JPH06210170A - 光触媒用酸化チタン板材の製造方法 - Google Patents
光触媒用酸化チタン板材の製造方法Info
- Publication number
- JPH06210170A JPH06210170A JP5008009A JP800993A JPH06210170A JP H06210170 A JPH06210170 A JP H06210170A JP 5008009 A JP5008009 A JP 5008009A JP 800993 A JP800993 A JP 800993A JP H06210170 A JPH06210170 A JP H06210170A
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- JP
- Japan
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- titanium oxide
- plate material
- photocatalyst
- titanium
- oxide film
- Prior art date
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 大量に、安価で品質の良好な光触媒用酸化チ
タン板材を、安全に製造する方法を得ることを課題とし
た。 【構成】 純チタン板材の表面に、酸化チタン粉体を不
活性ガスを用いて連続してプラズマ溶射することによ
り、純チタン板材の表面に酸化チタン膜を生成すること
を特徴とした。
タン板材を、安全に製造する方法を得ることを課題とし
た。 【構成】 純チタン板材の表面に、酸化チタン粉体を不
活性ガスを用いて連続してプラズマ溶射することによ
り、純チタン板材の表面に酸化チタン膜を生成すること
を特徴とした。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、光触媒として使用さ
れる酸化チタン板材の製造方法に関する。
れる酸化チタン板材の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、光触媒用酸化チタン板材の製造方
法は、空気酸化法、陽極酸化法、有機チタンスプレー
法、ＣＶＤ法などが知られている。
法は、空気酸化法、陽極酸化法、有機チタンスプレー
法、ＣＶＤ法などが知られている。
【０００３】空気酸化法は、純チタン板材を、空気中で
バーナーや電気炉で高温に加熱し、純チタン板材の表面
を酸化させて純チタン板材表面に酸化チタン膜を生成さ
せる方法である。この方法では酸化チタン膜の厚みにム
ラが生じやすく、厚くなりすぎると容易に剥離してしま
うという問題がある。さらに、加熱温度によっては、ル
チル型、アナターゼ型の結晶格子の異なる酸化チタン膜
が生成され、光触媒として特性の違うものができたりす
るという問題がある。
バーナーや電気炉で高温に加熱し、純チタン板材の表面
を酸化させて純チタン板材表面に酸化チタン膜を生成さ
せる方法である。この方法では酸化チタン膜の厚みにム
ラが生じやすく、厚くなりすぎると容易に剥離してしま
うという問題がある。さらに、加熱温度によっては、ル
チル型、アナターゼ型の結晶格子の異なる酸化チタン膜
が生成され、光触媒として特性の違うものができたりす
るという問題がある。
【０００４】陽極酸化法は、純チタン板材を陽極とし、
白金やステンレスなどを陰極として電解液中で直流電流
を流して、発生する酸素でチタン板材表面を酸化させて
純チタン板材表面に酸化チタン膜を生成させる方法であ
る。この方法では、酸化チタン膜が薄いので光触媒とし
て十分な光吸収ができにくく、良質な光触媒とはならな
い。また、非常に高い電圧が必要となり危険である。
白金やステンレスなどを陰極として電解液中で直流電流
を流して、発生する酸素でチタン板材表面を酸化させて
純チタン板材表面に酸化チタン膜を生成させる方法であ
る。この方法では、酸化チタン膜が薄いので光触媒とし
て十分な光吸収ができにくく、良質な光触媒とはならな
い。また、非常に高い電圧が必要となり危険である。
【０００５】有機チタンスプレー法は、溶媒に溶解した
チタンの有機化合物を、純チタン板材にスプレーした
後、加熱し有機成分を蒸発、燃焼させて純チタン板材表
面に酸化チタン膜を生成させる方法である。この方法で
使用する有機チタンは非常に高価であり多量に使用しな
ければならない。また、酸化チタン膜と純チタン板材と
の接合強度が弱く、酸化チタン膜を厚くすると剥離する
という問題がある。
チタンの有機化合物を、純チタン板材にスプレーした
後、加熱し有機成分を蒸発、燃焼させて純チタン板材表
面に酸化チタン膜を生成させる方法である。この方法で
使用する有機チタンは非常に高価であり多量に使用しな
ければならない。また、酸化チタン膜と純チタン板材と
の接合強度が弱く、酸化チタン膜を厚くすると剥離する
という問題がある。
【０００６】ＣＶＤ法は、真空中で酸化チタンを蒸気化
して純チタン板材に蒸着させる方法である。この方法は
薄い酸化チタン膜を作るのはよいが、厚みのある酸化チ
タン膜を作るには長時間かかってしまうし、サイズの大
きな酸化チタン板材を作るためには真空にするための大
がかりな装置が必要である。
して純チタン板材に蒸着させる方法である。この方法は
薄い酸化チタン膜を作るのはよいが、厚みのある酸化チ
タン膜を作るには長時間かかってしまうし、サイズの大
きな酸化チタン板材を作るためには真空にするための大
がかりな装置が必要である。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】このように、光触媒用
の酸化チタン板材を製造する方法はいろいろ考案されて
いるが、どれもなにか問題があり、特に優れた製造方法
が確立されているわけではない。そこで本発明では、大
量に、安価で品質の良好な光触媒用酸化チタン板材を、
安全に製造する方法を得ることを課題とした。
の酸化チタン板材を製造する方法はいろいろ考案されて
いるが、どれもなにか問題があり、特に優れた製造方法
が確立されているわけではない。そこで本発明では、大
量に、安価で品質の良好な光触媒用酸化チタン板材を、
安全に製造する方法を得ることを課題とした。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明は、純チタン板材
の表面に、酸化チタン粉体を不活性ガスを用いて連続し
てプラズマ溶射することにより、純チタン板材の表面に
酸化チタン膜を生成することを特徴とした。
の表面に、酸化チタン粉体を不活性ガスを用いて連続し
てプラズマ溶射することにより、純チタン板材の表面に
酸化チタン膜を生成することを特徴とした。
【０００９】
【作用】本発明の光触媒用酸化チタン板材の製造方法に
よれば、酸化チタン粉体を純チタン板表面に溶射すると
いう簡単な工程なので、純チタン板表面に大きな面積で
安定した酸化チタン膜を高速で生成することができる。
また、連続して何度も溶射すれば厚さの厚い酸化チタン
膜を生成することができる。
よれば、酸化チタン粉体を純チタン板表面に溶射すると
いう簡単な工程なので、純チタン板表面に大きな面積で
安定した酸化チタン膜を高速で生成することができる。
また、連続して何度も溶射すれば厚さの厚い酸化チタン
膜を生成することができる。
【００１０】
【実施例】粒径が５〜２５ミクロンの酸化チタンビーズ
を、厚さ約５００ミクロンの純チタン板材の表面に、ア
ルゴンガスを用いてプラズマ溶射した。このとき純チタ
ン板表面に生成した酸化チタン膜は、１００ミクロン程
度であった。このようにして製造した光触媒用酸化チタ
ン板材を、メタノールと水を混合した溶液の中にいれ、
光を照射すると水素ガスが勢いよく発生し、光触媒とし
て良好に機能していることが確認された。また、光の照
射量を増やすとほぼこれに比例して水素の発生量が増え
た。
を、厚さ約５００ミクロンの純チタン板材の表面に、ア
ルゴンガスを用いてプラズマ溶射した。このとき純チタ
ン板表面に生成した酸化チタン膜は、１００ミクロン程
度であった。このようにして製造した光触媒用酸化チタ
ン板材を、メタノールと水を混合した溶液の中にいれ、
光を照射すると水素ガスが勢いよく発生し、光触媒とし
て良好に機能していることが確認された。また、光の照
射量を増やすとほぼこれに比例して水素の発生量が増え
た。
【００１１】
【発明の効果】本実施例は、純チタン板表面に酸化チタ
ン粉体を溶射するという簡単な工程なので、純チタン板
表面に大きな面積で厚さのある安定した酸化チタン膜を
高速で生成することができた。また、生成された酸化チ
タン膜は剥離しにくく、さらに光触媒として優れた特性
があることが確認された。
ン粉体を溶射するという簡単な工程なので、純チタン板
表面に大きな面積で厚さのある安定した酸化チタン膜を
高速で生成することができた。また、生成された酸化チ
タン膜は剥離しにくく、さらに光触媒として優れた特性
があることが確認された。
Claims (1)
- 【請求項１】 純チタン板材の表面に酸化チタン粉体を
溶射して、純チタン板材の表面に酸化チタン膜を生成す
ることを特徴とした光触媒用酸化チタン板材の製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5008009A JPH06210170A (ja) | 1993-01-21 | 1993-01-21 | 光触媒用酸化チタン板材の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5008009A JPH06210170A (ja) | 1993-01-21 | 1993-01-21 | 光触媒用酸化チタン板材の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06210170A true JPH06210170A (ja) | 1994-08-02 |
Family
ID=11681361
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5008009A Pending JPH06210170A (ja) | 1993-01-21 | 1993-01-21 | 光触媒用酸化チタン板材の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06210170A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH1147609A (ja) * | 1997-08-01 | 1999-02-23 | Sharp Corp | 光触媒体およびその製造方法 |
| JPH11100695A (ja) * | 1997-09-26 | 1999-04-13 | Nippon Alum Co Ltd | 光触媒活性を有するチタン材の製造方法 |
| KR20030050386A (ko) * | 2001-12-18 | 2003-06-25 | 주식회사 한국클리너지 | 광촉매의 제조방법 및 이를 사용한 휘발성유기화합물제거장치 |
| WO2004001091A1 (ja) * | 2003-05-16 | 2003-12-31 | Kurashiki Boring Kiko Co., Ltd. | 超親水性を有するロールとその製造方法 |
| KR100457769B1 (ko) * | 2000-09-14 | 2004-11-18 | 가부시키가이샤 후지키한 | 산소결핍 경사구조를 가지는 산화금속 피막 |
| JP2006063426A (ja) * | 2004-08-30 | 2006-03-09 | Central Res Inst Of Electric Power Ind | 超親水性薄膜及びその形成方法 |
-
1993
- 1993-01-21 JP JP5008009A patent/JPH06210170A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH1147609A (ja) * | 1997-08-01 | 1999-02-23 | Sharp Corp | 光触媒体およびその製造方法 |
| JPH11100695A (ja) * | 1997-09-26 | 1999-04-13 | Nippon Alum Co Ltd | 光触媒活性を有するチタン材の製造方法 |
| KR100457769B1 (ko) * | 2000-09-14 | 2004-11-18 | 가부시키가이샤 후지키한 | 산소결핍 경사구조를 가지는 산화금속 피막 |
| KR20030050386A (ko) * | 2001-12-18 | 2003-06-25 | 주식회사 한국클리너지 | 광촉매의 제조방법 및 이를 사용한 휘발성유기화합물제거장치 |
| WO2004001091A1 (ja) * | 2003-05-16 | 2003-12-31 | Kurashiki Boring Kiko Co., Ltd. | 超親水性を有するロールとその製造方法 |
| JP2006063426A (ja) * | 2004-08-30 | 2006-03-09 | Central Res Inst Of Electric Power Ind | 超親水性薄膜及びその形成方法 |
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