JPH06208231A

JPH06208231A - 電子写真感光体

Info

Publication number: JPH06208231A
Application number: JP195493A
Authority: JP
Inventors: Asao Matsushima; 朝夫松島; Takeo Oshiba; 武雄大柴; Yoshihiko Eto; 嘉彦江藤
Original assignee: Konica Minolta Inc
Current assignee: Konica Minolta Inc
Priority date: 1993-01-08
Filing date: 1993-01-08
Publication date: 1994-07-26

Abstract

(57)【要約】（修正有）【目的】繰返し像形成に際し、疲労劣化が少く高耐用
性であり、反転現像方式で像形成を行っても黒ぽちを生
ずることのない電子写真用感光体の提供。【構成】Ａｌ合金の導電性基体表面に水系洗浄又は陽
極酸化を施し感光体に式［Ｉ］又は［II］で示されるＢ
ＩＰＰ（ビスイミダゾピリドノペリレン）を含有させ
る。〔Ｚは（置換）２価の芳香族環を形成する原子群であ
る。〕

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は電子写真に利用される感
光体に関し、画像欠陥がなく電位特性が良好な高感度感
光体に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来電子写真用感光体として、板状、ベ
ルト状又はドラム状のアルミ基体上に、無機光導電性材
料を用いた感光層や有機光導電性材料を用いた感光層を
設けた感光体が知られている。

【０００３】前記感光体の電子写真性能はアルミ基体の
表面状態及び材質による影響が大である。即ち基体表面
の機械的平滑度が悪く凹凸や傷があると電気的欠陥を生
じ、画像形成時黒ぽちや黒筋等を発生する。そこで通常
ダイアモンドバイト等により鏡面加工が施される。また
アルミ基体は所望の機械的強度を確保するため、通常マ
グネシウム、鉄、珪素、銅、マンガン等が合金成分とし
て含有される。

【０００４】これらのアルミニウム合金からなる導電性
基体を用いて有機系材料による感光体を製造する場合に
は、基体上に電荷発生層（ＣＧＬ）をサブミクロンオー
ダに薄く塗布形成し、その上に電荷輸送層（ＣＴＬ）を
10〜30μmの膜厚で形成する。高品質の電子写真画像が
得られる感光体とするためには、異物などの混在しない
非常に均一な膜でなければならない。そのため、基体の
表面には高い清浄度が要求される。

【０００５】このアルミニウム系合金からなる回転ドラ
ム状の基体は、一般に管状素材の表面を切削加工して仕
上げられ、この切削加工時には、通常切削液が使用され
る。この切削液は冷却作用、潤滑作用、洗浄作用等を目
的として使用されるものであり具体的には、石油系、ポ
リブデン系、灯油、白灯油等が使用されている。

【０００６】さらに画像欠陥の発生を防止するために基
体の切削加工後にブラシや研磨剤等を利用した接触式の
洗浄手段により基体の表面を洗浄することが行われてい
る。

【０００７】基体表面に異物が存在し電荷発生層に不均
一な部位ができると、得られた画像上に白抜けが発生す
る。ところが、異物の存在がほとんど無視できるレベル
にまで洗浄した基体を用いても高温環境下では画像上に
微小白点が発生することがある。これは導電性基体から
電荷発生層にフリーキャリアが注入されるためとされて
おり、このフリーキャリア注入を抑制するためには基体
と電荷発生層との界面に所要の抵抗値を有する電荷注入
阻止層（バリア層）が設けられているものが多い。バリ
ア層としては、基体上に塗布されたポリアミドなどに代
表される比較的低抵抗の樹脂膜，アルミニウム合金であ
る基体の表面に陽極酸化処理を施して形成した陽極酸化
被膜などが知られている。アルミニウム合金の陽極酸化
被膜は、成膜条件（陽極酸化条件，封孔処理条件）によ
り膜質，抵抗などを制御できる。バリア層として好適な
陽極酸化被膜を形成するためにはその成膜条件は比較的
狭い範囲に限定されるが、得られた被膜はバリア層とし
て好適であるだけでなく硬く膜質が安定でしかも取り扱
いが容易であるために従来から多用されている。

【０００８】また、前記のように切削油を使用して表面
加工されたアルミニウム系合金からなる基体では、切削
油を充分に除去するためには、フロン11，112，113等の
フロン、トリクロルエチレン、1,1,1-トリクロルエタ
ン、パークロルエチレン、塩化メチレン等の塩素系溶剤
を用いて洗浄しなければならず、従って、このような溶
剤を多量に使用することは、オゾン層破壊、発癌性等の
観点から環境汚染、作業安全性に問題がある。

【０００９】そこで現在洗浄液として有機溶剤に換え
て、洗剤水溶液による水系洗浄が検討されている。しか
し基体の切削加工後の基体表面の洗浄を洗浄液として洗
剤溶液を用いた水系洗浄を採用した場合、有機溶剤洗浄
と比べてどうしても洗浄効率が低下してしまい、画像欠
陥の原因となる基体の表面加工時に発生した切削粉、環
境異物、切削油等が基体表面に残ったままとなる。この
様な水系洗浄されたアルミニウム基体に従来用いられて
いる顔料を電荷発生材料として用いると得られる画像に
白抜け、局部的濃度低下が発生する。さらに帯電電位、
感度の低下、繰返し時においては更に残留電位の増大が
生じる。そこでアルミニウム基体として切削加工後、水
系洗浄を施した基体を用いても画像不良が少なく、感度
が良くしかも繰返し特性の良好な材料が望まれていた。

【００１０】更にまた前記アルミニウムの陽極酸化処理
においても、種々検討した結果では、上述のように導電
性基体としてのアルミニウム基体上にバリア層として基
体に陽極酸化処理をするだけでは画像上の微小白抜けは
ある程度減少させることはできるが、アルマイト層（陽
極酸化皮膜層）の膜質を種々変化させて改善を試みても
皆無にすることは不可能であることが分かった。

【００１１】一方アルミニウム基体の表面の各種欠陥を
被覆し、感光体として用いたときの画質の調整を目的と
して、例えばポリアミド樹脂、ポリビニルブチラール樹
脂等の下引層を設ける技術が知られている。

【００１２】しかしながら前記下引層を設けた感光体で
は、繰返し像形成の過程で疲労劣化を生じ易く、帯電
性、電荷保持性が低下しかつ残留電位が上昇して画質が
悪化すると言う問題がある。

【００１３】このような画像欠陥は、感光体の高感度化
に伴い多くなり、かつ像形成時の温湿度条件等の環境の
影響をうける。

【００１４】

【発明が解決しようとする課題】前記の状況に鑑み、本
発明は更に基体材料として、低コスト、軽量、加工容易
なアルミニウム系合金の利点を生かし、環境的に或は労
働衛生上問題のない水系洗浄を施した基体、或は陽極酸
化を施しその性能を補完し、画像欠陥がなく、高感度で
あり、かつ繰返し特性の良好な感光体を提供することを
課題とする。

【００１５】

【課題を解決するための手段】前記課題は下記の構成に
よって解決される。即ち；導電性基体上に電荷発生層、
その上に電荷輸送層を設けて構成層を形成する電子写真
感光体において、前記導電性支持体が水系洗浄が施され
たか或は陽性酸化を施されたいずれかのアルミニウム基
体を用い、かつ前記電荷発生層に前記一般式〔Ｉ〕又は
〔II〕で示される電荷発生物質を含有することを特徴と
する電子写真感光体のいずれによっても解決することが
できる。

【００１６】但し一般式〔Ｉ〕，〔II〕において、Ｚは
置換基を有してもよい２価の芳香族環を形成する原子群
である。

【００１７】前記一般式〔Ｉ〕または〔II〕で表される
化合物；ビスイミダゾピリドノペリレン（ＢＩＰＰと標
記する）において、Ｚで表される芳香族基の好ましい例
としては、例えばベンゼン環、ナフタレン環、アントラ
セン環、フェナンスレン環、ピリジン環、ピリミジン
環、ピラゾール環、アントラキノン環等が挙げられ、特
にベンゼン環又はナフタレン環であることが好ましい。
またＺで表される芳香族環は置換されていてもよく、置
換基としては、アルキル基、アルコキシ基、アリール
基、アリールオキシ基、アシール基、アシロキシ基、ア
ミノ基、カルバモイル基、ハロゲン原子、ニトロ基、シ
アノ基などを挙げることができる。

【００１８】以下本発明に好ましく用いられるＢＩＰＰ
の具体例を示すが、本発明はこれらによって限定される
ものではない。

【００１９】

【化３】

【００２０】本発明の電子写真感光体に用いられる導電
性支持体としては、基体材料として特定のアルミニウム
系合金を用いる。このアルミニウム系合金はマグネシウ
ム（Mg）0.1〜３重量％、珪素（Si）0.01〜0.8重量％、
鉄（Fe）0.01〜0.4重量％の添加成分を含有してなるア
ルミニウム系合金である。更に好ましくはMg 0.2〜2.0
％，Si 0.02〜0.6％，Fe 0.02〜0.2％である。またその
他の添加成分として、銅（Cu）が0.01重量％以下、その
他の金属が0.1重量％以下の割合で含有されていてもよ
い。

【００２１】添加成分であるマグネシウム（Mg）は、被
切削性の改善、機械的強度の向上に寄与する。またAl-M
g金属化合物は、孔食腐食を起こさず、全面腐食となる
ため、画像欠陥の原因とはならない。ただし、Mgの割合
が0.1重量％未満では、このような効果が充分には発揮
されない。逆にMgの割合が３重量％を超えるときは、M
g，Si相晶出、粒界腐食、応力腐食が促進される。

【００２２】添加成分である珪素（Si）は、機械的強度
の向上、耐食性の改善に寄与する。ただし、Siの割合が
0.01重量％未満では、このような効果が充分には発揮さ
れない。逆にSiの割合が0.8重量％を超えるときは、粗
大Si相が析出し、表面欠陥となる。

【００２３】添加成分である鉄（Fe）は共存するアルミ
ニウムや珪素とFe-Al系をFe-Al-Si系の金属間化合物を
形成し、アルミニウムマトリックス中にハードスポット
として現れる。特にこのハードスポットは鉄含量0.4％
を界にして鉄が増加すると急激に増加し、例えば鏡面切
削加工等の際に悪影響を及ぼす。従って本発明のアルミ
ニウム合金における好ましい鉄含量は、0.4％以下さら
に好ましくは0.2％以下である。

【００２４】なお、基体を構成するアルミニウム系合金
における添加成分の含有割合は、理学電気社製の波長分
散型蛍光Ｘ線分析装置「システム3080」を用いて測定さ
れたものである。

【００２５】本発明の水系洗浄は従来通りの方法で表面
加工されたアルミニウム基体に対して施される。

【００２６】水系洗浄は、通常、洗浄−濯ぎ−乾燥の３
工程からなり、洗浄で素管表面の切削油，アルミニウム
切り粉等の除去、濯ぎで洗浄液の除去、乾燥で水分の除
去を行っている。

【００２７】乾燥工程は水を均一に乾燥させるのが非常
に難しく、色々な方法が検討されている（熱風乾燥、エ
アーリングブロー乾燥、温純水引き上げ乾燥等）。

【００２８】これら乾燥方法の中で、温純水引き上げ乾
燥を選択した場合、水分の均一完全除去を行うことがで
き、もっとも好ましい。

【００２９】以下に水系洗浄の実施態様について述べ
る。

【００３０】〔洗浄〕洗剤水溶液により導電性基体表面
についた切削油、アルミニウム切り粉等を除去する。

【００３１】除去方法としては、・洗剤水溶液中に浸漬させる方法（単純浸漬、素管の回
転、揺動含む）・超音波による洗浄（ＵＳ洗浄）超音波の配置→槽の底、横、斜め、およびこれらの組合
せ超音波の種類→28KHz、40KHz、同時多重波、多周波交互
発振等・ブラシ、スポンジによる擦り洗浄好ましいスポンジ形状→特開平3-257456記載のスポンジ
(カネボウ社製ベルクリーンが市販されている）があり、通常は１槽目＝洗剤ＵＳ洗浄、２槽目＝洗剤ス
ポンジ＋洗剤シャワーを組合せている。

【００３２】洗剤には種々の市販品があり、表１に例示
する。

【００３３】

【表１】

【００３４】中性洗剤とアルカリ性洗剤を比較すると、
アルカリ性洗剤の方が洗浄性が良く、好ましい。

【００３５】〔濯ぎ〕洗剤のついたアルミニウム基体か
ら洗剤を除去する。

【００３６】除去方法としては、洗浄工程と同じ方法で
行われる。汚れの再付着防止の観点から、浸漬、超音波
等の非接触の方法が好ましい（ブラシ、スポンジは好ま
しくない。）。

【００３７】浸漬する濯ぎ水としては、一般に純水、超
純水と称されるイオン、微粒子が除去された水が用いら
れる。

【００３８】〔乾燥〕アルミニウム基体表面に付着した
水分を除去する。

【００３９】除去方法としては、・熱風乾燥・エアーブロー乾燥・温純水引き上げ乾燥等があるが、素管表面の乾燥が均一になるようにするた
めには、温純水引き上げ乾燥が好ましい。

【００４０】温純水引き上げ乾燥は、温純水中にアルミ
ニウム基体を温純水と同じ温度になるまで浸漬（数秒〜
数10秒）した後、ゆっくりと一定速度でアルミニウム基
体を鉛直方向に引き上げ、アルミニウム基体の熱容量で
表面の水膜を乾燥させる。引き上げ速度は0.1cm/sec〜
2.0cm/sec（好ましくは0.5〜1.0cm/sec）であるが、タ
クトが許すなら遅い方が好ましい。温純水の温度として
は、高い方がはやく乾燥するが、あまり高すぎると蒸気
により乾燥ムラとなることがある。本発明においては、
乾燥工程における温純水の温度としては60〜90℃が好ま
しく、さらに好ましくは70〜80℃である。

【００４１】本発明に係る前記基体用素管の水洗に用い
られる純水としては以下の特性を有するものが好まし
い。

【００４２】比抵抗：10ＭΩcm以上、好ましくは17ＭΩ
cm以上微粒子：100個／ｍｌ以下（0.2μｍ以上の微粒子）、好
ましくは30個／ｍｌ以下生菌：0.1コロニー／ｍｌ以下本発明における陽極酸化処理は、アルミニウム基体の表
面を切削により表面を平滑にし前処理を施した後行われ
る。また前記処理の脱脂は酸系、アルカリ系、中性のい
ずれでもよく、エッチングの酸系、アルカリ系のいずれ
も使用できる。

【００４３】陽極酸化処理は通常の方法に従って行うこ
とができ、特に制限はないがいわゆる硫酸法が薬品が安
価であり、経済的に優れることと、膜生成速度が速く生
産性に優れるので好ましい。基本的に硫酸法に限らず蓚
酸、燐酸、クロム酸等の単独または複数の混合溶液でも
よいし、電解方法も定電流、定電圧、パルス法、２段電
界法等特に限定されるものではない。

【００４４】このようにして形成された陽極酸性皮膜の
うち、多孔質であるものは化学的に活性な場合が多く、
耐膜性、耐食性、耐汚染性等が必ずしも十分でないた
め、封孔処理を行ない不活性することが望ましい。封孔
処理としては沸騰水、水蒸気を用いた水和封孔、重金属
水溶液を用いる無機質封孔等が好ましい。

【００４５】陽極酸化皮膜の厚さは0.5〜50μm、好まし
くは２〜20μmである。

【００４６】本発明においては、バリアの効果を有する
中間層の層厚は0.01〜５μm、好ましくは0.05〜３μmの
範囲とされる。0.01μmを下まわると、基体から感光層
への電荷の注入が阻止され得ない。基本の凹凸を原因と
して、感光層にピンホールが発生しやすくなる。５μm
を上まわると、感光層の残留電位が効果的に除去され得
ない。

【００４７】更に中間層に用いられるバインダとして
は、電気抵抗、耐環境性、他層との接着性或は他層の溶
媒に不溶であること等を考慮して選ばれるが、本発明に
おいてはポリアミド樹脂が最も好ましい。

【００４８】ポリアミドとしては、アルコール可溶性ポ
リアミドが最も好ましく、共重合ナイロンやN-アルコキ
シメチル変性ナイロン等を用いることができる。

【００４９】感光体の層構成は種々の形態が知られてお
り、本発明の感光体はそれらのいずれかの形態をとりう
るが、積層型もしくは分散型の機能分離型感光体とする
のが望ましい。この場合、通常は図１（イ）〜（ニ）の
ような構成となる。（イ）に示す層構成は、導電性支持
体１上に電荷発生物質（ＣＧＭ）を含有する電荷発生層
（ＣＧＬ）２を形成し、これに電荷輸送物質（ＣＴＭ）
を含有する電荷輸送層（ＣＴＬ）３を積層して感光層
（ＰＣＬ）４を形成したものであり、（ロ）は（イ）の
層構成のＰＣＬ４と導電性支持体１の間に接着層、バリ
ア層などの中間層（ＡＳＬ）５を設けたものである。
（ハ）の層構成はＣＧＭをＣＴＭとバインダを含有する
層に分散したＰＣＬ４を導電性支持体上に形成したもの
であり、（ニ）は（ハ）の層構成のＰＣＬ４と導電性支
持体１の間にＡＳＬ５を設けたものである。図１（イ）
〜（ニ）の構成において、最表層にはさらに保護層を設
けてもよく、またＣＧＬ２中にＣＴＭを含有してもよ
い。本発明においてはＣＧＬとＣＴＬの少なくとも２層
を有する感光体が特に好ましい。

【００５０】ＣＧＬ２は例えば下記に示す方法によって
作製された塗布液を導電性支持体１、もしくはＣＴＬ３
上に直接、あるいは必要に応じて接着層もしくはバリヤ
層などのＡＳＬ５を設けた上に塗布することにより形成
することができる。

【００５１】前記ＣＧＭを一緒にあるいは別々に適当
な溶媒に溶解した溶液、あるいは更に必要に応じてバイ
ンダ樹脂および又はＣＴＭを加え混合溶解した溶液。

【００５２】前記ＣＧＭを一緒にあるいは別々にボー
ルミル、サンドグラインダ等を用いて分散中で微細粒子
（好ましくは粒径５μm以下、更に好ましくは１μm以
下）とし、必要に応じてバインダ樹脂および／又はＣＴ
Ｍ加え混合分散した分散液。

【００５３】ＣＧＬの形成に使用される溶媒あるいは分
散媒としては、ブチルアミン、ジエチルアミン、エチレ
ンジアミン、イソプロパノールアミン、トリエタノール
アミン、トリエチレンジアミン、N,N-ジメチルホルムア
ミド、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチ
ルケトン、シクロヘキサノン、ベンゼン、トルエン、キ
シレン、クロロホルム、1,2-ジクロルエタン、1,2-ジク
ロルプロパン、1,1,2-トリクロルエタン、1,1,1-トリク
ロルエタン、トリクロルエチレン、テトラクロルエタ
ン、ジクロルメタン、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ン、メタノール、エタノール、イソプロパノール、酢酸
エチル、酢酸ブチル、ジメチルスルホキシド、メチルセ
ロソルブ等が挙げられるが、本発明はこれらに限定され
るものではない。

【００５４】また、少なくともＣＴＭを含有するＣＴＬ
は上記ＣＧＬと同様にして形成することができる。

【００５５】ＣＧＬあるいはＣＴＬの形成に用いられる
バインダ樹脂は任意のものを用いることができるが、疎
水性で、かつ誘電率が高く、電気絶縁性のフィルム形成
性高分子重合体を用いることが好ましい。このような高
分子重合体としては、例えば次のものを挙げることがで
きるが、これらに限定されるものではない。

【００５６】Ｐ−１）ポリカーボネートＰ−２）ポリエステルＰ−３）メタクリル酸Ｐ−４）ポリアクリル樹脂Ｐ−５）ポリ塩化ビニルＰ−６）ポリ塩化ビニリデンＰ−７）ポリスチレンＰ−８）ポリビニルアセテートＰ−９）スチレン-プタジエン共重合体Ｐ−10）塩化ビニリデン-アクリロニトリル共重合体Ｐ−11）塩化ビニル-酢酸ビニル共重合体Ｐ−12）塩化ビニル-酢酸ビニル-無水マレイン酸共重
合体Ｐ−13）シリコーン樹脂Ｐ−14）シリコーン-アルキッド樹脂Ｐ−15）フェノールホルムアルデヒド樹脂Ｐ−16）スチレン-アルキッド樹脂Ｐ−17）ポリ-N-ビニルカルバゾールＰ−18）ポリビニルブチラールＰ−19）ポリビニルフォルマールこれらのバインダ樹脂は、単独であるいは２種以上の混
合物として用いることができる。

【００５７】以上のようにして形成されるＣＧＬにおい
て、一般式〔Ｉ〕および／または一般式〔II〕で表され
るＢＩＰＰからなるＣＧＭとバインダとの重量比は好ま
しくは100：０〜1000である。ＣＧＭの含有割合がこれ
より少いと光感度が低く、残留電位の増加を招き、また
これにより多いと暗減衰及び受容電位が低下する。

【００５８】また、ＣＧＬ中にＣＴＭを含有する場合に
は、ＣＧＭとＣＴＭとの割合は重量比で10：０〜10：10
00であることが好ましく、特に好ましくは10：０〜10：
100である。

【００５９】形成されるＣＧＬの膜厚は、好ましくは0.
01〜10μmである。

【００６０】また、前記のようにして形成されるＣＴＬ
において、ＣＴＭはＣＴＬ中のバインダ樹脂100重量部
当り20〜200重量部が好ましく、特に好ましくは30〜150
重量部である。

【００６１】また、形成されるＣＴＬの厚さは、好まし
くは５〜60μm、特に好ましくは10〜40μmである。

【００６２】本発明に用いられるＣＴＭとしては、特に
制限はないが、例えばオキサゾール誘導体、オキサジア
ゾール誘導体、チアゾール誘導体、チアジアゾール誘導
体、トリアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、イミダ
ゾロン誘導体、イミダゾリジン誘導体、ビスイミダゾリ
ジン誘導体、スチリル化合物、ヒドラゾン化合物、ピラ
ゾリン誘導体、アミン誘導体、オキサゾロン誘導体、ベ
ンゾチアゾール誘導体、ベンズイミダゾール誘導体、キ
ナゾリン誘導体、ベンゾフラン誘導体、アクリジン誘導
体、フェナジン誘導体、アミノスチルベン誘導体、ポリ
-N-ビニルカルバゾール、ポリ-1-ビニルピレン、ポリ-9
-ビニルアントラセン等が挙げられる。

【００６３】ただし本発明においてＣＴＭは、光照射時
に発生するホールの感光体表面側または支持体側への輸
送能力の他、前記ＢＩＰＰ等のＣＧＭとの組合せも考慮
して選択されることが好ましく、かかるＣＴＭとしては
下記一般式（Ａ）または（Ｂ）で表される化合物を挙げ
ることができる。

【００６４】

【化４】

【００６５】但し、Ａr₁，Ａr₂，Ａr₄はそれぞれ置換又
は無置換のアリール基を表し、Ａr₃は置換又は無置換の
アリーレン基を表し、Ｒ₁は水素原子、置換若しくは無
置換のアルキル基、又は置換もしくは無置換のアリール
基を表す。

【００６６】このような化合物の具体例は特開昭58-654
40号の第３〜４頁及び同第58-198043号の第３〜６頁に
詳細に記載されている。

【００６７】

【化５】

【００６８】式中Ａr₁，Ａr₄，Ａr₅はそれぞれ置換、無
置換のアリール基、好ましくは置換、無置換のフェニル
基、置換、無置換のナフチル基を表し、Ｒ₁，Ｒ₂は水素
原子、置換、無置換のアルキル基、置換、無置換のアリ
ール基を表し、好ましくは水素原子、炭素原子数１個か
ら８個のアルキル基、置換、無置換のフェニル基、置
換、無置換のナフチル基を表す。Ａr₂，Ａr₃は置換、無
置換のアリーレン基、好ましくは置換、無置換のフェニ
レン基、置換、無置換のナフチレン基を表す。

【００６９】上記化合物の具体的は例えば特開昭64-322
65号の第４〜10頁に詳細に記載されている。

【００７０】本発明のＰＣＬにはＣＧＭの電荷発生機能
を改善する目的で有機アミン類を添加することができ、
特に２級アミンを添加するのが好ましい。

【００７１】かかる２級アミンとしては、例えばジメチ
ルアミン、ジエチルアミン、ジプロピルアミン、ジ-イ
ソプロピルアミン、ジブチルアミン、ジ-イソブチルア
ミン、ジアミルアミン、ジ-イソアミルアミン、ジヘキ
シルアミン、ジ-イソヘキシルアミン、ジペンチルアミ
ン、ジ-イソペンチルアミン、ジ-オクチルアミン、ジ-
イソオクチルアミン、ジ-ノニルアミン、ジ-イソノニル
アミン、ジデシルアミン、ジ-イソデシルアミン、ジモ
ノデシルアミン、ジ-イソモノデシルアミン、ジドデシ
ルアミン、ジ-イソドデシルアミン等を挙げることがで
きる。

【００７２】かかる有機アミン類の添加量としては、Ｃ
ＧＭの等量以下、好ましくは0.2倍〜0.005倍の範囲のモ
ル数とするのがよい。

【００７３】本発明においてＣＧＬには感度の向上、残
留電位乃至反復使用時の疲労低減等を目的として、一種
又は二種以上の電子受容性物質を含有せしめることがで
きる。

【００７４】ここに用いることのできる電子受容性物質
としては、例えば無水琥珀酸、無水マレイン酸、ジブロ
ム無水マレイン酸、無水フタル酸、テトラクロル無水フ
タル酸、テトラブロム無水フタル酸、3-ニトロ無水フタ
ル酸、4-ニトロ無水フタル酸、無水ピロメリット酸、無
水メリット酸、テトラシアノエチレン、テトラシアノキ
ノジメタン、o-ジニトロベンゼン、m-ジニトロベンゼ
ン、1,3,5-トリニトロベンゼン、パラニトロベンゾニト
リル、ピクリルクロライド、キノンクロルイミド、クロ
ラニル、ブルマニル、ジクロルジシアノパラベンゾキノ
ン、アントラキノン、ジニトロアントラキノン、2,7-ジ
ニトロフルオレノン、2,4,7-トリニトロフルオレノン、
2,4,5,7-テトラニトロフルオレノン、9-フルオレニリデ
ン[ジシアノメチレンマロノジニトリル]、ポリニトロ-9
-フルオレニリデン-[ジシアノメチレンマロノジニトリ
ル]、ピクリル酸、o-ニトロ安息香酸、p-ニトロ安息香
酸、3,5-安息香酸、ペンタフルオル安息香酸、5-ニトロ
サリチル酸、3,5-ジニトロサリチル酸、フタル酸、メリ
ット酸、その他の電子親和力の大きい化合物を挙げるこ
とができる。

【００７５】電子受容性物質の添加量は、重量比で電荷
発生物質：電子受容性物質＝100：0.01＝200、好ましく
は100：0.1〜100である。

【００７６】電子受容性物質はＣＴＬに添加してもよ
い。かかる層への電子受容性物質の添加量は重量比でＣ
ＴＭ：電子受容性物質＝100：0.01〜100、好ましくは10
0：0.1〜50である。

【００７７】またＣＧＬ中にレベリング剤を添加しても
よい。レベリング剤としては、ジメチルシリコーンオイ
ル、メチルフェニルシリコーンオイル等のシリコーンオ
イル類が使用され、その使用量はバインダ樹脂に対して
０〜１重量％程度が適当である。

【００７８】また本発明の感光体には、その他、必要に
よりＰＣＬを保護する目的で酸化防止剤や紫外線吸収剤
等を含有してもよく、また感色性補正の染料を含有して
もよい。

【００７９】

【実施例】次に実施例によって本発明を具体的に説明す
る。

【００８０】尚水系洗浄に関る実施例Ａ群と、陽極酸化
に関る実施例Ｂ群に分けて述べる。

【００８１】：実施例Ａ群：実施例Ａ１（アルミニウム素管）本発明に係るアルミニウム合金引
抜管を用意し、両端インロー加工後、ダイヤモンドバイ
トで鏡面加工を施した。

【００８２】素管の大きさ：φ80mm×355.5mm 素管表面粗さ：0.3s以下（アルミニウム素管の洗浄）（１）（超音波洗浄）非イオン活性剤（ソニックフェロー社製SE-115）10％水
溶液を用い、40℃で超音波洗浄60秒。超音波発振器は28
kHzのものを槽の底部と横の両方に配置。回転及び振動
の併用。

【００８３】（２）（スポンジ擦り洗浄）前記界面活性剤水溶液（40℃）中でベルクリーン（カネ
ボウ社製）スポンジを素管に擦りつけ、擦り洗浄。

【００８４】（３）（濯ぎ）超純水（比抵抗５Ωcm以上；40℃）中で超音波洗浄（周
波数28KHz）を行った。

【００８５】（４）（乾燥） 40℃の超純水に１分間浸漬させて0.5cm／secの引上速度
にて素管を引き上げ、素管を乾燥させる。

【００８６】ＡＳＬ用塗料バインダとしてポリアミドＣＭ8000（東レ社製）1.5gを
メタノール／ブタノール（４/１wt比）混合液100mlに溶
解させた。

【００８７】ＣＧＬ用塗料ＣＧＬとしてＢＩＰＰ（例示化合物Ａ−１）7.5g、バイ
ンダとしてブチラール樹脂エレックスＢＸ−Ｌ（セキス
イ社製）1.5g及び溶媒としてメチルエチルケトン300ml
をサンドグラインダに10時間かけて分散した。

【００８８】ＣＴＬ用塗料ＣＴＭとして〔化６〕に記載の化合物（Ｔ−１）11.25g
と、バインダとしてＢＰＺ型ポリカーボネート；ユーピ
ロンＺ−300（三菱瓦斯化学社製）15gをジクロルエタン
100mlに溶解させた。

【００８９】感光体の作製前記水系洗浄を施したアルミニウムドラムにＡＳＬ用塗
料をディップ塗布し、乾燥膜厚0.2μmのＡＳＬを形成し
た。

【００９０】次にえられたＣＧＬ用塗料をディップ塗布
し乾燥膜厚0.5μmのＣＧＬを形成した。次いで前記ＣＴ
Ｌ塗料をディップ塗布により乾燥膜厚20μmのＣＴＬを
形成し、感光体試料Ａ１をえた。

【００９１】実施例Ａ２実施例Ａ１においてＡＳＬを塗布していない以外は同様
にして感光体試料２を作製した。

【００９２】比較例（Ａ１）実施例Ａ１においてＣＧＬ用塗料のＣＧＭに例示化合物
Ａ−１に換えて〔化６〕に記載のペリレン化合物（Ｃ−
１）を用いた以外は同様にして比較感光体（Ａ１）を作
製した。

【００９３】比較例（Ａ２）比較例（Ａ１）においてＡＳＬを塗布していない以外は
同様にして比較感光体（Ａ２）を作製した。

【００９４】

【化６】

【００９５】以上のようにして得られた感光体試料につ
いて下記の特性評価を行ない、結果を表２に示した。

【００９６】〔画像評価〕電子写真複写機「Ｕ−Ｂix 4
045」（コニカ社製）に組込み白紙チャートを実写して
行った。

【００９７】（１）白抜け画像解析装置「オムニコン3000形」（島津製作所製）を
用い白抜けの粒径と箇数を測定し、φ（径）0.05mm以上
の白抜け数／cm²により下記評価符号により判定した。

【００９８】評価符号 0.05mm以上白抜け数／cm² 実用性 ◎ ０適 ○ １〜３〃 △ ４〜10 実用限界 × 11〜20 不適 ×× 21以上〃（２）画像濃度反射濃度計による濃度測定（３）画質画像濃度と白抜けの２要因を総合して評価する。

【００９９】◎；画像濃度1.3以上かつ0.3mm以上白抜け
０個(Ａ４プリントにて) ○；画像濃度1.2以上、0.3mm以上0.5mm未満白抜け５個
以下かつ0.5mm以上白抜け０個(Ａ４プリント) △；画像濃度1.2以上かつ0.3mm以上白抜け６個以上(Ａ
４プリント)又は画像濃度1.2未満かつ0.3mm以上0.5mm未
満の白抜け５個以下(Ａ４プリント) ×；画像濃度1.2未満かつ0.3mm以上白抜け６個以上(Ａ
４プリント) 〔耐用性評価〕前記「Ｕ−Ｂix 4045」を改造し表面電
位計を設置し、帯電→露光→除電のプロセスを10,000回
を繰返し、１回目と10,000回目の黒紙、白紙電位及び残
留電位変化量ΔＶr(Ｖ)を測定した。

【０１００】白紙電位；濃度0.0の原稿面を複写すると
きのドラムの表面電位，Ｖw(Ｖ) 黒紙電位；濃度1.30の原稿面を複写するときのドラムの
表面電位，Ｖb(Ｖ）

【０１０１】

【表２】

【０１０２】：実施例Ｂ群：実施例Ｂ１（アルミニウム基体の陽極酸化処理）外径８０ｍｍ，長
さ355.5mmのアルミニウム基体を表面切削により鏡面加
工を施し、その後市販の中性脱脂剤にて洗浄し、水洗の
後、５wt％ NaOH溶液にて40℃，30秒浸漬のエッチング
処理を行ない、水洗し、陽極酸化を施した。

【０１０３】陽極酸化処理は15wt％の硫酸溶液にて浴温
20℃、電流密度１Ａ／dm²で６μmの皮膜を形成した。陽
極酸化の後水洗を行ない、続いて酢酸ニッケル溶液中に
て50℃，10分間浸漬することにより、封孔処理を行っ
た。

【０１０４】（感光層の形成）（ＡＳＬの塗布）ポリアミドＣＭ8000（東レ社製）1.5
g、メタノールブタノール混合液100ml（重量比メタノー
ル：ブタノール＝４：１）からなる液により浸漬塗布に
て膜厚0.2μmのＡＳＬを形成させた。

【０１０５】（ＣＧＬの塗布）例示化合物（Ａ−１）7.
5g、ブチラール樹脂エレックスＢＸ−Ｌ（セキスイ社
製）、ＭＥＫ300mlから成るサンドグラインダにより分
散して得たＣＧＬ塗料により浸漬塗布にて膜厚0.5μmの
ＣＧＬを形成させた。

【０１０６】（ＣＴＬの塗布）ビスフェノールＺ型ポリ
カーボネート樹脂、ユーピロンＺ−300（三菱瓦斯化学
社製）前記ＣＴＭ化合物（Ｔ−１）11.75g、ジクロルエ
タン100mlからなるＣＴＬ塗料により、浸漬塗布にて膜
厚約20μmのＣＴＬを形成させた（乾燥：90℃，１時
間）実施例Ｂ２実施例１においてＡＳＬを塗布していない以外は同様に
して感光体試料を作製した。

【０１０７】比較例（Ｂ１）実施例Ｂ１においてＣＧＭに例示化合物（Ａ−１）に換
えて前記（Ｃ−１）を用いた以外は同様にして感光体試
料を作製した。

【０１０８】比較例（Ｂ２）比較例（Ｂ１）においてＡＳＬを塗布していない以外は
同様にして感光試料を作製した。

【０１０９】以上のようにして得られた感光体試料に対
し実施例Ａ群と同様の特性評価を行ない、結果を表３に
示す。

【０１１０】

【表３】

【０１１１】

【発明の効果】電気特性が良好で耐用性がよく、かつ高
画質の電子写真画像を達成することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の感光体例の断面図。

【符号の説明】

１アルミニウム合金導電性基体２キャリア発生層３キャリア輸送層４感光層５中間層

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】導電性基体上に電荷発生層、その上に電
荷輸送層を設けて構成層を形成する電子写真感光体にお
いて、前記導電性支持体が水系洗浄を施されたアルミニ
ウム基体であり、かつ前記電荷発生層に下記一般式
〔Ｉ〕又は〔II〕で示される電荷発生物質を含有するこ
とを特徴とする電子写真感光体。【化１】〔但し一般式〔Ｉ〕，〔II〕において、Ｚは置換基を有
してもよい２価の芳香族環を形成する原子群である。〕
【請求項２】導電性基体上に電荷発生層、その上に電
荷輸送層を設けて構成層を形成する電子写真感光体にお
いて、前記導電性支持体が陽極酸化を施されたアルミニ
ウム基体であり、かつ前記電荷発生層に下記一般式
〔Ｉ〕又は〔II〕で示される電荷発生物質を含有するこ
とを特徴とする電子写真感光体。【化２】〔但し一般式〔Ｉ〕，〔II〕において、Ｚは置換基を有
してもよい２価の芳香族環を形成する原子群である。〕
【請求項３】前記感光体の構成層として、導電性基体
と電荷発生層の間に、ポリアミド樹脂からなる中間層を
有することを特徴とする請求項１又は２に記載の電子写
真感光体。