JPH06204338A - Wiring method of semiconductor integrated circuit - Google Patents

Wiring method of semiconductor integrated circuit

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JPH06204338A
JPH06204338A JP5000929A JP92993A JPH06204338A JP H06204338 A JPH06204338 A JP H06204338A JP 5000929 A JP5000929 A JP 5000929A JP 92993 A JP92993 A JP 92993A JP H06204338 A JPH06204338 A JP H06204338A
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JP
Japan
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wiring
processing
semiconductor integrated
integrated circuit
area
Prior art date
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Application number
JP5000929A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Keisuke Shinjo
恵介 新城
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NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
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Publication date
Application filed by NEC Corp filed Critical NEC Corp
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  • Design And Manufacture Of Integrated Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】大規模半導体集積回路の自動配線処理方法に適
応し、処理時間の短縮,計算機の使用メモリの最小化を
計ること。 【構成】配線の通過経路の概略を決定する概略配線方法
と、その結果に従って、実際の配線敷設位置を決定する
詳細配線方法とを有する半導体集積回路の配線処理方法
であって、その概略配線処理方法が、半導体集積回路チ
ップ上の全配線領域を対象とした全体概略配線103,
その結果に従って半導体集積回路チップ上の部分領域に
対して行なわれる部分領域概略配線106等より構成さ
れる。
(57) [Abstract] [Purpose] To adapt to the automatic wiring processing method for large-scale semiconductor integrated circuits, shorten the processing time, and minimize the memory used by the computer. A wiring processing method for a semiconductor integrated circuit, comprising: a rough wiring method for deciding an outline of a passage path of wiring; and a detailed wiring method for deciding an actual wiring laying position according to the result, which is a rough wiring processing. A method is to provide a general wiring 103 for the entire wiring area on a semiconductor integrated circuit chip,
According to the result, the partial area schematic wiring 106 and the like are formed for the partial area on the semiconductor integrated circuit chip.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は半導体集積回路の配線方
法に関し、特に計算機を使用して行う自動配線処理に有
効な配線処理方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a wiring method for a semiconductor integrated circuit, and more particularly to a wiring processing method effective for automatic wiring processing using a computer.

【0002】[0002]

【従来の技術】この種の半導体集積回路の配線処理方法
としては、迷路探索法やラインサーチ法など種々のもの
が発表されているが、近年半導体集積回路の大規模化に
伴い、その配線領域の面積増大化,配線層の多層化がな
されてきており、半導体集積回路チップ上の配線領域全
面を前記方法のみによって一括で処理することは、処理
時間や計算機の使用メモリの増大を招き、困難になりつ
つある。
2. Description of the Related Art Various wiring processing methods such as a maze search method and a line search method have been announced as a wiring processing method for a semiconductor integrated circuit of this type. However, it is difficult to collectively process the entire wiring area on the semiconductor integrated circuit chip by the above method, because it increases the processing time and the memory used by the computer. Is becoming.

【0003】従来、この種の問題を解決するために、半
導体集積回路チップ上の配線領域を複数の部分領域に分
割し、この部分領域内を前記手法の一括処理対象領域と
する方法がある。この処理方法によると、図8にフロー
チャートを示す通り、実際に配線処理を実行する前に、
入力データ80の概略配線用矩形生成81,概略配線8
2といわれる処理手順を設け、大体の配線通過領域を決
定した後、その結果を基に詳細配線処理といわれる処理
手順83,84,85の手順で、前記迷路配線法やライ
ンサーチ法といった処理手順を各部分領域毎に繰り返し
実行することにより、全配線領域の配線を処理する方法
が開発されている。
Conventionally, in order to solve this kind of problem, there is a method in which a wiring region on a semiconductor integrated circuit chip is divided into a plurality of partial regions, and the partial regions are set as a batch processing target region of the above method. According to this processing method, as shown in the flowchart in FIG. 8, before actually performing the wiring processing,
Rectangle generation 81 for rough wiring of input data 80, rough wiring 8
After the processing procedure called 2 is provided and the approximate wiring passage area is determined, the processing procedure such as the above-mentioned maze wiring method or line search method is performed based on the result of the processing procedure 83, 84, 85 called the detailed wiring processing. A method has been developed in which the wiring in the entire wiring area is processed by repeatedly performing the above for each partial area.

【0004】以下、このような概略配線方法,詳細配線
方法について、図面を参照して説明する。図9が半導体
集積回路チップ上の配線領域をシンボリックに表わした
平面図で、図中点線で区切られた矩形の1つ1つが、概
略配線時に配線経路を割り当てるための領域である。以
下、図示の通り、列方向にa,b,c,…,行方向に
1,2,3,…,と付け、各矩形領域を(a,1),
(b,2),…,等と呼ぶ。
Hereinafter, such a schematic wiring method and a detailed wiring method will be described with reference to the drawings. FIG. 9 is a plan view symbolically showing a wiring region on a semiconductor integrated circuit chip, and each of the rectangles separated by a dotted line in the drawing is a region for allocating a wiring route at the time of rough wiring. Hereinafter, as shown in the drawing, a, b, c, ... In the column direction and 1, 2, 3 ,.
(B, 2), ..., And so on.

【0005】すなわち、概略配線処理82においては、
半導体集積回路チップ上の全配線領域を対象として、ど
の矩形領域を使用して各配線を敷設するかの決定を行
う。この配線経路決定に際しては、各矩形領域の配線密
度を極力均等にすること、各配線が通過する矩形領域の
数を極力少くすること等、いくつかの事前に設定された
諸条件を最大限満足することを目的に決定していく。
That is, in the rough wiring process 82,
For all the wiring areas on the semiconductor integrated circuit chip, which rectangular area is used to lay each wiring is determined. When deciding this wiring route, several preset conditions such as making the wiring density of each rectangular area as uniform as possible and minimizing the number of rectangular areas through which each wiring passes are satisfied as much as possible. The decision is made for the purpose of doing.

【0006】本処理結果について、端子Aと端子Bの間
の配線に対して例示したのが図中の斜線部であり、この
配線は(a,1),(b,1),(c,1),(c,
2),…を使用して配線される様に決定されたことを示
している。この様な経路決定が全ての配線に対して行な
われる。
Regarding the result of this processing, the hatched portion in the figure is illustrated for the wiring between the terminals A and B, and these wirings are (a, 1), (b, 1), (c, 1), (c,
2) shows that it is determined to be wired using. Such route determination is performed for all wirings.

【0007】次に詳細配線処理について説明する。詳細
配線処理では半導体集積回路チップ上の配線領域を分割
して、その部分領域に対して、前記迷路探索法等を利用
して実際の配線を敷設していく。この領域分割の際、各
部分領域において、境界に位置する概略配線用の矩形領
域を隣りの部分領域と共有する様に分割する。この分割
方法を例示したのが、図中h,i,jと8,9,10と
であり、以下詳細配線では、この分割された(h,
8),(i,4),…の部分領域毎に繰り返し実行され
る。
Next, detailed wiring processing will be described. In the detailed wiring processing, the wiring area on the semiconductor integrated circuit chip is divided, and the actual wiring is laid in the partial area using the maze search method or the like. At the time of this area division, in each partial area, a rectangular area for rough wiring located at the boundary is divided so as to be shared with an adjacent partial area. An example of this division method is h, i, j and 8, 9, 10 in the figure. In the detailed wiring below, this division (h, i, j) is performed.
8), (i, 4), ... Is repeatedly executed for each partial area.

【0008】各部分領域における詳細配線84では、概
略配線82によってその部分領域内の矩形に割り当てら
れている配線の敷設位置の決定をその部分領域の内部で
のみ行なっていき、隣接する部分領域の配線が終了して
いれば、その部分領域へ抜けていく配線については、共
有する概略配線用の矩形領域内で接続され、終了してい
なければ、この部分領域の配線処理では、各配線が割り
当てられている共有矩形領域の任意の位置まで引き出し
ておき、その隣接する部分配線領域での配線処理の際
に、同配線が接続される様に処理される。
In the detailed wiring 84 in each partial area, the laying position of the wiring assigned to the rectangle in the partial area by the general wiring 82 is determined only within the partial area, and the adjacent partial areas are determined. If the wiring is completed, the wiring that exits to that partial area is connected within the shared rectangular area for general wiring, and if it is not completed, each wiring is assigned in the wiring processing of this partial area. The shared rectangular area is drawn out to an arbitrary position, and the wiring is processed in the adjacent partial wiring area so that the same wiring is connected.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】この従来の配線方法に
よると、概略配線時の配線経路割り当てのための各矩形
領域を細かく設定すれば、全配線領域にわたる配線経路
決定を詳細に行なうことになるので、より最適化された
概略配線結果が得られるので、詳細配線処理での負担は
軽減される。
According to this conventional wiring method, if each rectangular area for wiring path allocation at the time of rough wiring is finely set, the wiring path can be determined in detail over the entire wiring area. Therefore, a more optimized rough wiring result can be obtained, and the burden of the detailed wiring processing is reduced.

【0010】しかし、このことは、概略配線時に検討を
しなければならない矩形領域の数が増大することを意味
するので、概略配線時の処理時間やプログラムの使用す
るメモリ空間などが増大する。
However, this means that the number of rectangular areas that must be considered at the time of the rough wiring increases, so that the processing time at the rough wiring and the memory space used by the program increase.

【0011】また、逆に各矩形領域を大きく設定すれ
ば、概略配線の負担は軽減されるが、詳細配線において
経路探索を行なわなければならない部分領域が広くなる
ことを意味するので、詳細配線時の処理時間やプログラ
ムの使用するメモリ空間等が増大する。
On the contrary, if each rectangular area is set to be large, the burden on the rough wiring is reduced, but this means that the partial area in which the route search must be performed in the detailed wiring becomes wider. Processing time, memory space used by programs, etc. increase.

【0012】すなわち、この従来の配線方法では、概略
配線用の矩形や詳細配線用の分割領域の大きさ等の設定
が処理効率向上のために重要であるが、近年のさらなる
半導体集積回路の大規模化に伴い、この従来の方法にお
いても、処理時間及び使用メモリの増大に直面してい
る。
That is, in this conventional wiring method, it is important to set the size of the rectangle for the rough wiring and the size of the divided area for the fine wiring in order to improve the processing efficiency. With the increase in scale, even this conventional method faces an increase in processing time and memory used.

【0013】本発明の目的は、前記問題点が解決され、
処理時間が短縮でき、使用メモリも増大せずに済むよう
にした半導体集積回路の配線方法を提供することにあ
る。
The object of the present invention is to solve the above problems,
It is an object of the present invention to provide a wiring method for a semiconductor integrated circuit that can reduce the processing time and increase the memory used.

【0014】[0014]

【課題を解決するための手段】本発明の構成は、半導体
集積回路のチップ上に配置された機能ブロック間の配線
を接続する半導体集積回路の配線方法において、前記配
線の通過経路を大まかに決定するため、前記半導体集積
回路のチップ上の全配線領域にわたって処理を行う概略
配線処理方法と、前記概略配線処理方法の結果に基づい
て前記半導体集積回路のチップ上の配線領域の部分領域
に対して前記概略配線処理方法より詳細に配線敷設位置
の決定を行う配線処理方法とを備えたことを特徴とす
る。
The structure of the present invention is, in a wiring method of a semiconductor integrated circuit for connecting wiring between functional blocks arranged on a chip of the semiconductor integrated circuit, roughly determining a passage route of the wiring. In order to do so, a general wiring processing method for performing processing over the entire wiring area on the chip of the semiconductor integrated circuit, and a partial area of the wiring area on the chip of the semiconductor integrated circuit based on the result of the general wiring processing method And a wiring processing method for determining the wiring laying position in more detail than the general wiring processing method.

【0015】[0015]

【実施例】次に、本発明について図面を参照して説明す
る図1は本発明の一実施例の半導体集積回路の配線方法
を示すフロー図である。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Next, the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a flow chart showing a wiring method of a semiconductor integrated circuit of an embodiment of the present invention.

【0016】図1において、本実施例では、本処理シス
テムの入力データ101に、回路接続情報,配置位置情
報や設計ルール等の処理システムが必要とするすべての
情報が含まれており、全体概略配線103,部分領域概
略配線106,詳細配線108等が示されている。
In FIG. 1, in this embodiment, the input data 101 of this processing system includes all information required by the processing system, such as circuit connection information, layout position information, and design rules. A wiring 103, a partial area schematic wiring 106, a detailed wiring 108 and the like are shown.

【0017】本処理システムでは、全体概略配線用矩形
生成102に続く全体概略配線103によって半導体集
積回路チップ上の全配線領域に対して、部分領域概略配
線領域分割104,矩形生成105を行って最も粗い概
略配線を終了し、次に部分領域概略配線106によっ
て、全体概略配線103より詳細な概略配線をチップ上
の適当に分割された部分領域毎に繰り返し実行し(処理
107)、詳細配線108で実際の配線敷設位置を決定
して処理を終了する。
In the present processing system, the partial schematic global wiring area division 104 and the rectangular generation 105 are performed for the entire wiring area on the semiconductor integrated circuit chip by the general schematic wiring 103 following the general schematic wiring rectangle generation 102. The rough rough wiring is completed, and then the rough rough wiring, which is more detailed than the general rough wiring 103, is repeatedly executed by the partial area rough wiring 106 for each appropriately divided partial area on the chip (process 107). The actual wiring installation position is determined, and the process ends.

【0018】次に、本処理について、具体的に各処理工
程の作業分担と処理手順を、半導体集積回路のチップ上
の配線領域をシンボリックに表わした図2を使用して説
明する。図2の全体が半導体集積回路チップ上の全配線
領域を示しており、一例として、端子Aと端子Bを結線
する配線を用いて具体的に説明する。
Next, with respect to this processing, the work division and processing procedure of each processing step will be specifically described with reference to FIG. 2 which symbolically shows the wiring region on the chip of the semiconductor integrated circuit. The whole of FIG. 2 shows the entire wiring region on the semiconductor integrated circuit chip, and as an example, a wiring for connecting the terminals A and B will be specifically described.

【0019】本処理システムでは、初めに全体概略配線
用の矩形領域を図1の全体概略配線用矩形生成102の
処理によって、全配線領域をメッシュ状に分割すること
により生成する。このメッシュを具体的に示したのが、
図2の点線であり、以下図示の通り列方向にa,b,
c,…,行方向に1,2,3,…,と付け、各分割領域
を(a,1),(b,2),…,等と呼ぶことにする。
In this processing system, first, a rectangular area for overall schematic wiring is created by dividing the entire wiring area into a mesh shape by the processing of the overall schematic wiring rectangular creation 102 of FIG. The concrete example of this mesh is
2 is a dotted line in FIG. 2 and is a, b, and
c, ..., 1, 2, 3, ... In the row direction, and the divided areas are referred to as (a, 1), (b, 2) ,.

【0020】次に、図1の全体概略配線103によっ
て、半導体集積回路のどの矩形領域を通過して配線をす
るかを決定する。この処理結果を端子AとBを結線する
配線に対して例示したのが、図3で、図中の斜線を付し
た矩形領域が選ばれたことを示している。
Next, the overall schematic wiring 103 of FIG. 1 determines which rectangular area of the semiconductor integrated circuit the wiring passes through. An example of this processing result is shown for the wiring that connects the terminals A and B, and it is shown in FIG. 3 that the rectangular region with hatching in the drawing is selected.

【0021】次に、部分領域概略配線用領域分割104
の処理により、部分処理概略配線用の領域分割を行う。
本処理を例示したのが図4で、列方向にh,i,j,行
方向に8,9,10の分割を行い、(h,8),(h,
9),…,(j,10)の9つの部分領域に分割された
ことを示している。本処理では、各分割領域間での整合
性をとるために、隣接する部分領域で、全体概略配線用
の矩形領域が共有される様に分割される。
Next, the partial area rough wiring area division 104
By this processing, area division for partial processing rough wiring is performed.
This processing is illustrated in FIG. 4, where h, i, j in the column direction and 8, 9, 10 in the row direction are divided into (h, 8), (h,
9), ..., (j, 10) are divided into nine partial areas. In this processing, in order to ensure consistency among the divided areas, adjacent partial areas are divided so that the rectangular area for overall schematic wiring is shared.

【0022】次に、図1の部分領域概略配線用矩形生成
105の処理により、部分領域概略配線用の矩形を生成
する。本処理では、全体概略配線用の矩形より小さな矩
形を生成することにより、次の部分領域概略配線によ
り、全体概略配線より、詳細に配線割り当てができるよ
うにする。本処理を例示したのが図5で、この図5は分
割領域(h,8)の拡大図であり、図2〜図4と同一添
字は同じものを表わしている。図中一点鎖線で表わした
ものが、本処理での分割領域を示しており、列方向にa
1,a2,…,行方向に11,12,…,に分割してい
ることを示している。
Next, a rectangle for partial area general wiring is generated by the processing of the rectangle for partial area general wiring 105 in FIG. In this processing, a rectangle smaller than the rectangle for the overall schematic wiring is generated, so that the next partial area schematic wiring enables more detailed wiring allocation than the overall schematic wiring. This processing is illustrated in FIG. 5, which is an enlarged view of the divided area (h, 8), and the same subscripts as in FIGS. 2 to 4 represent the same things. The one-dot chain line in the figure indicates the divided area in this processing, and a in the column direction
, A2, ..., 11, 12, ... In the row direction.

【0023】次に各分割領域毎に、部分領域概略配線1
06を繰り返し、分割領域概略配線を実行する。ここで
は、(h,8)の分割領域を用いて本処理を具体的に説
明する。本処理においては、図1の全体概略配線103
によって(h,8)の領域に割り当てられている全配線
に対して処理105で分割して、(a1,11),(a
2,11),…,等の矩形に対して通過配線の割り当て
を行う。この割り当て処理は全体概略配線103によっ
て割り当てられている(a,1),(b,2),…,等
の全体概略配線用矩形に包含されている部分領域概略配
線用矩形に割り当てる様に実行され、端子A,B間の配
線の様に、各分割領域にまたがって結線されるべき配線
の場合、隣接する部分概略配線用分割領域の概略配線が
終了していなければ共有する全体概略配線用矩形領域内
の任意の部分領域概略配線用矩形の割り当てまでを行
い、概略配線が終了していれば、その割り当てられてい
る部分概略配線用の矩形に接続される様に割り当てが行
なわれる。
Next, for each divided area, the partial area schematic wiring 1
06 is repeated to execute the divided area rough wiring. Here, this processing will be specifically described using the (h, 8) divided area. In this process, the overall schematic wiring 103 of FIG.
All wirings assigned to the area (h, 8) are divided by the processing 105, and (a1, 11), (a
2, 11), ..., And so on, through wirings are assigned to rectangles. This allocation processing is executed so as to be allocated to the partial area general wiring rectangles included in the general general wiring rectangles (a, 1), (b, 2), ... In the case of the wiring that should be connected across each divided area, such as the wiring between the terminals A and B, for the general rough wiring that is shared unless the rough wiring of the adjacent partial rough wiring divided areas is completed. Allocation of an arbitrary partial area general wiring rectangle within the rectangular area is performed, and if the general wiring is completed, the allocation is performed so as to be connected to the allocated partial general wiring rectangle.

【0024】本処理を、端子A,B間の配線に対して例
示したのが、図6で右下がりの斜線部が全体概略配線に
よって割り当てられた矩形を示し、左下がりの斜線部が
部分領域概略配線によって割り当てられた矩形を示して
いる。このように端子Aの点を出発する配線は、(a
2,12),(a3,12),(a3,13),…,と
割り当てられ、隣接する部分領域の概略配線が施されて
いないので、(c4,33)まで割り当てられて終了し
ている。
This processing is illustrated for the wiring between the terminals A and B. In FIG. 6, the downward-sloping diagonally shaded portion shows a rectangle allocated by the overall schematic wiring, and the downward-sloping diagonally shaded portion is a partial area. The rectangle allocated by the schematic wiring is shown. Thus, the wiring starting from the point of terminal A is (a
2, 12), (a3, 12), (a3, 13), ... Are assigned, and since the schematic wiring of the adjacent partial areas is not performed, the assignment up to (c4, 33) is completed. .

【0025】この様にして、全配線領域に対して部分領
域概略配線が終了すると、この部分領域概略配線の結果
に基づき、図1の詳細配線108によって、従来と同様
の方法によって具体的な配線敷設位置を決定することに
より、半導体集積回路の配線処理を終了する。
In this way, when the partial area general wiring is completed for the entire wiring area, based on the result of the partial area general wiring, the detailed wiring 108 of FIG. By determining the laying position, the wiring process of the semiconductor integrated circuit is completed.

【0026】以上のように、本実施例の配線処理方法に
おいては、半導体集積回路チップ上の全配線領域に対し
て概略配線を実行し、その処理結果を基に、適当に分割
した部分領域毎に、より詳細な概略配線を実施すること
により、よって階層的に概略配線を行う手段を有してい
る。
As described above, according to the wiring processing method of the present embodiment, the rough wiring is executed for all the wiring areas on the semiconductor integrated circuit chip, and based on the processing result, each of the appropriately divided partial areas is processed. In addition, by implementing more detailed rough wiring, there is provided means for hierarchical rough wiring.

【0027】次に、図7を参照して、本発明の他の実施
例の配線方法を説明する。図7において、本発明の他の
実施例は、部分概略配線処理が各部分領域毎に処理され
るという特徴を利用して、部分概略配線処理の並列処理
化を行なっている。
Next, a wiring method according to another embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. In FIG. 7, another embodiment of the present invention performs partial parallel wiring processing in parallel by utilizing the feature that the partial rough wiring processing is performed for each partial area.

【0028】ここで、第1の計算機70と第2の計算機
90とが用意される。第1の計算機70では、まず全体
概略配線用矩形生成72,全体概略配線73,部分領域
概略配線用領域分割74,部分領域概略配線用矩形生成
75と順次図1と同様な処理を行う。
Here, a first computer 70 and a second computer 90 are prepared. In the first computer 70, first, the same processing as that in FIG. 1 is sequentially performed with the overall schematic wiring rectangle generation 72, the overall schematic wiring 73, the partial area general wiring area division 74, and the partial area general wiring rectangle generation 75.

【0029】さて、次の部分領域概略配線処理依頼76
を第2の計算機90に対して行い、第2の計算機90で
は部分領域概略配線91,終了報告92を第1の計算機
70に対して行う。第1の計算機70では、部分領域概
略配線77を行い、全領域が終了するまで繰り返す(処
理78)。最後に、詳細配線79を行って、終了する。
The next partial area rough wiring processing request 76
To the second computer 90, and in the second computer 90, the partial area schematic wiring 91 and the end report 92 are transmitted to the first computer 70. In the first computer 70, the partial area general wiring 77 is performed, and the processing is repeated until the entire area is completed (process 78). Finally, the detailed wiring 79 is performed, and the process ends.

【0030】このように、本実施例においては、計算機
を複数使用して部分概略配線処理を並列化することによ
り、さらに高速処理化を達成することができる。
As described above, in the present embodiment, a plurality of computers are used to parallelize the partial rough wiring processing, whereby a further high speed processing can be achieved.

【0031】[0031]

【発明の効果】以上説明したように、本発明は、半導体
集積回路チップ上の全配線領域に対して概略配線を実行
し、その処理結果を基に、適当に分割した部分領域毎
に、より詳細な概略配線を実施することによって、階層
的に概略配線を行う手段を有しているので、以下の説明
の通り、処理時間の短縮,プログラムの使用メモリの最
小化を計れる。
As described above, according to the present invention, the rough wiring is executed for the entire wiring area on the semiconductor integrated circuit chip, and based on the result of the processing, it is possible to further divide each of the appropriately divided partial areas. Since there is a means for performing hierarchical rough wiring by performing detailed rough wiring, the processing time can be shortened and the memory used by the program can be minimized as described below.

【0032】迷路探索法によって配線経路を決定する処
理方法の場合に、全配線領域を一括して迷路探索法によ
り配線を実行する場合、従来の方法によって概略配線を
施し、迷路探索法により詳細配線を実行する場合と、本
発明によって全体概略配線,部分領域概略配線を施し、
迷路探索法により詳細配線を実行する場合とについて、
処理時間及びメモリ使用量の概略を見る。
In the case of the processing method of determining the wiring route by the maze search method, when the wiring is executed collectively by the maze search method in the entire wiring area, the rough wiring is performed by the conventional method and the detailed wiring is performed by the maze search method. And the general outline wiring and the partial region outline wiring according to the present invention,
Regarding the case of performing detailed wiring by the maze search method,
See an overview of processing time and memory usage.

【0033】迷路探索法においては、半導体集積回路の
配線領域に対して水平方向,垂直方向にメッシュ状に配
線用の格子(配線格子)を設定し、この縦横の格子の交
点(格子点)に対して各配線の通過の可否を判断して前
記配線格子上に配線を割り当てることにより、配線経路
を決定する。従って、その処理時間は、入力処理,出力
処理等を除き、主に線格子点数rの2乗と総配線本数P
に依存し、P×(rの2乗)のオーダを持つことにな
る。また、処理中のメモリ量も各格子点毎に配線通過の
可・不可を持つため、rの2乗に依存する。
In the maze search method, grids for wiring (wiring grids) are set in the horizontal and vertical directions in the wiring area of the semiconductor integrated circuit, and the intersections (lattice points) of the vertical and horizontal grids are set. On the other hand, it is determined whether or not each wiring can pass, and the wiring is allocated on the wiring grid to determine the wiring route. Therefore, the processing time is mainly the square of the number of line grid points r and the total number of wiring lines P, except for the input processing and the output processing.
, And has an order of P × (r squared). In addition, the amount of memory being processed depends on the square of r because each grid point has or does not allow wiring passage.

【0034】また、ここでは簡単化のため、概略配線に
おいても概略配線用の矩形領域に対する配線経路の割り
当てを迷路探索法と同様な手法で行うこととし、違いは
1つの概略配線用の矩形領域に対して複数の配線を割り
当て得ることと考えて、配線数をP,矩形数をnの2乗
としたとき、処理時間はP×(nの2乗)、メモリ使用
量はnの2乗に依存するものと考える。
Further, here, for simplification, in the rough wiring, the wiring route is assigned to the rough wiring rectangular area by the same method as the maze search method. The difference is that one rough wiring rectangular area is used. Considering that it is possible to allocate a plurality of wires to P, and the number of wires is P and the number of rectangles is the square of n, the processing time is P × (n square) and the memory usage is the square of n. I think it depends on.

【0035】初めに、全配線領域に対して一括して迷路
探索法で処理する場合、半導体集積回路の総配線本数を
P,水平方向配線格子r本,垂直方向配線格子r本,総
格子点数rの2乗個とすると、一格子の探索に要する時
間をt,格子点当りのメモリ使用量をaとした場合、処
理時間Tm,最大使用メモリMmは、次式となる。
First, in the case where all the wiring regions are collectively processed by the maze search method, the total number of wirings of the semiconductor integrated circuit is P, the horizontal wiring grid r, the vertical wiring grid r, and the total number of grid points. Assuming that the time required to search one grid is t and the memory usage amount per grid point is a, assuming that r is the second power, the processing time Tm and the maximum memory usage Mm are as follows.

【0036】 Tm=P×t×(rの2乗) Mm=a×(rの2乗) 従来方式の概略配線処理のときは、詳細配線用の部分領
域として半導体集積回路の配線領域をm×mと分割し、
簡単化のため、この部分領域と概略配線用矩形を同一化
させた場合を考える。
Tm = P × t × (r squared) Mm = a × (r squared) In the conventional rough wiring processing, the wiring area of the semiconductor integrated circuit is defined as m as a partial area for detailed wiring. Divide by × m,
For simplification, consider a case in which the partial area and the general wiring rectangle are made the same.

【0037】概略配線処理では、概略配線用矩形がmの
2乗個あるので、概略配線用矩形当りのメモリ使用量を
bとすると、処理時間Tu1,使用メモリMu1は、次
式となる。
In the rough wiring process, since there are m square power wiring rectangles, assuming that the memory usage amount per rough wiring rectangle is b, the processing time Tu1 and the used memory Mu1 are as follows.

【0038】 Tu1=P×t×(mの2乗) Mu1=b×(mの2乗) また、詳細配線処理では、詳細配線用の部分領域に含ま
れる格子数がr/m本,格子点が(rの2乗)/(mの
2乗)個、また、概略配線によってある部分領域に割り
当てられる配線の平均本数は面積に比例して、P/(m
の2乗)本となるので、処理時間Tu2,使用メモリM
u2は、次式となる。
Tu1 = P × t × (m squared) Mu1 = b × (m squared) In the detailed wiring process, the number of grids included in the partial area for the detailed wiring is r / m, The number of points is (square of r) / (square of m), and the average number of wirings assigned to a certain partial area by the rough wiring is P / (m
Squared), so processing time Tu2, used memory M
u2 is given by the following equation.

【0039】 [0039]

【0040】詳細配線用部分領域が、(mの2乗)個あ
るので、総処理時間は、次式となる。
Since there are (m squared) partial wiring areas for detailed wiring, the total processing time is given by the following equation.

【0041】 [0041]

【0042】ここで、この式はm=rの平方根のとき最
小となり、次式となる。
Here, this equation becomes the minimum when the square root of m = r, and becomes the following equation.

【0043】Tu=2Ptr このとき、最大使用メモリMuは、次式となる。Tu = 2Ptr At this time, the maximum used memory Mu is as follows.

【0044】Mu=max(Mu1,Mu2)=max
(br,ar) 本発明の実施例による配線方法の場合、部分概略配線用
の領域としてn×nに分割し、さらに、m×mに分割し
て詳細配線用部分領域にすると、同様の計算方法によ
り、全体概略配線用矩形当りのメモリ使用量をCとする
と、全体概略配線の処理時間Tp1,メモリ量Mp1
は、次式となる。
Mu = max (Mu1, Mu2) = max
(Br, ar) In the case of the wiring method according to the embodiment of the present invention, the same calculation is performed by dividing the region for partial schematic wiring into n × n and further dividing into m × m to form a detailed wiring partial region. According to the method, if the memory usage amount per rectangle for the overall schematic wiring is C, the processing time Tp1 for the overall schematic wiring and the memory amount Mp1
Becomes the following equation.

【0045】 [0045]

【0046】部分概略配線用矩形当りのメモリ使用量を
dとすると、部分概略配線時の処理時間Tp2,メモリ
使用量Mp2は、次式となる。
Assuming that the memory usage amount per rectangle for partial schematic wiring is d, the processing time Tp2 and the memory usage amount Mp2 at the time of partial schematic wiring are given by the following equation.

【0047】 [0047]

【0048】このように、一括迷路探索法の場合“rの
2乗”、従来方法の場合“r”、本発明の実施例の場合
rの2/3乗に従って、処理時間,最大使用メモリが増
加していくことがわかる。ここで、rは半導体集積回路
上の配線格子数を表わしているので、本発明の効果は、
配線格子数が大きいとき、すなわち大規模な半導体集積
回路ほど、適応の効果が著しいことを示している。
As described above, the processing time and the maximum memory used are determined according to “r squared” in the case of the collective maze search method, “r” in the conventional method, and 2/3 of r in the embodiment of the present invention. You can see that it will increase. Since r represents the number of wiring grids on the semiconductor integrated circuit, the effect of the present invention is
It is shown that the adaptation effect is more remarkable when the number of wiring grids is large, that is, the larger the semiconductor integrated circuit is.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施例の半導体集積回路の配線方法
を示すフロー図である。
FIG. 1 is a flowchart showing a wiring method of a semiconductor integrated circuit according to an embodiment of the present invention.

【図2】本発明の一実施例の全体概略配線用矩形領域を
示す半導体集積回路をシンボリックに示す平面図であ
る。
FIG. 2 is a symbolic plan view of a semiconductor integrated circuit showing a rectangular area for overall schematic wiring according to an embodiment of the present invention.

【図3】本発明の一実施例の全体概略配線の処理例を示
す半導体集積回路をシンボリックに示す平面図である。
FIG. 3 is a plan view which symbolically shows a semiconductor integrated circuit showing a processing example of overall schematic wiring according to an embodiment of the present invention.

【図4】本発明の一実施例の部分概略配線実行用の分割
領域を示す半導体集積回路をシンボリックに示す平面図
である。
FIG. 4 is a symbolic plan view of a semiconductor integrated circuit showing a divided region for performing partial schematic wiring according to an embodiment of the present invention.

【図5】本発明の一実施例の部分概略配線用矩形領域を
拡大してシンボリックに示す平面図である。
FIG. 5 is a plan view showing an enlarged rectangular area for partial schematic wiring of one embodiment of the present invention in a symbolic manner.

【図6】本発明の一実施例の部分概略配線の処理例を拡
大してシンボリックに示す平面図である。
FIG. 6 is a plan view showing an enlarged schematic symbolically a processing example of partial schematic wiring according to an embodiment of the present invention.

【図7】本発明の他の実施例を示すフロー図である。FIG. 7 is a flowchart showing another embodiment of the present invention.

【図8】従来の半導体集積回路の配線方法を示すフロー
図である。
FIG. 8 is a flowchart showing a conventional wiring method for a semiconductor integrated circuit.

【図9】図8の従来の配線方法を示す半導体集積回路の
平面図である。
9 is a plan view of a semiconductor integrated circuit showing the conventional wiring method of FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

80,101 入力データ 72,81,102 矩形生成 73,82,103 全体概略配線 74,83,104 領域分割 75,105 部分矩形生成 77,91,106 部分概略配線 78,85,107 処理 79,84,108 詳細配線 A,B 端子 70,90 計算機 76 処理依頼 92 終了報告 80,101 Input data 72,81,102 Rectangle generation 73,82,103 Overall schematic wiring 74,83,104 Area division 75,105 Partial rectangle generation 77,91,106 Partial schematic wiring 78,85,107 Process 79,84 , 108 Detailed wiring A, B terminals 70, 90 Computer 76 Processing request 92 Finish report

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 半導体集積回路のチップ上に配置された
機能ブロック間の配線を接続する半導体集積回路の配線
方法において、前記配線の通過経路を大まかに決定する
ため、前記半導体集積回路のチップ上の全配線領域にわ
たって処理を行う概略配線処理方法と、前記概略配線処
理方法の結果に基づいて前記半導体集積回路のチップ上
の配線領域の部分領域に対して前記概略配線処理方法よ
り詳細に配線敷設位置の決定を行う配線処理方法とを備
えたことを特徴とする半導体集積回路の配線方法。
1. In a wiring method of a semiconductor integrated circuit for connecting wiring between functional blocks arranged on a chip of the semiconductor integrated circuit, in order to roughly determine a passage route of the wiring, the wiring of the semiconductor integrated circuit is on the chip. Wiring processing method for performing processing over the entire wiring area, and laying wiring in more detail than the rough wiring processing method on a partial area of the wiring area on the chip of the semiconductor integrated circuit based on the result of the rough wiring processing method. And a wiring processing method for determining a position, the wiring method for a semiconductor integrated circuit.
【請求項2】 詳細配線処理方法が、複数の計算機の並
列処理で行われる請求項1に記載の半導体集積回路の配
線方法。
2. The wiring method for a semiconductor integrated circuit according to claim 1, wherein the detailed wiring processing method is performed by parallel processing of a plurality of computers.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009111244A (en) * 2007-10-31 2009-05-21 Fujitsu Ltd Layout design program, recording medium storing the program, layout design apparatus, and layout design method

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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Effective date: 19991102