JPH0621164Y2 - 電子ビーム銃の制御装置 - Google Patents

電子ビーム銃の制御装置

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JPH0621164Y2
JPH0621164Y2 JP1988154343U JP15434388U JPH0621164Y2 JP H0621164 Y2 JPH0621164 Y2 JP H0621164Y2 JP 1988154343 U JP1988154343 U JP 1988154343U JP 15434388 U JP15434388 U JP 15434388U JP H0621164 Y2 JPH0621164 Y2 JP H0621164Y2
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JP
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chamber
electron beam
vacuum
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melting
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JP1988154343U
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等 河野
和也 世古
正徳 津田
泰弘 中井
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神鋼電機株式会社
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Description

【考案の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 電子ビーム銃を使用した金属の溶解法は,高融点金属分
野では,古くから採用されているが,最近では,高純度
金属の溶解用として,脚光を浴びている。
本考案は,このような用途に好適な電子ビーム銃の制御
装置に関する。
考案の詳細な説明 [従来の技術] 第2図は中間室を備えた場合の従来の金属溶解用電子ビ
ーム銃を示すものであるが,加速室を構成する密封ケ
ーシング1には排気口1aが形成され,これにバルブV
を介して排気用の第1の真空ポンプPが接続されてお
り,加速室を減圧するようになっている。
また,この下方には後述する中間室19を介して一体的
に結合された蓋部材2及びケーシング3によって密閉さ
れた溶解室が形成され,これは排気口3aに接続され
るバルブVを介して排気用の真空ポンプPによって
減圧されるようになっている。
加速室にはカソードとしてフィラメント6及びこの周
囲にウエーネルト電極Wが配置され,絶縁部材4,5に
支持された電線を介してフィラント加熱用の交流電源V
Fが接続され,他方,加速室内でカソード6に対向し
て配設されるリング状のアノード7との間に加速用の直
流電圧を与えるための直流電源VAが接続されている。
加速室と次に述べる中間室19とは銅製のパイプ8
(第1狭路)により結合されており,この周囲は第1の
収束用磁気レンズ9が配設されている。19 は加速室と溶解室の間に形成された中間室で,こ
れはケーシング20によって形成されるが,その排気口
20aはバルブ21を介して排気用の真空ポンプP
接続されている。
中間室19は銅製パイプ18(第2狭路)を介して溶解
と接続され,パイプ18の周囲には第2の収束用磁
気レンズ17が配設されている。16 は中間室19とパイプ8の下端開口に設けたシャッ
タ部16aを作動するビームシャッタである。
なお,ビームシャッタ16は図示の場所のほか,中間室
19とパイプ18との連通部に配置するようにしても良
い。
溶解室には銅製のルツボ10が配設され,これに被溶
解物11が収容されている。
なお,図示するように,ケーシング3及びルツボ10は
接地されている。また,蓋部材2の周囲には偏向コイル
15が配設される。
カソード6に交流電源VFによって電流を流すと,その
温度が上昇して電子ビームが発生する。この電子ビーム
は,直流電源VAが形成する電界によってアノード7側
へと加速され,リング状のアノード7の中心穴を通り抜
け,収束用磁気レンズ9によって収束されながら,パイ
プ8,中間室を経て,第2の収束用磁気レンズ17で集
束されて溶解室に至る。
なお,電子ビームは溶解室に導入するに当たっては,
偏向レンズ15によって偏向されて,ルツボ10内の被
溶解物11に衝突して,これを加熱・溶解するようにな
っている。
[考案が解決しようとする課題] たとえば,被溶解金属の蒸発を抑えるために溶解室
アルゴンガスを使用するような場合とか,又は溶解室
で何等かの原因でガスが突然噴出するような場合のよう
に,溶解室の真空圧力が例えば10-2Torr程度に上昇
した場合には,従来のものでは,次のような問題点があ
った。
真空度の悪化につれて,溶解室の残存ガスに電子ビ
ームが照射されて正イオンが発生し,これが電子ビーム
とは逆方向に加速されて,中間室20を経て加速室
に飛び込んでくる。
また,被溶解物11の蒸発金属も同様に一部イオン化さ
れつつ,加速室内に飛び込んでくる。これはカソード
6に突撃的にぶつかり,フィラメントもしくは,カソー
ドを著しく損傷してフィラメントもしくは,カソードの
寿命を縮める。
また,真空度の悪化につれて,カソード周辺で,アー
ク短絡が頻発し,ビーム発生が維持できなくなる。
本考案では,このような従来のものの課題を解決するよ
うにした電子ビーム銃の制御装置を提供することを目的
とする。
[課題を解決するための手段] 本考案の電子ビーム銃の制御装置は,上記課題を解決す
るために,電子ビームを発生するカソード及びこのカソ
ードと対向して配設される加速用アノードを収納した大
気とは真空状態にシールされる加速室と発生した電子ビ
ームを加熱対象に照射する溶解室との間に中間室を備え
ると共に,この中間室と上記溶解室とを狭い流路で連通
し,これらの各室を独立に夫々排気する真空ポンプを備
えた電子ビーム銃であって,上記加速室と中間室の両者
を真空遮断しうるビームシャッタを設け,上記中間室の
真空圧力がビームを発生するに不適切な圧力に上昇した
ことを中間室に設けた真空計の出力によって検出し,ビ
ームシャッタを開状態から閉状態に作動させるように構
成した。
また,この場合において,さらに,上記中間室に設けた
ビームシャッタの作動を検出するリミットスイッチを備
え,このリミットスイッチの検出出力に基づいて電子ビ
ームを停止するように構成するのが望ましい。
[実施例] 以下第1図に示す本考案の一実施例について本考案を具
体的に説明する。なお,本実施例も中間室を備えた構成
のもので説明するが,中間室が存在しないものについて
も本考案が適用できることはいうまでもない。
同図において,従来のものと同等なものについては,第
2図と同等の符号を付して示した。
本考案では,ビームシャッタ16を例えば,空圧作動式
として,空圧シリンダ16b内に収納するピストン部1
6pを備え,後述する空圧作動器25で,これを閉ざす
ように作動させる。
は加速室に設けた排気口1aに管22を介して接
続した第1の真空計,Gは中間室19に設けた排気口
20aに管23を介して接続した第2の真空計で,これ
ら各真空計G,Gの表示信号はシーケンサ24に供
給される。
シーケンサ24は,真空計Gの表示が所定の圧力(例
えば10-5Torr)未満,且つ真空計Gの表示が所定の
表示(例えば10-4Torr)未満のときは,ビームシャッ
タ16を開く開指令を,一方真空計Gの表示が前記表
示(例えば10-5Torr)以上かまたは,真空計Gの表
示が前記表示(例えば10-4Torr)以上のいずれかとな
ったときは,ビームシャッタ16を閉ざす閉指令を出す
ように論理が組まれている。
25は空圧作動手段でシーケンサ24からの開指令で開
信号を,閉指令で閉信号をそれぞれビームシャッタ16
に与えてシャッタ部16aをそれぞれ開,閉動作させる
ようになっている。
なお,ビームシャッタ16を電磁弁等の電気式としたと
きは,空圧作動手段25を省略し,シーケンサ24の信
号を直接受けるようにできる。
26及び27は,それぞれ第1及び第2のリミットスイ
ッチで,それぞれの検出素子(図示せず)をシリンダ1
6b内に突出させて,ピストン16pの通過位置を検出
することにより,第1のリミットスイッチ26はシャッ
タ部16aが開状態のときON,閉状態となるときはO
FFとなり,一方,第2のリミットスイッチ27はピス
トン16pの通過位置を検出することにより,シャッタ
部16aが閉状態のときはON,開状態となるときはO
FFとなるようになっている。
リミットスイッチ26からOFF信号に基づいてリレー
28を作動して電源VAからの出力を停止し,電子ビー
ムを遮断するようになっている。
[作用] 以上の構成において,電子ビームを発生させ,加速室
,中間室19を介して溶解室に至らせ,ルツボ10
内の被溶解物を溶解させる動作は,従来のものと全く変
わらないので,その説明は省略する。
本考案では,加速室と中間室19の真空状態を真空計
,Gにより常に監視し,この表示信号をシーケン
サ24に供給している。この状態において,前記したよ
うに例えば,被溶解金属の蒸発を抑えるために溶解室
でアルゴンガスを使用するような場合とか,又は溶解室
で何等かの原因でガスが突然噴出するような場合のよ
うに,溶解室の真空圧力が例えば10-2Torr程度に上
昇した場合でも,中間室19の真空圧力が同室に対する
真空ポンプPの作動によって10-4Torr程度を維持で
きるときは,加速室からの電子ビームを中間室19
介して溶解室に供給し溶解作業を継続することができ
る。
次に,中間室19の真空圧力がさらに,上昇し,真空計
が所定値(例えば10-5Torr)以上となるかまた
は,真空計Gの表示がその所定値(例えば10-4Tor
r)以上となるかのいずれかの状態となったときは,閉
指令を空圧作動器25に送り,空圧作動器25の作動に
より,ビームシャッタ16を作動し,シャッタ部16a
を閉状態とする。
この際,第1のリミットスイッチ26はON→OFF状
態へ移行するので,リレー28を作動して直流電源VA
を停止し,電子ビームを遮断する。
ビームシャッタ16が閉ざされた後は,加速室と中間
19の真空状態を悪化させる原因となった溶解室
らの正イオンや蒸発金属等の侵入はなくなり,一方この
間も真空ポンプP,Pによる排気作業は継続して行
われているので,前記各室の真空状態は回復していく。
この回復がなされることは,各真空計G,Gの表示
が各所定値以上となったことにより,シーケンサ24に
よって検出されるため,作動器25を介して,ビームシ
ャッタ16は開かれ,これに伴いリミットスイッチ26
がONとなることに基づき,リレー28が動作して直流
電源VAがその出力を回復するようになるため,電子ビ
ームは再び溶解室の被溶解物11に照射され,電子ビ
ーム銃による所定の溶解作業も復帰する。
即ち,上記動作は全て自動的に迅速に行われるから上記
した各室の真空度低下に伴ってビームシャッタの開閉動
作となる区間は極めて短時間となるので,カソード若し
くはフィラメントは完全に保護され,且つ,カソード周
辺でのアークの短絡をも防止できる。
[考案の効果] 本考案の電子ビーム銃の制御装置は,上記のように構成
されるから,次のような優れた効果を有する。
たとえば,溶解室で何等かの原因でガスの突然の噴出
があった場合とか,被溶解金属の蒸発を抑えるためにア
ルゴンガスを使用した場合のように溶解室の真空圧力が
10-2Torr程度に上昇した場合にも,中間室19では独
立した真空ポンプPによる排気によって10-4Torr程
度の真空の維持が可能のため,加速室の真空圧力が真空
ポンプPによる排気によって10-5Torr程度に保たれ
ている場合には,溶解室に対する電子ビームの供給をさ
らに継続し,溶解作業を続行することができる。
なお,溶解室の真空圧力がさらに悪化し,中間室
の真空圧力も所定値以上に上昇したときはビームシャ
ッタ16を自動的に閉ざしてカソード,フィラメント等
に対する所要の保護を的確に行うことができる。また,
中間室,溶解室等の真空圧力が所定の圧力に復帰したと
きには,ビームシャッタの開動作と電子ビームの復帰を
自動的に行うことができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本考案の一実施例を示す1部を切り欠いて示し
た正面図,第2図は従来例を示す縦断正面図である。 A‥‥加速室 B‥‥溶解室 20‥‥中間室16 ‥‥ビームシャッタ G‥‥第1の真空計 G‥‥第2の真空計 24‥‥シーケンサ 25‥‥空圧作動手段 26‥‥第1のリミットスイッチ 27‥‥第2のリミットスイッイチ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)考案者 中井 泰弘 三重県伊勢市竹ケ鼻町100番地 神鋼電機 株式会社伊勢製作所内 (56)参考文献 特開 昭52−27037(JP,A) 特開 昭60−15083(JP,A) 特開 昭56−48044(JP,A) 特開 昭53−23267(JP,A) 実開 昭59−71561(JP,U)

Claims (2)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 【請求項1】電子ビームを発生するカソード及びこのカ
    ソードと対向して配設される加速用アノードを収納した
    大気とは真空状態にシールされる加速室と発生した電子
    ビームを加熱対象に照射する溶解室との間に中間室を備
    える共にこの中間室と上記溶解室とを狭い流路で連通
    し,これらの各室を独立に夫々排気する真空ポンプを備
    えた電子ビーム銃であって,上記加速室と中間室の両者
    を真空遮断しうるビームシャッタを設け,上記中間室の
    真空圧力がビームを発生するに不適切な圧力に上昇した
    ことを中間室に設けた真空計の出力によって検出し,ビ
    ームシャッタを開状態から閉状態に作動させるようにし
    たことを特徴とする電子ビーム銃の制御装置。
  2. 【請求項2】上記中間室に設けたビームシャッタの作動
    を検出するリミットスイッチを備え,このリミットスイ
    ッチの検知出力に基づいて電子ビームを停止するように
    した請求項1記載の電子ビーム銃の制御装置。
JP1988154343U 1988-11-29 1988-11-29 電子ビーム銃の制御装置 Expired - Lifetime JPH0621164Y2 (ja)

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JPH0274758U JPH0274758U (ja) 1990-06-07
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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FR2321976A1 (fr) * 1975-08-26 1977-03-25 Commissariat Energie Atomique Vanne d'isolement pour machine de soudage par bombardement electronique et machines munies d'une telle vanne
JPS5648044A (en) * 1979-09-28 1981-05-01 Hitachi Ltd Electron beam device
JPS5971561U (ja) * 1982-11-04 1984-05-15 株式会社日立製作所 粒子線装置の真空保護装置
JPS6015083A (ja) * 1983-07-08 1985-01-25 Hitachi Ltd 電子ビ−ム加工機

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