JPH0620520B2 - 散気ノズルの洗浄方法 - Google Patents
散気ノズルの洗浄方法Info
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- JPH0620520B2 JPH0620520B2 JP61220333A JP22033386A JPH0620520B2 JP H0620520 B2 JPH0620520 B2 JP H0620520B2 JP 61220333 A JP61220333 A JP 61220333A JP 22033386 A JP22033386 A JP 22033386A JP H0620520 B2 JPH0620520 B2 JP H0620520B2
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- Japan
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- stored liquid
- valve
- gas injection
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01F—MIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
- B01F23/00—Mixing according to the phases to be mixed, e.g. dispersing or emulsifying
- B01F23/20—Mixing gases with liquids
- B01F23/23—Mixing gases with liquids by introducing gases into liquid media, e.g. for producing aerated liquids
- B01F23/231—Mixing gases with liquids by introducing gases into liquid media, e.g. for producing aerated liquids by bubbling
- B01F23/23105—Arrangement or manipulation of the gas bubbling devices
- B01F23/2312—Diffusers
- B01F23/23121—Diffusers having injection means, e.g. nozzles with circumferential outlet
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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- B01F23/2312—Diffusers
- B01F23/23126—Diffusers characterised by the shape of the diffuser element
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01F—MIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
- B01F25/00—Flow mixers; Mixers for falling materials, e.g. solid particles
- B01F25/20—Jet mixers, i.e. mixers using high-speed fluid streams
- B01F25/21—Jet mixers, i.e. mixers using high-speed fluid streams with submerged injectors, e.g. nozzles, for injecting high-pressure jets into a large volume or into mixing chambers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01F—MIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
- B01F35/00—Accessories for mixers; Auxiliary operations or auxiliary devices; Parts or details of general application
- B01F35/10—Maintenance of mixers
- B01F35/145—Washing or cleaning mixers not provided for in other groups in this subclass; Inhibiting build-up of material on machine parts using other means
- B01F35/1452—Washing or cleaning mixers not provided for in other groups in this subclass; Inhibiting build-up of material on machine parts using other means using fluids
- B01F35/1453—Washing or cleaning mixers not provided for in other groups in this subclass; Inhibiting build-up of material on machine parts using other means using fluids by means of jets of fluid, e.g. air
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- Nozzles (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、湿式排煙脱硫装置における亜硫酸塩の酸化な
どに用いられる散気ノズルのノズル洗浄方法に関する。
どに用いられる散気ノズルのノズル洗浄方法に関する。
従来一般に用いられる気体吹込方法について第2図の一
例に基づき具体的に説明する。
例に基づき具体的に説明する。
通気槽1に貯溜する貯溜液2中に気体供給管3を配し該
気体供給管3に設けた気体噴射管4から気体を噴射し気
液接触処理を行なう。
気体供給管3に設けた気体噴射管4から気体を噴射し気
液接触処理を行なう。
従来の技術において、長期に亘って気液接触処理を継続
すると第3図に示したごとく、気体噴射管4内へスケー
リングが見られ、このスケールは経時的に成長し遂には
閉塞に致ったり、又気体噴射量が局部に集中したり、あ
るいは通気背圧の上昇による通気動力費の上昇などの不
都合が見られた。
すると第3図に示したごとく、気体噴射管4内へスケー
リングが見られ、このスケールは経時的に成長し遂には
閉塞に致ったり、又気体噴射量が局部に集中したり、あ
るいは通気背圧の上昇による通気動力費の上昇などの不
都合が見られた。
〔問題点を解決するための手段〕 本発明は、かかる従来の不都合を解消すべく採用した技
術であり、定期的に通気を一時停止し、貯溜液に浸漬し
た気体供給管内に貯溜液を勢いよく逆流させ又勢いよく
排出して気体噴射管内を洗浄する方法であり、通気槽内
に散気して貯溜液を気液接触処理させるための気体吹込
装置において、気体供給管から供給される気体を複数の
気体噴射管から前記貯溜液中に噴射させ気液接触処理す
ると共に、間欠的に前記気体供給管に取付けた遮断弁を
全閉とし次いで該遮断弁と前記気体噴射管の区間の気体
供給管に取受けた気体放出弁を全開とし、前記遮断弁と
気体噴射管の区間に封入された気体を放出させつつ前記
通気槽の貯溜液を逆流させ、次いで前記気体放出弁を全
閉し次いで前記遮断弁を開として逆流した前記貯流液を
前記通気槽内へ排出し再び気体を噴射させることを特徴
とする散気ノズルの洗浄方法である。
術であり、定期的に通気を一時停止し、貯溜液に浸漬し
た気体供給管内に貯溜液を勢いよく逆流させ又勢いよく
排出して気体噴射管内を洗浄する方法であり、通気槽内
に散気して貯溜液を気液接触処理させるための気体吹込
装置において、気体供給管から供給される気体を複数の
気体噴射管から前記貯溜液中に噴射させ気液接触処理す
ると共に、間欠的に前記気体供給管に取付けた遮断弁を
全閉とし次いで該遮断弁と前記気体噴射管の区間の気体
供給管に取受けた気体放出弁を全開とし、前記遮断弁と
気体噴射管の区間に封入された気体を放出させつつ前記
通気槽の貯溜液を逆流させ、次いで前記気体放出弁を全
閉し次いで前記遮断弁を開として逆流した前記貯流液を
前記通気槽内へ排出し再び気体を噴射させることを特徴
とする散気ノズルの洗浄方法である。
本発明によれば、気体噴射管内に発生したスケールは多
量の液を勢いよく逆流・排出させることで気体噴射管か
ら剥離し、洗浄され、この操作を定期的に実施すること
で気体噴射管を正常な状態で維持できる。
量の液を勢いよく逆流・排出させることで気体噴射管か
ら剥離し、洗浄され、この操作を定期的に実施すること
で気体噴射管を正常な状態で維持できる。
本発明を第1図の実施態様例に基づき具体的に説明す
る。
る。
第1図に於いて、通気槽1内に貯溜する貯留液2中に浸
漬した気体供給管3に気体を送り、該気体供給管3を介
して供給される気体は該気体供給管3に複数個取付けた
気体噴射管4から貯留液2中に噴射されるが、定期的に
前記気体供給管3の途中に設けた遮断弁5を全閉とし、
次いで気体放出弁6を全開とし前記遮断弁5と前記気体
噴射管4の区間の気体供給管3に封入された気体を放出
し、即ち貯液2を前記気体噴射管4の全てから逆流さ
せ、次いで該気体放出弁6を全閉したのち遮断弁5を全
開として先に気体供給管3内に逆流している貯留液を気
体の圧力で貯留液2中に排出させ引き続き気体接触操作
を継続するものである。
漬した気体供給管3に気体を送り、該気体供給管3を介
して供給される気体は該気体供給管3に複数個取付けた
気体噴射管4から貯留液2中に噴射されるが、定期的に
前記気体供給管3の途中に設けた遮断弁5を全閉とし、
次いで気体放出弁6を全開とし前記遮断弁5と前記気体
噴射管4の区間の気体供給管3に封入された気体を放出
し、即ち貯液2を前記気体噴射管4の全てから逆流さ
せ、次いで該気体放出弁6を全閉したのち遮断弁5を全
開として先に気体供給管3内に逆流している貯留液を気
体の圧力で貯留液2中に排出させ引き続き気体接触操作
を継続するものである。
実施例において、下記の条件で実施したとき全ての気体
噴射管内にスケーリングは全く見られなかった。
噴射管内にスケーリングは全く見られなかった。
(運用条件) 1.装置仕様 気体噴射管内径:10A sch40 気体噴射管数:24本 貯留液量:150 m3 貯留液レベル:5m 気体供給管径:100A sch20 2.貯留液質(石膏スラリー) スラリー濃度:13wt% 3.通気条件 気 体:空気 流 量:1000m3N/Hr 圧 力:0.72kg/cm2 4.洗浄条件 気体放出弁全開時間:6秒 洗浄周期:1回/12時間 〔発明の効果〕 本発明によって、全ての気体噴射管をスケールの付着が
なく正常に維持出来、その結果気液接触効率を目標値に
維持出来、又通気背圧の上昇を見ることもなくなった。
なく正常に維持出来、その結果気液接触効率を目標値に
維持出来、又通気背圧の上昇を見ることもなくなった。
第1図は本発明の一実施態様例、第2図は従来例、第3
図は従来例における気体噴射管のスケーリングの状況を
示した断面図である。 1……通気槽、2……貯留液、3……気体供給管、4…
…気体噴射管、5……遮断弁、6……気体放出弁。
図は従来例における気体噴射管のスケーリングの状況を
示した断面図である。 1……通気槽、2……貯留液、3……気体供給管、4…
…気体噴射管、5……遮断弁、6……気体放出弁。
Claims (1)
- 【請求項1】通気槽内に散気して貯溜液を気液接触処理
させるための気体吹込装置において、気体供給管から供
給される気体を複数の気体噴射管から前記貯溜液中に噴
射させ気液接触処理すると共に、間欠的に前記気体供給
管に取付けた遮断弁を全閉とし次いで該遮断弁と前記気
体噴射管の区間の気体供給管に取付けた気体放出弁を全
開とし、前記遮断弁と気体噴射管の区間に封入された気
体を放出させつつ前記通気槽の貯溜液を逆流させ、次い
で前記気体放出弁を全閉し次いで前記遮断弁を開として
逆流した前記貯溜液を前記通気槽内へ排出し再び気体を
噴射させることを特徴とする散気ノズルの洗浄方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61220333A JPH0620520B2 (ja) | 1986-09-18 | 1986-09-18 | 散気ノズルの洗浄方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61220333A JPH0620520B2 (ja) | 1986-09-18 | 1986-09-18 | 散気ノズルの洗浄方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6377525A JPS6377525A (ja) | 1988-04-07 |
| JPH0620520B2 true JPH0620520B2 (ja) | 1994-03-23 |
Family
ID=16749502
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61220333A Expired - Lifetime JPH0620520B2 (ja) | 1986-09-18 | 1986-09-18 | 散気ノズルの洗浄方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0620520B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104324630A (zh) * | 2014-09-28 | 2015-02-04 | 四川德成动物保健品有限公司 | 基于三通阀门的药液配置罐 |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06288615A (ja) * | 1993-04-05 | 1994-10-18 | Inax Corp | 家庭用温排水の熱回収装置 |
| US6706189B2 (en) | 1998-10-09 | 2004-03-16 | Zenon Environmental Inc. | Cyclic aeration system for submerged membrane modules |
| ATE349271T1 (de) * | 2000-12-04 | 2007-01-15 | Kubota Kk | Luftverteiler und spülverfahren dafür |
| WO2002045827A1 (en) * | 2000-12-04 | 2002-06-13 | Kubota Corporation | Multistage immersion type membrane separator and high-concentration wastewater treatment facility using same |
| JP5228011B2 (ja) * | 2010-09-06 | 2013-07-03 | 株式会社日立製作所 | 水処理装置 |
| JP2013107040A (ja) * | 2011-11-21 | 2013-06-06 | Chugoku Electric Power Co Inc:The | 配管路システム及び配管路の夾雑物除去方法 |
| JP6239418B2 (ja) * | 2014-03-25 | 2017-11-29 | 三機工業株式会社 | 散気装置及び洗浄方法 |
| US11594430B2 (en) * | 2017-09-11 | 2023-02-28 | Tokyo Electron Limited | Substrate liquid processing apparatus, substrate liquid processing method and recording medium |
| JP7169777B2 (ja) * | 2017-09-11 | 2022-11-11 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板液処理装置、基板液処理方法及び記憶媒体 |
-
1986
- 1986-09-18 JP JP61220333A patent/JPH0620520B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104324630A (zh) * | 2014-09-28 | 2015-02-04 | 四川德成动物保健品有限公司 | 基于三通阀门的药液配置罐 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6377525A (ja) | 1988-04-07 |
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