JPH06204338A - 半導体集積回路の配線方法 - Google Patents
半導体集積回路の配線方法Info
- Publication number
- JPH06204338A JPH06204338A JP5000929A JP92993A JPH06204338A JP H06204338 A JPH06204338 A JP H06204338A JP 5000929 A JP5000929 A JP 5000929A JP 92993 A JP92993 A JP 92993A JP H06204338 A JPH06204338 A JP H06204338A
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- Japan
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- wiring
- processing
- semiconductor integrated
- integrated circuit
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Abstract
(57)【要約】
【目的】大規模半導体集積回路の自動配線処理方法に適
応し、処理時間の短縮,計算機の使用メモリの最小化を
計ること。 【構成】配線の通過経路の概略を決定する概略配線方法
と、その結果に従って、実際の配線敷設位置を決定する
詳細配線方法とを有する半導体集積回路の配線処理方法
であって、その概略配線処理方法が、半導体集積回路チ
ップ上の全配線領域を対象とした全体概略配線103,
その結果に従って半導体集積回路チップ上の部分領域に
対して行なわれる部分領域概略配線106等より構成さ
れる。
応し、処理時間の短縮,計算機の使用メモリの最小化を
計ること。 【構成】配線の通過経路の概略を決定する概略配線方法
と、その結果に従って、実際の配線敷設位置を決定する
詳細配線方法とを有する半導体集積回路の配線処理方法
であって、その概略配線処理方法が、半導体集積回路チ
ップ上の全配線領域を対象とした全体概略配線103,
その結果に従って半導体集積回路チップ上の部分領域に
対して行なわれる部分領域概略配線106等より構成さ
れる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は半導体集積回路の配線方
法に関し、特に計算機を使用して行う自動配線処理に有
効な配線処理方法に関する。
法に関し、特に計算機を使用して行う自動配線処理に有
効な配線処理方法に関する。
【0002】
【従来の技術】この種の半導体集積回路の配線処理方法
としては、迷路探索法やラインサーチ法など種々のもの
が発表されているが、近年半導体集積回路の大規模化に
伴い、その配線領域の面積増大化,配線層の多層化がな
されてきており、半導体集積回路チップ上の配線領域全
面を前記方法のみによって一括で処理することは、処理
時間や計算機の使用メモリの増大を招き、困難になりつ
つある。
としては、迷路探索法やラインサーチ法など種々のもの
が発表されているが、近年半導体集積回路の大規模化に
伴い、その配線領域の面積増大化,配線層の多層化がな
されてきており、半導体集積回路チップ上の配線領域全
面を前記方法のみによって一括で処理することは、処理
時間や計算機の使用メモリの増大を招き、困難になりつ
つある。
【0003】従来、この種の問題を解決するために、半
導体集積回路チップ上の配線領域を複数の部分領域に分
割し、この部分領域内を前記手法の一括処理対象領域と
する方法がある。この処理方法によると、図8にフロー
チャートを示す通り、実際に配線処理を実行する前に、
入力データ80の概略配線用矩形生成81,概略配線8
2といわれる処理手順を設け、大体の配線通過領域を決
定した後、その結果を基に詳細配線処理といわれる処理
手順83,84,85の手順で、前記迷路配線法やライ
ンサーチ法といった処理手順を各部分領域毎に繰り返し
実行することにより、全配線領域の配線を処理する方法
が開発されている。
導体集積回路チップ上の配線領域を複数の部分領域に分
割し、この部分領域内を前記手法の一括処理対象領域と
する方法がある。この処理方法によると、図8にフロー
チャートを示す通り、実際に配線処理を実行する前に、
入力データ80の概略配線用矩形生成81,概略配線8
2といわれる処理手順を設け、大体の配線通過領域を決
定した後、その結果を基に詳細配線処理といわれる処理
手順83,84,85の手順で、前記迷路配線法やライ
ンサーチ法といった処理手順を各部分領域毎に繰り返し
実行することにより、全配線領域の配線を処理する方法
が開発されている。
【0004】以下、このような概略配線方法,詳細配線
方法について、図面を参照して説明する。図9が半導体
集積回路チップ上の配線領域をシンボリックに表わした
平面図で、図中点線で区切られた矩形の1つ1つが、概
略配線時に配線経路を割り当てるための領域である。以
下、図示の通り、列方向にa,b,c,…,行方向に
1,2,3,…,と付け、各矩形領域を(a,1),
(b,2),…,等と呼ぶ。
方法について、図面を参照して説明する。図9が半導体
集積回路チップ上の配線領域をシンボリックに表わした
平面図で、図中点線で区切られた矩形の1つ1つが、概
略配線時に配線経路を割り当てるための領域である。以
下、図示の通り、列方向にa,b,c,…,行方向に
1,2,3,…,と付け、各矩形領域を(a,1),
(b,2),…,等と呼ぶ。
【0005】すなわち、概略配線処理82においては、
半導体集積回路チップ上の全配線領域を対象として、ど
の矩形領域を使用して各配線を敷設するかの決定を行
う。この配線経路決定に際しては、各矩形領域の配線密
度を極力均等にすること、各配線が通過する矩形領域の
数を極力少くすること等、いくつかの事前に設定された
諸条件を最大限満足することを目的に決定していく。
半導体集積回路チップ上の全配線領域を対象として、ど
の矩形領域を使用して各配線を敷設するかの決定を行
う。この配線経路決定に際しては、各矩形領域の配線密
度を極力均等にすること、各配線が通過する矩形領域の
数を極力少くすること等、いくつかの事前に設定された
諸条件を最大限満足することを目的に決定していく。
【0006】本処理結果について、端子Aと端子Bの間
の配線に対して例示したのが図中の斜線部であり、この
配線は(a,1),(b,1),(c,1),(c,
2),…を使用して配線される様に決定されたことを示
している。この様な経路決定が全ての配線に対して行な
われる。
の配線に対して例示したのが図中の斜線部であり、この
配線は(a,1),(b,1),(c,1),(c,
2),…を使用して配線される様に決定されたことを示
している。この様な経路決定が全ての配線に対して行な
われる。
【0007】次に詳細配線処理について説明する。詳細
配線処理では半導体集積回路チップ上の配線領域を分割
して、その部分領域に対して、前記迷路探索法等を利用
して実際の配線を敷設していく。この領域分割の際、各
部分領域において、境界に位置する概略配線用の矩形領
域を隣りの部分領域と共有する様に分割する。この分割
方法を例示したのが、図中h,i,jと8,9,10と
であり、以下詳細配線では、この分割された(h,
8),(i,4),…の部分領域毎に繰り返し実行され
る。
配線処理では半導体集積回路チップ上の配線領域を分割
して、その部分領域に対して、前記迷路探索法等を利用
して実際の配線を敷設していく。この領域分割の際、各
部分領域において、境界に位置する概略配線用の矩形領
域を隣りの部分領域と共有する様に分割する。この分割
方法を例示したのが、図中h,i,jと8,9,10と
であり、以下詳細配線では、この分割された(h,
8),(i,4),…の部分領域毎に繰り返し実行され
る。
【0008】各部分領域における詳細配線84では、概
略配線82によってその部分領域内の矩形に割り当てら
れている配線の敷設位置の決定をその部分領域の内部で
のみ行なっていき、隣接する部分領域の配線が終了して
いれば、その部分領域へ抜けていく配線については、共
有する概略配線用の矩形領域内で接続され、終了してい
なければ、この部分領域の配線処理では、各配線が割り
当てられている共有矩形領域の任意の位置まで引き出し
ておき、その隣接する部分配線領域での配線処理の際
に、同配線が接続される様に処理される。
略配線82によってその部分領域内の矩形に割り当てら
れている配線の敷設位置の決定をその部分領域の内部で
のみ行なっていき、隣接する部分領域の配線が終了して
いれば、その部分領域へ抜けていく配線については、共
有する概略配線用の矩形領域内で接続され、終了してい
なければ、この部分領域の配線処理では、各配線が割り
当てられている共有矩形領域の任意の位置まで引き出し
ておき、その隣接する部分配線領域での配線処理の際
に、同配線が接続される様に処理される。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】この従来の配線方法に
よると、概略配線時の配線経路割り当てのための各矩形
領域を細かく設定すれば、全配線領域にわたる配線経路
決定を詳細に行なうことになるので、より最適化された
概略配線結果が得られるので、詳細配線処理での負担は
軽減される。
よると、概略配線時の配線経路割り当てのための各矩形
領域を細かく設定すれば、全配線領域にわたる配線経路
決定を詳細に行なうことになるので、より最適化された
概略配線結果が得られるので、詳細配線処理での負担は
軽減される。
【0010】しかし、このことは、概略配線時に検討を
しなければならない矩形領域の数が増大することを意味
するので、概略配線時の処理時間やプログラムの使用す
るメモリ空間などが増大する。
しなければならない矩形領域の数が増大することを意味
するので、概略配線時の処理時間やプログラムの使用す
るメモリ空間などが増大する。
【0011】また、逆に各矩形領域を大きく設定すれ
ば、概略配線の負担は軽減されるが、詳細配線において
経路探索を行なわなければならない部分領域が広くなる
ことを意味するので、詳細配線時の処理時間やプログラ
ムの使用するメモリ空間等が増大する。
ば、概略配線の負担は軽減されるが、詳細配線において
経路探索を行なわなければならない部分領域が広くなる
ことを意味するので、詳細配線時の処理時間やプログラ
ムの使用するメモリ空間等が増大する。
【0012】すなわち、この従来の配線方法では、概略
配線用の矩形や詳細配線用の分割領域の大きさ等の設定
が処理効率向上のために重要であるが、近年のさらなる
半導体集積回路の大規模化に伴い、この従来の方法にお
いても、処理時間及び使用メモリの増大に直面してい
る。
配線用の矩形や詳細配線用の分割領域の大きさ等の設定
が処理効率向上のために重要であるが、近年のさらなる
半導体集積回路の大規模化に伴い、この従来の方法にお
いても、処理時間及び使用メモリの増大に直面してい
る。
【0013】本発明の目的は、前記問題点が解決され、
処理時間が短縮でき、使用メモリも増大せずに済むよう
にした半導体集積回路の配線方法を提供することにあ
る。
処理時間が短縮でき、使用メモリも増大せずに済むよう
にした半導体集積回路の配線方法を提供することにあ
る。
【0014】
【課題を解決するための手段】本発明の構成は、半導体
集積回路のチップ上に配置された機能ブロック間の配線
を接続する半導体集積回路の配線方法において、前記配
線の通過経路を大まかに決定するため、前記半導体集積
回路のチップ上の全配線領域にわたって処理を行う概略
配線処理方法と、前記概略配線処理方法の結果に基づい
て前記半導体集積回路のチップ上の配線領域の部分領域
に対して前記概略配線処理方法より詳細に配線敷設位置
の決定を行う配線処理方法とを備えたことを特徴とす
る。
集積回路のチップ上に配置された機能ブロック間の配線
を接続する半導体集積回路の配線方法において、前記配
線の通過経路を大まかに決定するため、前記半導体集積
回路のチップ上の全配線領域にわたって処理を行う概略
配線処理方法と、前記概略配線処理方法の結果に基づい
て前記半導体集積回路のチップ上の配線領域の部分領域
に対して前記概略配線処理方法より詳細に配線敷設位置
の決定を行う配線処理方法とを備えたことを特徴とす
る。
【0015】
【実施例】次に、本発明について図面を参照して説明す
る図1は本発明の一実施例の半導体集積回路の配線方法
を示すフロー図である。
る図1は本発明の一実施例の半導体集積回路の配線方法
を示すフロー図である。
【0016】図1において、本実施例では、本処理シス
テムの入力データ101に、回路接続情報,配置位置情
報や設計ルール等の処理システムが必要とするすべての
情報が含まれており、全体概略配線103,部分領域概
略配線106,詳細配線108等が示されている。
テムの入力データ101に、回路接続情報,配置位置情
報や設計ルール等の処理システムが必要とするすべての
情報が含まれており、全体概略配線103,部分領域概
略配線106,詳細配線108等が示されている。
【0017】本処理システムでは、全体概略配線用矩形
生成102に続く全体概略配線103によって半導体集
積回路チップ上の全配線領域に対して、部分領域概略配
線領域分割104,矩形生成105を行って最も粗い概
略配線を終了し、次に部分領域概略配線106によっ
て、全体概略配線103より詳細な概略配線をチップ上
の適当に分割された部分領域毎に繰り返し実行し(処理
107)、詳細配線108で実際の配線敷設位置を決定
して処理を終了する。
生成102に続く全体概略配線103によって半導体集
積回路チップ上の全配線領域に対して、部分領域概略配
線領域分割104,矩形生成105を行って最も粗い概
略配線を終了し、次に部分領域概略配線106によっ
て、全体概略配線103より詳細な概略配線をチップ上
の適当に分割された部分領域毎に繰り返し実行し(処理
107)、詳細配線108で実際の配線敷設位置を決定
して処理を終了する。
【0018】次に、本処理について、具体的に各処理工
程の作業分担と処理手順を、半導体集積回路のチップ上
の配線領域をシンボリックに表わした図2を使用して説
明する。図2の全体が半導体集積回路チップ上の全配線
領域を示しており、一例として、端子Aと端子Bを結線
する配線を用いて具体的に説明する。
程の作業分担と処理手順を、半導体集積回路のチップ上
の配線領域をシンボリックに表わした図2を使用して説
明する。図2の全体が半導体集積回路チップ上の全配線
領域を示しており、一例として、端子Aと端子Bを結線
する配線を用いて具体的に説明する。
【0019】本処理システムでは、初めに全体概略配線
用の矩形領域を図1の全体概略配線用矩形生成102の
処理によって、全配線領域をメッシュ状に分割すること
により生成する。このメッシュを具体的に示したのが、
図2の点線であり、以下図示の通り列方向にa,b,
c,…,行方向に1,2,3,…,と付け、各分割領域
を(a,1),(b,2),…,等と呼ぶことにする。
用の矩形領域を図1の全体概略配線用矩形生成102の
処理によって、全配線領域をメッシュ状に分割すること
により生成する。このメッシュを具体的に示したのが、
図2の点線であり、以下図示の通り列方向にa,b,
c,…,行方向に1,2,3,…,と付け、各分割領域
を(a,1),(b,2),…,等と呼ぶことにする。
【0020】次に、図1の全体概略配線103によっ
て、半導体集積回路のどの矩形領域を通過して配線をす
るかを決定する。この処理結果を端子AとBを結線する
配線に対して例示したのが、図3で、図中の斜線を付し
た矩形領域が選ばれたことを示している。
て、半導体集積回路のどの矩形領域を通過して配線をす
るかを決定する。この処理結果を端子AとBを結線する
配線に対して例示したのが、図3で、図中の斜線を付し
た矩形領域が選ばれたことを示している。
【0021】次に、部分領域概略配線用領域分割104
の処理により、部分処理概略配線用の領域分割を行う。
本処理を例示したのが図4で、列方向にh,i,j,行
方向に8,9,10の分割を行い、(h,8),(h,
9),…,(j,10)の9つの部分領域に分割された
ことを示している。本処理では、各分割領域間での整合
性をとるために、隣接する部分領域で、全体概略配線用
の矩形領域が共有される様に分割される。
の処理により、部分処理概略配線用の領域分割を行う。
本処理を例示したのが図4で、列方向にh,i,j,行
方向に8,9,10の分割を行い、(h,8),(h,
9),…,(j,10)の9つの部分領域に分割された
ことを示している。本処理では、各分割領域間での整合
性をとるために、隣接する部分領域で、全体概略配線用
の矩形領域が共有される様に分割される。
【0022】次に、図1の部分領域概略配線用矩形生成
105の処理により、部分領域概略配線用の矩形を生成
する。本処理では、全体概略配線用の矩形より小さな矩
形を生成することにより、次の部分領域概略配線によ
り、全体概略配線より、詳細に配線割り当てができるよ
うにする。本処理を例示したのが図5で、この図5は分
割領域(h,8)の拡大図であり、図2〜図4と同一添
字は同じものを表わしている。図中一点鎖線で表わした
ものが、本処理での分割領域を示しており、列方向にa
1,a2,…,行方向に11,12,…,に分割してい
ることを示している。
105の処理により、部分領域概略配線用の矩形を生成
する。本処理では、全体概略配線用の矩形より小さな矩
形を生成することにより、次の部分領域概略配線によ
り、全体概略配線より、詳細に配線割り当てができるよ
うにする。本処理を例示したのが図5で、この図5は分
割領域(h,8)の拡大図であり、図2〜図4と同一添
字は同じものを表わしている。図中一点鎖線で表わした
ものが、本処理での分割領域を示しており、列方向にa
1,a2,…,行方向に11,12,…,に分割してい
ることを示している。
【0023】次に各分割領域毎に、部分領域概略配線1
06を繰り返し、分割領域概略配線を実行する。ここで
は、(h,8)の分割領域を用いて本処理を具体的に説
明する。本処理においては、図1の全体概略配線103
によって(h,8)の領域に割り当てられている全配線
に対して処理105で分割して、(a1,11),(a
2,11),…,等の矩形に対して通過配線の割り当て
を行う。この割り当て処理は全体概略配線103によっ
て割り当てられている(a,1),(b,2),…,等
の全体概略配線用矩形に包含されている部分領域概略配
線用矩形に割り当てる様に実行され、端子A,B間の配
線の様に、各分割領域にまたがって結線されるべき配線
の場合、隣接する部分概略配線用分割領域の概略配線が
終了していなければ共有する全体概略配線用矩形領域内
の任意の部分領域概略配線用矩形の割り当てまでを行
い、概略配線が終了していれば、その割り当てられてい
る部分概略配線用の矩形に接続される様に割り当てが行
なわれる。
06を繰り返し、分割領域概略配線を実行する。ここで
は、(h,8)の分割領域を用いて本処理を具体的に説
明する。本処理においては、図1の全体概略配線103
によって(h,8)の領域に割り当てられている全配線
に対して処理105で分割して、(a1,11),(a
2,11),…,等の矩形に対して通過配線の割り当て
を行う。この割り当て処理は全体概略配線103によっ
て割り当てられている(a,1),(b,2),…,等
の全体概略配線用矩形に包含されている部分領域概略配
線用矩形に割り当てる様に実行され、端子A,B間の配
線の様に、各分割領域にまたがって結線されるべき配線
の場合、隣接する部分概略配線用分割領域の概略配線が
終了していなければ共有する全体概略配線用矩形領域内
の任意の部分領域概略配線用矩形の割り当てまでを行
い、概略配線が終了していれば、その割り当てられてい
る部分概略配線用の矩形に接続される様に割り当てが行
なわれる。
【0024】本処理を、端子A,B間の配線に対して例
示したのが、図6で右下がりの斜線部が全体概略配線に
よって割り当てられた矩形を示し、左下がりの斜線部が
部分領域概略配線によって割り当てられた矩形を示して
いる。このように端子Aの点を出発する配線は、(a
2,12),(a3,12),(a3,13),…,と
割り当てられ、隣接する部分領域の概略配線が施されて
いないので、(c4,33)まで割り当てられて終了し
ている。
示したのが、図6で右下がりの斜線部が全体概略配線に
よって割り当てられた矩形を示し、左下がりの斜線部が
部分領域概略配線によって割り当てられた矩形を示して
いる。このように端子Aの点を出発する配線は、(a
2,12),(a3,12),(a3,13),…,と
割り当てられ、隣接する部分領域の概略配線が施されて
いないので、(c4,33)まで割り当てられて終了し
ている。
【0025】この様にして、全配線領域に対して部分領
域概略配線が終了すると、この部分領域概略配線の結果
に基づき、図1の詳細配線108によって、従来と同様
の方法によって具体的な配線敷設位置を決定することに
より、半導体集積回路の配線処理を終了する。
域概略配線が終了すると、この部分領域概略配線の結果
に基づき、図1の詳細配線108によって、従来と同様
の方法によって具体的な配線敷設位置を決定することに
より、半導体集積回路の配線処理を終了する。
【0026】以上のように、本実施例の配線処理方法に
おいては、半導体集積回路チップ上の全配線領域に対し
て概略配線を実行し、その処理結果を基に、適当に分割
した部分領域毎に、より詳細な概略配線を実施すること
により、よって階層的に概略配線を行う手段を有してい
る。
おいては、半導体集積回路チップ上の全配線領域に対し
て概略配線を実行し、その処理結果を基に、適当に分割
した部分領域毎に、より詳細な概略配線を実施すること
により、よって階層的に概略配線を行う手段を有してい
る。
【0027】次に、図7を参照して、本発明の他の実施
例の配線方法を説明する。図7において、本発明の他の
実施例は、部分概略配線処理が各部分領域毎に処理され
るという特徴を利用して、部分概略配線処理の並列処理
化を行なっている。
例の配線方法を説明する。図7において、本発明の他の
実施例は、部分概略配線処理が各部分領域毎に処理され
るという特徴を利用して、部分概略配線処理の並列処理
化を行なっている。
【0028】ここで、第1の計算機70と第2の計算機
90とが用意される。第1の計算機70では、まず全体
概略配線用矩形生成72,全体概略配線73,部分領域
概略配線用領域分割74,部分領域概略配線用矩形生成
75と順次図1と同様な処理を行う。
90とが用意される。第1の計算機70では、まず全体
概略配線用矩形生成72,全体概略配線73,部分領域
概略配線用領域分割74,部分領域概略配線用矩形生成
75と順次図1と同様な処理を行う。
【0029】さて、次の部分領域概略配線処理依頼76
を第2の計算機90に対して行い、第2の計算機90で
は部分領域概略配線91,終了報告92を第1の計算機
70に対して行う。第1の計算機70では、部分領域概
略配線77を行い、全領域が終了するまで繰り返す(処
理78)。最後に、詳細配線79を行って、終了する。
を第2の計算機90に対して行い、第2の計算機90で
は部分領域概略配線91,終了報告92を第1の計算機
70に対して行う。第1の計算機70では、部分領域概
略配線77を行い、全領域が終了するまで繰り返す(処
理78)。最後に、詳細配線79を行って、終了する。
【0030】このように、本実施例においては、計算機
を複数使用して部分概略配線処理を並列化することによ
り、さらに高速処理化を達成することができる。
を複数使用して部分概略配線処理を並列化することによ
り、さらに高速処理化を達成することができる。
【0031】
【発明の効果】以上説明したように、本発明は、半導体
集積回路チップ上の全配線領域に対して概略配線を実行
し、その処理結果を基に、適当に分割した部分領域毎
に、より詳細な概略配線を実施することによって、階層
的に概略配線を行う手段を有しているので、以下の説明
の通り、処理時間の短縮,プログラムの使用メモリの最
小化を計れる。
集積回路チップ上の全配線領域に対して概略配線を実行
し、その処理結果を基に、適当に分割した部分領域毎
に、より詳細な概略配線を実施することによって、階層
的に概略配線を行う手段を有しているので、以下の説明
の通り、処理時間の短縮,プログラムの使用メモリの最
小化を計れる。
【0032】迷路探索法によって配線経路を決定する処
理方法の場合に、全配線領域を一括して迷路探索法によ
り配線を実行する場合、従来の方法によって概略配線を
施し、迷路探索法により詳細配線を実行する場合と、本
発明によって全体概略配線,部分領域概略配線を施し、
迷路探索法により詳細配線を実行する場合とについて、
処理時間及びメモリ使用量の概略を見る。
理方法の場合に、全配線領域を一括して迷路探索法によ
り配線を実行する場合、従来の方法によって概略配線を
施し、迷路探索法により詳細配線を実行する場合と、本
発明によって全体概略配線,部分領域概略配線を施し、
迷路探索法により詳細配線を実行する場合とについて、
処理時間及びメモリ使用量の概略を見る。
【0033】迷路探索法においては、半導体集積回路の
配線領域に対して水平方向,垂直方向にメッシュ状に配
線用の格子(配線格子)を設定し、この縦横の格子の交
点(格子点)に対して各配線の通過の可否を判断して前
記配線格子上に配線を割り当てることにより、配線経路
を決定する。従って、その処理時間は、入力処理,出力
処理等を除き、主に線格子点数rの2乗と総配線本数P
に依存し、P×(rの2乗)のオーダを持つことにな
る。また、処理中のメモリ量も各格子点毎に配線通過の
可・不可を持つため、rの2乗に依存する。
配線領域に対して水平方向,垂直方向にメッシュ状に配
線用の格子(配線格子)を設定し、この縦横の格子の交
点(格子点)に対して各配線の通過の可否を判断して前
記配線格子上に配線を割り当てることにより、配線経路
を決定する。従って、その処理時間は、入力処理,出力
処理等を除き、主に線格子点数rの2乗と総配線本数P
に依存し、P×(rの2乗)のオーダを持つことにな
る。また、処理中のメモリ量も各格子点毎に配線通過の
可・不可を持つため、rの2乗に依存する。
【0034】また、ここでは簡単化のため、概略配線に
おいても概略配線用の矩形領域に対する配線経路の割り
当てを迷路探索法と同様な手法で行うこととし、違いは
1つの概略配線用の矩形領域に対して複数の配線を割り
当て得ることと考えて、配線数をP,矩形数をnの2乗
としたとき、処理時間はP×(nの2乗)、メモリ使用
量はnの2乗に依存するものと考える。
おいても概略配線用の矩形領域に対する配線経路の割り
当てを迷路探索法と同様な手法で行うこととし、違いは
1つの概略配線用の矩形領域に対して複数の配線を割り
当て得ることと考えて、配線数をP,矩形数をnの2乗
としたとき、処理時間はP×(nの2乗)、メモリ使用
量はnの2乗に依存するものと考える。
【0035】初めに、全配線領域に対して一括して迷路
探索法で処理する場合、半導体集積回路の総配線本数を
P,水平方向配線格子r本,垂直方向配線格子r本,総
格子点数rの2乗個とすると、一格子の探索に要する時
間をt,格子点当りのメモリ使用量をaとした場合、処
理時間Tm,最大使用メモリMmは、次式となる。
探索法で処理する場合、半導体集積回路の総配線本数を
P,水平方向配線格子r本,垂直方向配線格子r本,総
格子点数rの2乗個とすると、一格子の探索に要する時
間をt,格子点当りのメモリ使用量をaとした場合、処
理時間Tm,最大使用メモリMmは、次式となる。
【0036】 Tm=P×t×(rの2乗) Mm=a×(rの2乗) 従来方式の概略配線処理のときは、詳細配線用の部分領
域として半導体集積回路の配線領域をm×mと分割し、
簡単化のため、この部分領域と概略配線用矩形を同一化
させた場合を考える。
域として半導体集積回路の配線領域をm×mと分割し、
簡単化のため、この部分領域と概略配線用矩形を同一化
させた場合を考える。
【0037】概略配線処理では、概略配線用矩形がmの
2乗個あるので、概略配線用矩形当りのメモリ使用量を
bとすると、処理時間Tu1,使用メモリMu1は、次
式となる。
2乗個あるので、概略配線用矩形当りのメモリ使用量を
bとすると、処理時間Tu1,使用メモリMu1は、次
式となる。
【0038】 Tu1=P×t×(mの2乗) Mu1=b×(mの2乗) また、詳細配線処理では、詳細配線用の部分領域に含ま
れる格子数がr/m本,格子点が(rの2乗)/(mの
2乗)個、また、概略配線によってある部分領域に割り
当てられる配線の平均本数は面積に比例して、P/(m
の2乗)本となるので、処理時間Tu2,使用メモリM
u2は、次式となる。
れる格子数がr/m本,格子点が(rの2乗)/(mの
2乗)個、また、概略配線によってある部分領域に割り
当てられる配線の平均本数は面積に比例して、P/(m
の2乗)本となるので、処理時間Tu2,使用メモリM
u2は、次式となる。
【0039】
【0040】詳細配線用部分領域が、(mの2乗)個あ
るので、総処理時間は、次式となる。
るので、総処理時間は、次式となる。
【0041】
【0042】ここで、この式はm=rの平方根のとき最
小となり、次式となる。
小となり、次式となる。
【0043】Tu=2Ptr このとき、最大使用メモリMuは、次式となる。
【0044】Mu=max(Mu1,Mu2)=max
(br,ar) 本発明の実施例による配線方法の場合、部分概略配線用
の領域としてn×nに分割し、さらに、m×mに分割し
て詳細配線用部分領域にすると、同様の計算方法によ
り、全体概略配線用矩形当りのメモリ使用量をCとする
と、全体概略配線の処理時間Tp1,メモリ量Mp1
は、次式となる。
(br,ar) 本発明の実施例による配線方法の場合、部分概略配線用
の領域としてn×nに分割し、さらに、m×mに分割し
て詳細配線用部分領域にすると、同様の計算方法によ
り、全体概略配線用矩形当りのメモリ使用量をCとする
と、全体概略配線の処理時間Tp1,メモリ量Mp1
は、次式となる。
【0045】
【0046】部分概略配線用矩形当りのメモリ使用量を
dとすると、部分概略配線時の処理時間Tp2,メモリ
使用量Mp2は、次式となる。
dとすると、部分概略配線時の処理時間Tp2,メモリ
使用量Mp2は、次式となる。
【0047】
【0048】このように、一括迷路探索法の場合“rの
2乗”、従来方法の場合“r”、本発明の実施例の場合
rの2/3乗に従って、処理時間,最大使用メモリが増
加していくことがわかる。ここで、rは半導体集積回路
上の配線格子数を表わしているので、本発明の効果は、
配線格子数が大きいとき、すなわち大規模な半導体集積
回路ほど、適応の効果が著しいことを示している。
2乗”、従来方法の場合“r”、本発明の実施例の場合
rの2/3乗に従って、処理時間,最大使用メモリが増
加していくことがわかる。ここで、rは半導体集積回路
上の配線格子数を表わしているので、本発明の効果は、
配線格子数が大きいとき、すなわち大規模な半導体集積
回路ほど、適応の効果が著しいことを示している。
【図1】本発明の一実施例の半導体集積回路の配線方法
を示すフロー図である。
を示すフロー図である。
【図2】本発明の一実施例の全体概略配線用矩形領域を
示す半導体集積回路をシンボリックに示す平面図であ
る。
示す半導体集積回路をシンボリックに示す平面図であ
る。
【図3】本発明の一実施例の全体概略配線の処理例を示
す半導体集積回路をシンボリックに示す平面図である。
す半導体集積回路をシンボリックに示す平面図である。
【図4】本発明の一実施例の部分概略配線実行用の分割
領域を示す半導体集積回路をシンボリックに示す平面図
である。
領域を示す半導体集積回路をシンボリックに示す平面図
である。
【図5】本発明の一実施例の部分概略配線用矩形領域を
拡大してシンボリックに示す平面図である。
拡大してシンボリックに示す平面図である。
【図6】本発明の一実施例の部分概略配線の処理例を拡
大してシンボリックに示す平面図である。
大してシンボリックに示す平面図である。
【図7】本発明の他の実施例を示すフロー図である。
【図8】従来の半導体集積回路の配線方法を示すフロー
図である。
図である。
【図9】図8の従来の配線方法を示す半導体集積回路の
平面図である。
平面図である。
80,101 入力データ 72,81,102 矩形生成 73,82,103 全体概略配線 74,83,104 領域分割 75,105 部分矩形生成 77,91,106 部分概略配線 78,85,107 処理 79,84,108 詳細配線 A,B 端子 70,90 計算機 76 処理依頼 92 終了報告
Claims (2)
- 【請求項1】 半導体集積回路のチップ上に配置された
機能ブロック間の配線を接続する半導体集積回路の配線
方法において、前記配線の通過経路を大まかに決定する
ため、前記半導体集積回路のチップ上の全配線領域にわ
たって処理を行う概略配線処理方法と、前記概略配線処
理方法の結果に基づいて前記半導体集積回路のチップ上
の配線領域の部分領域に対して前記概略配線処理方法よ
り詳細に配線敷設位置の決定を行う配線処理方法とを備
えたことを特徴とする半導体集積回路の配線方法。 - 【請求項2】 詳細配線処理方法が、複数の計算機の並
列処理で行われる請求項1に記載の半導体集積回路の配
線方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5000929A JPH06204338A (ja) | 1993-01-07 | 1993-01-07 | 半導体集積回路の配線方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5000929A JPH06204338A (ja) | 1993-01-07 | 1993-01-07 | 半導体集積回路の配線方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06204338A true JPH06204338A (ja) | 1994-07-22 |
Family
ID=11487381
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5000929A Pending JPH06204338A (ja) | 1993-01-07 | 1993-01-07 | 半導体集積回路の配線方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06204338A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009111244A (ja) * | 2007-10-31 | 2009-05-21 | Fujitsu Ltd | レイアウト設計プログラム、該プログラムを記録した記録媒体、レイアウト設計装置、およびレイアウト設計方法 |
-
1993
- 1993-01-07 JP JP5000929A patent/JPH06204338A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009111244A (ja) * | 2007-10-31 | 2009-05-21 | Fujitsu Ltd | レイアウト設計プログラム、該プログラムを記録した記録媒体、レイアウト設計装置、およびレイアウト設計方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 19991102 |