JPH06206975A - 光硬化性を有する光重合開始剤 - Google Patents
光硬化性を有する光重合開始剤Info
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- JPH06206975A JPH06206975A JP3108093A JP3108093A JPH06206975A JP H06206975 A JPH06206975 A JP H06206975A JP 3108093 A JP3108093 A JP 3108093A JP 3108093 A JP3108093 A JP 3108093A JP H06206975 A JPH06206975 A JP H06206975A
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】 光重合開始剤の移行現象を抑えた、且つ実用
的な硬化スピードを有する光重合開始剤を開発する。 【構成】 下式 《式中、Ｐｈはパラ位置に結合手を有するフェニル基、
Ｒ１はＨまたはＣ１〜１５までのアルキル基を、Ｒ２は
少なくとも水酸基一個を含むＣ３〜６のアルキル基を表
す》で表される化合物１モルに対して、有機ジイソシア
ネート１モルを付加させてなるイソシアネート末端のプ
レポリマーに対して、下式 《式中、ＲはＨまたはメチル基を、ｎは０または１〜５
の整数を表す》で表される化合物１モルを反応させるこ
とによって得られる光硬化性を有する光重合開始剤。 【効果】 開始剤の分解物による塗膜の汚染等を最小限
に抑えることが可能である。
的な硬化スピードを有する光重合開始剤を開発する。 【構成】 下式 《式中、Ｐｈはパラ位置に結合手を有するフェニル基、
Ｒ１はＨまたはＣ１〜１５までのアルキル基を、Ｒ２は
少なくとも水酸基一個を含むＣ３〜６のアルキル基を表
す》で表される化合物１モルに対して、有機ジイソシア
ネート１モルを付加させてなるイソシアネート末端のプ
レポリマーに対して、下式 《式中、ＲはＨまたはメチル基を、ｎは０または１〜５
の整数を表す》で表される化合物１モルを反応させるこ
とによって得られる光硬化性を有する光重合開始剤。 【効果】 開始剤の分解物による塗膜の汚染等を最小限
に抑えることが可能である。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は光硬化性を有する光重合
開始剤に関し、光硬化性樹脂に添加し、光重合の開始剤
として使用できる化合物を提供すると同時に、光重合開
始剤そのものに光硬化性を持った化合物を提供するもの
である。
開始剤に関し、光硬化性樹脂に添加し、光重合の開始剤
として使用できる化合物を提供すると同時に、光重合開
始剤そのものに光硬化性を持った化合物を提供するもの
である。
【０００２】
【従来の技術】近年、光硬化性樹脂は光照射によって高
速で塗膜形成が行われることから工業材料としての経済
的有意性や有機溶剤を使用しないため環境への悪影響が
少ないこと等の理由により塗料、印刷インク、接着剤、
フォトレジスト等への応用技術が盛んに検討されるよう
になってきた。光硬化性樹脂は一般に光硬化を行うため
の必須成分として光重合開始剤を添加する。この光重合
開始剤は光の照射によって、ラジカルを発生し、ラジカ
ル重合性不飽和基を有する樹脂組成物を硬化させるもの
であるが、この光重合開始剤の性能によって光硬化性樹
脂の硬化物特性が大きく左右される。
速で塗膜形成が行われることから工業材料としての経済
的有意性や有機溶剤を使用しないため環境への悪影響が
少ないこと等の理由により塗料、印刷インク、接着剤、
フォトレジスト等への応用技術が盛んに検討されるよう
になってきた。光硬化性樹脂は一般に光硬化を行うため
の必須成分として光重合開始剤を添加する。この光重合
開始剤は光の照射によって、ラジカルを発生し、ラジカ
ル重合性不飽和基を有する樹脂組成物を硬化させるもの
であるが、この光重合開始剤の性能によって光硬化性樹
脂の硬化物特性が大きく左右される。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】すなわち、一般に使用
されている光重合開始剤は、開始剤そのものにはラジカ
ル重合性のある不飽和基を含有しておらず硬化物中に光
重合開始剤の一部が非架橋成分として残存してしまう。
この光重合開始剤から発生した非架橋成分は、長期の屋
外暴露試験等に際し、表面近傍に移行してしまい、その
結果として塗膜の白化現象、濁度の上昇、光沢の低下等
を引き起こす原因となっていた。
されている光重合開始剤は、開始剤そのものにはラジカ
ル重合性のある不飽和基を含有しておらず硬化物中に光
重合開始剤の一部が非架橋成分として残存してしまう。
この光重合開始剤から発生した非架橋成分は、長期の屋
外暴露試験等に際し、表面近傍に移行してしまい、その
結果として塗膜の白化現象、濁度の上昇、光沢の低下等
を引き起こす原因となっていた。
【０００４】また光硬化性樹脂組成物を食品包装用プラ
スチックフィルムの接着剤等へ応用した場合、光重合開
始剤から発生する非架橋成分がフィルムを透過し包装さ
れている食品等へ混入するという可能性があった。この
移行現象あるいは透過を低下させるために高分子量タイ
プの光重合開始剤が合成されたが分子量が増大すること
によって光重合開始剤としての性能、すなわち硬化スピ
ードの点で新たな問題が発生した。
スチックフィルムの接着剤等へ応用した場合、光重合開
始剤から発生する非架橋成分がフィルムを透過し包装さ
れている食品等へ混入するという可能性があった。この
移行現象あるいは透過を低下させるために高分子量タイ
プの光重合開始剤が合成されたが分子量が増大すること
によって光重合開始剤としての性能、すなわち硬化スピ
ードの点で新たな問題が発生した。
【０００５】また、高分子量となったために、光硬化性
樹脂組成物中の構成成分である各種の反応性モノマー、
オリゴマー類との相溶性に問題が発生していた。しかる
に光重合開始剤の移行現象を抑え、且つ実用的な硬化ス
ピードを有する光重合開始剤は、まだ見いだされていな
い。
樹脂組成物中の構成成分である各種の反応性モノマー、
オリゴマー類との相溶性に問題が発生していた。しかる
に光重合開始剤の移行現象を抑え、且つ実用的な硬化ス
ピードを有する光重合開始剤は、まだ見いだされていな
い。
【０００６】さらに従来の光重合開始剤の光分解によっ
て発生した低分子化合物は臭気をもっており、この臭気
を減少させるための方法として、やはり光重合開始剤の
高分子量化により開始剤臭気を下げる試みがおこなわれ
てきたが、上記と同様な理由により硬化スピードが充分
ではなく実用的には多くの問題を抱えている。前記問題
点を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、通常使用されて
いる光重合開始剤にラジカル重合性の不飽和基を導入す
ることによって、上記問題を解決した。
て発生した低分子化合物は臭気をもっており、この臭気
を減少させるための方法として、やはり光重合開始剤の
高分子量化により開始剤臭気を下げる試みがおこなわれ
てきたが、上記と同様な理由により硬化スピードが充分
ではなく実用的には多くの問題を抱えている。前記問題
点を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、通常使用されて
いる光重合開始剤にラジカル重合性の不飽和基を導入す
ることによって、上記問題を解決した。
【０００７】
【課題を解決するための手段】すなわち、本発明は「下
記一般式 《式中、Ｐｈはパラ位置に結合手を有するフェニル基、
Ｒ１は水素原子または炭素数１〜１５までのアルキル基
を表し、Ｒ２は少なくとも水酸基一個を含む炭素数３〜
６のアルキル基を表す》で表される化合物１モルに対し
て、有機ジイソシアネート１モルを付加させてなるイソ
シアネート末端のプレポリマーに対して、下記一般式 《式中、Ｒは水素原子またはメチル基を表し、ｎは０ま
たは１〜５の整数を表す》で表される化合物１モルを反
応させることによって得られる光硬化性を有する光重合
開始剤」である。
記一般式 《式中、Ｐｈはパラ位置に結合手を有するフェニル基、
Ｒ１は水素原子または炭素数１〜１５までのアルキル基
を表し、Ｒ２は少なくとも水酸基一個を含む炭素数３〜
６のアルキル基を表す》で表される化合物１モルに対し
て、有機ジイソシアネート１モルを付加させてなるイソ
シアネート末端のプレポリマーに対して、下記一般式 《式中、Ｒは水素原子またはメチル基を表し、ｎは０ま
たは１〜５の整数を表す》で表される化合物１モルを反
応させることによって得られる光硬化性を有する光重合
開始剤」である。
【０００８】本発明で使用される下記一般式 《式中、Ｐｈはパラ位置に結合手を有するフエニル基、
Ｒ１は水素原子または炭素数１〜１５までのアルキル基
を表し、Ｒ２は少なくとも水酸基一個を含む炭素数３〜
６のアルキル基を表す）で表される化合物としては、２
−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１
−１−オン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−
ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、１−（４
−ドデシルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプ
ロパン−１−オン、４−（２−ヒドロキシエトキシ）−
フェニル（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ケトン、１
−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン等が挙げら
れる。
Ｒ１は水素原子または炭素数１〜１５までのアルキル基
を表し、Ｒ２は少なくとも水酸基一個を含む炭素数３〜
６のアルキル基を表す）で表される化合物としては、２
−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１
−１−オン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−
ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、１−（４
−ドデシルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプ
ロパン−１−オン、４−（２−ヒドロキシエトキシ）−
フェニル（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ケトン、１
−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン等が挙げら
れる。
【０００９】本発明の光重合性を有する光重合開始剤を
得る反応はこれまで公知となっているウレタン化反応に
よって得ることができる。このウレタン化反応は次の２
段階の反応工程によって得ることができる。第１段の反
応工程は、水酸基を有する化合物に有機ジイソシアネー
トを反応させて、片側の末端構造がイソシアネートのウ
レタンプレポリマーを得る工程である。
得る反応はこれまで公知となっているウレタン化反応に
よって得ることができる。このウレタン化反応は次の２
段階の反応工程によって得ることができる。第１段の反
応工程は、水酸基を有する化合物に有機ジイソシアネー
トを反応させて、片側の末端構造がイソシアネートのウ
レタンプレポリマーを得る工程である。
【００１０】この反応は一般に以下の反応式により表す
ことができる。
ことができる。
【００１１】《ただし、Ｒ１は水素原子または炭素数１
〜１５までのアルキル基を表し、Ｒ２は少なくとも水酸
基一個を含む炭素数３〜６のアルキル基を表し、Ｒ３は
Ｒ２の残基を表し、Ｒは有機ジイソシアネートの残基を
表す》
〜１５までのアルキル基を表し、Ｒ２は少なくとも水酸
基一個を含む炭素数３〜６のアルキル基を表し、Ｒ３は
Ｒ２の残基を表し、Ｒは有機ジイソシアネートの残基を
表す》
【００１２】この反応は窒素雰囲気下、室温〜９０℃の
温度範囲で行う。この反応は触媒を使用することが好ま
しい。触媒としては、テトラブチルチタネート、テトラ
プロピルチタネート、テトラエチルチタネート等の有機
チタン化合物、オクチル酸錫、ジブチル錫オキシド、シ
ブチル錫ジラウレート等の有機錫化合物、さらには、塩
化第一錫、臭化第一錫、ヨウ化第一錫等を用いることが
できる。これらの触媒の添加量は、全仕込み量に対して
１０〜１０、０００ＰＰＭである。
温度範囲で行う。この反応は触媒を使用することが好ま
しい。触媒としては、テトラブチルチタネート、テトラ
プロピルチタネート、テトラエチルチタネート等の有機
チタン化合物、オクチル酸錫、ジブチル錫オキシド、シ
ブチル錫ジラウレート等の有機錫化合物、さらには、塩
化第一錫、臭化第一錫、ヨウ化第一錫等を用いることが
できる。これらの触媒の添加量は、全仕込み量に対して
１０〜１０、０００ＰＰＭである。
【００１３】この際、反応溶剤として各種の活性水素を
含有しない有機溶剤を添加することが可能である。有機
溶剤の例としては、トルエン、エチルベンゼン、テロラ
リン、クメン、キシレン等の芳香族炭化水素類、アセト
ン、メチルエチルケトン、メチル−イソブチルケトン、
シクロヘキサノン等のケトン類、ギ酸エステル、酢酸メ
チル、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル等のエステル類が挙
げられる。
含有しない有機溶剤を添加することが可能である。有機
溶剤の例としては、トルエン、エチルベンゼン、テロラ
リン、クメン、キシレン等の芳香族炭化水素類、アセト
ン、メチルエチルケトン、メチル−イソブチルケトン、
シクロヘキサノン等のケトン類、ギ酸エステル、酢酸メ
チル、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル等のエステル類が挙
げられる。
【００１４】本発明で使用される有機ジイソシアネート
としては、ｍ−フェニレンジイソシアネート、ｐ−フェ
ニレンジイソシアネート、１−クロロ−２，４−フェニ
レンジイソシアネート、２，４−トリレンジイソシアネ
ート、２，６−トリレンジイソシアネート、１，５−ナ
フチレンジイソシアンート、ジフェニルメタン−４，
４’−ジイソシアネート、３，３’−ジメチル−４，
４’−ビフェニレンジイソシアネート等の芳香族ジイソ
シアネート、、エタンジイソシアンート、プロパンジイ
ソシアネート、ブタンジイソシアネート、ペンタンジイ
ソシアネート、ヘキサンジイソシアネート、ヘプタンジ
イソアネート、オクタンジイソアネート、ノナンジイソ
シアネート、デカンジイソシアネート、ジシクロヘキシ
ルメタンジイソシアネート、イソフォロンジイソシアネ
ート等の脂肪族ジイソシアネート等が挙げられる。
としては、ｍ−フェニレンジイソシアネート、ｐ−フェ
ニレンジイソシアネート、１−クロロ−２，４−フェニ
レンジイソシアネート、２，４−トリレンジイソシアネ
ート、２，６−トリレンジイソシアネート、１，５−ナ
フチレンジイソシアンート、ジフェニルメタン−４，
４’−ジイソシアネート、３，３’−ジメチル−４，
４’−ビフェニレンジイソシアネート等の芳香族ジイソ
シアネート、、エタンジイソシアンート、プロパンジイ
ソシアネート、ブタンジイソシアネート、ペンタンジイ
ソシアネート、ヘキサンジイソシアネート、ヘプタンジ
イソアネート、オクタンジイソアネート、ノナンジイソ
シアネート、デカンジイソシアネート、ジシクロヘキシ
ルメタンジイソシアネート、イソフォロンジイソシアネ
ート等の脂肪族ジイソシアネート等が挙げられる。
【００１５】第二段目の反応は、第１段目の反応により
得られた片末端にイソシアネート基を有するウレタンプ
レポリマー１モルに、分子末端に水酸基を有するととも
にラジカル重合性不飽和基であるアクリロイル基または
メタクリロイル基を有する化合物を付加させる反応であ
る。
得られた片末端にイソシアネート基を有するウレタンプ
レポリマー１モルに、分子末端に水酸基を有するととも
にラジカル重合性不飽和基であるアクリロイル基または
メタクリロイル基を有する化合物を付加させる反応であ
る。
【００１６】この反応は一般に以下の反応式により表す
ことができる。
ことができる。
【００１７】《式中、Ｐｈはパラ位置に結合手を有する
フェニル基、Ｒ１は水素原子または炭素数１〜１５まで
のアルキル基を表し、Ｒ２は少なくとも水酸基一個を含
む炭素数３〜６のアルキル基を表す、Ｒ３は一般式
（Ｉ）中のＲ２の残基を表し、Ｒは有機ジイソシアネー
トの残基を表す》
フェニル基、Ｒ１は水素原子または炭素数１〜１５まで
のアルキル基を表し、Ｒ２は少なくとも水酸基一個を含
む炭素数３〜６のアルキル基を表す、Ｒ３は一般式
（Ｉ）中のＲ２の残基を表し、Ｒは有機ジイソシアネー
トの残基を表す》
【００１８】この反応も基本的にはウレタンプレポリマ
ーを得る工程と同様のウレタン化反応である。この反応
はラジカル重合性不飽和基であるアクリロイル基または
メタクリロイル基を有する化合物を付加させる反応であ
ることから、乾燥空気雰囲気下で行うことが好ましい。
仮に窒素雰囲気下で反応を続行すれば、アクリロイル基
あるいはメタクリロイル基による重合反応のため、ゲル
の生成の可能性があるからである。
ーを得る工程と同様のウレタン化反応である。この反応
はラジカル重合性不飽和基であるアクリロイル基または
メタクリロイル基を有する化合物を付加させる反応であ
ることから、乾燥空気雰囲気下で行うことが好ましい。
仮に窒素雰囲気下で反応を続行すれば、アクリロイル基
あるいはメタクリロイル基による重合反応のため、ゲル
の生成の可能性があるからである。
【００１９】またこの段階の反応も触媒を使用するこが
好ましい。触媒としては、テトラブチルチタネート、テ
トラプロピルチタネート、テトラエチルチタネート等の
有機チタン化合物、オクチル酸錫、ジブチル錫オキシ
ド、シブチル錫ジラウレート等の有機錫化合物、さらに
は、塩化第一錫、臭化第一錫、ヨウ化第一錫等を用いる
ことができる。この触媒の使用量は全仕込み量に対して
１０〜１０、０００ＰＰＭである。
好ましい。触媒としては、テトラブチルチタネート、テ
トラプロピルチタネート、テトラエチルチタネート等の
有機チタン化合物、オクチル酸錫、ジブチル錫オキシ
ド、シブチル錫ジラウレート等の有機錫化合物、さらに
は、塩化第一錫、臭化第一錫、ヨウ化第一錫等を用いる
ことができる。この触媒の使用量は全仕込み量に対して
１０〜１０、０００ＰＰＭである。
【００２０】またアクリロイル基のラジカル重合を抑制
するためにラジカル重合禁止剤を使用することができ
る。ラジカル重合禁止剤としては、ハイドロキノンモノ
メチルエーテル、ｄ−ｔ−ブチルハイドロキノン、ｐ−
ｔ−ブチルカテコール、フェノチアジン等が挙げられ
る。添加量は、全仕込み量に対して１０〜１０，０００
ｐｐｍが適量である。この反応で得られたウレタンアク
リレートは反応収率がほぼ１００％であるため、特別な
生成工程を必要としない。
するためにラジカル重合禁止剤を使用することができ
る。ラジカル重合禁止剤としては、ハイドロキノンモノ
メチルエーテル、ｄ−ｔ−ブチルハイドロキノン、ｐ−
ｔ−ブチルカテコール、フェノチアジン等が挙げられ
る。添加量は、全仕込み量に対して１０〜１０，０００
ｐｐｍが適量である。この反応で得られたウレタンアク
リレートは反応収率がほぼ１００％であるため、特別な
生成工程を必要としない。
【００２１】本発明で使用する、下記一般式 《式中、Ｒは水素原子またはメチル基を表し、ｎは０ま
たは１〜５の整数を表す》で表される化合物は以下の方
法により製造することができる。
たは１〜５の整数を表す》で表される化合物は以下の方
法により製造することができる。
【００２２】すなわち、２−ヒドロキシエチルアクリレ
ートを開始剤として、触媒の存在下にε−カプロラクト
ンを、開環重合することにより得られる。開環重合は、
空気雰囲気下７０〜１５０℃、好ましくは８０〜１４０
℃の温度範囲で行う。７０℃より低い場合は反応速度が
小さく、また１５０℃より高い場合はアクリロイル基が
ラジカル重合してしまうからである。この反応には触媒
を使用することが好ましい。触媒としては、テトラメト
キシチタン、テトラエトキシチタン、テトラ−ｎ−プロ
ポキシチタン、テトライソプロポキシチタン、テトラブ
トキシチタン、テトラブチルチタネートなどの有機チタ
ン系化合物、ジ−ｎ−ブチル錫ジラウレート、ジイソブ
チル錫オキサイド、ジブチル錫ジアセテート等の有機錫
化合物、さらには、塩化第一錫、臭化第一錫、ヨウ化第
一錫等を用いることができる。
ートを開始剤として、触媒の存在下にε−カプロラクト
ンを、開環重合することにより得られる。開環重合は、
空気雰囲気下７０〜１５０℃、好ましくは８０〜１４０
℃の温度範囲で行う。７０℃より低い場合は反応速度が
小さく、また１５０℃より高い場合はアクリロイル基が
ラジカル重合してしまうからである。この反応には触媒
を使用することが好ましい。触媒としては、テトラメト
キシチタン、テトラエトキシチタン、テトラ−ｎ−プロ
ポキシチタン、テトライソプロポキシチタン、テトラブ
トキシチタン、テトラブチルチタネートなどの有機チタ
ン系化合物、ジ−ｎ−ブチル錫ジラウレート、ジイソブ
チル錫オキサイド、ジブチル錫ジアセテート等の有機錫
化合物、さらには、塩化第一錫、臭化第一錫、ヨウ化第
一錫等を用いることができる。
【００２３】触媒の添加量としては、ε−カプロラクト
ンモノマーに対して１０〜１、０００ｐｐｍの範囲で用
いることが好ましい。また、反応に際してラジカル重合
禁止剤としてハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチ
ルエーテル、ｐ−ｔ−ブチルカテコール、フェノチアジ
ン等を２００〜２０、０００ｐｐｍ添加することが好ま
しい。
ンモノマーに対して１０〜１、０００ｐｐｍの範囲で用
いることが好ましい。また、反応に際してラジカル重合
禁止剤としてハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチ
ルエーテル、ｐ−ｔ−ブチルカテコール、フェノチアジ
ン等を２００〜２０、０００ｐｐｍ添加することが好ま
しい。
【００２４】このようにして得られたε−カプロラクト
ン変性アクリレート中のε−カプロラクトンの平均付加
モル数は０〜５の範囲が好ましい。５モル以上の付加で
は反応生成物の光重合開始能が極端に低下してしまうか
らである。さらに、カプロラクトンの結晶性がその構造
に反映され反応生成物が室温において結晶状態になって
しまい、取扱いにおいて支障をきたすからである。
ン変性アクリレート中のε−カプロラクトンの平均付加
モル数は０〜５の範囲が好ましい。５モル以上の付加で
は反応生成物の光重合開始能が極端に低下してしまうか
らである。さらに、カプロラクトンの結晶性がその構造
に反映され反応生成物が室温において結晶状態になって
しまい、取扱いにおいて支障をきたすからである。
【００２５】このようにして合成されたウレタンアクリ
レートは分子中に光を照射することによってラジカル重
合性のあるベンゾイルラジカルが発生すると同時に、分
子中に架橋性のアクリロイル基あるいはメタクリロイル
基を含有するため、これを単独または他の光硬化成樹脂
組成物に混合し、光を照射した場合、光重合開始能を発
現すると同時に他の架橋性樹脂類と容易に共重合させる
ことも可能である。然るに、従来の架橋成分を含有しな
い光重合開始剤の如く長期の屋外暴露時に表面近傍へ移
行し塗膜の白化現象、濁度の上昇、光沢の低下等を引き
起こすことがない。
レートは分子中に光を照射することによってラジカル重
合性のあるベンゾイルラジカルが発生すると同時に、分
子中に架橋性のアクリロイル基あるいはメタクリロイル
基を含有するため、これを単独または他の光硬化成樹脂
組成物に混合し、光を照射した場合、光重合開始能を発
現すると同時に他の架橋性樹脂類と容易に共重合させる
ことも可能である。然るに、従来の架橋成分を含有しな
い光重合開始剤の如く長期の屋外暴露時に表面近傍へ移
行し塗膜の白化現象、濁度の上昇、光沢の低下等を引き
起こすことがない。
【００２６】（実施例）以下実施例により本発明を説明
する。 合成例１ ガス導入管、温度計、冷却管及び撹拌装置を備えた３Ｌ
の４つ口フラスコにイソホロンジイソシアネート４４４
部と溶媒として酢酸エチル１．００４部を仕込み、さら
に触媒としてジブチル錫ジラウレートを０．７７２部及
び重合禁止剤としてハイドロキノンモノメチルエーテル
１．００部を仕込み窒素雰囲気下、６０℃の温度に保っ
た。次いで２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル
プロパン−１−オン３２８部を加えイソシアネート濃度
が固形分１００％に喚算して１０．８％のプレポリマー
を得た。
する。 合成例１ ガス導入管、温度計、冷却管及び撹拌装置を備えた３Ｌ
の４つ口フラスコにイソホロンジイソシアネート４４４
部と溶媒として酢酸エチル１．００４部を仕込み、さら
に触媒としてジブチル錫ジラウレートを０．７７２部及
び重合禁止剤としてハイドロキノンモノメチルエーテル
１．００部を仕込み窒素雰囲気下、６０℃の温度に保っ
た。次いで２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル
プロパン−１−オン３２８部を加えイソシアネート濃度
が固形分１００％に喚算して１０．８％のプレポリマー
を得た。
【００２７】次いで乾燥空気雰囲気下において２−ヒド
ロキシエチルアクリレート２３２部を徐々に加え、その
まま反応を継続してイソシアネート濃度が固形分濃度１
００％に喚算して０．０１％以下で反応を停止し、オリ
ゴマーＡを得た。
ロキシエチルアクリレート２３２部を徐々に加え、その
まま反応を継続してイソシアネート濃度が固形分濃度１
００％に喚算して０．０１％以下で反応を停止し、オリ
ゴマーＡを得た。
【００２８】合成例２〜４ アルコール成分として２−ヒドロキシ−２−メチル−１
−フェニルプロパン−１−オン３２８部の代わりに１−
ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン４０８部、１
−（４−ドデシルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メ
チルプロパン−１−オン６６４部、１−（４−イソプロ
ピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン
−１−オン４１２部を用いた以外は合成例１と同様な方
法にて合成を行いそれぞれオロゴマーＢ、Ｃ、Ｄを得
た。
−フェニルプロパン−１−オン３２８部の代わりに１−
ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン４０８部、１
−（４−ドデシルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メ
チルプロパン−１−オン６６４部、１−（４−イソプロ
ピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン
−１−オン４１２部を用いた以外は合成例１と同様な方
法にて合成を行いそれぞれオロゴマーＢ、Ｃ、Ｄを得
た。
【００２９】合成例５〜８ 有機ジイソシアネート成分としてイソホロンジイソシア
ネートの代わりに、ヘキサメチレンジイソシアネート３
３６部、２，４−トリレンジイソシアネート３４８部、
４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート５００
部、ジシクロヘキシルメタンジイソシネート５２４部を
用いた以外は合成例１と同様な方法にて合成を行いそれ
ぞれオリゴマーＥ、Ｆ、Ｇ、Ｈを得た。
ネートの代わりに、ヘキサメチレンジイソシアネート３
３６部、２，４−トリレンジイソシアネート３４８部、
４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート５００
部、ジシクロヘキシルメタンジイソシネート５２４部を
用いた以外は合成例１と同様な方法にて合成を行いそれ
ぞれオリゴマーＥ、Ｆ、Ｇ、Ｈを得た。
【００３０】合合成例９〜１４ ２−ヒドロキシエチルアクリレートの代わりに２−ヒド
ロキシエチルアクリレートにε−カプラクトンを平均付
加モル数で１モル、２モル、５モル、６モル、８モル、
１０モル付加させたアクリレートを使用した以外は合成
例１と同様な方法で合成を行い、それぞれオリゴマー
Ｈ、Ｊ、Ｋ、Ｌ、Ｍ、Ｎを得た。
ロキシエチルアクリレートにε−カプラクトンを平均付
加モル数で１モル、２モル、５モル、６モル、８モル、
１０モル付加させたアクリレートを使用した以外は合成
例１と同様な方法で合成を行い、それぞれオリゴマー
Ｈ、Ｊ、Ｋ、Ｌ、Ｍ、Ｎを得た。
【００３１】実施例１〜１５および比較例１〜５ 合成したオリゴマーを使用し表１〜３に示す組成でその
硬化性能を調べた。評価用試料はスライドガラス上に上
記組成物を５ミクロンになるようにバーコータで塗布し
高圧水銀灯（ランプ入力１２０Ｗ／ｃｍ）にて、コンベ
ヤースピード３０ｍ／分にて紫外線を照射して、表面の
タックがなくなるまでの照射回数を測定した。
硬化性能を調べた。評価用試料はスライドガラス上に上
記組成物を５ミクロンになるようにバーコータで塗布し
高圧水銀灯（ランプ入力１２０Ｗ／ｃｍ）にて、コンベ
ヤースピード３０ｍ／分にて紫外線を照射して、表面の
タックがなくなるまでの照射回数を測定した。
【００３２】評価結果を表１に示す。
【００３３】
【００３４】
【００３５】
【発明の効果】本発明の光硬化性を有する光重合開始剤
は、単独あるいは他の多官能アクリレート化合物と組み
合わせることによって容易に光重合が可能であり、架橋
物の構造の中に光重合開始剤を組み込むことが可能であ
る。したがって、従来から使用されてきた非架橋性の光
重合開始剤と異なり、開始剤の分解物による塗膜の汚染
等を最小限に抑えることが可能である。
は、単独あるいは他の多官能アクリレート化合物と組み
合わせることによって容易に光重合が可能であり、架橋
物の構造の中に光重合開始剤を組み込むことが可能であ
る。したがって、従来から使用されてきた非架橋性の光
重合開始剤と異なり、開始剤の分解物による塗膜の汚染
等を最小限に抑えることが可能である。
Claims (1)
- 【請求項１】下記一般式 《式中、Ｐｈはパラ位置に結合手を有するフェニル基、
Ｒ１は水素原子または炭素数１〜１５までのアルキル基
を表し、Ｒ２は少なくとも水酸基一個を含む炭素数３〜
６のアルキル基を表す》で表される化合物１モルに対し
て、有機ジイソシアネート１モルを付加させてなるイソ
シアネート末端のプレポリマーに対して、下記一般式 《式中、Ｒは水素原子またはメチル基を表し、ｎは０ま
たは１〜５の整数を表す》で表される化合物１モルを反
応させることによって得られる光硬化性を有する光重合
開始剤。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP03108093A JP3176161B2 (ja) | 1993-01-08 | 1993-01-08 | 光硬化性を有する光重合開始剤 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP03108093A JP3176161B2 (ja) | 1993-01-08 | 1993-01-08 | 光硬化性を有する光重合開始剤 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06206975A true JPH06206975A (ja) | 1994-07-26 |
| JP3176161B2 JP3176161B2 (ja) | 2001-06-11 |
Family
ID=12321453
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP03108093A Expired - Fee Related JP3176161B2 (ja) | 1993-01-08 | 1993-01-08 | 光硬化性を有する光重合開始剤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3176161B2 (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005154748A (ja) * | 2003-10-28 | 2005-06-16 | Dainippon Ink & Chem Inc | 紫外線硬化型樹脂組成物及びこれを用いる印刷インキ |
| JP2008189842A (ja) * | 2007-02-06 | 2008-08-21 | Arakawa Chem Ind Co Ltd | 活性エネルギー線硬化型粘着剤組成物 |
| JP2011026369A (ja) * | 2009-07-21 | 2011-02-10 | Ksm Kk | 光硬化性組成物 |
| JP2013147668A (ja) * | 2013-04-24 | 2013-08-01 | Ksm Kk | 光硬化性組成物 |
| JP2014062195A (ja) * | 2012-09-21 | 2014-04-10 | Ksm Kk | 光硬化性組成物、及び、光硬化性組成物の製造方法 |
| JP2015520792A (ja) * | 2012-05-30 | 2015-07-23 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピアＢａｓｆ Ｓｅ | 放射線硬化性化合物 |
| CN115974724A (zh) * | 2022-12-12 | 2023-04-18 | 湖南汇田高分子科技有限公司 | 一种紫外光引发剂及其制备方法和应用 |
-
1993
- 1993-01-08 JP JP03108093A patent/JP3176161B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| JP2008189842A (ja) * | 2007-02-06 | 2008-08-21 | Arakawa Chem Ind Co Ltd | 活性エネルギー線硬化型粘着剤組成物 |
| JP2011026369A (ja) * | 2009-07-21 | 2011-02-10 | Ksm Kk | 光硬化性組成物 |
| JP2015520792A (ja) * | 2012-05-30 | 2015-07-23 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピアＢａｓｆ Ｓｅ | 放射線硬化性化合物 |
| JP2014062195A (ja) * | 2012-09-21 | 2014-04-10 | Ksm Kk | 光硬化性組成物、及び、光硬化性組成物の製造方法 |
| JP2013147668A (ja) * | 2013-04-24 | 2013-08-01 | Ksm Kk | 光硬化性組成物 |
| CN115974724A (zh) * | 2022-12-12 | 2023-04-18 | 湖南汇田高分子科技有限公司 | 一种紫外光引发剂及其制备方法和应用 |
| CN115974724B (zh) * | 2022-12-12 | 2024-04-02 | 湖南汇田高分子科技有限公司 | 一种紫外光引发剂及其制备方法和应用 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3176161B2 (ja) | 2001-06-11 |
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