搬出される。

【００２１】以上の説明から、写真印画装置１０は、フ
ルフレームあるいはパノラマ形式のいずれかに選択的に
露光された陰画を含んでいるフィルムロールからフルフ
レームおよびパノラマ印画の両方を処理するための自動
化技術を提供することが明らかである。この装置を構成
する個々の構成要素の全ては、ここに教示されている観
点において、容易に手に入るか、あるいは、容易に供給
可能なものである。本発明は、これらの構成要素個々の
いずれにも存在するものではなく、それらの組み合わ
せ、特に、焼き付け制御器３８がパノラマ画像を含む陰
画からフルフレーム画像を含むものを判別するために、
分類用スキャナ３２から得られる情報を処理する方法、
に存するものである。偏差Δのレベルは、極めて彩色の
ないシーン（スキー、雪等）により無視されない程度に
小さく、また、完全にマスクされているか、あるいは、
完全に曇っているフィルムの濃度における変動を許容す
る程度に大きいように、設定される。

【００２２】

【発明の効果】以上の通り、本発明によれば、単一のフ
ィルムロールからフルフレームおよびパノラマ画像を自
動的に識別することができる写真印画装置を提供し、特
に、自動的にフルフレームおよびパノラマ形式の焼き付
けをともに準備するための情報を利用することのできる
装置を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に従って設計された、フルフレームある
いはパノラマ形式のいずれかにより選択的に露光された
陰画を含んでいるフィルムロールから、フルフレームあ
るいはパノラマ焼き付けをともに処理するための写真印
画装置の概念構成図である。

【図２】フルフレームあるいはパノラマ形式に選択的に
露光されたフィルムロールから得られる陰画を例示する
図である。

【図３】図１に示されている印画装置によって処理され
る（焼き付けられる）べき特定の露光された陰画とその
陰画上の濃度検知点の配列との間の位置関係を例示する
図であり、それらの検知点はその陰画がフルフレームあ
るいはパノラマ画像を含んでいるか、または、空白ある
いは全体的に曇っており、したがって、画像を含んでい
ないかを決定するために用いられる。

【図４】図１の印画装置の一部を形成するコンピュータ
プログラム（アルゴリズム）を示すフローチャートであ
る。

【符号の説明】

１０…写真印画装置 １２…陰画駆動手段 １４、３６…陰画 １５…ランプ １６…焼き付けステーション ２２…ズームレンズ ２６…ミラー ２４…印画紙 ２８…印画紙ますく ３０…印画紙給送手段 ３２…分類用スキャナ ３４…濃度検知点 ３８…焼き付け制御器

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 フルフレームあるいはパノラマ形式のい
   ずれかに選択的に露光されている陰画を含むフィルムロ
   ールから、フルフレームあるいはパノラマ印画の両方を
   処理するための写真印画装置であって、 (a) 与えられた陰画を受け入れるための焼き付けステー
   ションを定義する手段と、 (b) 上記与えられた陰画が上記焼き付けステーションに
   ある時に、該陰画上の多数の検知点において、該陰画の
   濃度を電気光学的に決定する手段と、 (c) 上記検知点における上記与えられた陰画の濃度に依
   存して、陰画がフルフレームあるいはパノラマ画像を含
   んでいるか、または、空白あるいは全体的に曇ってお
   り、したがって、画像を含んでいないかを決定するため
   に、上記検知点における上記与えられた陰画の濃度に応
   答する形式ステータス決定手段と、 (d) 自動的に、(i) 上記与えられた陰画がフルフレーム
   画像を含んでいると決定されると、フルフレーム形式
   に、あるいは、上記与えられた陰画がパノラマ画像を含
   んでいると決定されると、パノラマ形式に、該陰画から
   印画を作成するか、または、(ii)上記与えられた陰画が
   空白あるいは全体的に曇っていると決定されると、印画
   を作成することなく、上記焼き付けステーション外に該
   陰画を移動させる手段とを備えた装置。